KR20060099272A - Works processing system - Google Patents

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KR20060099272A
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박용석
이석주
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주식회사 디엠에스
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Abstract

본 발명은 평판 디스플레이 패널을 제작할 때 감광성 수지를 코팅하는데 적용될 수 있으며 기판의 세정공정과 코팅공정을 하나의 프로세스로 처리하며 콤팩트한 구성을 통하여 장비의 설치 면적을 최소화시킬 수 있는 기판처리시스템을 개시한다. 본 발명의 기판처리시스템은, 기판이 세정되는 세정부, 상기 세정부의 일측에 배치되어 세정부에서 세정된 상기 기판이 투입되어 상기 기판에 감광성 수지가 도포되는 코팅부, 그리고 상기 기판을 세정부에서 코팅부로 연속해서 이송시키는 이송수단을 포함한다. 따라서 본 발명은 물류장비 등 별도의 기판을 이송하기 위한 물류 장치들을 최소화하여 기판처리시스템을 구현할 수 있어 제조 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.The present invention can be applied to coating a photosensitive resin when manufacturing a flat panel display panel, and a substrate processing system capable of minimizing the installation area of equipment through a compact configuration by treating the substrate cleaning process and coating process as a single process do. The substrate processing system of the present invention includes a cleaning unit for cleaning a substrate, a coating unit disposed on one side of the cleaning unit, and the substrate cleaned in the cleaning unit is applied to apply a photosensitive resin to the substrate, and the substrate is cleaned. Including a conveying means for continuously conveying to the coating. Therefore, the present invention can implement a substrate processing system by minimizing logistics devices for transporting separate substrates such as logistics equipment, thereby reducing manufacturing costs.

기판, 코팅, 코터, 세정, 인라인, 광건조, 진공 자외선 Substrate, Coating, Coater, Clean, Inline, Light Dry, Vacuum Ultraviolet

Description

기판처리시스템{Works processing system}Substrate Processing System

도 1은 본 발명에 따른 제 1 실시 예를 설명하기 위한 전체적인 구성도이다.1 is an overall configuration diagram for explaining a first embodiment according to the present invention.

도 2는 도 1에 대응하며 기판의 처리 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 2 is a diagram corresponding to FIG. 1 and illustrating a process of treating a substrate.

도 3은 본 발명에 적용되는 감광성 수지를 코팅하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining a process of coating a photosensitive resin applied to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 제 2 실시 예를 설명하기 위한 전체적인 구성도이다.4 is a general configuration diagram for explaining a second embodiment according to the present invention.

도 5는 도 4에 대응하며 기판의 처리 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 corresponds to FIG. 4 and illustrates a process of treating a substrate.

도 6은 종래 기술을 설명하기 위한 기판 처리시스템의 구성도이다.6 is a configuration diagram of a substrate processing system for explaining the prior art.

도 7은 종래의 감광성 수지의 코팅 장치를 설명하기 위한 도면이다.It is a figure for demonstrating the conventional coating apparatus of the photosensitive resin.

본 발명은 기판처리시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 평판 디스플레이 패널을 제작할 때 감광성 수지를 코팅하는 공정에 적용될 수 있으며 기판의 세정공정과 코팅공정을 하나의 프로세스로 처리하는 기판처리시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing system, and more particularly, to a substrate processing system which can be applied to a process of coating a photosensitive resin when manufacturing a flat panel display panel, and processing a substrate cleaning process and a coating process into one process. .

일반적으로 표시장치의 제조공정 중에서 글라스 기판에 회로 패턴 등을 형성하는 과정은, 우선 기판을 세정하고, 세정된 기판을 건조한 후에 기판의 표면에 감 광성 수지(photosensitive-polymer)를 도포하여 감광막을 형성하고, 감광막을 일정한 회로패턴을 통하여 노광(Expose)하고 이를 현상(develop)처리하여 이루어질 수 있다.In general, a process of forming a circuit pattern or the like on a glass substrate in a manufacturing process of a display device includes first cleaning a substrate, drying the cleaned substrate, and then applying a photosensitive resin to the surface of the substrate to form a photosensitive film. In addition, the photoresist may be exposed and exposed through a predetermined circuit pattern.

