KR20060096868A - 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법 - Google Patents

다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20060096868A
KR20060096868A KR1020050018135A KR20050018135A KR20060096868A KR 20060096868 A KR20060096868 A KR 20060096868A KR 1020050018135 A KR1020050018135 A KR 1020050018135A KR 20050018135 A KR20050018135 A KR 20050018135A KR 20060096868 A KR20060096868 A KR 20060096868A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor package
lead
semiconductor
lead frame
encapsulation resin
Prior art date
Application number
KR1020050018135A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100630741B1 (ko
Inventor
김현기
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020050018135A priority Critical patent/KR100630741B1/ko
Priority to US11/369,443 priority patent/US7476962B2/en
Publication of KR20060096868A publication Critical patent/KR20060096868A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100630741B1 publication Critical patent/KR100630741B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/568Temporary substrate used as encapsulation process aid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49503Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
    • H01L23/49506Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad an insulative substrate being used as a diepad, e.g. ceramic, plastic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548Cross section geometry
    • H01L23/49551Cross section geometry characterised by bent parts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49575Assemblies of semiconductor devices on lead frames
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/105Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/50Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/2919Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/0651Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/0665Epoxy resin
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape
    • H01L2924/1816Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
    • H01L2924/18165Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a wire bonded chip
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/183Connection portion, e.g. seal
    • H01L2924/18301Connection portion, e.g. seal being an anchoring portion, i.e. mechanical interlocking between the encapsulation resin and another package part

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

적층형 반도체 패키지에 있어서 연결 부분에 스트레스가 집중되어 반도체 패키지가 손상되는 문제점을 해결할 수 있는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은 적층되는 반도체 패키지들이 다중으로 몰딩됨으로 인하여 적층된 반도체 패키지들이 봉지수지를 통해 서로 결합되게 함으로써 스트레스가 연결부분에 집중되는 것을 전체적으로 균일하게 분포되도록 한다.
적층형 반도체 패키지, 다중 몰딩, 스트레스.

