KR20060073232A - 포토 마스크의 구조 - Google Patents

Abstract

본 발명은 포토 마스크의 구조에 관한 것으로, 포토 마스크와, 상기 포토 마스크의 일면상에 접착된 프레임과, 상기 프레임의 측면 일부에 위치하는 홀과, 상기 홀이 위치하는 프레임의 외측에 접하는 필터와, 상기 프레임의 상부에서 상기 포토 마스크와 평행하게 접합되는 펠리클과, 상기 프레임의 내측면에 위치하는 흡착층으로 구성된다. 이와 같이 구성된 본 발명은 포토 마스크와 펠리클을 프레임에 의해 접착 고정한 포토 마스크 구조에 있어서, 그 포토 마스크와 펠리클이 이루는 공간 중 프레임에 인접한 부분과, 그 프레임의 내측면에 흡착층을 마련하여 외기에서 유입되는 이온성 분자 가스와 내측에서 생성되는 이온성 분자 가스를 흡착함으로써, 포토 마스크 패턴에 이온성 분자 가스에 의한 결정이 성장하는 것을 방지하여, 포토 마스크의 수명을 증가시키는 효과가 있다.

포토마스크, 펠리클, 프레임, 흡착층

Description

포토 마스크의 구조{structure for photo mask}

도 1은 종래 포토 마스크 구조의 평면도.

도 2는 종래 포토 마스크 구조의 단면도.

도 3은 본 발명에 따르는 포토 마스크 구조의 평면도.

도 4는 본 발명에 따르는 포토 마스크 구조의 단면도.

-- 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 --

1:포토 마스크 2:프레임

3:홀 4:필터

5:펠리클 6:흡착층

본 발명은 포토 마스크의 구조에 관한 것으로, 특히 포토 마스크의 일면에 펠리클(pellicle)이 접착된 포토 마스크 구조에서 그 접착부분에 불순물 흡착층을 더 마련하여 포토 마스크의 오염을 방지할 수 있는 포토 마스크의 구조에 관한 것 이다.

일반적으로 포토 마스크를 제조한 후, 그 포토 마스크가 오염되는 것을 방지하기 위해 석영판이 펠리클을 포토 마스크의 일면에 접착시킨다.

상기 포토 마스크와 펠리클의 사이에는 프레임이 마련되어 그 프레임의 양면에 도포된 접착제에 의해 포토 마스크와 펠리클이 접착 고정된다.

상기 프레임은 밀폐형 이거나 공기가 흐를 수 있도록 홀을 가지는 구조이다.

상기 홀을 가지는 구조에서는 미세한 홀을 통해 이물이 유입될 수 있어, 그 홀에는 필터가 구비되며, 이와 같은 종래 포토 마스크의 구조를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1은 종래 포토 마스크의 평면 구성도이고, 도 2는 그 측면도 및 필터부분의 확대도로서, 이에 도시한 바와 같이 포토 마스크(1)의 일면에 접착제에 의해 접착되는 프레임(2)과, 상기 프레임(2)의 일측면에 형성된 홀(3)의 외측에 부착된 필터(4)와, 상기 프레임(2)의 상면에 접착제에 의해 접착된 펠리클(5)로 구성된다.

이와 같은 구성에서 상기 필터(4)는 파티클, 먼지 등의 비교적 큰 이물은 필터링할 수 있으나, 이온성 분자 가스의 유입은 방지할 수 없다.

따라서 외부의 솔벤트, NH₃ ⁺, SO₄, SO_x등의 이온이나, NH₃ ⁺, SO₄ ^-등의 공정에서 사용하는 약액의 잔존물, 펠리클(5)의 제조에 사용하는 각종 유기물로 부터 유출되는 가스들이 포토 마스크를 이용한 노광공정에서 조사하는 자외선에 의해 유출되어 마스크 표면에 이물을 형성하여 포토 마스크(1)의 수명을 단축시킨다.

그 예로 NH₃ ⁺와 SO₄ ^-는 광을 촉매로 하여 (NH₃) ₂SO₄를 생성하며, 이는 결정성 파티클이 되어 빛의 투과을 방해하기 때문에 포토 마스크의 수명을 단축시키는 원인이 된다.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 외부로 부터 포토 마스크와 펠리클의 사이공간으로 유입되거나, 포토 마스크를 이용한 노광공정에서 발생하는 이온들이 포토 마스크의 패턴 부분에 흡착되는 것을 방지할 수 있는 포토 마스크의 구조를 제공함에 그 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 포토 마스크와, 상기 포토 마스크의 일면상에 접착된 프레임과, 상기 프레임의 측면 일부에 위치하는 홀과, 상기 홀이 위치하는 프레임의 외측에 접하는 필터와, 상기 프레임의 상부에서 상기 포토 마스크와 평행하게 접합되는 펠리클과, 상기 프레임의 내측면에 위치하는 흡착층으로 구성하여 된 것을 특징으로 하는 포토 마스크의 구조를 제공한다.