도 6은 종래에 글라스 기판의 표면에 회로 패턴을 형성하기 위하여 코팅을 하는 과정을 설명하기 위한 구성도로, 세정쳄버(100), 건조부(200), 그리고 코팅쳄버(300)를 도시하고 있다. 또한, 상기 세정첨버(100), 건조부(200), 그리고 코팅쳄버(300) 사이에는 기판(도시생략)을 이송시키기 위한 물류장비(400, 450)를 배치하여 상기 물류장비(400, 450)에 의하여 각각의 작업공정으로 기판을 이송시킨다. 6 is a configuration diagram for describing a process of coating in order to form a circuit pattern on a surface of a glass substrate, and illustrates a cleaning chamber 100, a drying unit 200, and a coating chamber 300. In addition, between the cleaning additive 100, the drying unit 200, and the coating chamber 300 by placing the distribution equipment (400, 450) for transporting the substrate (not shown), the distribution equipment (400, 450) The substrate is transferred to each work process by the.

회로 패턴을 형성하기 위한 기판은, 세정쳄버(100)에서 세정이 이루어진 후 물류장비(400)에 의하여 옮겨져 건조부(200)에 투입되어 기판의 건조가 이루어진다. 그리고, 계속해서 건조된 기판은 또 다른 물류장비(450)에 의하여 코팅쳄버(300)로 투입되고, 기판에는 감광막 형성을 위한 감광성 수지가 코팅된다.The substrate for forming the circuit pattern is cleaned by the cleaning chamber 100 and then moved by the distribution equipment 400 to be put into the drying unit 200 to dry the substrate. Subsequently, the dried substrate is introduced into the coating chamber 300 by another logistics equipment 450, and the substrate is coated with a photosensitive resin for forming a photoresist film.

또한, 코팅쳄버(300)에서 감광성수지를 도포하는 공정은, 기판의 회전에 의하여 감광성수지가 기판의 표면에 코팅되는 이른바 스핀 코팅 방법이 사용될 수 있다.In addition, in the process of applying the photosensitive resin in the coating chamber 300, a so-called spin coating method in which the photosensitive resin is coated on the surface of the substrate by rotation of the substrate may be used.

도 7은 종래의 스핀 코팅 방법에 의하여 기판에 감광성 수지를 기판에 코팅하는 장치가 개시되어 있다. 스핀 코팅 장치는 회전축(500)에 기판(G)이 놓여질 수 있는 플레이트(600)가 결합되어 회전축(500)의 회전에 따라 함께 플레이트(600)가 회전할 수 있는 구조를 가진다.FIG. 7 discloses an apparatus for coating a photosensitive resin on a substrate by a conventional spin coating method. The spin coating apparatus has a structure in which the plate 600 on which the substrate G is placed may be coupled to the rotation shaft 500 so that the plates 600 may rotate together with the rotation of the rotation shaft 500.

즉, 회전축(500)의 회전에 따라 함께 회전할 수 있는 플레이트(600)의 상부 에 기판(G)을 배치하고, 상기 기판(G)에 감광성 수지를 도포한 후 플레이트(600)를 회전시키면 원심력에 의하여 감광성 수지가 확산되면서 균일한 코팅막을 이루며 감광막(p)이 형성된다.That is, when the substrate G is disposed on the upper part of the plate 600 which can rotate together with the rotation of the rotation shaft 500, the photosensitive resin is applied to the substrate G, and then the plate 600 is rotated to give the centrifugal force. As a result of the diffusion of the photosensitive resin, a uniform coating film is formed and a photosensitive film p is formed.

이러한 기판처리공정은 먼지의 수가 극히 제한되는 공간인 클린 룸(clean room)에 장비들이 배치되어 이루어진다.This substrate treatment process consists of equipment placed in a clean room, a space where the number of dust is extremely limited.

종래의 기판처리시스템은 물류장비 등이 장비가 다수로 필요하게 되어 장비의 제조 비용이 상승되는 문제점이 있다. 또한, 기판처리과정은 고가로 제작된 클린 룸에서 이루어지는데 물류장비 등의 장비들이 이러한 클린 룸의 면적을 많이 차지하게 되어 생산 및 제조 비용이 상승되는 문제점이 있다. 그리고 기판의 처리과정에서 물류장비가 기판을 이동하는 경우에는 작업 시간이 증대되어 생산성이 떨어질 수 있고, 기판이 오염될 수 있는 문제점이 있다.The conventional substrate processing system has a problem that the manufacturing cost of the equipment is increased because a large number of equipment, such as logistics equipment. In addition, the substrate processing process is performed in a clean room manufactured at an expensive price, such that equipment such as logistics equipment occupies a large area of the clean room, thereby increasing production and manufacturing costs. In addition, when the logistics equipment moves the substrate in the process of processing the substrate, the work time is increased and productivity may be reduced, and the substrate may be contaminated.