Description

다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법{Stack type semiconductor package having a multiple molding process and manufacturing method thereof}
도 1은 종래 기술에 의한 적층형 반도체 패키지의 단면도이다.
도 2 내지 도 10은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 11 및 도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 13 내지 도 18은 본 발명의 제3 실시예에 따른 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 19 및 내지 23은 본 발명의 제4 실시예에 따른 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
본 발명은 반도체 패키지 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 패키지의 물리적 강도를 더욱 높일 수 있는 수직 적층형 반도체 패키지의 구조 및 그 제조방법에 관한 것이다.
반도체 소자의 응용분야가 다양해짐에 따라, 반도체 칩을 보호해 주면서 그 기능을 외부로 확장시키는 반도체 패키지의 중요성이 날로 커지고 있다. 이에 따라 다양한 모양과 특성을 지닌 반도체 패키지들이 등장하고 있다.
이러한 반도체 패키지 중에서 적층형 반도체 반도체는 메모리 용량을 늘리기 위해 두개의 반도체 패키지를 수직으로 쌓아 일체형으로 만듦으로써 그 용량을 2배 혹은 그 이상으로 늘리는 반도체 패키지를 말한다. 이러한 적층형 반도체 패키지는 현재 대용량 서버 및 네트웍 응용분야에서 시장이 형성되어 점차 확대되고 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 적층형 반도체 패키지의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 제1 다이 패드(22) 위에 제1 반도체 칩(26)을 탑재한 후, 제1 와이어로 제1 반도체 칩(26)과 내부리드(24)를 연결시킨 후, 제1 봉지수지(30)로 몰딩한 제1 반도체 패키지(20)가 있다. 그리고 상기 제1 반도체 패키지(20) 위에는 제2 다이 패드(42) 위에 제2 반도체 칩(46)을 탑재한 후, 제2 와이어(48)로 제2 반도체 칩(46)과 내부리드(44)를 연결시킨 후, 제1 봉지수지(50)로 몰딩한 제1 반도체 패키지(20)가 있다. 이러한 제1 및 제2 반도체 패키지(20, 40)는 도전성 접착제 혹은 솔더(34) 등에 의해 서로 전기적으로 연결되어 하나의 적층형 반도체 패키지로서 동작한다.
그러나 종래 기술에 의한 적층형 반도체 패키지(10)는 연결부분(A)에서 외부 환경 및 조건이 변화될 때에 스트레스가 집중되어 적층형 반도체 패키지(10)가 쉽 게 파손되는 문제점이 있다. 이러한 문제는 외부의 환경을 저온과 고온으로 반복적으로 변화시키면서 반도체 패키지의 물리적 상태를 점검하는 신뢰도 검사인 온도변화 검사(Temperature cycle test)에서 쉽게 검증되고 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 문제점들을 해결할 수 있도록 적층형 반도체 패키지의 연결부분에 집중되는 스트레스를 분산시킴으로 말미암아 쉽게 파손되지 않는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지를 제공하는데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상술한 문제점들을 해결할 수 있도록 적층형 반도체 패키지의 연결부분에 집중되는 스트레스를 분산시킴으로 말미암아 쉽게 파손되지 않는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지의 제조방법을 제공하는데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위해 본 발명에 의한 본 발명의 제1 및 제2 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지는, ① 내부에 제1 리드프레임, 제1 반도체 칩, 제1 와이어 및 제1 봉지수지를 포함하는 제1 반도체 패키지와, ② 상기 제1 반도체 패키지 상부에 적층되며, 내부에 제2 리드프레임, 제2 반도체 칩, 제2 와이어 및 상기 제1 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제2 봉지수지를 포함하여 상기 제1 반도체 패키지와 봉지수지를 통해 서로 결합된 형태를 갖는 제2 반도체 패키지를 구비하는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 제2 반도체 패키지의 제2 리드프레임은 상기 제1 반도체 패키지의 제1 리드프레임과 동일 형태인 것이 적합하다.
바람직하게는, 상기 제1 및 제2 리드프레임은 상기 제1 및 제2 반도체 칩과 제1 및 제2 와이어로 연결되는 제1 리드와, 상기 제1 리드와 연결되고 상부로 연장되어 적층된 반도체 패키지들을 전기적으로 서로 연결하는 역할을 수행하는 제2 리드를 구비하는 것이 적합하다.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지는, 상기 제2 반도체 패키지 상부에 적층되며 내부에 제3 리드프레임, 제3 반도체 칩, 제3 와이어 및 상기 제1 및 제2 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제3 봉지수지를 포함하여 상기 제1 및 제2 반도체 패키지와 봉지수지를 통해 서로 결합된 형태를 갖는 제3 반도체 패키지를 더 구비할 수 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위해 본 발명에 의한 본 발명의 제3 및 제4 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지는, ① 내부에 공통 리드프레임, 제1 반도체 칩, 제1 와이어 및 제1 봉지수지를 포함하는 제1 반도체 패키지와, ② 상기 제1 반도체 패키지 상부에 적층되며, 내부에 제2 반도체 칩, 제2 와이어 및 상기 제1 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제2 봉지수지를 포함하고 상기 제1 반도체 패키지와 봉지수지를 통해 서로 결합된 형태를 갖는 제2 반도체 패키지를 구비하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 