KR20060075151A - 스토커 장치 - Google Patents

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KR20060075151A
KR20060075151A KR1020040113724A KR20040113724A KR20060075151A KR 20060075151 A KR20060075151 A KR 20060075151A KR 1020040113724 A KR1020040113724 A KR 1020040113724A KR 20040113724 A KR20040113724 A KR 20040113724A KR 20060075151 A KR20060075151 A KR 20060075151A
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

청정 상태를 유지할 수 있는 스토커 장치가 개시된다.
본 발명의 스토커 장치는, 최상부 선반에 대응된 위치의 통로 상에 흐름 조절부를 구비함으로써, 편류 현상에 관계없이 최상부 선반으로 균일한 공기를 유입시켜 카세트의 기판들이 오염되는 것을 방지하고 본체 내부의 청정 상태를 일정하게 유지할 수 있다. 흐름 조절부는 최상부 선반뿐만 아니라 최상부 선반의 하부 방향으로 인접된 주변 선반들에 대응된 위치의 통로 상에 다수개 구비될 수 있다.
스토커, FFU, 선반, 흐름 조절부, 오염, 편류

Description

스토커 장치{Stocker apparatus}
도 1은 종래의 스토커 장치를 개략적으로 도시한 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 스토커 장치를 개략적으로 도시한 도면.
도 3은 도 2의 흐름 조절부를 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스토커 장치를 개략적으로 도시한 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 박스 본체 2, 9 : 통로
3 : 카세트 4, 28, 38 : 선반
10 : FFU 11 : 셔터
22, 32, 34, 36 : 흐름 조절부 24 : 홀
26 : 레버
본 발명은 카세트를 보관하는 스토커에 관한 것으로, 특히 청정 상태를 유지할 수 있는 스토커 장치에 관한 것이다.
처리 대상물들은 보관 후 처리될 수 있다. 이러한 처리 대상물들은 카세트(cassette) 단위로 적재되어 스토커(stocker)에 보관될 수 있다.
스토커는 다수의 선반들로 구획되고, 이와 같은 선반(shelf)들에 다수의 카세트들이 보관될 수 있다.
상기 처리 대상물은 처리 분야에 따라 다양한 대상물을 지칭할 수 있다. 예컨대, 상기 처리 대상물이 디스플레이나 반도체에 사용되는 경우, 상기 처리 대상물은 기판이 될 수 있다.
상기 카세트는 처리 대상물의 사용 분야에 따라 각양각색의 크기를 가질 수 있다.
디스플레이용이나 반도체용의 기판들은 미세 먼지나 입자에 매우 민감하기 때문에 이들 기판들이 적재된 카세트를 보관하는 스토커에는 내부 공기를 항상 청정 상태로 유지하기 위한 청정 시스템이 구비될 수 있다.
이하에서는 설명의 편의를 위해 디스플레이나 반도체용 기판들이 적재된 카세트를 보관하는 스토커에 대해 설명한다.
도 1은 종래의 스토커 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 스토커 장치는 일정 공간부를 갖는 박스 본체(1)의 내부에 제1 통로(2)가 상하 방향으로 길게 형성되어 있고, 상기 제1 통로(2)의 양측에는 기판들이 적재된 카세트(3)들이 적치된 다수의 선반(4)들이 구비 되어 있다. 상기 제1 통로(2)는 상기 마주 대향된 선반들 간에 의해 형성된 공간을 의미한다. 각 카세트(3)에는 다수의 디스플레이용 또는 반도체용 기판들이 적재되어 있다.
상기 제1 통로(2)에는 본체(1)와 결합된 스태커 로봇(stacker robot)이 구비된다. 상기 스태커 로봇은 스태커(6), 크레인(5) 등을 포함할 수 있다. 상기 스태커 로봇은 카세트(3)를 선반(4)으로 적치시키거나 선반(4)에 적치된 카세트(3)를 인출하여 외부로 이송시킨다.
상기 선반 간에는 프레임(미도시)에 의해 지지된다.
