KR20050114651A - 상승작용 제초제 혼합물 - Google Patents
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Abstract
A) 피콜리나펜, 또는 이의 환경 친화성 염 중 1종; 및 B) 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드 및 페녹술람으로부터 선택된 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 제초제, 또는 이의 환경 친화성 염 또는 에스테르 중 1종의 상승작용 유효량; 및 필요한 경우, C) 1종 이상의 독성 완화제를 포함하는 상승작용 제초제 혼합물. 이 혼합물을 포함하는 조성물, 이 조성물의 제조 방법 및 원하지 않는 식물의 방제를 위한 이들의 용도.
Description
본 발명은
A) 하기 화학식 (I)의 피콜리나펜,
또는 이의 환경 친화성 염 중 1종; 및
B) 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드 및 페녹술람으로부터 선택된 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 제초제, 또는 이의 환경 친화성 염 또는 에스테르 중 1종의 상승작용 유효량; 및 필요한 경우
C) 디클로르미드, 베녹사코르, LAB 145 138, MG-191, 푸릴라졸, 시오메트리닐, 옥사베트리닐, 플럭소페님, 플루라졸, 나프탈산 무수물, 펜클로림, 펜클로라졸-에틸, 메펜피르, 이속사디펜, 클로퀸토세트, 1-에틸-4-히드록시-3(1H-테트라졸-5-일)-1H-퀴놀린-2-온, 4-카르복시-메틸-크로만-4-카르복실산, N-(2-메톡시벤질)-4-(3-메틸우레이도)-벤젠술폰-아미드 및 (3-옥소-이소티오크로만-4-일리덴메톡시)아세트산 메틸 에스테르의 군으로부터 선택된 1종 이상의 독성 완화제, 또는 이의 환경 친화성 염, 에스테르 또는 아미드 중 1종을 포함하는 상승작용 제초제 혼합물에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 정의된 상승작용 제초제 혼합물의 제초 활성량 및 1종 이상의 액체 및(또는) 고체 담체 및 필요한 경우, 1종 이상의 계면활성제를 포함하는 제초제 조성물에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 조성물의 제조 방법 및 바람직하지 못한 식물군의 방제 방법에 관한 것이다.
WO 94/07368 및 WO 01/26466은 피콜리나펜과 특정의 추가 제초제의 혼합물을 개시하고 있다. 그러나, 작물 보호 제품에서는, 활성 성분의 특이적 활성 및 작용의 신뢰성을 증가시키는 것이 항상 바람직하다. 본 발명의 목적은 바람직하지 못한 유해 식물에 대한 피콜리나펜의 활성 및(또는) 선택성을 증가시키는 것이다.
우리는 상기 목적이 서론에서 정의된 혼합물에 의해 달성된다는 것을 발견하였다. 또한, 우리는 상기 혼합물을 포함하는 제초제 조성물, 이의 제조 방법, 및 바람직하지 못한 식물군의 방제 방법을 발견하였다. 상기 방제 방법은 제조 활성 화합물인 그룹 A), B) 및 필요한 경우, C)가 함께 또는 별도로 제제화되어 적용되는지 및 별도 적용의 경우 이들이 어떤 순서로 적용되는지와는 무관하다.
본 발명에 따른 혼합물은 상승작용 효과를 나타내며, 일반적으로 제초 활성 화합물인 그룹 A), B) 및 필요한 경우, C)의 일정 작물에 대한 친화성은 보유된다.
적합한 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드는, 예를 들어, 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 및 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드이다.
어떤 화합물이 임의로 치환된 것으로 표시될 때, 존재할 수 있는 치환기는 살충제 화합물의 변형 및(또는) 개발에 통상적으로 사용되는 것 중 임의의 것일 수 있고, 특히, 본 발명의 화합물과 관련된 제초 활성을 유지 또는 증진시키거나, 또는 작용의 지속, 토양 또는 식물 침투, 또는 상기 제초제 화합물의 임의의 다른 바람직한 성질에 영향을 미치는 치환기이다. 해당 분자의 각 부분에 하나 이상의 동일하거나 상이한 치환기가 존재할 수 있다.
하기 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드가 바람직하다.
(식 중, R1은 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬 또는 C1 -4 할로알콕시; 특히 불소, 염소 및 브롬과 같은 할로겐; 메틸 및 에틸과 같은 C1 -4 알킬; 메톡시 및 에톡시과 같은 C1 -4 알콕시이고;
R2는 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬, C1 -4 할로알콕시 또는 히드록시카르보닐; 특히 불소 및 염소와 같은 할로겐; 메틸 및 에틸과 같은 C1 -4 알킬; 또는 히드록시카르보닐이고;
m은 0, 1, 2 또는 3; 특히 1 또는 2이고;
n은 0, 1, 2 또는 3; 특히 2임)
화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드의 예는, 특히, 클로란술람, 디클로술람 및 플로라술람이다.
또한, 하기 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드가 바람직하다.
(식 중, R1은 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬 또는 C1 -4 할로알콕시; 특히 불소, 염소 및 브롬과 같은 할로겐; 메틸 및 에틸과 같은 C1 -4 알킬; 메톡시 및 에톡시과 같은 C1 -4 알콕시이고;
R2는 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬, C1 -4 할로알콕시 또는 히드록시카르보닐; 특히 불소 및 염소와 같은 할로겐; 메틸 및 에틸과 같은 C1 -4 알킬이고;
m은 0, 1, 2 또는 3; 특히 1 또는 2이고;
n은 0, 1, 2 또는 3; 특히 2 또는 3임)
화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드의 예는, 특히, 플루메트술람 및 메토술람이다.
그룹 A), B) 및 필요한 경우, C)의 화합물은 그의 환경 친화성 염, 에스테르 및 아미드의 형태로 존재하거나 사용될 수 있다.
적합한 염, 에스테르 및 아미드는 일반적으로 활성 성분의 제초 작용 또는 독성 완화에 악영향을 미치지 않는 것들이다.
적합한 양이온은, 특히, 알칼리 금속, 바람직하게는 리튬, 나트륨 및 칼륨 이온, 알칼리 토금속, 바람직하게는 칼슘 및 마그네슘 이온, 및 전이 금속, 바람직하게는 망간, 구리, 아연 및 철 이온, 및 암모늄 이온이고, 암모늄 이온의 경우, 필요하다면, 1 내지 4개의 원소가 C1 -4 알킬, 히드록시-C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시-C1 -4 알킬, 히드록시-C1-4 알콕시-C1 -4 알킬, 페닐 또는 벤질로 치환될 수 있으며, 암모늄, 디메틸암모늄, 디이소프로필암모늄, 테트라메틸암모늄, 테트라부틸암모늄, 2-(2-히드록시-에트-1-옥시)에트-1-일 암모늄, 디(2-히드록시-1-일)-암모늄, 트리메틸벤질암모늄이 바람직하고, 또한 포스포늄 이온, 술포늄 이온, 바람직하게는 트리(C1 -4 알킬)술포늄, 및 술폭소늄 이온, 바람직하게는 트리(C1-4 알킬)술폭소늄이 적합한 양이온이다.
적합한 산 부가염의 음이온은 주로 염화물, 브롬화물, 불화물, 히드로겐 설페이트, 설페이트, 디히드로겐 포스페이트, 히드로겐 포스페이트, 니트레이트, 히드로겐 카보네이트, 카보네이트, 헥사플루오로실리케이트, 헥사플루오로포스페이트, 벤조에이트 및 C1 -4 알카노일 산의 음이온, 바람직하게는 포르메이트, 아세테이트, 프로피오네이트 및 부티레이트이다.