따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판을 세정한 후 패턴을 형성하기 위한 감광성 수지를 도포하는 과정을 처리하는 기판처리시스템을 인라인 형태(기판이 연속적으로 이동하면서 세정 및 건조 그리고 감광성 수지의 코팅이 이루어지는 형태)로 구성하여 기판을 이송시키는 장치인 물류장비 등의 장비 설치를 최소화하여 제조 비용을 감소시키는 기판처리시스템을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing system that processes a process of applying a photosensitive resin to form a pattern after cleaning the substrate. It is to provide a substrate processing system to reduce the manufacturing cost by minimizing the installation of equipment such as logistics equipment, which is a device for transporting the substrate by cleaning and drying and coating the photosensitive resin while moving.

또한, 본 발명은 콤팩트하게 구성하여 클린 룸의 점유 면적을 줄여 생산 및 제조 비용을 감소시키는 기판처리시스템을 제공하는데 있다.In addition, the present invention is to provide a substrate processing system that is compactly configured to reduce the occupied area of the clean room to reduce production and manufacturing costs.

또한, 본 발명은 기판이 연속적으로 이동하면서 세정, 건조 및 감광성 수지의 코팅이 이루어지도록 하여 기판의 처리 시간을 줄임으로서 생산성을 향상시키며, 기판의 오염의 최소화를 이룰 수 있는 기판처리시스템을 제공하는데 있다.In addition, the present invention provides a substrate processing system that can improve the productivity by reducing the processing time of the substrate by the cleaning, drying and coating of the photosensitive resin while the substrate is continuously moved to provide a substrate processing system that can minimize the contamination of the substrate have.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판이 세정되는 세정부, 상기 세정부와 연속해서 배치되며 세정부에서 세정된 상기 기판이 투입되어 상기 기판에 감광성 수지가 도포되는 코팅부, 그리고 상기 기판을 세정부에서 코팅부로 연속해서 이송시키는 이송수단을 포함하는 기판처리시스템을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a cleaning unit for cleaning a substrate, a coating unit in which the substrate is disposed in series with the cleaning unit, and the substrate cleaned in the cleaning unit is applied to apply the photosensitive resin to the substrate, and the substrate. It provides a substrate processing system comprising a transfer means for continuously transferring from the cleaning unit to the coating unit.

상기 세정부와 상기 코팅부 사이에는 상기 기판이 연속적으로 이동되며 상기 기판이 건조되는 건조부가 더 포함될 수 있다.The substrate may be continuously moved between the cleaning part and the coating part, and a drying part for drying the substrate may be further included.

상기 세정부는 상기 기판이 배출되는 부분측에 배치되며, 상기 세정된 기판에 에어를 분사하는 에어 분사 노즐을 더 포함한다.The cleaning unit may be disposed at a side of the substrate from which the substrate is discharged, and further includes an air injection nozzle for injecting air to the cleaned substrate.

상기 에어 분사 노즐은 상기 기판이 이동하는 방향에 대하여 일정한 각도로 경사지게 배치될 수 있다.The air jet nozzle may be inclined at a predetermined angle with respect to the direction in which the substrate moves.

상기 코터부는 감광성 수지를 기판에 분사하는 코팅액 분사 노즐을 포함하며, 상기 코팅액 분사 노즐이 쳄버에 고정되는 것이 바람직하다.The coater portion includes a coating liquid spray nozzle for spraying a photosensitive resin on a substrate, and the coating liquid spray nozzle is preferably fixed to a chamber.

상기 세정부는 상기 기판에 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐을 더 포함한다.The cleaning unit further includes a cleaning liquid spray nozzle for spraying a cleaning liquid on the substrate.

상기 광건조부는 적외선 또는 진공자외선을 발생시키는 램프를 포함한다.The light drying unit includes a lamp for generating infrared or vacuum ultraviolet rays.