상기 박스 본체(1)의 상부 천정에는 공기를 필터링하여 박스 본체(1)의 내부로 송풍할 수 있도록 팬 필터 유니트(FFU: Fan Filter Unit, 10, 이하 FFU라 한다)가 설치된다.
상기 통로(2)의 상측과 각 선반(4)의 후면에는 상기 FFU(10)로부터 유입된 공기의 양을 조절하기 위한 셔터(shutter, 11)가 구비된다.
미설명 부호 12는 상기 박스 본체(1)를 지지하기 위한 받침판이다.
상기 제1 통로(2)를 제외하고 상기 FFU(10)와 최상부 선반(4) 간이나 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8)과 각 선반(4)의 후면에 구비된 셔터(11) 간에 의해 형성된 공간으로 제2 통로(9)가 형성된다.
상기와 같이 구성된 종래의 스토커는 상기 FFU(10)를 통하여 박스 본체(1)의 내부로 송풍된 공기(14)가 상기 제1 통로(2)의 상부에 구비된 셔터(11)를 통해 상기 제1 통로(2) 내부로 흐르고 상기 제2 통로(9)를 따라 상기 최상부 선반(4)의 상 부나 각 선반(4)의 후면을 통해 순환하게 된다. 상기 제2 통로(9)로 유입된 공기(14)는 각 선반(4)의 후면에 구비된 셔터(14)를 통해 각 선반(14)를 경유하여 상기 제1 통로(2)로 흐르게 된다.
하지만, 종래의 스토커 장치는 FFU(10)에 근접한 최상부 선반의 상부나 후면으로 순환된 공기(14) 유속의 급격한 증가로 인해 편류 현상이 발생됨으로써, 최상위 선반이나 이와 근접된 주변 선반 내부에 공기의 순환이 원활하지 못함에 따라 최상부 선반이나 이와 근접된 주변 선반 내부에 적치된 카세트의 기판들이 오염되는 문제점이 있었다.
즉, 상기 박스 본체(1)의 제1 및 제2 통로(2, 9)를 통해 순환되기 위해 상기 FFU(10)로부터 송풍된 공기의 유속은 상당히 크다. 이와 같은 유속의 공기는 상기 최상부 선반 주변의 제2 통(9)로의 한정된 공간으로 인해 정체되게 되고, 이러한 정체에 의해 공기는 최상부 선반 내부로 유입되지 못하고 하부 방향으로 그대로 진행되게 된다.
또한, 이와 같은 급격한 유속에 의해 상기 최상부 선반 내부에는 반대 방향, 즉 상기 최상부 선반의 전면으로부터 후면으로 소량의 공기가 흐르게 되고, 이러한 소량의 공기의 흐름에 의해 상기 제2 통로(9)로 유입된 공기가 더욱 더 상기 최상부 선반 내부로 유입되기 어렵게 된다.
이에 따라, 최상부 선반 내부로는 공기가 거의 유입되지 않게 됨으로써, 상기 최상부 선반 내부에 존재하는 미세 먼지나 입자들이 외부로 방출되지 못하고 상기 최상부 선반에 적치된 카세트 내의 기판들을 오염시키게 된다.
본 발명은 공기의 흐름을 조절하여 선반 내의 카세트의 처리 대상물들의 오염을 방지할 수 있는 스토커 장치에 관한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 스토커 장치는, 외측벽으로 둘러싸인 내부 공간을 갖는 본체; 상기 본체 양측의 상하 방향을 따라 배열된 다수의 선반들; 상기 본체 내부로 공기를 송풍하기 위해 상기 본체의 상부 천장에 구비된 팬 필터 유닛; 상기 본체의 중앙의 상하 방향을 따라 대향된 선반들 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제1 통로; 상기 본체의 외측벽과 상기 선반들 후면 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제2 통로; 및 상기 본체의 상부 모서리 영역에 발생된 편류 현상에 따른 공기의 흐름을 조절하기 위해 상기 제2 통로 상에 구비된 흐름 조절부를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 스토커 장치는, 외측벽으로 둘러싸인 내부 공간을 갖는 본체; 상기 본체 양측의 상하 방향을 따라 배열된 다수의 선반들; 상기 본체 내부로 공기를 송풍하기 위해 상기 본체의 상부 천장에 구비된 팬 필터 유닛; 상기 본체의 중앙의 상하 방향을 따라 대향된 선반들 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제1 통로; 상기 본체의 외측벽과 상기 선반들 후면 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제2 통로; 및 상기 본 체의 상부 모서리 영역에 발생된 편류 현상에 따른 공기의 흐름을 조절하기 위해 상기 선반들 각각에 대응된 위치의 상기 제2 통로 상에 구비된 다수의 흐름 조절부들을 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 스토커 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2에서 도 1과 동일한 기능을 수행하는 구성 요소들에 대해서는 동일한 도면 번호를 부여한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 스토커 장치는 받침판(12) 상에 내부에 일정한 공간부를 갖는 박스 본체(1)가 지지된다.