적합한 에스테르는 알킬-, 알킬옥시알킬-, 알릴-, 프로파르길- 및 옥세탄-3-일에스테르, 바람직하게는 C1 -10-에스테르, 예를 들면, 메틸-, 에틸-, 프로필-, 이소프로필-, 부틸-, 이소부틸-, 펜틸-, 멕실- (≡1-메틸-헥실) 또는 이속틸- (≡2-에틸-헥실) 에스테르, C1 -4 알콕시-에틸-에스테르, 예를 들면, 메톡시에틸-, 에톡시에틸- 또는 부톡시에틸-에스테르, 알릴에스테르, 프로파르길에스테르 및 옥세탄-3-일에스테르이다.
적합한 아미드는 "아미드" 자체, 알킬- 및 디알킬-아미드 및 아닐리드, 바람직하게는 C1 -4 알킬-아미드, 예를 들면, 메틸- 또는 에틸-아미드, 디(C1 -4 알킬)아미드, 예를 들면, 디메틸 또는 디에틸 아미드, 또는 아닐리드, 바람직하게는 아닐리드 자체 또는 2-클로로-아닐리드이다.
그룹 A), B) 및 필요한 경우, C)의 화합물 및 그의 염, 에스테르 및 아미드는 또한 순수한 에난티오머, 및 라세미체 또는 부분입체 이성질체 혼합물의 형태로 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 바람직한 상승작용 혼합물은 성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드를 포함한다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 디클로술람을 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 플로라술람을 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 플루메트술람을 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 메토술람을 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜 및 성분 B)로서 페녹술람을 포함하는 본 발명에 따른 상승작용 혼합물도 바람직하다.
성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6); 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸; 또는 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 본 발명에 따른 상승작용 혼합물도 바람직하다.
성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 디클로술람 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플로라술람 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플루메트술람 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 메토술람 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 페녹술람 및 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6)을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
성분 C)로서 이속사디펜, 특히 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 디클로술람 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플로라술람 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플루메트술람 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 메토술람 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 페녹술람 및 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
그룹 C)의 화합물로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 디클로술람 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플로라술람 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플루메트술람 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 메토술람 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 페녹술람 및 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸을 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
또한, 본원 발명에 따른 상승작용 혼합물이 그룹 A)의 화합물, 그룹 B)의 화합물 1종 이상, 필요한 경우, 그룹 C)의 화합물 1종 이상 및 추가로 그룹 D)의 제초제 1종 이상을 활성 성분으로 포함하는 것이 유리할 수 있다.
그룹 D)의 적합한 제초제의 예는, 특히, 아세틸-CoA 카르복실화효소 억제제 (ACC), 아세토락테이트 합성효소 억제제 (ALS), 아미드, 옥신 제초제, 옥신 수송 억제제, 카로티노이드 생합성 억제제, 에놀피루빌시키메이트 3-포스페이트 합성효소 억제제 (EPSPS), 글루타민 합성효소 억제제, 지질 생합성 억제제, 체세포분열 억제제, 프로토포르피리노겐 IX 산화효소 억제제, 광합성 억제제, 상승작용제, 성장 물질, 세포벽 생합성 억제제 및 다른 다양한 제초제이다.
사용할 수 있는 그룹 D)의 제초제의 특정 예는, 특히,
D1 아세틸-CoA 카르복실화효소 억제제 (ACC), 예를 들면
- 시클로헥세논 옥심 에테르, 예컨대 알록시딤, 클레토딤, 클로프록시딤, 시클록시딤, 세톡시딤, 트랄콕시딤, 부트록시딤, 클레폭시딤 또는 테프랄록시딤;
- 페녹시페녹시프로피온산 에스테르, 예컨대 클로디나포프-프로파르길, 시할로포프-부틸, 디클로포프-메틸, 페녹사프로프-에틸, 페녹사프로프-P-에틸, 펜티아프로프-에틸, 플루아지포프-부틸, 플루아지포프-P-부틸, 할록시포프-에톡시에틸, 할록시포프-메틸, 할록시포프-P-메틸, 이속사피리포프, 프로파퀴자포프, 퀴잘로포프-에틸, 퀴잘로포프-P-에틸 또는 퀴잘로포프-테푸릴; 또는
- 아릴아미노프로피온산, 예컨대 플람프로프-메틸 또는 플람프로프-이소프로필;
D2 아세토락테이트 합성효소 억제제 (ALS), 예를 들면
- 이미다졸리논, 예컨대 이마자피르, 이마자퀸, 이마자메타벤즈-메틸 (이마잠), 이마자목스, 이마자픽 또는 이마제타피르;
- 피리미딜 에테르, 예컨대 피리티오박-산, 피리티오박-나트륨, 비스피리박-나트륨, KIH-6127 또는 피리벤즈옥심;
- 술포닐우레아, 예컨대 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸, 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드;
D3 아미드, 예를 들면
- 알리도클로르 (CDAA), 벤조일프로프-에틸, 브로모부티드, 클로르티아미드, 디페나미드, 에토벤자니드 (벤즈클로메트), 플루티아미드, 포사민 또는 모날리드;
D4 옥신 제초제, 예를 들면
- 피리딘카르복실산, 예컨대 클로피랄리드 또는 피클로람; 또는
- 2,4-D 또는 베나졸린;
D5 옥신 수송 억제제, 예를 들면
- 나프탈람 또는 디플루펜조피르;
D6 카로티노이드 생합성 억제제, 예를 들면
- 벤조페나프, 클로마존 (디메타존), 디플루페니칸, 플루오로클로리돈, 플루리돈, 피라졸리네이트, 피라족시펜, 이속사플루톨, 이속사클로르톨, 메소트리온, 술코트리온 (클로르메술론), 케토스피라독스, 플루르타몬, 노르플루라존 또는 아미트롤;
D7 에놀피루빌시키메이트-3-포스페이트 합성효소 억제제 (EPSPS), 예를 들면
- 글리포세이트 또는 술포세이트;
D8 글루타민 합성효소 억제제, 예를 들면
- 빌라나포스 (비알라포스) 또는 글루포시네이트-암모늄;
D9 지질 생합성 억제제, 예를 들면
- 아닐리드, 예컨대 아닐로포스 또는 메페나세트;
- 클로로아세트아닐리드, 예컨대 디메텐아미드, S-디메텐아미드, 아세토클로르, 알라클로르, 부타클로르, 부테나클로르, 디에타틸-에틸, 디메타클로르, 메타자클로르, 메톨라클로르, S-메톨라클로르, 프레틸라클로르, 프로파클로르, 프리나클로르, 테르부클로르, 테닐클로르 또는 크실라클로르;
- 티오우레아, 예컨대 부틸레이트, 시클로에이트, 디-알레이트, 디메피페레이트, EPTC, 에스프로카르브, 몰리네이트, 페불레이트, 프로술포카르브, 티오벤카르브 (벤티오카르브), 트리-알레이트 또는 베르놀레이트; 또는
- 벤푸레세이트 또는 퍼플루이돈;
D10 체세포분열 억제제, 예를 들면
- 카르바메이트, 예컨대 아술람, 카르베타미드, 클로르프로팜, 오르벤카르브, 프로나미드 (프로피자미드), 프로팜 또는 티오카르바질;
- 디니트로아닐린, 예컨대 베네핀, 부트랄린, 디니트라민, 에탈플루랄린, 플루클로랄린, 오리잘린, 펜디메탈린, 프로디아민 또는 트리플루랄린;
- 피리딘, 예컨대 디티오피르 또는 티아조피르; 또는
- 부타미포스, 클로르탈-디메틸 (DCPA) 또는 말레산 히드라지드;
D11 프로토포르피리노겐 IX 산화효소 억제제, 예를 들면