상기 이송수단은 롤러들로 이루어지며, 이들 롤러들은 연속해서 배치된다.The conveying means consists of rollers, which are arranged continuously.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 제 1 실시 예를 설명하기 위한 구성도이고, 도 2는 본 발명의 주요 구성 및 기판의 처리 과정을 설명하기 위한 도면으로, 기판처리시스템을 도시하고 있다. FIG. 1 is a diagram illustrating a first embodiment according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating a main structure and a process of treating a substrate of the present invention and illustrates a substrate processing system.

상기 기판처리시스템은 기판(G)을 세정하는 세정부(1), 그리고 세정된 기판(G)에 감광성 수지를 코팅하는 코터부(5, coater)를 포함한다. 그리고 물류장비부(L, loader)는 도시하지 않은 카세트 등에 수납되어 있는 기판(G)을 세정부(1)에 공급(로딩, loading)하는 것이다. 또한, 상기 기판처리시스템은 기판(G)을 세정부(1) 및 코터부(5)로 연속해서 이동시키기 위한 이송수단으로 다수의 롤러(R)가 연속적으로 배치된 구조를 가지고 있다. The substrate processing system includes a cleaning unit 1 for cleaning the substrate G, and a coater 5 for coating a photosensitive resin on the cleaned substrate G. In addition, the logistics equipment unit L (loader) supplies (loading and loading) the substrate G stored in a cassette (not shown) to the cleaning unit 1. In addition, the substrate processing system has a structure in which a plurality of rollers R are continuously arranged as transfer means for continuously moving the substrate G to the cleaning unit 1 and the coater unit 5.

즉, 본 발명의 기판처리시스템은 세정부(1) 및 코터부(5)가 연속해서 인라인형태로 배치되어 기판(G)이 연속해서 공급되어 세정 및 감광성 수지의 도포가 연속적으로 이루어질 수 있는 구조를 가지는 것이다.That is, the substrate processing system of the present invention has a structure in which the cleaning unit 1 and the coater unit 5 are continuously arranged in an inline form, and the substrate G is continuously supplied so that cleaning and coating of the photosensitive resin can be continuously performed. To have.

상기 세정부(1)는, 도 2에 도시하고 있는 바와 같이, 세정쳄버(11)를 포함하며, 세정쳄버(11)에 세정액 분사노즐(13)이 배치되어 있다. 상기 세정액 분사 노즐(13)은 기판(G)이 롤러(R)들에 의하여 이동될 때, 세정액을 분사하여 기판(G)의 표면을 세정하는 것이다. 그리고 상기 세정액 분사 노즐(13)은 별도의 세정액 공급장치(도시하지 않음)에 의하여 세정액이 공급되어 기판(G)으로 분사될 수 있는 구성을 가진다. 그리고 상기 세정쳄버(11)에는 기판(G) 배출되는 출구측 부분에 에어 분사 노즐(15)이 배치된다. 상기 에어분사 노즐(15)은 에어 공급장치(도시생략)에 의하여 압축 에어를 공급받아 세정액이 묻어 있는 기판(G)에 압축 에어를 분사함으로서 기판(G)을 건조시킬 수 있는 것이다.As shown in FIG. 2, the cleaning unit 1 includes a cleaning chamber 11, and a cleaning liquid jet nozzle 13 is disposed in the cleaning chamber 11. The cleaning liquid jet nozzle 13 is to clean the surface of the substrate G by spraying the cleaning liquid when the substrate G is moved by the rollers R. As shown in FIG. In addition, the cleaning liquid spray nozzle 13 has a configuration in which the cleaning liquid is supplied by a separate cleaning liquid supply device (not shown) and sprayed onto the substrate G. In the cleaning chamber 11, an air jet nozzle 15 is disposed at an outlet side portion at which the substrate G is discharged. The air injection nozzle 15 is capable of drying the substrate G by supplying compressed air by an air supply device (not shown) and injecting compressed air onto the substrate G on which the cleaning liquid is applied.

상기 에어분사 노즐(11)은 이른바 에어 나이프(air knife)가 사용될 수 있으며, 기판(G)이 진행되는 방향에 대하여 경사진 각도로 배치되어 더욱 효율적으로 세정액을 제거할 수 있다.The air spray nozzle 11 may be a so-called air knife, and may be disposed at an inclined angle with respect to the direction in which the substrate G travels to remove the cleaning liquid more efficiently.

