KR20060101268A - 화상 처리 방법, 3차원 위치 계측 방법 및 화상 처리 장치 - Google Patents
화상 처리 방법, 3차원 위치 계측 방법 및 화상 처리 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (5)
- 소정 크기의 농담 화상을 처리 대상으로 하여, 이 처리 대상 화상으로부터 미리 특정된 모델에 대응하는 대상물의 위치를 추출하는 방법에 있어서,상기 모델을 촬상하여 얻어진 모델 화상에 대해, 그 화상중의 에지로부터 에지 화소를 추출하는 스텝 A와, 추출된 각 에지 화소에 관해, 각각 그 에지 화소를 기준으로 농도 구배 방향을 검색하여, 서브픽셀 단위로의 에지 위치를 추출하는 스텝 B와, 상기 스텝 B에서 에지 위치가 추출된 에지 화소에 관해, 그 추출 위치 및 추출에 이용한 농도 구배 방향을 해당 에지 화소에 대응시켜서 등록하는 스텝 C를, 미리 실행한 후에, 상기 처리 대상 화상에 대해 제 1, 제 2, 제 3의 각 스텝을 실행하고,상기 제 1 스텝에서는, 상기 모델 화상과 동 사이즈의 검색 영역을 처리 대상 화상에 픽셀 단위로 주사하여, 주사 위치마다 상기 검사 영역의 화상과 모델 화상과의 유사도를 산출하고,상기 제 2 스텝에서는, 상기 제 1 스텝에서 산출된 유사도에 의거하여 추출된 위치에 검색 영역을 재설정하여, 이 검색 영역에 있어서 상기 서브픽셀 단위로의 에지 위치가 등록되어 있는 모델 화상중의 에지 화소에 대응하는 에지 화소를 추출하고, 추출된 각 에지 화소에 대해, 각각 상기 스텝 B, 및 그 스텝 B에 의해 얻은 서브픽셀 단위로의 에지 위치와 상기 등록된 에지 위치와의 차이량을 산출하는 처리를 실행하고,상기 제 3 스텝에서는, 상기 제 2 스텝에서 산출된 차이량에 의해 상기 검색 영역의 설정 위치를 수정하고, 수정 후의 설정 위치를 상기 대상물의 위치로서 특정하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 스텝에서는, 각 주사 위치에 있어서, 상기 모델 화상의 각 에지 화소에 있어서의 농도 구배 방향의 분포 패턴과 상기 검색 영역 내의 각 에지 화소에 있어서의 농도 구배 방향의 분포 패턴과의 유사도를 산출하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 제 2 스텝에서는, 상기 제 1 스텝에서 가장 높은 유사도가 산출된 위치로 검색 영역을 재설정하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
- 제 1항에 기재된 화상 처리 방법에 의해, 시야가 서로 겹쳐지는 복수대의 카메라에 의해 생성된 화상의 각 대상물의 에지 위치를 산출하고, 얻어진 각 화상의 에지 위치에 의거하여 대응하는 위치를 특정하여 대상물의 3차원 계측을 행하는 것을 특징으로 하는 3차원 위치 계측 방법.
- 농담 화상을 입력하기 위한 화상 입력 수단과,상기 화상 입력 수단으로부터 입력한 농담 화상에 관해, 그 화상중의 에지로부터 에지 화소 및 그 에지 화소에 있어서의 농도 구배 방향을 추출하는 에지 추출수단과,상기 에지 추출수단의 추출 결과에 의거하여, 상기 농담 화상 상의 에지 화소에 관해, 그 화소를 기준으로 농도 구배 방향을 검색하여, 서브픽셀 단위로의 에지 위치를 추출하는 에지 위치 추출수단과,대상물의 모델을 포함하는 모델 화상 및 그 모델 화상으로부터 추출된 데이터를 보존하기 위한 메모리와,상기 화상 입력 수단으로부터 상기 모델 화상을 포함하는 화상이 입력된 때, 이 입력 화상에 대한 상기 에지 추출수단 및 에지 위치 추출수단의 처리 결과를 에지 추출수단에 의해 추출된 각 에지 화소에 대응시킨 데이터를 작성하여, 상기 메모리에 등록하는 등록 수단과,상기 화상 입력 수단으로부터 상기 모델에 대응하는 대상물을 포함하는 처리 대상 화상이 입력된 때, 이 처리 대상 화상에 상기 모델 화상과 동 사이즈의 검색 영역을 픽셀 단위로 주사하여, 주사 위치마다 상기 검색 영역 내의 화상과 모델 화상과의 유사도를 산출하는 유사도 산출 수단과,상기 유사도 산출 수단에 의해 산출된 유사도에 의거하여 추출된 위치로 상기 검색 영역을 재설정하고, 이 검색 영역에 있어서, 상기 에지 추출수단의 처리 결과에 의거하여, 상기 메모리에 에지 위치가 등록되어 있는 모델 화상중의 에지 화소에 대응하는 에지 화소를 추출하는 대응 에지 화소 추출수단과,상기 대응 에지 화소 추출수단에 의해 추출된 에지 화소 및 그 부근의 화상을 상기 에지 위치 추출수단에 처리시켜서, 이 처리에 의해 추출된 서브픽셀 단위의 에지 위치와 상기 메모리에 등록된 에지 위치와의 차이량을 산출하는 차이량 산출 수단과,상기 차이량 산출 수단에 의해 산출된 차이량에 의해 상기 검색 영역의 설정 위치를 수정하고, 수정 후의 설정 위치를 상기 대상물의 위치로서 특정하는 위치 특정 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
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