- 디페닐 에테르, 예컨대 아시플루오르펜, 아시플루오르펜-나트륨, 아클로니펜, 비페녹스, 클로르니트로펜 (CNP), 에톡시펜, 플루오로디펜, 플루오로글리코펜-에틸, 포메사펜, 푸릴옥시펜, 락토펜, 니트로펜, 니트로플루오르펜 또는 옥시플루오르펜;
- 옥사디아졸, 예컨대 옥사디아르길 또는 옥사디아존;
- 시클릭 이미드, 예컨대 아자페니딘, 부타페나실, 카르펜트라존-에틸, 시니돈-에틸, 플루미클로락-펜틸, 플루미옥사진, 플루미프로핀, 플루프로파실, 플루티아세트-메틸, 술펜트라존 또는 티디아지민; 또는
- 피라졸, 예컨대 ET-751, JV 485 또는 니피라클로펜;
D12 광합성 억제제, 예를 들면
- 프로파닐, 피리데이트 또는 피리다폴;
- 벤조티아디아지논, 예컨대 벤타존;
- 디니트로페놀, 예를 들면 브로모페녹심, 디노셉, 디노셉-아세테이트, 디노테르브 또는 DNOC;
- 디피리딜렌, 예컨대 시페르쿼트-클로라이드, 디펜조쿼트-메틸술페이트, 디쿼트 또는 파라쿼트-디클로라이드;
- 우레아, 예컨대 클로르브로무론, 클로로톨루론, 디페녹수론, 디메푸론, 디우론, 에티디무론, 페누론, 플루오메투론, 이소프로투론, 이소우론, 리누론, 메타벤즈티아주론, 메타졸, 메토벤주론, 메톡수론, 모노리누론, 네부론, 시두론 또는 테부티우론;
- 페놀, 예컨대 브로목시닐 또는 이옥시닐;
- 클로리다존;
- 트리아진, 예컨대 아메트린, 아트라진, 시아나진, 데스메트린, 디메타메트린, 헥사지논, 프로메톤, 프로메트린, 프로파진, 시마진, 시메트린, 테르부메톤, 테르부트린, 테르부틸라진 또는 트리에타진;
- 트리아지논, 예컨대 메타미트론 또는 메트리부진;
- 우라실, 예컨대 브로마실, 레나실 또는 테르바실; 또는
- 비스카르바메이트, 예컨대 데스메디팜 또는 펜메디팜;
D13 상승작용제, 예를 들면
- 옥시란, 예컨대 트리디판;
D14 성장 물질, 예를 들면
- 아릴옥시알칸산, 예컨대 2,4-DB, 클로메프로프, 디클로르프로프, 디클로르프로프-P (2,4-DP-P), 플루오록시피르, MCPA, MCPB, 메코프로프, 메코프로프-P 또는 트리클로피르;
- 벤조산, 예컨대 클로람벤 또는 디캄바; 또는
- 퀴놀린카르복실산, 예컨대 퀸클로락 또는 퀸메락;
D15 세포벽 합성 억제제, 예를 들면
- 이속사벤 또는 디클로베닐;
D16 다른 다양한 제초제, 예를 들면
- 디클로로프로피온산, 예컨대 달라폰;
- 디히드로벤조푸란, 예컨대 에토푸메세이트;
- 페닐아세트산, 예컨대 클로르페낙 (페낙); 또는
- 아지프로트린, 바르반, 벤술리드, 벤즈티아주론, 벤조플루오르, 부미나포스, 부티다졸, 부투론, 카펜스트롤, 클로르부팜, 클로르펜프로프-메틸, 클로록수론, 신메틸린, 쿠밀루론, 시클루론, 시프라진, 시프라졸, 디벤질루론, 디프로페트린, 딤론, 에글리나진-에틸, 엔도탈, 에티오진, 플루카바존, 플루오르벤트라닐, 플루폭삼, 이소카르바미드, 이소프로팔린, 카르부틸레이트, 메플루이다이드, 모누론, 나프로파미드, 나프로파닐리드, 니트랄린, 옥사시클로메폰, 페니소팜, 피페로포스, 프로시아진, 프로플루랄린, 피리부티카르브, 섹부메톤, 술팔레이트 (CDEC), 테르부카르브, 트리아지플람, 트리아조페나미드 또는 트리메투론;
또는 이들의 환경 친화성 염, "산", 에스테르 및 아미드이다.
적합한 염, 에스테르 및 아미드는 그룹 A), B) 및 C)의 화합물에서 언급된 것과 유사하다.
그룹 D)의 화합물, 및 그의 염, "산", 에스테르 및 아미드는 또한 순수한 거울상 이성질체, 및 라세미체 또는 부분입체 이성질체로서 존재할 수 있다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 디클로술람 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플로라술람 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플루메트술람 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 메토술람 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 페녹술람 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 바람직하다.
성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6); 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸; 또는 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 본 발명에 따른 상승작용 혼합물도 바람직하다.
성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 디클로술람, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플로라술람, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플루메트술람, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 메토술람, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 페녹술람, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6) 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 디클로술람, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플로라술람, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플루메트술람, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 메토술람, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 페녹술람, 성분 C)로서 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 클로란술람, 특히, 클로란술람 메틸, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 디클로술람, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플로라술람, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 술폰아닐리드 1종 이상, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 플루메트술람, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물이 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 메토술람, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 현저히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 페녹술람, 성분 C)로서 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸 및 성분 D)로서 1종 이상의 술포닐우레아, 예를 들면, 아미도술푸론, 아짐술푸론, 벤술푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로르술푸론, 시노술푸론, 시클로술파무론, 에타메트술푸론-메틸, 에톡시술푸론, 플라자술푸론, 플루카르바존, 플루피르술푸론, 포람술푸론, 할로술푸론-메틸, 이마조술푸론, 요오도술푸론, 메소술푸론, 메트술푸론-메틸, 니코술푸론, 프리미술푸론-메틸, 프로술푸론, 프로카르바존, 피라조술푸론-에틸, 림술푸론, 술포메투론-메틸 또는 -3-옥세타닐, 술포술푸론, 티펜술푸론-메틸, 트리아술푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루술푸론-메틸, 트리플록시술푸론 또는 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드; 특히 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰-아미드를 포함하는 상승작용 혼합물도 특히 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 및 성분 D)로서 그룹 D1, D3 내지 D16 및 이미다졸리논 및 피리미딜 에테르 (상기 정의된 바와 같음)로부터 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는 상승작용 혼합물도 바람직하다.
성분 A)로서 피콜리나펜, 성분 B)로서 1종 이상의 트리아졸로피리미딘, 성분 C)로서 클로퀸토세트, 바람직하게는 클로퀸토세트 "산", 클로퀸토세트 멕실 또는 클로퀸토세트 멕실 x n 수화물 (n = 2 내지 6); 이속사디펜, 바람직하게는 이속사디펜 "산" 또는 이속사디펜 에틸; 또는 메펜피르, 바람직하게는 메펜피르 "산" 또는 메펜피르 디에틸, 및 성분 D)로서 그룹 D1, D3 내지 D16 및 이미다졸리논 및 피리미딜 에테르 (상기 정의된 바와 같음)로부터 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는 상승작용 혼합물도 바람직하다.