상기 박스 본체(1)에는 사각 형태의 일정한 공간부를 갖도록 사방으로 외측벽(8)이 구비된다. 상기 박스 본체(1)의 상부 천장에는 상기 박스 본체(1)의 내부로 공기(14)를 송풍하기 위한 FFU(10)가 설치된다.
상기 FFU(10)로부터 송풍된 공기(14)는 상기 박스 본체(1)의 제1 및 제2 통로(2, 9)를 경유하여 순환될 수 있다.
상기 제1 통로(2)는 상기 박스 본체(1)의 중앙 상하 방향으로 길게 형성되고, 상기 제2 통로(9)는 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8)을 따라 길게 형성된다.
상기 제1 통로(2)에는 기판들이 적재된 카세트(3)를 상하 또는 좌우로 이동시키기 위한 스태커 로봇이 본체(1)와 결합된다. 상기 스태커 로봇은 스태커(6), 크레인(5) 등을 포함할 수 있다.
상기 제1 통로(2)의 양측에는 카세트(3)를 적치할 수 있는 선반들(4, 28)이 구비된다. 상기 선반들(4, 28)은 동일 선상뿐만 상하 방향을 따라 구비될 수 있다. 상기 선반들(4, 28)은 상기 제1 통로(2)를 기준으로 서로 대향되어 구비될 수 있다. 대향된 선반들(4, 28)은 동일 선상이거나 어긋나도록 위치될 수 있다.
동일 선상의 선반들 간 또는 상하 방향의 선반들 간에는 각 선반들(4, 28)을 지지하기 위한 프레임(미도시)이 구비될 수 있다. 상기 프레임에 의해 각 선반이 구비될 수 있는 공간이 확보되고, 이러한 공간으로 각 선반이 구비될 수 있다.
외부로부터 이송된 카세트(3)는 상기 스태커 로봇에 의해 상 방향으로 이동되어 해당 선반들(4, 28)에 적치된다. 또한, 각 선반들(4, 28)에 적치된 카세트(3)는 상기 스태커 로봇에 의해 하 방향으로 이동되어 외부로 이송될 수 있다.
상기 카세트(3) 내에는 처리를 위한 또는 처리된 디스플레이용 또는 반도체용 기판들(미도시)이 적재되어 있다.
상기 선반들(4, 28)의 전면 및 후면으로 상기 제1 및 제2 통로(2, 9)가 형성되게 된다. 여기서, 상기 선반들(4, 28)의 전면은 상기 스태커 로봇에 의해 상기 카세트(3)가 해당 선반들(4, 28)로 유입되는 부분을 의미하고, 상기 선반들(4, 28)의 후면은 상기 카세트(3)가 유입되는 부분과 대향되는 부분을 의미한다.
상기 선반들(4, 28)의 후면에는 상기 제2 통로(9)로 흐르는 공기(14) 중에서 각 선반들(4, 28)로 유입될 공기(14)의 양을 조절하기 위한 셔터(11)가 구비된다. 상기 셔터(11)는 상기 제1 통로(2)의 상측, 즉 대향된 최상부 선반들(28) 사이에 구비될 수 있다. 따라서, 상기 선반들(4, 28)의 후면에 구비된 셔터(11)들에 의해 각 선반들(4, 28)로 유입될 공기(14)의 양이 조절되고, 상기 대향된 최상부 선반들(28) 사이에 구비된 셔터(11)에 의해 상기 제1 통로(2)로 유입될 공기(14)의 양이 조절될 수 있다.