여기서, 상기 흡착층은 프레임의 내측면과 인접한 포토 마스크와 펠리클에도 위치하는 것이 바람직하고, 상기 흡착층은 도포된 탄소막층인 것을 특징으로 한다.

상기와 같이 구성되는 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 3은 본 발명에 따르는 포토 마스크의 평면도이고, 도 4는 그 측단면도로서, 이에 도시한 바와 같이 포토 마스크(1)의 일면에 접착제에 의해 접착되는 프레임(2)과, 상기 프레임(2)의 일측면에 형성된 홀(3)의 외측에 부착된 필터(4)와, 상기 프레임(2)의 상면에 접착제에 의해 접착된 펠리클(5)과, 상기 프레임(2)의 내측과 그 프레임(2)과 인접한 포토 마스크(1)와 펠리클(5) 사이 공간에 위치하는 흡착층(6)으로 구성된다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 구조 및 그 작용을 보다 상세히 설명한다.

상기 포토 마스크(1)는 광을 투과하는 기판 상에 광을 차단하는 패턴이 형성된 것으로, 그 포토 마스크(1)를 제조한 후 오염을 방지하기 위하여 프레임(2)을 사이에 두고, 소정 간격 이격되어 펠리클(5)과 접착 고정된다.

상기 프레임(2)의 측면에는 공기의 순환을 위한 홀(3)이 마련되며, 그 홀(3)의 외측에는 필터(4)가 부착된다.

또한, 상기 프레임(2)의 내측과, 상기 포토 마스크(1)와 펠리클(5)이 이루는 공간의 프레임(2)과 인접한 부분에는 흡착층(6)이 마련된다.

상기 흡착층(6)은 탄소막을 도포하여 형성한다.

상기 필터(4)는 외부에서 상기 포토 마스크(1)와 펠리클(5)이 이루는 공간으로 유입되는 비교적 큰 오염물질을 필터링한다.

이때, 상기 필터(4)는 이온성의 분자 가스는 필터링할 수 없으며, 그 이온성의 분자 가스는 포토 마스크(1)와 펠리클(5)의 사이 공간으로 유입되어 포토 마스크(1)의 패턴부분에 흡착되어 결정화 되어 포토 마스크(1)의 수명을 단축시킨다.

또한, 상기 펠리클(5)의 제조에 사용되는 유기물로부터 유출되는 가스 등에 의해서도 포토 마스크(1)의 패턴 부분에 결정이 성장하여 포토 마스크(1)의 수명을 단축시키는 원인이 된다.

상기와 같은 외부에서 유입되는 이온성 분자 가스 또는 상기 포토 마스크(1)와 펠리클(5) 사이에서 발생하는 이온성 분자 가스를 상기 흡착층(6)을 이용하여 흡착한다.

상기 흡착층(6)은 외인성 또는 내인성의 이온성 분자 가스를 흡착하여 그 표면에 결정이 형성될 수 있으나, 이는 포토 마스크(1)의 수명에는 영향을 주지 않는 위치에 있어 포토 마스크(1)가 오염되는 것을 방지할 수 있게 된다.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.

상기한 바와 같이 본 발명은 포토 마스크와 펠리클을 프레임에 의해 접착 고정한 포토 마스크 구조에 있어서, 그 포토 마스크와 펠리클이 이루는 공간 중 프레 임에 인접한 부분과, 그 프레임의 내측면에 흡착층을 마련하여 외기에서 유입되는 이온성 분자 가스와 내측에서 생성되는 이온성 분자 가스를 흡착함으로써, 포토 마스크 패턴에 이온성 분자 가스에 의한 결정이 성장하는 것을 방지하여, 포토 마스크의 수명을 증가시키는 효과가 있다.

Claims (3)

1. 포토 마스크와,

   상기 포토 마스크의 일면상에 접착된 프레임과,

   상기 프레임의 측면 일부에 위치하는 홀과,

   상기 홀이 위치하는 프레임의 외측에 접하는 필터와,

   상기 프레임의 상부에서 상기 포토 마스크와 평행하게 접합되는 펠리클과,

   상기 프레임의 내측면에 위치하는 흡착층으로 구성하여 된 것을 특징으로 하는 포토 마스크의 구조.
2. 제 1항에 있어서, 상기 흡착층은 프레임의 내측면과 인접한 포토 마스크와 펠리클에도 위치하는 것을 특징으로 하는 포토 마스크의 구조.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 흡착층은 도포된 탄소막층인 것을 특징으로 하는 포토 마스크의 구조.

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