피콜리나펜 및 그룹 B)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는 상승작용 혼합물이 바람직하다.
이의 특히 바람직한 상승작용 혼합물은 상기 언급된 것들과 유사하다.
피콜리나펜, 그룹 B)의 화합물 1종 및 그룹 C)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는 상승작용 혼합물도 바람직하다.
이의 특히 바람직한 상승작용 혼합물은 상기 언급된 것들과 유사하다.
피콜리나펜, 그룹 B)의 화합물 1종 및 그룹 D)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는 상승작용 혼합물도 바람직하다.
이의 특히 바람직한 상승작용 혼합물은 상기 언급된 것들과 유사하다.
피콜리나펜, 그룹 B)의 화합물 1종, 그룹 C)의 화합물 1종 및 그룹 D)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는 상승작용 혼합물도 바람직하다.
이의 특히 바람직한 상승작용 혼합물은 상기 언급된 것들과 유사하다.
피콜리나펜은 EP 447 004에 개시되어 있다.
그룹 B)의 화합물은, 예를 들어 미국 특허 제4,818,273호 및 동 제5,163,995호, 특히, "살충제 매뉴얼 (The Pesticide Manual)", 제12판에 기재되어 있고("클로란술람" p. 196, "디클로술람" p. 283, "플로라술람" p. 420, "플루메트술람" p. 438, "메토술람" p. 640); "페녹술람"은 미국 특허 제5,858,924호에 기재되어 있다.
그룹 C)의 화합물은, 예를 들어
- "Herbizide[Herbicides]", Hock, Fedtke, Schmidt, 제1판, Thieme 1995 ("디클로르미드" p. 263, "베녹사코르" p. 263, "LAB-145138" p. 263, "MG-191" p. 263, "MON-13900" p. 263, "시오메트리닐" p. 265, "옥사베트리닐" p. 265, "플럭소페님" p. 265, "플루라졸" p. 265, "나프탈산 무수물" p. 265, "펜클로림" p. 266, "펜클로라졸" p. 266, "클로퀸토세트" p. 266);
- WO 91/07874 ("메펜피르");
- WO 99/00020 ("1-에틸-4-히드록시-3-(1H-테트라졸-5-일)-1H-퀴놀린-2-온");
- EP 613 618 ("4-카르복시메틸-크로만-4-카르복실산");
- US 5,215,570 ("N-(2-메톡시-벤조일)-4-(3-메틸우레이도)-벤젠술폰아미드");
- EP 929 543 ("3-옥소-이소티오크로만-4-일리덴메톡시)-아세트산 메틸 에스테르")에 기재되어 있다.
그룹 D1 내지 D16으로부터의 제초 활성 화합물은, 예를 들어
- "Herbizide[Herbicides]", Hock, Fedtke, Schmidt, 제1판, Thieme 1995 ("퀸클로락" p. 238, "몰리나트" p.32, "부타클로르" p. 32, "프레틸아클로르" p. 32, "디티오피르" p. 32, "메페나세트" p. 32, "페녹사프로프에틸" p. 216, "디메피페레이트" p. 32, "피라졸릴네이트" p. 146, "피라족시펜" p. 146, "벤술푸론메틸" p. 31, "피라조술푸론-에틸" p.31, "시노술푸론" p. 31, "벤푸레세이트" p. 233, "브로모부티드" p. 243, "딤론" p. 243, "디메티아메트린" p. 118, "에스프로카르브" p. 229, "피리부티카르브" p. 32, "시넴틸린" p.32, "프로파닐" p. 32, "2,4-D" p. 30, "벤타존" p. 30, "아짐술푸론 (DPX-A-8947)" p. 175, "메코프로프-P" p. 237, "클로르프로팜" p. 205, "에톡시펜" p.30, "할록시포프-P-메틸" p. 38, "할록시포프-에톡시에틸" p. 38, "플루미클로락-펜틸" p. 35, "플루프로파실" p. 143, "니피라클로펜" p. 145, "에타메트-술푸론-메틸" p. 36, "티펜술푸론-메틸" p. 35, "피리티오박산" p. 181);
- "Agricultural Chemicals", Book II Herbicides, 1993 ("티오벤카르브" p. 85, "벤조페나프" p. 221, "나프로파닐리드" p. 49, "피페로포스" p. 102, "아닐로포스" p. 241, "이마조술푸론 (TH-913)" p. 150, "에토벤자미드 (HW-52)" p.54, "술코트리온 (ICIA-0051)" p. 268, "포아스트" p. 253, "포커스" p. 222, "디메테나미드" p. 48, "술포세이트" p. 236, "2,4-DB" p. 10, "디클로르프로프-P" p. 6, "플루폭삼" p. 44, "프로술포카르브" p. 84, "퀸메락" p.233, "메타자클로르" p. 64, "플루르타몬" p. 265, "브로모페녹심" p.228, "포메사펜" p. 248, "이마자메타벤즈-메틸" p. 153, "클로디나포프-프로파르길" p. 214, "페녹사프로프-P-에틸" p. 208, "플루아지포프-P-부틸" p. 207, "퀴잘로포프-P-에틸" p. 210, "퀴잘로포프-테르푸릴" p. 211, "플루미옥사진" p. 43, "플루미프로핀" p. 267, "술펜트라존" p. 261, "티아조피르" p. 226, "피리티오박-나트륨" p.266, "아미도술푸론" p. 151, "할로술푸론-메틸" p. 148, "림술푸론" p. 138, "트리베누론-메틸" p. 139, "트리플루술푸론-메틸" p. 137, "프리미술푸론-메틸" p. 147);
- "Agricultural Chemicals", BookII Herbicides, 제13판 ("카르펜스톨" p. 284, "술포술푸론" p. 145, "에톡시술푸론" p. 149, "피리벤족심" p. 279, "디플루펜조피르" p. 90, "ET-751" p. 278, "카르펜트라존-에틸" p. 267, "플루티아세트-메틸" p. 277, "이마자픽" p. 160, "부테나클로르" p. 54, "티오카르바질" p. 84, "플루티아미드" p. 62, "이속사플루톨" p. 283, "부트록시딤" p. 259);
- "Short Review of Herbicides & PGRs 1991, Hodogaya Chemicals ("푸릴옥시펜" p. 142, "트리아조페나미드" p. 268, "테닐클로리드 (NSK-850)" p. 52, "쿠밀루론 (JC-940)" p. 90, "펜디메탈린 (AC-92553)" p. 58, "부티다졸" p. 88, "시프라졸" p. 38, "알리도클로르" p. 48, "벤조일프로프-에틸" p. 38, "클로르티아미드" p. 150, "디페나미드" p. 34, "플람프로프-메틸" p. 40, "포사민" p. 232, "이속사벤" p. 42, "모날리드" p. 32, "나프탈람" p. 36, "프로나미드" p. 34, "비알라포스" p. 234, "글루포시네이트-암모늄" p. 234, "글리포세이트" p. 232, "아미트롤" p. 254, "클로메프로프" p. 20, "디클로르프로프" p. 6, "페노프로프" p. 8, "플루록시피르" p. 156, "MCPA" p. 4, "MCPB" p. 8, "메코프로프 p. 6, "나프로파미드" p. 16, "트리클로피르" p. 154, "클로람벤" p. 28, "디캄바" p. 26, "클로마존" p. 268, "디플루페니칸" p. 