따라서, 상기 제1 통로(2)는 대향되는 선반들(4, 28) 사이에 의해 형성되고, 상기 제2 통로(9)는 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8)과 선반의 후면 사이에 의해 형성될 수 있다.
전술한 바와 같이, 상기 박스 본체(1)의 형상은 사각 형태를 갖기 때문에 모서리 영역(27)이 수직으로 절곡되어 있다. 또한, 상기 선반들(4, 28)도 사각 형태를 갖는다.
따라서, 상기 박스 본체(1)의 상측 모서리 영역(27)에 형성된 제1 통로(2)는 절곡된 형상을 갖는다.
이와 같이 박스 본체(1) 안에는 다수의 선반들(4, 28)이 구비되고 각 선반들(4, 28) 사이에 제1 및 제2 통로(2, 9)가 형성된다. 각 선반들(4, 28)에는 기판들이 적재된 카세트(3)가 적치된다. 상기 기판들은 디스플레이용이나 반도체용으로 사용되기 위한 것으로서 미세먼지나 입자와 같은 오염원에 매우 민감하게 된다. 즉, 이러한 오염원에 의해 상기 기판들이 오염되는 경우, 일련의 공정에 의해 원하는 소자가 제조되었을 때 패턴이 불량하거나 패턴 쇼트가 발생되어 제품의 품질 저하를 유발할 수 있다.
이에 따라, 상기 박스 본체(1) 내부에는 미세 먼지나 입자들이 한 영역에 정체되지 않도록 하여 카세트(3) 내의 기판들이 오염되지 않도록 하기 위해 상기 박 스 본체(1) 내부로 강제로 공기(14)를 주입시키게 된다.
상기 FFU(10)로부터 공기(14)가 상기 박스 본체(1) 내부로 송풍된다. 상기 송풍된 공기(14)는 상기 제1 및 제2 통로(2, 9)로 흐른다. 상기 대향된 선반들(4, 28) 사이에 구비된 셔터(11)의 개구율 조절에 의해 상기 제1 통로(2)로 흐르는 공기(14)의 양이 가변될 수 있다.
상기 제2 통로(9)로 송풍된 공기(14)는 상기 최상부 선반(28) 상부를 통해 각 선반들(4, 28) 후면과 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이로 흐르게 된다. 이와 같이 제2 통로(9)를 흐르는 공기(14)는 각 선반들(4, 28) 후면에 구비된 셔터(11)의 개구율 조절에 의해 각 선반으로 유입된 공기(14)의 양이 조절된다.
이러한 경우, 상기 박스 본체(1)의 상부 모서리 영역(27), 즉 상기 최상부 선반(28)과 박스 본체(1)의 외측벽(8)에 의해 상기 제2 통로(9)가 절곡되게 됨에 따라 상부 모서리 영역(27)에서 공기(14)가 원활하게 흐르지 못하게 된다. 이와 같이 공기(14)가 원활하게 흐르지 못함에 따라 공기(14)의 양이 상기 상부 모서리 영역(27)에서 증가되는 편류 현상이 발생되게 된다.
이러한 편류 현상에 의해 상기 모서리 영역(27)을 흐르는 공기(14)는 상기 최상부 선반(28) 내부로 유입되지 못하고 그대로 하부 방향으로 흐르게 된다. 이에 따라, 상기 최상부 선반(28) 내부로 공기(14)가 주입되지 못함에 따라 상기 최상부 선반(28) 내부에 존재하는 미세먼지나 입자와 같은 오염원이 정체되게 되어 상기 최상부 선반(28) 내부에 적치된 카세트(3)의 기판들이 오염되게 된다.