통합형 리드프레임은 상기 제1 반도체 칩과 제1 와이어로 연결되는 제1 리드와, 상기 제1 리드와 연결되어 상부로 연장되고 상기 제2 반 도체 칩과 제2 와이어로 연결되는 제2 리드를 포함하는 것이 적합하며, 상기 제1 반도체 패키지는 상기 제1 봉지수지 외부로 상기 제2 리드의 일부가 노출된 것이 적합하다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제1 및 제2 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법은, 제1 리드프레임에 제1 반도체 칩을 탑재하는 단계와, 상기 제1 반도체 칩과 상기 제1 리드프레임을 제1 와이어로 연결하는 단계와, 상기 제1 와이어가 연결된 제1 리드프레임을 제1 봉지수지로 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계와, 상기 제1 반도체 패키지 상부에 제2 리드프레임과 제2 반도체 칩을 탑재하는 단계와, 상기 제2 반도체 칩과 상기 리드프레임을 제2 와이어로 연결하는 단계와, 상기 제1 반도체 패키지, 상기 제2 리드프레임 및 제2 반도체 칩을 제2 봉지수지로 다중 몰딩하여 제2 반도체 패키지를 만들되, 상기 제1 및 제2 반도체 패키지는 봉지수지에 의하여 서로 결합되는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 제1 리드프레임은 상기 제1 와이어가 연결되는 제1 리드와, 상기 제1 리드와 연결되어 상부로 연장되고 제1 봉지수지 외부로 노출되는 제2 리드와, 상기 제1 리드 하부에 부착되어 상기 제1 반도체 칩이 탑재되는 테이프를 구비하는 것이 적합하고, 상기 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계 후에, 상기 반도체 칩이 탑재되었던 테이프를 떼어내는 단계를 더 진행할 수 있다.
또한 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 제2 반도체 패키지 위에 상 기 제2 반도체 패키지와 동일한 구조의 제3 반도체 패키지를 형성하고 제3 봉지수지를 사용하여 다중 몰딩하는 단계를 더 진행할 수 있다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제3 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법은, 공통 리드프레임에 제1 반도체 칩을 탑재하는 단계와, 상기 제1 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제1 리드를 제1 와이어로 연결하는 단계와, 상기 제1 와이어가 연결된 리드프레임에 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계와, 상기 제1 반도체 패키지의 노출된 제1 반도체 칩의 바닥면에 제2 반도체 칩을 탑재하는 단계와, 상기 제2 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제2 리드를 제2 와이어로 연결하는 단계와, 상기 제1 반도체 패키지, 제2 반도체 칩 및 제2 와이어를 제2 봉지수지로 다중 몰딩하여 제2 반도체 패키지를 만들되, 상기 제1 및 제2 반도체 패키지는 봉지수지에 의하여 서로 결합되는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제4 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법은, 공통 리드프레임에 제1 반도체 칩을 탑재하는 단계와, 상기 제1 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제1 리드를 제1 와이어로 연결하는 단계와, 상기 제1 와이어가 연결된 리드프레임에 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계와, 상기 제1 반도체 패키지의 제1 봉지수지 위에 제2 반도체 칩을 탑재하는 단계와, 상기 제2 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제2 리드를 제2 와이어로 연결하는 단계와, 상기 제1 반도체 패키지, 제2 반도체 칩 및 제2 와이어를 제2 봉지수지로 다중 몰딩하여 제2 반도체 패키지 를 만들되, 상기 제1 및 제2 반도체 패키지는 봉지수지에 의하여 서로 결합되는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 공통 리드프레임은 상기 제1 반도체 패키지의 제1 와이어와 연결되는 제1 리드와, 상기 제1 리드와 연결되어 상부로 연장되어 제2 반도체 패키지의 제2 와이어와 연결되는 제2 리드와, 상기 제1 리드에 부착되고 제1 반도체 칩이 탑재될 수 있는 테이프를 구비하는 것이 적합하고, 이때, 상기 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계 후에 상기 제1 반도체 칩이 탑재되었던 테이프를 떼어내는 단계를 더 진행하는 것이 적합하다.
본 발명에 따르면, 다중 몰딩을 사용하여 적층형 반도체 패키지의 연결부분 뿐만 아니라 접합면 전체를 봉지수지를 사용하여 서로 결합시키기 때문에 반도체 패키지가 외부 환경의 변화에 의해 연결부분에서 스트레스가 집중되어 파손되는 문제를 개선할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 아래의 상세한 설명에서 개시되는 실시예는 본 발명을 한정하려는 의미가 아니라, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게, 본 발명의 개시가 실시 가능한 형태로 완전해지도록 발명의 범주를 알려주기 위해 제공되는 것이다. 아래의 바람직한 실시예는 리드프레임을 갖는 반도체 패키지를 일 예로 설명하였으나, 이는 리드프레임 대신에 기판(substrate)을 기본 프레임으로 사용하는 BGA, CSP와 같은 반도체 패키지의 적층 구조에도 적용할 수 있다.
제1 실시예
도 2 내지 도 10은 본 발명의 제1 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 2를 참조하면, 도면에 도시된 것과 같은 "Z"자형의 제1 리드프레임(108)을 준비한다. 상기 제1 리드프레임(108)은 제1 반도체 패키지에서 사용되는 제1 와이어가 연결되는 제1 리드(104)를 포함한다. 또한 상기 제1 리드프레임(108)은 상기 제1 리드(104)와 연결되어 상부로 연장되고 제1 반도체 패키지가 몰딩된 후에도 일부가 외부로 노출되는 제2 리드(106)를 포함한다. 이러한 제2 리드(106)는 복수개의 반도체 패키지를 적층할 때에 각각의 반도체 패키지들이 전기적으로 연결되는 통로가 된다.