42, "플루오로클로리돈" p. 266, "플루리돈" p. 156, "아술람" p. 112, "바르반" p. 100, "부틸레이트" p. 106, "카르베타미드" p. 36, "클로로부팜" p. 100, "시클로에이트" p. 108, "데스메디팜" p. 104, "디-알레이트" p. 106, "EPTC" p. 108, "오르벤카르브" p. 112, "페불레이트" p. 106, "펜-이소팜" p. 118, "펜메디팜" p. 104, "프로팜" p. 100, "술팔레이트" p. 110, "테르부카르브" p. 102, "트리-알레이트" p. 108, "베르놀레이트" p. 108, "아세토클로르" p. 48, "알라클로르" p. 46, "디에타틸-에틸" p. 48, "디메타클로르" p. 50, "메톨라클로르" p. 46, "프로파클로르" p. 44, "피르나클로르" p. 44, "테르부클로르" p. 48, "크실라클로르" p. 52, "알록시딤" p. 260, "클레토딤" p. 270, "클로프록시딤" p. 268, "트랄콕시딤" p. 270, "달라폰" p. 212, "에토푸메세이트" p. 124, "베네핀" p. 54, "부트랄린" p. 58, "디니트라민" p. 56, "에타플루랄린" p. 60, "플루클로랄린" p. 54, "이소프로팔린" p. 58, "니트랄린" p. 58, "오리잘린" p. 60, "프로디아민" p. 62, "프로플루랄린" p. 54, "트리플루랄린" p. 54, "디노세브" p. 128, "디노세브-아세테이트" p. 128, "디노테르브" p. 128, "DNOC" p. 126, "아시플루오르펜-나트륨" p. 142, "아클로니펜" p. 146, "비페녹스" p. 140, "클로르니트로펜" p. 138, "디페녹수론" p. 76, "플루오로디펜" p. 138, "플루오로글리코펜-에틸" p. 146, "락토펜" p. 144, "니트로펜" p. 136, "니트로플루오르펜" p. 140, "옥시플루오르펜" p. 140, "시페르쿼트-염화물" p. 158, "디펜조쿼트-메틸-술페이트" p. 160, "디쿼트" p. 158, "파라쿼트-염화물" p. 158, "벤즈티아주론" p. 82, "부투론" p. 66, "클로르브로무론" p. 72, "클로록수론" p. 76, "클로로톨루론" p. 74, "시클루론" p. 84, "디메푸론" p. 88, "디우론" p. 70, "에티디무론" p. 86, "페누론" p. 64, "플루오메투론" p. 68, "이소프로투론" p. 80, "이소유론" p. 88, "카르부틸레이트" p. 76, "리누론" p. 72, "메타벤즈티아주론" p. 82, "메톡수론" p. 72, "모노리누론" p. 66, "모누론" p. 64, "네부론" p. 72, "시두론" p. 68, "테부티우론" p. 86, "트리메투론" p. 64, "이소카르바미드" p. 168, "이마자메타피르" p. 172, "이마자피르" p. 170, "이마자퀸" p. 170, "이마제타피르" p. 172, "메타졸" p. 162, "옥사디아존" p. 162, "트리디판" p. 266, "브로목시닐" p. 148, "이옥시닐" p. 148, "디클로포프-메틸" p. 16, "펜티아프로프-에틸" p. 20, "플루아지포프-부틸" p. 18, "할록시포프-메틸" p. 18, "이속사피리포프" p. 22, "프로파퀴자포프" p. 24, "퀴잘로포프-에틸" p. 20, "클로르페낙" p. 258, "클로르펜프로프-메틸" p. 258, "클로리다존" p. 174, "말레산 히드라지드" p. 162, "노르플루라존" p. 174, "피리데이트" p. 176, "클로피랄리드" p. 154, "피클로람" p. 154, "클로리무론-에틸" p. 92, "클로르술푸론" p. 92, "플라자술푸론" p. 96, "메트술푸론-메틸" p. 92, "니코술푸론" p. 96, "술포메투론-메틸" p. 92, "트리아술푸론" p. 94, "아메트린" p. 198, "아트라진" p. 188, "아지프로트린" p. 206, "시아나진" p. 192, "시프라진" p. 192, "데스메트린" p. 200, "디프로페트린" p. 202, "에글리나진-에틸" p. 208, "헥사지논" p. 208, "프로시아진" p. 192, "프로메톤" p. 196, "프로메트린" p. 196, "프로파진" p. 188, "세크부메톤" p. 196, "시마진" p. 188, "시메트린" p. 196, "테르부메톤" p. 204, "테르부트린" p. 198, "테르부틸라진" p. 190, "트리에타진" p. 188, "에티오진" p. 210, "메타미트론" p. 206, "메트리부진" p. 202, "브로마실" p. 180, "레나실" p. 180, "테르바실" p. 180, "베나졸린" p. 262, "벤술리드" p. 228, "벤조플루오르" p. 266, "부타미포스" p. 228, "DCPA" p. 28, "디클로베닐" p. 148, "엔도탈" p. 264, "메플루이디드" p. 306, "퍼플루이돈" p. 260, "테르부클로르" p. 48);
- "Global Herbicide Directory" 제1판, 1994 ("옥사디아르길" p. 96);
- "European Directory of Agrochemical Products" Volume 2 - Herbicides" 제4판 ("부미나포스" p. 255)에 기재되어 있다.
또한, 화합물 "DEH-112"는 EP-A 302 203에 기재되어 있다. 화합물 "테프랄옥시딤"은 DE-A 33 36 140에, 화합물 "시니돈-에틸"은 DE-A 36 03 789에, "펜카르바존"은 EP 507 171에, "포람술푸론"은 US 5,922,646에, "프로폭시카르바존"은 EP 507 171에, 화합물 "플루오르벤트라닐"은 EP-A 84 893에 기재되어 있다. 기타 화합물은 문헌[Brighton Crop Protection Conference - Weeds -1993]으로부터 공지되어 있다("티디아지민" p. 29, "AC-322140" p. 41, "KIH-6127" p. 47, "프로술푸론" p. 53, "KIH-2023" p. 61, "메토벤주론" p. 67). 화합물 "카르펜스트롤 (CH-900)"은 EP-A 332 133에 언급되어 있고, 화합물 N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로-메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]-카르보닐]-2-(트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드)는 PCT/EP96/03996에 기재되어 있다.
활성 성분의 각 작용 기전에의 할당은 현행 지식에 기초한다. 여러 작용 기전이 한 개의 활성 성분에 적용될 경우, 이 물질은 하나의 작용 양식에만 할당되었다.
또한, 본 발명은 상승작용 제초제 혼합물(상술한 그룹 A)의 화합물, 그룹 B)의 화합물, 필요한 경우, 그룹 C)의 화합물 및 필요한 경우, 그룹 D)의 화합물을 포함함)의 제초 활성량, 1종 이상의 액체 및(또는) 고체 담체 및 필요한 경우, 1종 이상의 계면활성제를 포함하는 제초제 조성물로 확대된다.
본 발명에 따른 제초제 조성물 및 상승작용 제초제 혼합물은 작물에 해를 미치지 않고 옥수수, 곡류, 벼 및 대두와 같은 작물에서 잎이 넓은 잡초 및 풀의 매우 우수한 방제를 달성할 수 있으며, 상기 효과는 특히 낮은 살포량에서도 관찰된다.