상기 모서리 영역(27)의 편류 현상에 의해 상기 최상부 선반(28)의 하부 방 향으로 인접된 주변 선반들(28)에도 마찬가지로 제2 통로(9)로 흐르는 공기(14)가 유입되지 않게 될 수도 있다.
본 발명에서는 이와 같이 편류 현상에 의해 상기 최상부 선반(28) 내부로 공기(14)가 유입되지 못하는 것을 방지하기 위해 공기(14)의 흐름을 조절할 수 있는 흐름 조절부(22)가 상기 제2 통로(9) 상에 구비된다. 바람직하게 상기 흐름 조절부(22)는 상기 최상부 선반(28)과 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이에 구비될 수 있다. 더욱 바람직하게 상기 흐름 조절부(22)는 상기 최상부 선반(28)의 저면 끝단과 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이에서 상부 방향으로 경사지게 구비될 수 있다.
상기 흐름 조절부(22)는 공기(14)의 양을 조절할 수 있는 셔터로 이루어질 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 흐름 조절부(22)는 일정 간격으로 형성된 다수의 홀들(24)과, 공기(14)의 양을 조절하기 위해 상기 홀들(24)을 개폐하기 위한 레버(26)를 구비한다.
상기 홀들(24)은 원형, 직사각형 또는 타원형 등 어떠한 형태를 가져도 무방하다. 또한, 상기 홀들(24)의 사이즈는 실험치에 의해 최적화될 수 있다. 각 홀들(24)의 사이즈는 동일할 수도 있고 그렇지 않을 수도 있다.
상기 레버(26)는 상기 홀들(24)의 개폐를 조절하기 위한 부재로서, 상기 레버(26)의 회전 또는 이동에 의해 상기 홀들(24)의 개구율이 조절될 수 있다. 개구율이 증가될수록 상기 홀들(24)을 통해 관통되는 공기(14)의 양이 많아지게 되고, 개구율이 감소될수록 상기 홀들(24)을 통해 관통되는 공기(14)의 양이 적어지게 된다. 따라서, 상기 흐름 조절부(22)에 의해 일부 공기(14)는 제2 통로(9)의 하부 방향으로 흐르고 다른 일부 공기(14)는 상기 최상부 선반(28)으로 유입될 수 있다. 상기 레버(26)의 조절에 의해 홀들(24)의 개구율이 감소되면, 홀들(24)을 관통하여 상기 제2 통로(9)의 하부 방향으로 흐르는 공기(14)의 양이 감소되는 대신 상기 최상부 선반(28)으로 유입되는 공기(14)의 양은 증가될 수 있다.
이와 같이 흐름 조절부(22)는 상기 박스 본체(1)의 상부 모서리 영역(27)의 제2 통로(9)로 유입된 공기(14)의 흐름을 조절하여 상기 최상부 선반(28)으로 유입되도록 할뿐만 아니라 상기 최상부 선반(28)으로 유입되는 공기(14)의 양도 조절할 수 있다.
상기 최상부 선반(28) 주변의 박스 본체(1)의 모서리 영역(27)마다 편류 현상이 발생되므로, 각 최상부 선반(28)과 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이에 적어도 하나 이상의 흐름 조절부(22)가 구비될 수 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 스토커 장치는 최상부 선반(28)과 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이에 흐름 조절부(22)를 구비함으로써, 편류 현상에 의해 최상부 선반(28)으로 공기(14)가 유입되지 못하는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라 최상부 선반(28)에도 다른 선반들(28)과 균일한 공기(14)량이 유입됨으로써, 최상부 선반(28)에 적치된 카세트(3)의 기판들을 오염없이 안정적이고 신뢰성있게 보관할 수 있다.
이상의 설명에서는 편류 현상의 영향을 가장 많이 받는 최상부 선반(28)에만 흐름 조절부(22)가 구비된다.
하지만, 최상부 선반(28) 외에도 최상부 선반(28)과 하부 방향으로 인접된 선반들(28)에도 편류 현상의 영향은 미치게 된다.