마지막으로 상기 제1 리드프레임(108)은, 상기 제1 리드(104) 하부에 부착되어 제1 반도체 칩이 탑재될 수 있는 영역을 마련해주는 테이프(140)를 포함한다. 상기 테이프(140)는 한 면이 UV 광 혹은 열에 의하여 접착 특성이 변화하는 물질이 도포되어 있는 것이 적합하고, 몰딩 공정이 끝나면 제1 반도체 패키지로부터 제거된다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 제1 리드프레임(108)의 테이프(140) 위에 제1 반도체 칩(110)을 탑재한다. 상기 제1 반도체 칩(110)은 메모리 기능을 수행하는 반도체 칩일 수 있으며, 적층에 의하여 용량이 늘어날 수 있는 특징이 있는 것이 적합하다. 그 후, 상기 제1 반도체 칩(110)의 본드 패드(미도시)와 상기 제1 리드(104)를 금선(gold wire)과 같은 와이어(110)를 사용하여 서로 연결한다.
본 실시예에서는 테이프를 사용하고, 와이어 본딩(wire bonding)을 수행하는 반도체 패키지를 바람직한 실시예로 설명하지만, 이는 테이프를 사용하지 않고 리드프레임에 칩 패드(chip pad)가 형성된 것으로 대체하여 사용할 수도 있고, 와이어 본딩 대신에 범프(bump)를 사용한 플립 칩(flip chip) 본딩 방식으로 변형하여 적용할 수도 있다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 결과물에 제1 봉지수지(sealing resin, 114), 예컨대 에폭시 몰드 컴파운드(Epoxy Mold Compound)를 사용한 몰딩 공정을 진행하여 제1 반도체 패키지(102)의 내부에 있는 제1 반도체 칩(110), 제1 와이어(112) 및 제1 리드프레임(108)의 일부를 밀봉한다. 이때 상기 몰딩 공정에 의하여 제1 리드(104)의 하부와, 제2 리드(106)의 상부는 제1 반도체 패키지(102) 외부로 노출된다. 그 후, 제1 반도체 칩(110)을 탑재하는데 사용되었던 테이프(140)를 상기 제1 반도체 패키지(102)로부터 떼어내어 제거한다.
도 7을 참조하면, 상기 제1 반도체 패키지(102) 위에 솔더 페이스트(paste)와 같은 도전성 접착수단을 사용하여 제2 리드프레임(124)을 연결한다. 상기 제2 리드프레임(124)은 제1 리드프레임(108)과 같이 제1 리드(120) 및 제2 리드(122)를 포함하고 있다. 상기 제2 리드프레임(124)이 탑재된 결과물에서 제1 봉지수지(114) 위에 제2 반도체 칩(116)을 에폭시(epoxy) 혹은 접착테이프와 같은 다이 접착수단을 사용하여 탑재한다. 그 후, 상기 제2 반도체 칩(116)의 본드 패드(미도시)와 제2 리드프레임(124)의 제1 리드(120)를 금선과 같은 제2 와이어(118)로 연결한다.
도 8을 참조하면, 상기 제2 와이어(118)가 연결된 결과물에 두 번째 몰딩 공 정을 진행한다. 즉 제2 봉지수지(126)로 제2 리드프레임(124), 제2 반도체 칩(116) 및 제2 와이어(118)를 밀봉시킨다. 이때, 제2 리드프레임(124)의 제2 리드(122)의 상부는 제2 봉지수지(126) 외부로 노출된다. 이에 따라, 추가로 제2 반도체 패키지(128) 위에 또 다른 반도체 패키지를 적층할 수 있는 구조가 된다.
기존에는 별도로 몰딩된 2개의 반도체 패키지를 서로 적층한 후, 리드프레임의 리드와 같은 연결 부분만을 솔더 등의 도전성 접착수단으로 접합시키기 때문에 연결부분에서 외부 환경 변화에 의한 스트레스가 집중되었다. 그러나, 본 발명은 제1 봉지수지(114)가 제2 봉지수지(126)와 함께 2회 연속 몰딩된다. 이 과정에서 제1 반도체 패키지(102)와 제2 반도체 패키지(128)는 제1 리드프레임의 제2 리드(106) 상부 및 제2 리드프레임(124)의 제1 리드(120) 하부의 연결부분 뿐만 아니라, 제1 반도체 패키지(102)의 상부와 제2 반도체 패키지(128)의 하부의 접합면 전체가 봉지수지(114, 126)로 서로 결합된다. 따라서 외부 환경에 의한 스트레스가 발생할 경우, 연결부분에 스트레스가 집중되지 않고, 제1 반도체 패키지(102) 및 제2 반도체 패키지(128)가 서로 접합되어 있는 접합면 전체에 균일하게 스트레스가 작용하기 때문에 적층형 반도체 패키지(100)가 쉽게 파손되는 문제를 억제할 수 있다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 상기 도 8의 적층형 반도체 패키지(100) 위에 추가로 제3 리드프레임(130)을 연결하고, 제3 반도체 칩(132)을 다이 접착수단을 이용하여 탑재한 후, 제3 와이어(136)로 제3 반도체 칩(132)과 제3 리드프레임(130)을 서로 연결시킨다. 그 후 제3 봉지수지(138)로 상기 제3 와이어(136), 제3 반도 체 칩(132) 및 제3 리드프레임(130)을 밀봉시켜 3개의 반도체 패키지(102, 128, 142)가 수직으로 쌓여진 구조의 적층형 반도체 패키지(100A)를 만든다. 이에 따라 완성된 적층형 반도체 패키지(100A)에서 제1 봉지수지(114)는 3회, 제2 봉지수지(126)는 2회 연속 다중 몰딩 처리된다.
제2 실시예
도 11 및 도 12는 본 발명의 제2 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 11을 참조하면, 상술한 제1 실시예에서는 리드프레임의 형태가 "Z"자형 이였으나, 본 실시예에서는 도 11에 도시된 제1 리드프레임(208)과 같이 다른 형태로 변형이 가능하다. 상기 제1 리드프레임(208)에서 제1 리드(204)의 형태는 제1 반도체 칩(210)과 와이어 본딩이 가능한 구조이고, 제2 리드(206)의 형태는 상기 제1 리드(204)와 연결되어 상부로 연장이 가능하면, 여러 다른 형태로 변형할 수 있다.
도 12를 참조하면, 형태가 다른 제1 리드프레임(208)을 사용하여 상술한 제1 실시예와 동일한 제조방법에 따라 제1 반도체 패키지(202)를 만들고, 제2 봉지수지(226)를 사용한 다중 몰딩을 진행하여 제2 반도체 패키지(228)를 만들고, 제3 봉지수지(238)를 사용한 다중 몰딩을 진행하여 제3 반도체 패키지(242)를 만들어 3개의 반도체 패키지(202, 228, 242)가 수직으로 쌓여진 구조의 적층형 반도체 패키지(200A)를 만든다.
이어서 도 10 및 도 12를 참조하여, 본 발명의 제1 및 제2 실시예에 의한 적 층형 반도체 패키지(100A, 200A)의 구조를 설명한다.