상기 코터부(5)는 코팅쳄버(51)를 포함하며, 상기 코팅쳄버(51)에는 코팅액 분사 노즐(53)이 결합된다. 즉, 상기 코팅 분사 노즐(53)은 코팅쳄버(51)에 고정된 상태로 배치되어 기판(G)이 롤러(R)들에 의하여 이동되면서 코팅 분사 노즐(53)에서 분사되는 감광성 수지에 의하여 감광성 코팅막이 형성되는 것이다. 물론 상기 코팅 분사노즐(53)은 도시하지 않은 별도의 감광성 수지를 공급받아 일정한 양의 감광성 수지가 롤러(R)들의 회전에 의하여 이동하는 기판(G)위에 균일한 두께로 도포할 수 있는 것이다(도 3에 도시하고 있음).The coater part 5 includes a coating chamber 51, and the coating liquid injection nozzle 53 is coupled to the coating chamber 51. That is, the coating spray nozzle 53 is disposed in a state fixed to the coating chamber 51 so that the substrate G is moved by the rollers R, and the photosensitive resin is sprayed from the coating spray nozzle 53. The coating film is formed. Of course, the coating spray nozzle 53 may be supplied with a separate photosensitive resin (not shown) to apply a predetermined amount of the photosensitive resin to a uniform thickness on the substrate G which is moved by the rotation of the rollers R ( 3).

이와 같이 상기 코팅 분사노즐(53)이 고정되고 기판(G)이 이동하면서 감광성 수지가 기판(G)에 코팅되어 감광막을 형성하는 것은, 기존의 스핀코팅법에 의하여 기판에 감광막을 형성하는 것에 비하여 대형의 기판(G)에 적용할 때 매우 유리한 것이다. 즉, 대형 기판(G)인 경우에는 스핀코팅법에 의하여 감광성 막을 코팅할 때 대형 기판이 회전하면서 기판의 사이드측에서 떨림 등이 발생하여 균일한 두께의 코팅이 곤란하여 수율이 떨어지는 문제를 해결할 수 있는 것이다.As described above, the coating spray nozzle 53 is fixed and the substrate G is moved, so that the photosensitive resin is coated on the substrate G to form the photosensitive film, as compared with forming the photosensitive film on the substrate by the conventional spin coating method. It is very advantageous when applied to a large substrate (G). That is, in the case of the large substrate G, when the photosensitive film is coated by the spin coating method, the large substrate is rotated, so that tremors occur on the side of the substrate, so that coating of uniform thickness is difficult and the yield drops. It is.

상기 롤러(R)들은 상기 세정쳄버(11) 및 상기 코팅쳄버(51)로 연속해서 기판 (G)을 공급할 수 있도록 인라인 형태로 배치되는 것이 바람직하다.The rollers R are preferably arranged in an inline form so as to continuously supply the substrate G to the cleaning chamber 11 and the coating chamber 51.

상기 기판처리시스템은 기판(G)을 세정부(1) 및 코터부(5)로 연속해서 이동시키기 위한 이송수단으로 상술한 실시 예에서는 다수의 롤러(R)가 연속적으로 배치된 구조에 대하여 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 컨베이어 벨트 또는 등 다양한 이송 방법을 적용하는 것이 가능하다. The substrate processing system is a transfer means for continuously moving the substrate G to the cleaning unit 1 and the coater unit 5. In the above-described embodiment, a structure in which a plurality of rollers R are arranged in series will be described. However, the present invention is not limited thereto, and it is possible to apply various conveying methods such as a conveyor belt or the like.

도 4는 본 발명에 따른 제 2 실시 예를 설명하기 위한 구성도이고, 도 5는 제 2 실시 예의 구성 및 작동 설명을 하기 위한 도면으로, 기판처리시스템을 도시하고 있다.4 is a configuration diagram for describing a second embodiment according to the present invention, and FIG. 5 is a diagram for describing the configuration and operation of the second embodiment, and illustrates a substrate processing system.

본 발명의 제 2 실시 예는 상술한 제 1 실시 예에 설명한 내용과 비교하여 다른 점 만을 설명하고, 동일한 부분은 상술한 제 1 실시 예의 설명으로 대치한다. The second embodiment of the present invention describes only the differences from the contents described in the above-described first embodiment, and the same parts are replaced with the description of the first embodiment.