이하에서는 최상부 선반(28)과 하부 방향으로 인접된 선반들(28)에 편류 현상에 관계없이 균일한 공기(14)량을 주입할 수 있는 스토커 장치에 대해 설명한다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스토커 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4에서 도 2와 동일한 기능을 수행하는 구성 요소들에 대해서는 동일한 도면 번호를 부여한다. 또한, 본 발명의 스토커 장치의 상세한 구조는 앞에서 설명한 바 있으므로, 이하에서는 본 발명의 특징에 대해서만 간략하게 설명한다.
최상부 선반(38)과 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이에 의해 형성된 상부 모서리 영역(27)에는 전술한 바와 같이, 편류 현상이 발생된다. 즉, 상부 모서리 영역(27)이 절곡된 형상을 갖게 되어 수평 방향으로 상부 모서리 영역(27)으로 흐른 공기(14)가 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8)에 부딪치게 되고, 뒤이어 들어온 공기(14)도 지속적으로 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8)에 부딪침으로써, 상부 모서리 영역(27)에서 공기(14)가 회전되게 된다. 이러한 공기(14)의 회전에 의해 상기 최상부 선반(38)으로 공기(14)가 유입되지 못하게 된다. 또한, 상기 편류 현상은 상기 최상부 선반(38)뿐만 아니라 상기 최상부 선반(38)과 하부 방향으로 인접된 주변 선반들(4)에도 영향을 미치게 되어 주변 선반들(4)에도 공기(14)가 균일하게 유입되지 않게 된다.
본 발명의 스토커 장치에서는 상기 최상부 선반(38)뿐만 아니라 인접된 주변 선반들(4)에 공기(14)를 균일하게 유입되도록 하기 위해 각 선반과 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이에 다수의 흐름 조절부들(32, 34, 36)이 구비된다. 바람직하게 상기 흐름 조절부들(32, 34, 36)은 각 선반의 저면 끝단과 상기 박스 본체(1)의 외측벽(8) 사이에서 상부 방향으로 경사지게 구비될 수 있다.
상기 흐름 조절부(32, 34, 36) 각각은 도 3에 도시된 바와 같이, 공기(14)의 양을 조절할 수 있는 셔터로 이루어질 수 있다. 이러한 흐름 조절부(32, 34, 36)의 상세한 구조에 대해서는 앞서 설명한 바 있으므로 더 이상의 설명은 생략한다.
상기 흐름 조절부들(32, 34, 36) 각각은 서로 상이한 개구율로 조절될 수 있다. 즉, 상기 편류 현상의 영향은 최상부 선반(38)에 가장 큰 영향을 미치고, 이어 하부 방향으로 다음 선반, 그 다음 선반 등의 순서로 영향을 미치게 된다.
앞서 살펴본 바와 같이, 흐름 조절부(32, 34, 36)의 개구율이 증가될수록 각 선반으로 유입되는 공기(14)의 양은 감소되게 되므로, 상기 최상부 선반(38)에 위치된 제1 흐름 조절부(32)의 개구율이 가장 크도록 조절되고, 다음 선반에 위치된 제1 흐름 조절부(32)의 개구율이 상기 제2 흐름 조절부(34)의 개구율보다 작도록 조절될 수 있다. 물론, 이어지는 다음 선반들(11)에 위치된 흐름 조절부들(36)도 점차 작아지는 개구율로 조절될 수 있다.
이와 같이, 각 선반들(11, 38)에 위치된 흐름 조절부들(32, 34, 36)의 개구율을 서로 상이하게 조절함으로써, 각 선반에 유입된 공기(14)의 양을 균일하게 조절할 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의하면, 각 선반의 후면에 형성된 통로 상에 공기의 흐름 및 공기의 양을 조절할 수 있는 흐름 조절부를 구비함으로써, 최상부 선반부터 하부 방향으로 인접된 선반들까지 편류 현상에 관계없이 균일한 공기량이 주입되도록 하여 각 선반에 적치된 카세트의 처리 대상물들이 오염되는 것을 방지하고 박스 본체 내부에 원활한 공기 흐름에 의해 항상 청정 상태로 유지할 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.