본 발명의 제1 및 제2 실시예에 의한 적층형 반도체 패키지(100A, 200A)는, 내부에 제1 리드프레임, 제1 반도체 칩, 제1 와이어 및 제1 봉지수지를 포함하는 제1 반도체 패키지(102, 202)와, 상기 제1 반도체 패키지(102, 202) 상부에 적층되며, 내부에 제2 리드프레임, 제2 반도체 칩, 제2 와이어 및 상기 제1 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제2 봉지수지를 포함하는 제2 반도체 패키지(128, 228)를 구비한다. 또한 필요에 따라 제2 반도체 패키지(128, 228) 상부에 또 다른 제3 반도체 패키지(142, 242)를 다중 몰딩 공정으로 더 만들 수 있다.
이때, 상기 제1 반도체 칩(110)과 제1 리드프레임(108)의 제1 리드(104)는 제1 반도체 패키지(102)를 만들 때 테이프(140)를 사용하기 때문에, 동일 평면에 존재하는 구조적 특징이 있다.
제3 실시예
도 13 내지 도 18은 본 발명의 제3 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 13을 참조하면, 상술한 제1 및 제2 실시예에서는 반도체 패키지들에 대하여 각각의 리드프레임을 사용하였으나, 본 실시예에서는 하나의 공통 리드프레임(308)으로 2개의 반도체 패키지에 사용한 적층형 반도체 패키지에 관해 설명한다.
먼저 공통 리드프레임(308)을 준비한다. 상기 공통 리드프레임(308)은 제1 및 제2 리드(304, 306)가 계단형으로 연결되어 있고, 제2 리드(306) 상부에는 테이프(340)가 부착되어 있어서 제1 반도체 칩이 탑재될 수 있는 영역을 제공한다. 이 때 제1 리드(304)는 제1 와이어가 연결되는 지점을 제공하며, 제2 리드(306)는 제2 와이어가 연결되는 지점을 제공한다.
도 14 내지 도 18을 참조하면, 공통 리드프레임의 테이프(340)에 제1 반도체 칩(310)을 탑재한 후, 상기 제1 반도체 칩(310)의 본드 패드와 공통 리드프레임의 제1 리드(304)를 금선(gold wire)과 같은 제1 와이어(312)로 연결한다.
계속해서 상기 제1 와이어(312)가 연결된 결과물에 제1 봉지수지(314)를 사용한 몰딩공정을 진행하여 상기 제1 리드프레임, 제1 반도체 칩(310) 및 제1 와이어(312)를 밀봉시킨다. 그 후, 상기 공통 리드프레임(308)의 테이프(340)를 떼어내어 제거하여 제1 반도체 패키지(302)를 만든다. 이에 따라 제1 반도체 패키지(302)는 제1 봉지수지(314) 외부로 제2 리드(306) 및 제1 반도체 칩(310)의 일부가 노출된다. 상기 노출된 제1 반도체 칩(310) 바닥면에 에폭시와 같은 접착수단을 사용하여 제2 반도체 칩(316)을 탑재하고, 제2 와이어(318)를 사용하여 제2 반도체 칩(316)의 본드패드와 제2 리드(306)를 서로 연결한다.
마지막으로 제2 봉지수지(326)를 사용하여 상기 결과물을 다중 몰딩하여 제2 반도체 패키지(328)를 만든다. 이에 따라 제1 봉지수지(302)는 다시 한번 2차 몰딩되면서 제1 반도체 패키지(302)와 제2 반도체 패키지(328)가 제1 및 제2 봉지수지(314, 326)를 통해 서로 결합된다. 이에 따라 외부 환경에 의하여 스트레스가 공통형 리드프레임을 갖는 적층형 반도체 패키지(300)에 발생할 때에 스트레스가 제1 및 제2 반도체 패키지(302, 328)의 접합면에 균일하게 작용하게 된다.
제4 실시예
도 19 및 내지 23은 본 발명의 제4 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.
도 19를 참조하면, 제1 실시예의 제1 리드프레임과 같은 "Z"자형 공통형 리드프레임(408)을 준비한 후, 공통형 리드프레임의 테이프(440) 위에 제1 반도체 칩(410)을 탑재한다. 그 후 상기 제1 반도체 칩(410)의 본드패드(미도시)와 제1 리드(404)를 제1 와이어(412)로 연결한다.
도 20 및 도 21을 참조하면, 제1 봉지수지(414)를 사용하여 상기 공통형 리드프레임(408), 제1 반도체 칩(410) 및 제1 와이어(412)를 몰딩 공정으로 밀봉하여 제1 반도체 패키지(402)를 만든다. 상기 몰딩 공정이 완료된 후, 상기 제1 반도체 패키지(402)에서 테이프(440)를 떼어내어 제거한다. 이에 따라 제1 반도체 패키지(402)는 외부로 통합형 리드프레임의 제1 리드(404) 하부 및 제2 리드(406) 상부가 노출된다.
도 22 및 도 23을 참조하면, 상기 제1 반도체 패키지(402)의 제1 봉지수지(414) 위에 제2 반도체 칩(416)을 다이 접착수단(미도시)을 사용하여 탑재하고, 제2 와이어(418)로 상기 제2 반도체 칩(416)의 본드 패드와 공통형 리드프레임의 제2 리드(406)를 서로 연결한다. 계속해서 제2 봉지수지(426)를 사용하여 제1 반도체 패키지(402)를 다중 몰딩하면서 상기 제2 반도체 칩(416)과 제2 와이어(418)를 밀봉하는 몰딩 공정을 진행하여 제2 반도체 패키지(428)를 만든다.
이어서 도 18 및 도 23을 참조하여, 본 발명의 제3 및 제4 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지(300, 400)의 구조를 설명하기로 한다.
본 발명의 제3 및 제4 실시예에 의한 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지(300, 400)의 구조는, 내부에 공통 리드프레임(308, 408), 제1 반도체 칩(310, 410), 제1 와이어(312, 412) 및 제1 봉지수지(314, 414)를 포함하는 제1 반도체 패키지(302, 402)와, 상기 제1 반도체 패키지(302, 402) 상부에 적층되며, 내부에 제2 반도체 칩(316, 416), 제2 와이어(318, 418) 및 상기 제1 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제2 봉지수지(326, 426)를 포함하며, 상기 제1 반도체 패키지(302, 402)와 봉지수지를 통해 서로 결합되는 제2 반도체 패키지(328, 428)를 포함한다.
본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명이 속한 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함이 명백하다.
따라서, 상술한 본 발명에 따르면, 다중 몰딩을 사용하여 적층형 반도체 패키지를 연결부분 뿐만 아니라 전체 접합면을 봉지수지로 서로 접합시키기 때문에 반도체 패키지가 외부 환경의 변화에 의하여 연결부분에 스트레스가 집중되어 파손되는 문제를 개선할 수 있다.