본 발명의 제2 실시 예의 기판처리시스템은, 상기 세정부(1)와 상기 코터부(5) 사이에 광건조부(3)가 더 배치되는 것이다.In the substrate processing system of the second embodiment of the present invention, the light drying unit 3 is further disposed between the cleaning unit 1 and the coater unit 5.

상기 광건조부(3)는, 도 5에 도시하고 있는 바와 같이, 광건조 쳄버(31)를 포함하며, 상기 광건조 쳄버(31)에는 램프(L)가 제공된다.As shown in FIG. 5, the light drying unit 3 includes a light drying chamber 31, and a lamp L is provided in the light drying chamber 31.

상기 램프(L)는 적외선 램프가 적용될 수도 있으며, 또는 진공 자외선 램프(Vacuum UV lamp)가 사용될 수 있다. 본 발명의 광건조부(3)는 세정부(1)에서 세정된 기판(G)을 더욱 확실하게 건조시키기 위한 것이다.The lamp L may be an infrared lamp, or a vacuum UV lamp may be used. The light drying part 3 of this invention is for drying the board | substrate G wash | cleaned by the washing | cleaning part 1 more reliably.

물론 본 발명의 제 2 실시 예에서도 기판(G)을 이송시키는 수단으로 롤러(R)들이 사용될 수 있으며, 상기 롤러(R)들은 기판(G)을 연속해서 세정부(1), 광건조부(3), 그리고 코터부(5)로 공급할 수 있도록 연속적으로 배치되는 인라인(inline) 형태로 배치되는 것이 바람직하다.Of course, in the second embodiment of the present invention, the rollers R may be used as a means for transferring the substrate G, and the rollers R continuously clean the substrate G and the light drying unit 1. 3) And it is preferable that it is arranged in the form of inline (continuously arranged) so that it can be supplied to the coater portion (5).

그리고 본 발명의 제 2 실시 예의 기판처리시스템은, 상술한 제 1 실시 예와 마찬가지로 세정부(1), 광건조부(3), 그리고 코터부(5)가 연속해서 기판을 처리할 수 있는 인라인 형태로 배치되어 기판을 이송시키는 물류장비(L) 장치를 최소로 배치할 수 있는 것이다. 즉, 세정부(1), 광건조부(3), 그리고 코터부(5) 사이에는 별도의 물류장비(L)가 필요하지 않고 단지 롤러(R) 등으로 이루어지는 이송수단에 의하여 기판(G)의 처리가 가능한 것이다.In the substrate processing system of the second embodiment of the present invention, the cleaning unit 1, the light drying unit 3, and the coater unit 5 can continuously process the substrate in the same manner as in the first embodiment. Logistics equipment (L) for transferring the substrate is disposed in the form can be arranged to a minimum. That is, no separate logistics equipment L is required between the cleaning unit 1, the light drying unit 3, and the coater unit 5, and the substrate G is formed by a conveying means consisting of a roller R or the like. Can be processed.

이러한 기판처리시스템은 기판(G)이 연속적으로 이동되면서 처리가 이루어져 생산성을 향상시킬 수 있으며, 또한 물류장비(L) 들을 최소로 배치할 수 있어 제조 비용을 줄일 수 있다. 또한, 이러한 기판처리시스템은 고가의 클린 룸에 설치되므로 장치의 설치 면적(점유 면적)을 줄임으로서 제조 비용 및 생산비용을 절감할 수 있는 것이다.Such a substrate processing system can improve productivity by continuously moving the substrate G, and also reduce the manufacturing cost since the logistics equipment L can be arranged to a minimum. In addition, since such a substrate processing system is installed in an expensive clean room, manufacturing cost and production cost can be reduced by reducing the installation area (occupied area) of the device.

이와 같이 이루어지는 기판처리시스템에서 기판(G)이 롤러(R)들에 의하여 이동되면서 감광성 수지가 코팅되는 과정을 상세하게 설명하면 다음과 같다.When the substrate G is moved by the rollers R in the substrate processing system formed as described above, the process of coating the photosensitive resin in detail is as follows.

상기 물류장비(L)가 카세트(미도시) 등에서 기판(G)을 이송하여 세정부(1) 측에 투입하면, 롤러(R)들의 회전에 따라 기판(G)이 세정쳄버(11)로 들어간다. 그러면 세정쳄버(11)에 제공된 세정액 분사노즐(13)에서 세정액이 분사되어 기판(G)이 세정된다. 그리고 기판(G)이 출구측으로 이동될 때 에어 분사 노즐(15)에서 압축에어가 분사되어 건조가 이루어진다.When the logistics equipment L transfers the substrate G from the cassette (not shown) and puts it into the cleaning part 1 side, the substrate G enters the cleaning chamber 11 as the rollers R rotate. . Then, the cleaning liquid is injected from the cleaning liquid jet nozzle 13 provided in the cleaning chamber 11, and the substrate G is cleaned. When the substrate G is moved to the outlet side, the compressed air is injected from the air jet nozzle 15 to dry.

그리고 연속해서 롤러(R)들에 의하여 기판(G)이 이동되면서 기판(G)이 광건 조 쳄버(31)로 들어간다. 그러면 램프(L)에서 광 조사로 인하여 건조가 재차 건조가 이루어진다. 즉, 즉, 광건조 쳄버(31)는 적외선 건조 또는 진공 자외선 건조를 통하여 기판(G)을 감광성 수지의 코팅이 가능하게 건조시키는 것이다. 연속해서 롤러(R)들에 의하여 기판(G)이 코팅쳄버(51)로 들어가면 코팅액 분사 노즐(53)에서 감광성 수지가 토출되어 기판(G)에 감광성 수지가 도포된다. 즉, 기판(G)이 롤러(R)들에 의하여 이동하고, 감광성 수지를 배출하는 코팅액 분사 노즐은 코팅쳄버(51)에 고정된 상태로 코팅 공정이 이루어지는 것이다. 따라서 기판(G)이 연속적으로 이동함으로서 기판(G)에 감광성 수지로 이루어진 코팅막이 균일한 두께로 형성될 수 있는 것이다.Subsequently, the substrate G is moved by the rollers R to enter the light drying chamber 31. Then, drying is again performed by the light irradiation from the lamp L. That is, the photo-drying chamber 31 is to dry the substrate G to allow the coating of the photosensitive resin through infrared drying or vacuum ultraviolet drying. Subsequently, when the substrate G enters the coating chamber 51 by the rollers R, the photosensitive resin is discharged from the coating liquid injection nozzle 53 to apply the photosensitive resin to the substrate G. That is, the coating liquid injection nozzle which moves the board | substrate G by the rollers R, and discharges the photosensitive resin is a coating process fixed in the coating chamber 51. Therefore, as the substrate G is continuously moved, a coating film made of photosensitive resin may be formed on the substrate G with a uniform thickness.

본 발명에서 에어 분사 노즐(15)에서 충분한 압축에어가 분사되어 세정액을 제거하는 경우에는, 제 1 실시 예에서 설명한 바와 같이, 직접 코터부(5)로 기판(G)이 이동될 수 도 있다. 즉, 상술한 제1 실시 예는 에어 분사 노즐(15)이 기판(G)에 존재하는 세정액을 충분히 제거하여 건조 효과를 달성하는 경우에는 광건조부(3)를 생략하는 것이 가능하다. 이러한 경우에는 기판처리시스템의 설치 장비 및 면적을 더욱 낮출 수 있는 것이다. In the present invention, when sufficient compressed air is injected from the air injection nozzle 15 to remove the cleaning liquid, the substrate G may be moved directly to the coater 5 as described in the first embodiment. That is, in the first embodiment described above, when the air jet nozzle 15 sufficiently removes the cleaning liquid present in the substrate G to achieve a drying effect, the light drying unit 3 may be omitted. In this case, the installation equipment and area of the substrate processing system can be further lowered.

따라서 본 발명은 기판(G)을 이송시키는 별도의 물류 장비인 물류장비(L)등의 설치를 최소화할 수 있으며, 고가로 제작되는 클린 룸(clean room)의 점유 면적을 낮출 수 있는 것이다.Therefore, the present invention can minimize the installation of the logistics equipment (L), which is a separate logistics equipment for transferring the substrate (G), it is possible to lower the occupied area of the clean room (clean room) produced at a high cost.

이와 같이 본 발명은 기판을 세정하는 세정부, 세정된 기판을 건조하는 건조 부 및 건조된 기판에 감광성 수지를 도포하는 코터부가 연속해서 배치되며, 기판이 순차적으로 이동되면서 기판에 패턴 형성을 위한 감광성 수지가 도포되는 구성을 구비하여, 별도의 기판을 이송하기 위한 물류 장치(물류장비 등)들의 설치를 최소화하여 기판처리시스템을 구현할 수 있어 제조 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention includes a cleaning part for cleaning a substrate, a drying part for drying the cleaned substrate, and a coater part for applying the photosensitive resin to the dried substrate, and the substrate is sequentially moved, and thus the photosensitive material for pattern formation on the substrate is moved. The resin is coated to provide a substrate processing system by minimizing the installation of logistics devices (logistics equipment, etc.) for transporting separate substrates, thereby reducing manufacturing costs.

또한, 본 발명은 기판을 이송하는 물류장비를 줄임으로서 클린 룸의 점유 면적을 줄일 수 있어 기판처리시스템의 제조 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention can reduce the occupancy area of the clean room by reducing the logistics equipment for transporting the substrate has the effect of reducing the manufacturing cost of the substrate processing system.

또한, 본 발명은 기판이 연속적으로 이동하면서 세정부, 건조부, 그리고 코터부를 통과하면서 기판이 처리됨으로 처리 시간이 단축되어 생산성을 향상시킬 수 있으며, 기판 오염을 최소화할 수 있는 효과가 있다. In addition, the present invention can reduce the processing time as the substrate is processed while passing through the cleaning unit, the drying unit, and the coater while continuously moving the substrate, thereby improving productivity and minimizing substrate contamination.

Claims (8)

기판이 세정되는 세정부;A cleaning unit to clean the substrate; 상기 세정부에 인접하여 배치되고 세정부에서 세정된 상기 기판이 연속해서 투입되어 상기 기판에 감광성 수지가 도포되는 코팅부;A coating part disposed adjacent to the cleaning part and continuously fed with the substrate cleaned in the cleaning part, and the photosensitive resin applied to the substrate; 상기 기판을 세정부에서 코팅부로 연속해서 이송시키는 이송수단;Transfer means for continuously transferring the substrate from the cleaning portion to the coating portion; 을 포함하는 기판처리시스템.Substrate processing system comprising a. 제1항에 있어서, 상기 세정부와 상기 코팅부 사이에는According to claim 1, Between the cleaning portion and the coating portion 상기 기판이 연속적으로 이동되며 상기 기판이 건조되는 건조부가 더 포함되는 기판처리시스템.And a drying unit configured to continuously move the substrate and to dry the substrate. 제1항에 있어서, 상기 세정부는The method of claim 1, wherein the cleaning unit 상기 기판이 배출되는 부분측에 배치되며, 상기 세정된 기판에 에어를 분사하는 에어 분사 노즐을 더 포함하는 기판처리시스템.And an air injection nozzle disposed at a side of the substrate from which the substrate is discharged, and spraying air to the cleaned substrate. 제3항에 있어서, 상기 에어 분사 노즐은 The method of claim 3, wherein the air jet nozzle 상기 기판이 이동하는 방향에 대하여 일정한 각도로 경사지게 배치되는 기판처리시스템.And a substrate processing system disposed at an angle with respect to a direction in which the substrate moves. 제1항에 있어서, 상기 코터부는The method of claim 1, wherein the coater portion 감광성 수지를 기판에 분사하는 코팅액 분사 노즐을 포함하며, 상기 코팅액 분사 노즐이 쳄버에 고정되는 기판처리시스템.And a coating liquid spray nozzle for spraying a photosensitive resin onto the substrate, wherein the coating liquid spray nozzle is fixed to a chamber. 제1항에 있어서, 상기 세정부는The method of claim 1, wherein the cleaning unit 상기 기판에 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐을 더 포함하는 기판처리시스템.And a cleaning liquid spray nozzle for spraying the cleaning liquid on the substrate. 제2항에 있어서, 상기 광건조부는 The method of claim 2, wherein the light drying unit 적외선 또는 진공자외선을 발생시키는 램프를 포함하는 기판처리시스템.A substrate processing system comprising a lamp for generating infrared or vacuum ultraviolet rays. 제1항에 있어서, 상기 이송수단은 연속해서 배치되는 롤러들로 이루어지는 기판처리시스템.A substrate processing system according to claim 1, wherein said conveying means consists of rollers arranged in series.
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