사용 방법의 다양성을 고려할 때, 본 발명에 따른 제초제 조성물 및 상승작용 제초제 혼합물은 보다 많은 작물에 사용되어 바람직하지 못한 식물을 제거할 수 있다. 적합한 작물의 예는 다음과 같다: 알리움 케파 (Allium cepa), 아나나스 코모수스 (Ananas comosus), 아라키스 히포가에아 (Arachis hypogaea), 아스파라구스 오피시날리스 (Asparagus officinalis), 베타 불가리스 아종 알티시마 (Beta vulgaris ssp. altissima), 베타 불가리스 아종 라파 (Beta vulgaris ssp. rapa), 브라시카 나푸스 변종 나푸스 (Brassica napus var. napus), 브라시카 나푸스 변종 나포브라시카 (Brassica napus var. napobrassica), 브라시카 라파 변종 실베스트리스 (Brassica rapa var. silvestris), 카멜리아 시넨시스 (Camellia sinensis), 카르타무스 틴크토리우스 (Carthamus tinctorius), 카리야 일리노이넨시스 (Carya illinoinensis), 시트루스 리몬 (Citrus limon), 시트루스 시넨시스 (Citrus sinensis), 코페아 아라비카 (Coffea arabica) (코페아 카네포라 (Coffea canephora), 코페아 리베리카 (Coffea liberica)), 쿠쿠미스 사티부스 (Cucumis sativus), 시노돈 닥틸론 (Cynodon dactylon), 다우쿠스 카로타 (Daucus carota), 엘라이스 귀네엔시스 (Elaeis guineensis), 프라가리아 베스카 (Fragaria vesca), 글리시네 막스 (Glycine max), 고시피움 히르수툼 (Gossypium hirsutum) (고시피움 아르보레움 (Gossypium arboreum), 고시피움 헤르바케움 (Gossypium herbaceum), 고시피움 비티폴리움 (Gossypium vitifolium)), 헬리안투스 안누우스 (Helianthus annuus), 헤베아 브라실리엔시스 (Hevea brasiliensis), 호르데움 불가레 (Hordeum vulgare), 후물루스 루풀루스 (Humulus lupulus), 이포모에아 바타타스 (Ipomoea batatas), 유글란스 레기아 (Juglans regia), 렌스 쿨리나리스 (Lens culinaris), 리눔 우시타티시뭄 (Linum usitatissimum), 리코페르시콘 리코페르시쿰 (Lycopersicon lycopersicum), 말루스 종 (Malus spp.), 마니호트 에스쿨렌타 (Manihot esculenta), 메디카고 사티바 (Medicago sativa), 무사 종 (Musa spp.), 니코티아나 타바쿰 (Nicotiana tabacum) (니코티아나 루스티카 (N. rustica)), 올레아 유로파이아 (Olea europaea), 오리자 사티바 (Oryza sativa), 파세올루스 루나투스 (Phaseolus lunatus), 파세올루스 불가리스 (Phaseolus vulgaris), 피케아 아비에스 (Picea abies), 피누스 종 (Pinus spp.), 피숨 사티붐 (Pisum sativum), 프루누스 아비움 (Prunus avium), 프루누스 페르시카 (Prunus persica), 피루스 코뮤니스 (Pyrus communis), 리베스 실베스트레 (Ribes sylvestre), 리키누스 코뮤니스 (Ricinus communis), 사카룸 오피시나룸 (Saccharum officinarum), 세칼레 케레알레 (Secale cereale), 솔라눔 투베르숨 (Solanum tuberosum), 소르굼 비콜로르 (Sorghum bicolor) (소르굼 불가레 (s. vulgare)), 테오브로마 카카오 (Theobroma cacao), 트리폴리움 프라텐세 (Trifolium pratense), 트리티쿰 애스티붐 (Triticum aestivum), 트리티쿰 두룸 (Triticum durum), 비키아 파바 (Vicia faba), 비티스 비니페라 (Vitis vinifera) 및 제아 마이스 (Zea mays).
또한, 본 발명에 따른 제초제 조성물 및 상승작용 제초제 혼합물은 변종 작물에서 유해 식물을 방제하기 위해 사용될 수 있다. 상기 변종 작물은 유전공학적 방법 또는 품종 개량에 의해 얻어지며, 일반적으로, 이들은 특정의 유리한 성질, 예를 들면, 일정 작물 보호제에 대한 저항, 식물 질병 또는 식물 질병을 일으키는 병원체(예, 특정 곤충, 또는 진균, 박테리아 또는 바이러스와 같은 미생물)에 대한 저항에 의해 구별된다. 기타 특정 성질은, 예를 들어, 품질, 저장성, 조성 및 특이적 구성 면에서 수확된 물질과 관련된다.
본 발명에 따른 혼합물 또는 이를 포함하는 제초제 조성물은 분무(spraying), 분무(atomizing), 가루 살포(dusting), 살포(spreading) 또는 붓기에 의해, 예를 들어, 직접 분무할 수 있는 수용액, 분말, 현탁액, 고도로 농축된 수성, 유성 또는 기타 현탁액 또는 분산액, 유제, 오일 분산액, 페이스트, 분제, 살포용 재료 또는 과립의 형태로 사용될 수 있다.
사용 형태는 목적에 의존하나, 모든 경우에서, 본 발명에 따른 활성 성분이 가능한 한 가장 미세하게 분포되도록 해야 한다.
적당한 불활성 보조제는 중간 내지 고 비점의 광유 분획, 예를 들면, 등유 및 디젤유, 또한 콜타르유 및 식물 또는 동물 기원의 오일, 지방족, 시클릭 및 방향족 탄화수소, 예를 들면, 파라핀, 테트라히드로나프탈렌, 알킬화 나프탈렌 및 그의 유도체, 알킬화 벤젠 및 그의 유도체, 알콜, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 및 시클로헥산올, 케톤, 예를 들면, 시클로헥사논, 강한 극성 용매, 예를 들면, N-메틸피롤리돈 및 물이다.
수성 사용 형태는 유제 농축액, 현탁액, 페이스트, 습윤가능한 분말 또는 수-분산성 과립에 물을 첨가하여 제조될 수 있다. 유제, 페이스트 또는 오일 분산액을 제조하기 위해서는, 그대로 또는 오일이나 용매에 용해된 물질을 습윤제, 점증제, 분산제 또는 유화제를 사용하여 물 중에서 균질화할 수 있다. 그러나, 활성 물질, 습윤제, 점증제, 분산제 또는 유화제 및 적합한 경우, 용매 또는 오일로 구성된 농축액을 제조하는 것도 가능하며, 상기 농축액은 물로 희석하기에 적합하다.
적합한 계면활성제는 방향족 술폰산, 예를 들면, 리그노-, 페놀-, 나프탈렌- 및 디부틸나프탈렌-술폰산의 알칼리 금속, 알칼리 토금속 및 암모늄염, 지방산의 알칼리 금속, 알칼리 토금속 및 암모늄염, 알킬- 및 알킬아릴 술포네이트의 알칼리 금속, 알칼리 토금속 및 암모늄염, 알킬 술페이트, 라우릴 에테르 술페이트 및 지방산 알콜 술페이트의 알칼리 금속, 알칼리 토금속 및 암모늄염, 술페이트화 헥사-, 헵타- 및 옥타데칸올의 염, 지방산 알콜 글리콜 에테르의 염, 술포네이트화 나프탈렌 및 그의 유도체의 포름알데히드와의 축합물, 나프탈렌 또는 나프탈렌술폰산의 페놀 및 포름알데히드와의 축합물, 폴리옥시에틸렌 옥틸페닐 에테르, 에톡실화 이소옥틸-, 옥틸- 또는 노닐페놀, 알킬페닐 및 트리부틸페닐 폴리글리콜 에테르, 알킬아릴 폴리에테르 알콜, 이소트리데실 알콜, 지방산 알콜/산화에틸렌 축합물, 에톡실화 피마자유, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 또는 폴리옥시프로필렌 알킬 에테르, 라우릴 알콜 폴리글리콜 에테르 아세테이트, 소르비톨 에스테르, 리그닌-아황산염 폐액 또는 메틸셀룰로오스이다.