Claims (20)

  1. 내부에 제1 리드프레임, 제1 반도체 칩, 제1 와이어 및 제1 봉지수지를 포함하는 제1 반도체 패키지;
    상기 제1 반도체 패키지 상부에 적층되며, 내부에 제2 리드프레임, 제2 반도체 칩, 제2 와이어 및 상기 제1 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제2 봉지수지를 포함하여 상기 제1 반도체 패키지와 봉지수지를 통해 서로 결합된 형태를 갖는 제2 반도체 패키지를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 반도체 패키지의 제2 리드프레임은 상기 제1 반도체 패키지의 제1 리드프레임과 동일 형태인 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 리드프레임은,
    상기 제1 및 제2 반도체 칩과 제1 및 제2 와이어로 연결되는 제1 리드; 및
    상기 제1 리드와 연결되고 상부로 연장되어 적층된 반도체 패키지들을 전기적으로 서로 연결하는 역할을 수행하는 제2 리드를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 반도체 칩은 상기 제1 리드프레임의 제1 리드와 동일 평면상에 존재하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 반도체 패키지의 제2 반도체 칩은 제1 반도체 패키지의 제1 봉지수지 위에 접착수단을 통해 탑재되는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 제1 리드프레임의 제2 리드 상부 및 상기 제2 리드프레임의 제1 리드 하부는 서로 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지는,
    상기 제2 반도체 패키지 상부에 적층되며 내부에 제3 리드프레임, 제3 반도체 칩, 제3 와이어 및 상기 제1 및 제2 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제3 봉지수 지를 포함하여 상기 제1 및 제2 반도체 패키지와 봉지수지를 통해 서로 결합된 형태를 갖는 제3 반도체 패키지를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  8. 내부에 공통 리드프레임, 제1 반도체 칩, 제1 와이어 및 제1 봉지수지를 포함하는 제1 반도체 패키지;
    상기 제1 반도체 패키지 상부에 적층되며, 내부에 제2 반도체 칩, 제2 와이어 및 상기 제1 봉지수지와 함께 다중 몰딩되는 제2 봉지수지를 포함하고 상기 제1 반도체 패키지와 봉지수지를 통해 서로 결합된 형태를 갖는 제2 반도체 패키지를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 통합형 리드프레임은,
    상기 제1 반도체 칩과 제1 와이어로 연결되는 제1 리드; 및
    상기 제1 리드와 연결되어 상부로 연장되고 상기 제2 반도체 칩과 제2 와이어로 연결되는 제2 리드를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1 반도체 패키지는 상기 제1 봉지수지 외부로 상기 제2 리드의 일부 가 노출된 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지.
  11. 제1 리드프레임에 제1 반도체 칩을 탑재하는 단계;
    상기 제1 반도체 칩과 상기 제1 리드프레임을 제1 와이어로 연결하는 단계;
    상기 제1 와이어가 연결된 제1 리드프레임을 제1 봉지수지로 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계;
    상기 제1 반도체 패키지 상부에 제2 리드프레임과 제2 반도체 칩을 탑재하는 단계;
    상기 제2 반도체 칩과 상기 리드프레임을 제2 와이어로 연결하는 단계; 및
    상기 제1 반도체 패키지, 상기 제2 리드프레임 및 제2 반도체 칩을 제2 봉지수지로 다중 몰딩하여 제2 반도체 패키지를 만들되, 상기 제1 및 제2 반도체 패키지는 봉지수지에 의하여 서로 결합되는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1 리드프레임은
    상기 제1 와이어가 연결되는 제1 리드;
    상기 제1 리드와 연결되어 상부로 연장되고 제1 봉지수지 외부로 노출되는 제2 리드; 및
    상기 제1 리드 하부에 부착되어 상기 제1 반도체 칩이 탑재되는 테이프를 구 비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계 후에,
    상기 반도체 칩이 탑재되었던 테이프를 떼어내는 단계를 더 진행하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 제2 반도체 칩을 탑재하는 단계는 접착 수단을 사용하여 제1 봉지수지 위에 탑재하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  15. 제11항에 있어서,
    상기 제2 반도체 패키지 위에 상기 제2 반도체 패키지와 동일한 구조의 제3 반도체 패키지를 형성하고 제3 봉지수지를 사용하여 다중 몰딩하는 단계를 더 진행하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  16. 공통 리드프레임에 제1 반도체 칩을 탑재하는 단계;
    상기 제1 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제1 리드를 제1 와이어로 연결하는 단계;
    상기 제1 와이어가 연결된 리드프레임에 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계;
    상기 제1 반도체 패키지의 노출된 제1 반도체 칩의 바닥면에 제2 반도체 칩을 탑재하는 단계;
    상기 제2 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제2 리드를 제2 와이어로 연결하는 단계; 및
    상기 제1 반도체 패키지, 제2 반도체 칩 및 제2 와이어를 제2 봉지수지로 다중 몰딩하여 제2 반도체 패키지를 만들되, 상기 제1 및 제2 반도체 패키지는 봉지수지에 의하여 서로 결합되는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 공통 리드프레임은,
    상기 제1 반도체 패키지의 제1 와이어와 연결되는 제1 리드;
    상기 제1 리드와 연결되어 상부로 연장되어 제2 반도체 패키지의 제2 와이어와 연결되는 제2 리드; 및
    상기 제1 리드에 부착되고 제1 반도체 칩이 탑재될 수 있는 테이프를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계 후에 상기 제1 반도체 칩이 탑재되었던 테이프를 떼어내는 단계를 더 진행하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  19. 공통 리드프레임에 제1 반도체 칩을 탑재하는 단계;
    상기 제1 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제1 리드를 제1 와이어로 연결하는 단계;
    상기 제1 와이어가 연결된 리드프레임에 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계;
    상기 제1 반도체 패키지의 제1 봉지수지 위에 제2 반도체 칩을 탑재하는 단계;
    상기 제2 반도체 칩과 상기 공통 리드프레임의 제2 리드를 제2 와이어로 연결하는 단계; 및
    상기 제1 반도체 패키지, 제2 반도체 칩 및 제2 와이어를 제2 봉지수지로 다중 몰딩하여 제2 반도체 패키지를 만들되, 상기 제1 및 제2 반도체 패키지는 봉지수지에 의하여 서로 결합되는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 제1 봉지수지를 몰딩하여 제1 반도체 패키지를 만드는 단계 후에,
    상기 제1 반도체 칩이 탑재되었던 공통형 리드프레임의 테이프를 떼어내는 단계를 더 진행하는 것을 특징으로 하는 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 제조방법.
KR1020050018135A 2005-03-04 2005-03-04 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법 KR100630741B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050018135A KR100630741B1 (ko) 2005-03-04 2005-03-04 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
US11/369,443 US7476962B2 (en) 2005-03-04 2006-03-06 Stack semiconductor package formed by multiple molding and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050018135A KR100630741B1 (ko) 2005-03-04 2005-03-04 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060096868A true KR20060096868A (ko) 2006-09-13
KR100630741B1 KR100630741B1 (ko) 2006-10-02