Claims (16)

  1. 외측벽으로 둘러싸인 내부 공간을 갖는 본체;
    상기 본체 양측의 상하 방향을 따라 배열된 다수의 선반들;
    상기 본체 내부로 공기를 송풍하기 위해 상기 본체의 상부 천장에 구비된 팬 필터 유닛;
    상기 본체의 중앙의 상하 방향을 따라 대향된 선반들 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제1 통로;
    상기 본체의 외측벽과 상기 선반들 후면 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제2 통로; 및
    상기 본체의 상부 모서리 영역에 발생된 편류 현상에 따른 공기의 흐름을 조절하기 위해 상기 제2 통로 상에 구비된 흐름 조절부
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 흐름 조절부는 상기 본체의 외측벽과 상기 선반들 중 최상부 선반 사이에 구비되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 흐름 조절부는 상기 본체의 외측벽으로부터 상기 선반들 중 최상부 선반의 저면을 따라 경사지게 구비되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 흐름 조절부는 상기 제2 통로를 따라 흐르는 공기의 일부를 상기 선반들 중 최상부 선반으로 유입시키는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 흐름 조절부는 공기의 양을 조절하기 위한 셔터인 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 흐름 조절부는,
    공기가 관통되는 다수의 홀들; 및
    상기 홀들을 개폐하기 위한 레버
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 레버에 의해 상기 홀들의 개구율이 조절되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 흐름 조절부는 상기 선반들 중 대향된 최상부 선반들에 대응된 위치의 제2 통로 상에 적어도 하나 이상 구비되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  9. 외측벽으로 둘러싸인 내부 공간을 갖는 본체;
    상기 본체 양측의 상하 방향을 따라 배열된 다수의 선반들;
    상기 본체 내부로 공기를 송풍하기 위해 상기 본체의 상부 천장에 구비된 팬 필터 유닛;
    상기 본체의 중앙의 상하 방향을 따라 대향된 선반들 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제1 통로;
    상기 본체의 외측벽과 상기 선반들 후면 사이로 상기 팬 필터 유닛으로부터 송풍된 공기가 흐르는 제2 통로; 및
    상기 본체의 상부 모서리 영역에 발생된 편류 현상에 따른 공기의 흐름을 조절하기 위해 상기 선반들 각각에 대응된 위치의 상기 제2 통로 상에 구비된 다수의 흐름 조절부들
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 흐름 조절부들은 상기 본체의 외측벽과 상기 선반들 사이에 구비되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 흐름 조절부들 각각은 상기 본체의 외측벽으로부터 상기 선반들 각각의 저면을 따라 경사지게 구비되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  12. 제9항에 있어서, 상기 흐름 조절부들 각각은 상기 제2 통로를 따라 흐르는 공기의 일부를 상기 선반들 각각에 유입시키는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 선반들로 유입된 공기의 양이 서로 상이하도록 상기 흐름 조절부들이 개별적으로 조절되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  14. 제9항에 있어서, 상기 흐름 조절부들 각각은 공기의 양을 조절하기 위한 셔터인 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  15. 제9항에 있어서, 상기 흐름 조절부들 각각은
    공기가 관통되는 다수의 홀들; 및
    상기 홀들을 개폐하기 위한 레버
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 레버에 의해 상기 홀들의 개구율이 조절되는 것을 특징으로 하는 스토커 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190102049A (ko) * 2017-02-07 2019-09-02 무라다기카이가부시끼가이샤 스토커
KR102234986B1 (ko) * 2019-10-15 2021-04-01 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR20210040225A (ko) * 2019-10-02 2021-04-13 세메스 주식회사 기판 처리 장치

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002338007A (ja) * 2001-05-18 2002-11-27 Shinko Electric Co Ltd ストッカ
JP3788296B2 (ja) * 2001-09-10 2006-06-21 株式会社ダイフク クリーンルーム用の物品保管設備

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190102049A (ko) * 2017-02-07 2019-09-02 무라다기카이가부시끼가이샤 스토커
KR20210040225A (ko) * 2019-10-02 2021-04-13 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR102234986B1 (ko) * 2019-10-15 2021-04-01 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법

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