분말, 살포용 재료 및 분제는 상승작용 제초제 혼합물 또는 개별 활성 성분을 고체 담체와 혼합하거나 동시에 분쇄함으로써 제조될 수 있다.
과립, 예를 들면, 코팅된 과립, 함침 과립 및 균질한 과립은 활성 성분을 고체 담체에 결합시킴으로써 제조될 수 있다. 고체 담체는 실리카, 실리카 겔, 규산염, 탈크, 카올린, 석회석, 석회, 백악, 교회 점토, 뢰스, 점토, 백운석, 규조토, 황산 칼슘, 황산 마그네슘, 산화 마그네슘, 분쇄된 합성 물질과 같은 광물, 황산 암모늄, 인산 암모늄, 질산 암모늄, 요소와 같은 비료, 곡류 가루, 나무 껍질 가루, 나무 가루 및 견과의 껍질 가루와 같은 식물 기원 생성물, 셀룰로오스 분말 또는 기타 고체 담체이다.
바로 사용가능한 제품에서 본 발명에 따른 혼합물의 농도는 넓은 범위 내에서 변할 수 있다. 일반적으로, 조성물은 0.01 내지 95 중량%, 바람직하게는 0.5 지 90 중량%의 본 발명에 따른 혼합물을 포함한다.
그룹 A) 및 B), 필요한 경우, C) 및 필요한 경우, D)의 화합물은 함께 및 별도로 제제화될 수 있고(있거나), 식물, 그의 환경 및(또는) 씨앗에 함께 또는 별도로 적용될 수 있다.
그룹 C)의 화합물이 본 발명에 따른 혼합물에 존재하는 경우, 이것은 작물의 씨앗에 침투시키는데 사용되거나(시드 드레싱), 씨앗을 뿌리기 전에 파구(seed furrow)에 포함될 수 있다. 이어서, 그룹 A), B) 및 필요한 경우, D)의 화합물이 그룹 C)의 화합물과 별도로 적용된다.
활성 성분들을 동시에 적용하는 것이 바람직하다. 그러나, 이들을 별도로 적용하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명에 따른 제초제 조성물 및 상승작용 제초제 혼합물을 부가의 다른 작물 보호제, 예를 들면, 살충제 또는 식물병원성 진균 또는 박테리아 억제제와 함께 또는 별도로 적용하는 것이 유리할 수 있다. 영양소 및 미량 원소 결핍을 치료하기 위해 사용되는 무기 염 용액과의 혼화성도 흥미롭다. 식물에 유해하지 않은 오일 및 오일 농축액도 첨가될 수 있다.
본 발명에 따른 제초제 조성물 및 상승작용 제초제 혼합물은 출아 전이나 후에 적용될 수 있다. 일정 작물이 활성 성분을 잘 견디지 못할 경우, 살포 도구의 보조로, 민감한 작물의 잎에는 (접촉한다 하더라도) 거의 접촉하지 않으면서, 그 아래에서 자라는 바람직하지 못한 식물의 잎 또는 나지(이후에 사용되도록 비축됨)에 도달하게 하는 방식으로 제초제 조성물을 살포하는 적용 방법이 사용될 수 있다.
식물의 출아후 처리에 있어서는, 본 발명에 따른 제초제 조성물을 잎에 적용하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 담체로서 물을 사용하여 약 100 내지 1000 l/ha의 분무 혼합물의 양으로 일반적인 방법에 의해 분무할 수 있다. 상기 조성물은 또한 소위 "저 용적" 및 "초저 용적" 방법에 의해, 또는 소위 과립 형태로 적용될 수 있다.
일반적으로, 본 발명의 상승작용 제초제 혼합물은 그룹 A) 및 B), 필요한 경우, C) 및 필요한 경우, D)의 화합물을 상승작용 효과가 일어나는 중량비로 포함한다.
혼합물 중 그룹 A) 및 B)의 화합물의 비는 1:0.0002 내지 1:50, 바람직하게는 1:0.005 내지 1:7.5, 특히 바람직하게는 1:0.01 내지 1:4의 범위가 바람직하다.
혼합물 중 그룹 A) 및 C)의 화합물의 비는 1:0.002 내지 1:50, 바람직하게는 1:0.02 내지 1:12.5, 특히 바람직하게는 1:0.03 내지 1:6의 범위가 바람직하다.
혼합물 중 그룹 A) 및 D)의 화합물의 비는 1:0.001 내지 1:400, 바람직하게는 1:0.005 내지 1:200, 특히 바람직하게는 1:0.006 내지 1:16의 범위가 바람직하다.
순수한, 즉, 제제 보조제가 없는 상승작용 제초제 혼합물의 살포량은 목적, 계절, 표적 식물 및 성장 단계에 따라, 활성 성분 0.1 내지 5000 g/ha, 바람직하게는 1 내지 2000 g/ha, 특히, 5 내지 1000 g/ha이다.
피콜리나펜의 살포량은 활성 성분 10 내지 500 g/ha, 일반적으로 20 내지 100 g/ha, 바람직하게는 2 내지 75 g/ha이다.
그룹 B)의 화합물의 살포량은 활성 성분 0.1 내지 500 g/ha, 일반적으로 0.5 내지 150 g/ha, 바람직하게는 1 내지 100 g/ha이다.
특히, 클로란술람의 살포량은 활성 성분 1 내지 100 g/ha, 일반적으로 5 내지 75 g/ha, 바람직하게는 10 내지 50 g/ha이다.
특히, 디클로술람의 살포량은 활성 성분 1 내지 500 g/ha, 일반적으로 10 내지 100 g/ha, 바람직하게는 20 내지 75 g/ha이다.
특히, 플로라술람의 살포량은 활성 성분 1 내지 500 g/ha, 일반적으로 20 내지 100 g/ha, 바람직하게는 35 내지 75 g/ha이다.
특히, 플루메트술람의 살포량은 활성 성분 10 내지 300 g/ha, 일반적으로 30 내지 150 g/ha, 바람직하게는 50 내지 100 g/ha이다.
특히, 메트술람의 살포량은 활성 성분 0.1 내지 500 g/ha, 일반적으로 0.5 내지 100 g/ha, 바람직하게는 1 내지 50 g/ha이다.
특히, 페녹술람의 살포량은 활성 성분 0.5 내지 250 g/ha, 일반적으로 1 내지 100 g/ha, 바람직하게는 5 내지 25 g/ha이다.
선택적인 그룹 C)의 화합물의 바람직한 살포량은 활성 성분 1 내지 500 g/ha, 일반적으로 2 내지 250 g/ha, 바람직하게는 2.5 내지 100 g/ha이다.
일반적으로, 클로퀸토세트의 살포량은 활성 성분 1 내지 50 g/ha이다.
일반적으로, 이속사디펜의 살포량은 활성 성분 25 내지 150 g/ha이다.
일반적으로, 메펜피르의 살포량은 활성 성분 10 내지 100 g/ha이다.
선택적인 그룹 D)의 화합물의 바람직한 살포량은 활성 성분 0.5 내지 4000 g/ha이다.
일반적으로, 그룹 D)의 술포닐우레아의 살포량은 활성 성분 0.5 내지 250 g/ha, 일반적으로 1 내지 125 g/ha이다.
사용 예
본 발명에 따른 혼합물을 출아 전 또는 후에 적용하였다(잎 처리). 그룹 A) 및 B), 필요한 경우, C) 및 필요한 경우, D)의 제조제 화합물을, 이들이 상업적으로 이용가능한 제품으로서 존재하는 조성물로 적용하였다.
그룹 A) 및 B), 필요한 경우, C) 및 필요한 경우, D)의 제조제 화합물을, 물을 비히클로 하여 유제, 수성 용액 또는 현탁액의 형태로 (300 - 400 l/ha) 차례로 또는 함께 적용하였으며, 후자의 경우, 어떤 경우에는 탱크 믹스로서, 어떤 경우에는 레디 믹스로서 적용하였다. 필드 시험의 경우, 이동 플롯 분무기의 보조로 적용을 수행하였다.
시험 기간은 3 내지 8 주였으며, 나중에 성적을 관찰하였다.
제조제 조성물에 의한 손상을 비처리 대조 플롯과 비교하여 0% 내지 100% 스케일로 평가하였다. 0은 손상이 없음을 의미하고, 100은 식물이 완전히 절멸되었음을 의미한다.
하기 예는 본 발명에 따라 사용될 수 있는 제초제 조성물의 작용을 설명할 것이며, 다른 사용 가능성을 배제하지 않는다.
하기 예에서, 단지 개별 활성 성분의 상가 효과가 예상되는 E 값은 콜비(S. R. Colby)의 방법에 의해 계산되었다(Calculating synergistic and antagonistic responses of herbicide combinations, Weeds 15, 20 pp (1967)).
이것은 하기 식을 사용하여 행해졌다.
(식 중,
X = a의 살포량에서 그룹 A)의 화합물의 제초 작용 %;
Y = b의 살포량에서 그룹 B)의 화합물의 제초 작용 %;
E = a + b의 살포량에서 그룹 A) + B)의 화합물의 예상되는 제초 작용 %)
관찰된 값이 콜비의 식에 따라 계산된 E 값을 넘으면, 상승작용이 존재한다.
피콜리나펜과 플로라술람 또는 피콜리나펜과 메토술람의 혼합물과 같은 본 발명에 따른 제초제 혼합물은 출아후 조건 하의 적당한 살포량에서, 개별 성분이 단독으로 사용되었을 때 관찰된 효과에 기초하여 콜비에 따라 예상된 것보다 더 큰 제초 작용을 나타낸다.
Claims (17)
- A) 하기 화학식 (I)의 피콜리나펜,<화학식 I>또는 이의 환경 친화성 염 중 1종; 및B) 트리아졸로피리미딘 술폰아닐리드 및 페녹술람으로부터 선택된 1종 이상의 트리아졸로피리미딘 제초제, 또는 이의 환경 친화성 염 또는 에스테르 중 1종의 상승작용 유효량; 및 필요한 경우C) 디클로르미드, 베녹사코르, LAB 145 138, MG-191, 푸릴라졸, 시오메트리닐, 옥사베트리닐, 플럭소페님, 플루라졸, 나프탈산 무수물, 펜클로림, 펜클로라졸-에틸, 메펜피르, 이속사디펜, 클로퀸토세트, 1-에틸-4-히드록시-3(1H-테트라졸-5-일)-1H-퀴놀린-2-온, 4-카르복시-메틸-크로만-4-카르복실산, N-(2-메톡시벤질)-4-(3-메틸우레이도)-벤젠술폰-아미드 및 (3-옥소-이소티오크로만-4-일리덴메톡시)아세트산 메틸 에스테르의 군으로부터 선택된 1종 이상의 독성 완화제, 또는 이의 환경 친화성 염, 에스테르 또는 아미드 중 1종을 포함하는 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항에 있어서, 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘, 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 및 페녹술람 중 1종 이상을 성분 B)로서 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 하기 화학식 (IIa)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-c]피리미딘, 하기 화학식 (IIb)의 임의로 치환된 (1,2,4)트리아졸로[1,5-a]피리미딘 및 페녹술람 중 1종 이상을 성분 B)로서 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.<화학식 IIa>(식 중, R1은 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬 또는 C1 -4 할로알콕시이고;R2는 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬, C1 -4 할로알콕시 또는 히드록시카르보닐이고;m은 0, 1, 2 또는 3이고;n은 0, 1, 2 또는 3임)<화학식 IIb>(식 중, R1은 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬 또는 C1 -4 할로알콕시이고;R2는 할로겐, C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, C1 -4 할로알킬, C1 -4 할로알콕시 또는 히드록시카르보닐이고;m은 0, 1, 2 또는 3이고;n은 0, 1, 2 또는 3임)
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 클로란술람, 디클로술람, 플로라술람, 플루메트술람, 메토술람 및 페녹술람 중 1종 이상을 성분 B)로서 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 클로퀸토세트, 이속사디펜 및 메펜피르 중 1종 이상을 성분 C)로서 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 아세틸-CoA 카르복실화효소 억제제 (ACC), 아세토락테이트 합성효소 억제제 (ALS), 아미드, 옥신 제초제, 옥신 수송 억제제, 카로티노이드 생합성 억제제, 에놀피루빌시키메이트 3-포스페이트 합성효소 억제제 (EPSPS), 글루타민 합성효소 억제제, 지질 생합성 억제제, 체세포분열 억제제, 프로토포르피리노겐 IX 산화효소 억제제, 광합성 억제제, 상승작용제, 성장 물질, 세포벽 생합성 억제제 및 다른 제초제 중 1종 이상을 성분 D)로서 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 1종 이상의 술포닐우레아를 성분 D)로서 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 피콜리나펜 및 그룹 B)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 피콜리나펜, 그룹 B)의 화합물 1종 및 그룹 C)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제4항, 제6항 및 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 피콜리나펜, 그룹 B)의 화합물 1종 및 그룹 D)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 피콜리나펜, 그룹 B)의 화합물 1종, 그룹 C)의 화합물 1종 및 그룹 D)의 화합물 1종만을 활성 성분으로 포함하는, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 그룹 A)의 화합물 및 그룹 B)의 화합물의 비가 1:0.0002 내지 1:50인, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제7항, 제9항, 제11항 및 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 그룹 A)의 화합물 및 그룹 C)의 화합물의 비가 1:0.002 내지 1:50인, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제6항, 제7항 및 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 그룹 A)의 화합물 및 그룹 D)의 화합물의 비가 1:0.001 내지 1:400인, 상승작용 제초제 혼합물.
- 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 상승작용 제초제 혼합물의 제초 활성량 및 1종 이상의 액체 및(또는) 고체 담체 및 필요한 경우, 1종 이상의 계면활성제를 포함하는 제초제 조성물.
- 그룹 A)의 화합물, 그룹 B)의 화합물, 필요한 경우, 그룹 C)의 화합물, 필요한 경우, 그룹 D)의 화합물, 1종 이상의 액체 및(또는) 고체 담체 및 필요한 경우, 1종 이상의 계면활성제를 혼합하는, 제15항에 따른 제초제 조성물의 제조 방법.
- 원하지 않는 식물의 출아 중 및(또는) 출아 후에, 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항의 상승작용 제초제 혼합물을 시용하는 것을 포함하며, 이 때 그룹 A), B) 및 필요한 경우, C) 및 필요한 경우, D)의 활성 화합물이 동시에 또는 순차적으로 사용될 수 있는, 원하지 않는 식물군의 방제 방법.
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