Family

ID=36943356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050018135A KR100630741B1 (ko) 2005-03-04 2005-03-04 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7476962B2 (ko)
KR (1) KR100630741B1 (ko)

Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101053079A (zh) 2004-11-03 2007-10-10 德塞拉股份有限公司 堆叠式封装的改进
US8058101B2 (en) 2005-12-23 2011-11-15 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US7888185B2 (en) * 2006-08-17 2011-02-15 Micron Technology, Inc. Semiconductor device assemblies and systems including at least one conductive pathway extending around a side of at least one semiconductor device
TWI352416B (en) * 2006-09-12 2011-11-11 Chipmos Technologies Inc Stacked chip package structure with unbalanced lea
US8178982B2 (en) * 2006-12-30 2012-05-15 Stats Chippac Ltd. Dual molded multi-chip package system
TWI356482B (en) * 2007-09-20 2012-01-11 Advanced Semiconductor Eng Semiconductor package and manufacturing method the
US7951643B2 (en) * 2008-11-29 2011-05-31 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with lead frame and method of manufacture thereof
US8003445B2 (en) * 2009-03-26 2011-08-23 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with z-interconnects having traces and method of manufacture thereof
JP2011061112A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体チップ積層体及び製造方法
EP2581937B1 (en) * 2010-06-11 2017-09-06 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin-sealed semiconductor device and method for manufacturing same
US9159708B2 (en) 2010-07-19 2015-10-13 Tessera, Inc. Stackable molded microelectronic packages with area array unit connectors
US8482111B2 (en) 2010-07-19 2013-07-09 Tessera, Inc. Stackable molded microelectronic packages
US9627281B2 (en) * 2010-08-20 2017-04-18 Advanced Micro Device, Inc. Semiconductor chip with thermal interface tape
US8553420B2 (en) * 2010-10-19 2013-10-08 Tessera, Inc. Enhanced stacked microelectronic assemblies with central contacts and improved thermal characteristics
KR101075241B1 (ko) 2010-11-15 2011-11-01 테세라, 인코포레이티드 유전체 부재에 단자를 구비하는 마이크로전자 패키지
US20120146206A1 (en) 2010-12-13 2012-06-14 Tessera Research Llc Pin attachment
US8970028B2 (en) 2011-12-29 2015-03-03 Invensas Corporation Embedded heat spreader for package with multiple microelectronic elements and face-down connection
US8633576B2 (en) 2011-04-21 2014-01-21 Tessera, Inc. Stacked chip-on-board module with edge connector
US8928153B2 (en) 2011-04-21 2015-01-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down centerbond memory wirebond assemblies
US8952516B2 (en) 2011-04-21 2015-02-10 Tessera, Inc. Multiple die stacking for two or more die
US9013033B2 (en) 2011-04-21 2015-04-21 Tessera, Inc. Multiple die face-down stacking for two or more die
US8618659B2 (en) 2011-05-03 2013-12-31 Tessera, Inc. Package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface
KR101128063B1 (ko) 2011-05-03 2012-04-23 테세라, 인코포레이티드 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리
US8836136B2 (en) 2011-10-17 2014-09-16 Invensas Corporation Package-on-package assembly with wire bond vias
US8946757B2 (en) 2012-02-17 2015-02-03 Invensas Corporation Heat spreading substrate with embedded interconnects
US8372741B1 (en) 2012-02-24 2013-02-12 Invensas Corporation Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface
US9349706B2 (en) 2012-02-24 2016-05-24 Invensas Corporation Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface
US8835228B2 (en) 2012-05-22 2014-09-16 Invensas Corporation Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect
US9391008B2 (en) 2012-07-31 2016-07-12 Invensas Corporation Reconstituted wafer-level package DRAM
US9502390B2 (en) 2012-08-03 2016-11-22 Invensas Corporation BVA interposer
US8975738B2 (en) 2012-11-12 2015-03-10 Invensas Corporation Structure for microelectronic packaging with terminals on dielectric mass
US8878353B2 (en) 2012-12-20 2014-11-04 Invensas Corporation Structure for microelectronic packaging with bond elements to encapsulation surface
US9136254B2 (en) 2013-02-01 2015-09-15 Invensas Corporation Microelectronic package having wire bond vias and stiffening layer
JP2014220439A (ja) * 2013-05-10 2014-11-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
US9034696B2 (en) 2013-07-15 2015-05-19 Invensas Corporation Microelectronic assemblies having reinforcing collars on connectors extending through encapsulation
US9023691B2 (en) 2013-07-15 2015-05-05 Invensas Corporation Microelectronic assemblies with stack terminals coupled by connectors extending through encapsulation
US8883563B1 (en) 2013-07-15 2014-11-11 Invensas Corporation Fabrication of microelectronic assemblies having stack terminals coupled by connectors extending through encapsulation
US9167710B2 (en) 2013-08-07 2015-10-20 Invensas Corporation Embedded packaging with preformed vias
US9685365B2 (en) 2013-08-08 2017-06-20 Invensas Corporation Method of forming a wire bond having a free end
US20150076714A1 (en) 2013-09-16 2015-03-19 Invensas Corporation Microelectronic element with bond elements to encapsulation surface
US9082753B2 (en) 2013-11-12 2015-07-14 Invensas Corporation Severing bond wire by kinking and twisting
US9087815B2 (en) 2013-11-12 2015-07-21 Invensas Corporation Off substrate kinking of bond wire
US9583456B2 (en) 2013-11-22 2017-02-28 Invensas Corporation Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate
US9379074B2 (en) 2013-11-22 2016-06-28 Invensas Corporation Die stacks with one or more bond via arrays of wire bond wires and with one or more arrays of bump interconnects
US9263394B2 (en) 2013-11-22 2016-02-16 Invensas Corporation Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate
US9583411B2 (en) 2014-01-17 2017-02-28 Invensas Corporation Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing
US9214454B2 (en) 2014-03-31 2015-12-15 Invensas Corporation Batch process fabrication of package-on-package microelectronic assemblies
US10381326B2 (en) 2014-05-28 2019-08-13 Invensas Corporation Structure and method for integrated circuits packaging with increased density
US9646917B2 (en) 2014-05-29 2017-05-09 Invensas Corporation Low CTE component with wire bond interconnects
US9412714B2 (en) 2014-05-30 2016-08-09 Invensas Corporation Wire bond support structure and microelectronic package including wire bonds therefrom
US9392691B2 (en) 2014-07-16 2016-07-12 International Business Machines Corporation Multi-stacked electronic device with defect-free solder connection
US9735084B2 (en) 2014-12-11 2017-08-15 Invensas Corporation Bond via array for thermal conductivity
US9888579B2 (en) 2015-03-05 2018-02-06 Invensas Corporation Pressing of wire bond wire tips to provide bent-over tips
US9502372B1 (en) 2015-04-30 2016-11-22 Invensas Corporation Wafer-level packaging using wire bond wires in place of a redistribution layer
US9761554B2 (en) 2015-05-07 2017-09-12 Invensas Corporation Ball bonding metal wire bond wires to metal pads
US9508632B1 (en) 2015-06-24 2016-11-29 Freescale Semiconductor, Inc. Apparatus and methods for stackable packaging
US9793239B2 (en) 2015-09-25 2017-10-17 Advanced Micro Devices, Inc. Semiconductor workpiece with selective backside metallization
US9490222B1 (en) 2015-10-12 2016-11-08 Invensas Corporation Wire bond wires for interference shielding
US10490528B2 (en) 2015-10-12 2019-11-26 Invensas Corporation Embedded wire bond wires
US10332854B2 (en) 2015-10-23 2019-06-25 Invensas Corporation Anchoring structure of fine pitch bva
US10181457B2 (en) 2015-10-26 2019-01-15 Invensas Corporation Microelectronic package for wafer-level chip scale packaging with fan-out
US10043779B2 (en) 2015-11-17 2018-08-07 Invensas Corporation Packaged microelectronic device for a package-on-package device
US9659848B1 (en) 2015-11-18 2017-05-23 Invensas Corporation Stiffened wires for offset BVA
US9984992B2 (en) 2015-12-30 2018-05-29 Invensas Corporation Embedded wire bond wires for vertical integration with separate surface mount and wire bond mounting surfaces
US9935075B2 (en) 2016-07-29 2018-04-03 Invensas Corporation Wire bonding method and apparatus for electromagnetic interference shielding
US9917041B1 (en) * 2016-10-28 2018-03-13 Intel Corporation 3D chip assemblies using stacked leadframes
US10299368B2 (en) 2016-12-21 2019-05-21 Invensas Corporation Surface integrated waveguides and circuit structures therefor
US10418343B2 (en) * 2017-12-05 2019-09-17 Infineon Technologies Ag Package-in-package structure for semiconductor devices and methods of manufacture

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3911711A1 (de) * 1989-04-10 1990-10-11 Ibm Modul-aufbau mit integriertem halbleiterchip und chiptraeger
KR950027550U (ko) * 1994-03-07 1995-10-18 정의훈 클로즈 가이드(Cloth guide)의 경사안내로울러 좌. 우 이송장치
KR0179803B1 (ko) * 1995-12-29 1999-03-20 문정환 리드노출형 반도체 패키지
US6020629A (en) * 1998-06-05 2000-02-01 Micron Technology, Inc. Stacked semiconductor package and method of fabrication
JP2001177005A (ja) 1999-12-17 2001-06-29 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法
KR100426494B1 (ko) 1999-12-20 2004-04-13 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 및 이것의 제조방법
US6459148B1 (en) * 2000-11-13 2002-10-01 Walsin Advanced Electronics Ltd QFN semiconductor package
US6337510B1 (en) * 2000-11-17 2002-01-08 Walsin Advanced Electronics Ltd Stackable QFN semiconductor package

Also Published As

Publication number Publication date
US20060197210A1 (en) 2006-09-07
KR100630741B1 (ko) 2006-10-02
US7476962B2 (en) 2009-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100630741B1 (ko) 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
KR100442880B1 (ko) 적층형 반도체 모듈 및 그 제조방법
US7745918B1 (en) Package in package (PiP)
KR100884199B1 (ko) 몰디드 플라스틱 에어리어 어레이 패키지의 패키지 적층을위한 상호 연결 구조 및 형성
US7723839B2 (en) Semiconductor device, stacked semiconductor device, and manufacturing method for semiconductor device
US20070090508A1 (en) Multi-chip package structure
KR100498488B1 (ko) 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
US7655503B2 (en) Method for fabricating semiconductor package with stacked chips
US20030214023A1 (en) Semiconductor device having multi-chip package
US20100144100A1 (en) Method of Forming Quad Flat Package
US20070164411A1 (en) Semiconductor package structure and fabrication method thereof
US7642638B2 (en) Inverted lead frame in substrate
KR100800475B1 (ko) 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
TW571406B (en) High performance thermally enhanced package and method of fabricating the same
US6075281A (en) Modified lead finger for wire bonding
US20150014834A1 (en) Hybrid lead frame and ball grid array package
US10290593B2 (en) Method of assembling QFP type semiconductor device
US9117807B2 (en) Integrated passives package, semiconductor module and method of manufacturing
KR100487135B1 (ko) 볼그리드어레이패키지
KR100876864B1 (ko) 양방향 입출력 단자를 갖는 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US7348660B2 (en) Semiconductor package based on lead-on-chip architecture, the fabrication thereof and a leadframe for implementing in a semiconductor package
KR20050000972A (ko) 칩 스택 패키지
KR100967668B1 (ko) 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP4688647B2 (ja) 半導体装置とその製造方法
KR100285663B1 (ko) 패키지화된집적회로소자및그제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120831

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130902

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140901

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee