KR20050084677A - 강화된 에폭시/폴리안하이드라이드 비유동성 언더필캡슐화제 조성물 - Google Patents
강화된 에폭시/폴리안하이드라이드 비유동성 언더필캡슐화제 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050084677A KR20050084677A KR1020057007974A KR20057007974A KR20050084677A KR 20050084677 A KR20050084677 A KR 20050084677A KR 1020057007974 A KR1020057007974 A KR 1020057007974A KR 20057007974 A KR20057007974 A KR 20057007974A KR 20050084677 A KR20050084677 A KR 20050084677A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- encapsulant material
- underfill encapsulant
- flowable underfill
- flowable
- epoxy resin
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 106
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 title claims abstract description 91
- 229920002732 Polyanhydride Polymers 0.000 title claims abstract description 52
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 74
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 52
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 47
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 46
- -1 cyclic anhydride Chemical class 0.000 claims abstract description 37
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 55
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 claims description 46
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 7
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 6
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 6
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical group C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 claims description 5
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 5
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 5
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical class C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 4
- IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-1-ol Chemical compound C1OC1COC(CO)COCC1CO1 IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OCC1OC1 HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethyl-4-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical group CCC1=NC(C)=CN1CCC#N UIDDPPKZYZTEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BNRFUAOFPVNBRS-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl)methyl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-3-carboxylic acid Chemical compound C1CC2OC2CC1(C(O)=O)CC1CC2OC2CC1C BNRFUAOFPVNBRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920009204 Methacrylate-butadiene-styrene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 claims description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims description 3
- LKAVYBZHOYOUSX-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylprop-2-enoic acid;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C(O)=O.C=CC1=CC=CC=C1 LKAVYBZHOYOUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- BQQUFAMSJAKLNB-UHFFFAOYSA-N dicyclopentadiene diepoxide Chemical compound C12C(C3OC33)CC3C2CC2C1O2 BQQUFAMSJAKLNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920005586 poly(adipic acid) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 3
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 claims description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 claims description 2
- YAXXOCZAXKLLCV-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1CC(=O)OC1=O YAXXOCZAXKLLCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JIYNFFGKZCOPKN-UHFFFAOYSA-N sbb061129 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C=C(C)C2C1 JIYNFFGKZCOPKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims 2
- LPXDNEQTGPFOPF-UHFFFAOYSA-N hydron;1h-imidazol-1-ium;phosphate Chemical class C1=CNC=N1.OP(O)(O)=O LPXDNEQTGPFOPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 26
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 24
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 11
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012745 toughening agent Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 101000864780 Homo sapiens Pulmonary surfactant-associated protein A1 Proteins 0.000 description 2
- 101000651017 Homo sapiens Pulmonary surfactant-associated protein A2 Proteins 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 102100027773 Pulmonary surfactant-associated protein A2 Human genes 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004609 Impact Modifier Substances 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000002507 cathodic stripping potentiometry Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
- C08G59/4215—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof cycloaliphatic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/563—Encapsulation of active face of flip-chip device, e.g. underfilling or underencapsulation of flip-chip, encapsulation preform on chip or mounting substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L55/00—Compositions of homopolymers or copolymers, obtained by polymerisation reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, not provided for in groups C08L23/00 - C08L53/00
- C08L55/02—ABS [Acrylonitrile-Butadiene-Styrene] polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01067—Holmium [Ho]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/10251—Elemental semiconductors, i.e. Group IV
- H01L2924/10253—Silicon [Si]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
본 발명은 특히, 비유동성 언더필 캡슐화 공정에 유용한 경화성 언더필 캡슐화제 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 조성물은 에폭시 수지, 선형 폴리안하이드라이드, 코어-셸 폴리머, 및 촉매를 포함한다. 다른 구현예로서, 상기 조성물은 환형 무수물을 더 포함한다. 또한, 경우에 따라, 상기 조성물에 계면활성제 및 커플링제와 같은 각종 첨가제를 더 첨가할 수 있다.
Description
본 발명은 비흐름성 언더필 공정에 이용될 수 있는 언더필 캡슐화제(underfill encapsulant)에 관한 것이다.
본 발명은 마이크로전자 소자 내의 전자 부품과 기재간의 배선(interconnections)을 보호 및 강화하기 위해 에폭시 수지로부터 제조된 언더필 캡슐화제 화합물에 관한 것이다. 마이크로전자 소자는 다양한 형태의 전기 회로 부품, 주로 집적 회로(IC: integrated circuit) 칩 내에 함께 조립된 트랜지스터 이외에도, 레지스터, 커패시터 및 기타 부품을 포함한다. 이들 전자 부품은 상호 연결되어 회로를 형성하고, 최종적으로는 인쇄 배선 기판(printed wire board)과 같은 캐리어 또는 기판에 연결된다. 집적 회로 부품은 단일 베어칩(single bare chip), 캡슐화된 단일 칩 또는 캡슐화된 복수 개의 칩 패키지를 포함할 수 있다. 상기 단일 베어칩은 리드 프레임에 부착된 다음, 캡슐화되어 인쇄 배선 기판에 부착될 수 있고, 또는 직접 인쇄 배선 기판에 부착될 수 있다.
상기 부품이 리드 프레임에 연결된 베어칩인 경우, 또는 인쇄 배선 기판 또는 기타 기판에 연결된 패키지인 경우에도, 이들은 전자 부품 상의 전기 단자와 기판 상의 해당 전기 단자 사이에 접속이 형성된다. 전자 부품을 접속하는 방법 중 하나는, 범프(bump) 내에 적용된 폴리머 재료 또는 금속 재료를 이용하여, 상기 부품 또는 기판의 단자를 접속하는 것이다. 상기 단자들을 배열하고 서로 접속시킨 다음, 얻어진 조립체를 가열하여 상기 금속 재료 또는 폴리머 재료를 재유동화한 다음, 연결을 고정한다.
상기 전자 조립체를 이용하는 동안에는 상기 조립체에 대해 다양한 온도 범위에서의 열 사이클 공정이 수행된다. 그런데, 이러한 열 사이클 공정의 수행 시에는 상기 전자 부품, 배선 재료 및 기판의 열 팽창 계수 차이로 인해, 상기 조립체 부품에 응력이 가해져 부품이 파손될 수 있다. 이 같은 파손을 방지하기 위해, 상기 부품과 상기 기판 사이의 갭(gap)을 폴리머 캡슐화제(이하, 언더필(underfill) 또는 언더필 캡슐화제(underfill encapsulant)라 칭함)로 충전하여, 배선 재료를 강화하고 열 사이클 공정에서 가해지는 어느 정도의 응력을 흡수할 수 있다. 또한, 전술한 재료를 이용함으로써, 충격 에너지를 흡수할 수 있으며, 이른바, “낙하 테스트(drop test)” 성능을 향상시킬 수 있다.
이러한 언더필 기술의 주된 두 가지 용도는 칩 패키지가 인쇄 배선 기판에 부착되어 있는 칩 스케일 패키지(CSP: chip scale package), 칩이 볼 앤드 그리드 어레이에 의해 인쇄 배선 기판 및 플립 칩 소자에 부착되어 있는 플립 칩 볼 그리드 어레이(BGA)와 같은, 산업적으로 알려져 있는 패키지를 강화하는 데 이용하기 위한 것이다.
종래의 모세관형 유동성 언더필을 적용하는 경우에는 금속 재료 또는 고분자 재료의 배선을 재유동화한 다음에 상기 언더필을 공급하여 경화시킨다. 이 과정에 있어서 우선 상기 용융물(flux)을 기판 상의 금속 패드에 적용한다. 그리고, 금속 재료로 접속하는 경우에는 상기 용융물을 상기 금속 패드에 적용한 다음, 솔더링 부위의 정상부인, 상기 기판의 용융된 영역에 상기 칩을 설치한다. 이어서, 상기 조립체를 가열하여 상기 솔더 접합부(solder joint)를 재유동화한다. 이 때, 측정된 양의 언더필 캡슐화제 물질이 전자 부품 조립체의 하나 이상의 가장자리면을 따라 공급되고, 상기 부품과 기판 사이의 갭에서의 모세관 작용에 의해 상기 언더필 물질이 내부로 끌려 들어간다. 부품과 기판 사이의 갭을 충전한 다음에는 응력의 집중을 저하시키고 조립된 구조물의 피로 수명(fatigue life)을 연장하기 위해, 완성된 조립체의 주변을 따라서 추가의 언더필 캡슐화제를 공급할 수도 있다. 상기 언더필 캡슐화제를 공급한 다음에는 상기 언더필 캡슐화제가 적절한 최종 물성을 갖도록 경화시킨다.
한편, 비유동성 언더필 공정을 이용하면, 기판에 전자 부품을 부착하여, 상기 조립체를 언더필 캡슐화제로 보호하는 데 있어서, 전술한 공정에 비해 효과적으로 공정을 수행할 수 있다. 비유동성 캡슐화 공정에서 용융물은, 부품을 실장하기에 앞서 상기 조립 부위에 적용되는 언더필 중에 포함되어 있다. 그러므로, 상기 부품을 실장한 다음에는 부품, 언더필, 및 기판을 포함하는 전체 조립체를 리플로우 오븐(reflow oven)에 통과시킴으로써, 상기 기판 상의 금속 패드와 전체 조립체의 연결 부분을 솔더링한다. 전술한 비유동성 언더필 공정에서는 상기 언더필 물질이 상기 솔더 및 금속 패드를 용융시키고, 상기 솔더 접합부가 재용융됨으로써, 상기 부품과 기재 간의 상호 접속부가 형성된 다음, 언더필이 경화된다. 이러한 비유동성 언더필 조성물에 충전재를 이용하는 시도가 있었으나, 상기 충전재 입자가 상기 패드와 상기 솔더 사이에 충전되어 솔더 접합부의 형성을 방해할 수 있다는 문제점이 있었다. 전술한 비유동성 캡슐화 공정에 따르면, 용융물을 적용하는 단계와 언더필을 경화시킨 이후의 단계를 생략할 수 있다. 상기 비유동성 언더필 캡슐화 공정에서는 전술한 솔더링 및 언더필의 경화 단계의 수행 시에 상기 언더필 물질의 적절한 점도 및 적절한 경화 속도를 유지하는 것이 관건이다. 상기 언더필을 공급하여, 상기 솔더를 용융시키고, 상기 부품과 상기 기판 사이에 접속을 쉽게 형성할 수 있도록 하기 위해서는 상기 언더필이 저점도 상태(약 3,000∼6,000 cp)를 유지해야 한다. 또한, 상기 언더필의 경화 반응은 상기 솔더가 경화된 지 너무 오랜 시간이 경과한 후에 일어나서는 안 된다. 전술한 비유동성 언더필 공정에서는 상기 솔더가 용융된 다음, 1회의 재유동화 단계로 상기 언더필이 신속하게 경화되는 것이 바람직하다. 아울러, 상기 언더필은 상기 솔더 마스크, 솔더, 및 다이의 부동태화막에 우수한 부착성을 제공해야 한다. 결과적으로, 상기 언더필은 실온에서의 오랜 작업 수명, 및 열 사이클 공정 중의 양호한 신뢰성을 나타내어야 한다. 그러나, 이러한 비유동성 언더필 재료는 비교적 단단하고 취성이 있어, -55℃ 내지 125℃ 범위의 온도에서 수행되는 열 사이클 공정 중에는 균열(crack)과 박리가 발생할 수 있다는 문제점이 있다.
본 발명은 특히, 비유동성 언더필 캡슐화 공정에 이용되는 경화성 언더필 캡슐화제 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 캡슐화제 조성물은 에폭시 수지, 용융화제(fluxing agent), 선형 폴리안하이드라이드(linear polyanhydride), 코어-셸 폴리머 강인화제(core-shell polymer toughener), 및 촉매를 포함한다. 다른 구현예로서, 본 발명의 조성물은 환형 무수물(cyclic anhydride)을 더 포함한다. 아울러, 상기 조성물에 계면활성제 및 커플링제(coupling agent)와 같은 각종 첨가제를 더 첨가할 수 있다.
본 발명의 언더필 캡슐화 조성물에 이용되는 수지는 경화성 화합물로서, 중합이 가능한 화합물을 의미한다. 본 명세서에 기재된 “경화”란, 가교 반응과 함께 중합된다는 의미로 사용될 수 있다. 가교 반응은 동 기술 분야에서 이해되는 바와 같이, 원소, 분자의 작용기 또는 화합물의 브릿지(bridge)를 통해 두 폴리머 사슬이 결합하는 반응으로서, 이 가교 반응은 통상적으로 가열 시에 일어난다.
본 발명의 조성물의 성분으로는 1종 이상의 에폭시 수지, 용융화제, 선형 폴리안하이드라이드, 코어-셸 폴리머 강인화제, 및 촉매가 포함된다. 또한, 상기 조성물은 선택적으로 환형 무수물, 계면활성제, 반응성 희석제, 및 기타 성분들을 더 포함할 수 있다. 특히, 전술한 첨가제는 특수 수지의 용도에 이용하는데 바람직한 물성을 얻기 위해 선택된다.
본 발명의 언더필 조성물에 적절하게 이용되는 에폭시 수지를 예시하면, 비스페놀-A 및 비스페놀-F의 일관능성 및 다관능성 글리시딜에테르, 지환식 에폭시 수지, 및 그의 조합물을 들 수 있다. 본 발명에 바람직한 지환식 에폭사이드 수지는 몰 당 1.2개 이상의 에폭시기를 함유하는 비글리시딜에테르 에폭사이드(non-glycidyl ether epoxide)로부터 선택된다. 상기 에폭사이드는 에폭사이드기가 환 구조체(ring structure)의 일부분이거나, 또는 에폭사이드기가 환 구조체에 결합되어 있을 수 있는 환 구조체를 갖는 것을 특징으로 한다. 상기 비글리시딜에테르 에폭사이드를 예시하면, 환 구조체의 일부분인 2개의 에폭사이드기와 에스테르 결합을 포함하는 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산 카르복실레이트; 2개의 에폭사이드기를 포함하고 그 중 하나가 고리 구조체의 일부분인 비닐사이클로헥센 디옥사이드; 3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산 카르복실레이트; 및 디사이클로펜타디엔 디옥사이드를 들 수 있다.
본 발명에서는 글리시딜에테르 에폭사이드를 단독으로 사용하거나, 또는 상기 비글리시딜에테르 에폭사이드와 병용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 바람직한 글리시딜에테르 에폭사이드는 몰 당 1.2개의 에폭시기를 함유하는 글리시딜에테르 에폭사이드로부터 선택된다. 이러한 타입의 바람직한 에폭시 수지를 예시하면, 비스페놀 A형 수지를 들 수 있다. 상기 비스페놀 A형 수지로서 바람직한 것을 예시하면, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판-에피클로로하이드린 코폴리머를 들 수 있다. 본 발명에 가장 바람직한 에폭시 수지는 비스페놀 F형 수지이다. 통상적으로, 상기 비스페놀 F형 수지는 1몰의 비스페놀 F와 2몰의 에피클로로하이드린을 반응시켜 얻을 수 있다. 본 발명에 더욱 바람직한 유형의 에폭시 수지는 에폭시 노볼락 수지이다. 상기 에폭시 노볼락 수지는 일반적으로 페놀 수지와 에피클로로하이드린의 반응에 의해 제조된다. 상기 에폭시 노볼락 수지로서 바람직한 것을 예시하면, 폴리(페닐글리시딜에테르)-co-포름알데하이드를 들 수 있다. 아울러, 본 발명에서는 상기 에폭시 수지로서 바이페닐형 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 상기 바이페닐형 에폭시 수지는 통상적으로 바이페닐 수지와 에피클로로하이드린의 반응에 의해 제조된다. 이외에도 본 발명에 사용할 수 있는 에폭시 수지를 예시하면, 디사이클로펜타디엔-페놀 에폭시 수지, 나프탈렌 수지, 에폭시 관능성 부타디엔 아크릴로니트릴 코폴리머, 에폭시 관능성 폴리디메틸 실록산, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 본 발명의 언더필 캡슐화제에 바람직한 에폭시 수지는 비스페놀 F형 수지이다. 상업적으로 입수 가능한 비스페놀 F형 수지를 예시하면, 상품명 8230E로서 CVC Specialty Chemicals(미국 뉴저지주 메이플 셰이드 소재)로부터 입수 가능한 것을 들 수 있다. 또한, 상업적으로 입수 가능한 비스페놀 A형 수지를 예시하면, 상품명 EPON 828로서 Resolution Technology에서 입수 가능한 것을 들 수 있으며, 비스페놀 A형 수지와 비스페놀 F형 수지의 블렌드로서 상업적으로 입수 가능한 것을 예시하면, 상품명 ZX-1059로서 Nippon Chemical Company로부터 입수 가능한 것을 들 수 있다.
또한, 상기 선형 폴리안하이드라이드는 비유동성 언더필 캡슐화제가 솔더의 융점 미만의 온도 내지 상기 솔더의 융점 바로 위의 온도에서 상기 솔더와 금속 접속하기에 충분한 시간 동안 저점도 상태를 유지할 수 있도록 선택되어야 한다. 본 발명의 언더필 캡슐화제 조성물에 사용되는 선형 폴리안하이드라이드는 다관능성이다. 상기 수지를 이용한 초기 반응은 폴리머 무수물의 사슬을 분해함으로써, 분자량이 저하되는 반응이다. 하기 다이어그램은 전술한 반응을 개략적으로 도시한 것이다:
전술한 반응식의 (1)단계에는 촉매에 의해 상기 선형 폴리안하이드라이드 사슬이 분해된다. 상기 반응 스킴(scheme)에서, R은 탄소 원자수가 4∼10인 선형 폴리메틸렌 분절(segment)이다. 상기 반응식의 (2)단계에서는 통상의 카르복실레이트-에폭시 반응이 개시된다. 그런 다음, (3)단계에서는 상기 에폭시의 알콕사이드 이온이 다시 반응하여, 제2의 폴리안하이드라이드 사슬을 분해한다. 상기 분해 프로세스에 의해 상기 폴리안하이드라이드의 분자량이 감소함에 따라, 점도 증가 속도를 효과적으로 저하시킬 수 있다. 이렇게 함으로써, 경화 공정의 수행 시에 경화 시간의 지연됨 없이, 본 발명의 조성물이 더 오랜 시간 동안 저점도 상태를 유지할 수 있다. 상기 폴리안하이드라이드의 분자량은 높은 경화 수준에서는 당연히 증가하기 시작한다. 아울러, 상기 선형 폴리안하이드라이드는 용융화제로서 작용한다. 본 발명에 바람직한 선형 폴리안하이드라이드는 세바스산의 탈수 반응에 의해 생성된 폴리세바스산 폴리안하이드라이드(PSPA: polysebacic polyanhydride)이다. 바람직한 PSPA를 예시하면, Lonza, Inc.(미국 텍사스주의 파사데나 소재), Intermediates and Additives로부터 입수 가능한 PSPA를 들 수 있다. 이외에도 본 발명에 사용될 수 있는 선형 폴리안하이드라이드를 예시하면, 폴리아젤라산 폴리안하이드라이드, 및 폴리아디프산 폴리안하이드라이드를 들 수 있다. 본 발명의 캡슐화제 조성물이 선형 폴리안하이드라이드를 포함하는 경우에는 점도가 급격하게 증가하지 않은 채로 신속한 반응성을 얻을 수 있다. 또한, 상기 선형 폴리안하이드라이드를 이용하는 경우에 얻을 수 있는 다른 이점은 상기 선형 폴리안하이드라이드가 증기압이 낮은 고체라는 것에 있다. 따라서, 상기 폴리안하이드라이드는 결정의 융점보다 높은 고온에서 증발하여 경화중인 언더필에 공극을 생성하는 일이 거의 없다.
그리고, 본 발명의 언더필 캡슐화제는 촉매를 이용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 바람직한 촉매를 예시하면 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸-이미다졸을 들 수 있다. 상기 촉매는 액상의 이미다졸로서, 반응을 지연시킬 수 있도록 블로킹된 것 또는 보호된 것이 바람직하고, 이러한 촉매로서 상업적으로 입수 가능한 것을 예시하면, Poly Organix, Inc.(미국 매사추세츠주 뉴베리포트 소재)로부터 입수 가능한 상품명 CURIMID-DN를 들 수 있다. 전술한 촉매 이외에 본 발명에 유용한 기타 촉매를 예시하면, AMICURE 2PIP(미국 펜실베이니아주 앨런타운 소재의 Air Products & Chemicals로부터 입수 가능함), 알킬 치환된 이미다졸, 트리페닐포스핀, 이미다졸륨염, 이미다졸 포스페이트, 이미다졸염, 오늄 보레이트(onium borate), 금속 킬레이트, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
선형 폴리안하이드라이드를 함유하는 언더필 제제에서, 상기 선형 폴리안하이드라이드는 경화된 조성물에 높은 가요성을 부여한다. 이러한 가요성은 CSP의 조립체와 같은 해당 용도에 바람직하다. 강성이 크고 경화된 조성물은 열 충격 신뢰성 테스트에서 향상된 내구성을 요하는 용도 등에 이용하는 것이 바람직하다. 보다 강성이 큰 조성물을 얻고자 하는 경우에는 제2 무수물 또는 관능성이 더 큰 에폭시를 상기 조성물에 더 배합하여, 높은 강성 및 높은 유리 전이 온도를 얻도록 하는 것이 바람직하다. 상기 제2 무수물로서 바람직한 것을 예시하면 지환식 무수물을 들 수 있고, 가장 바람직한 것으로는 메틸헥사-하이드로프탈산 무수물(MHHPA: methylhexa-hydro phthalic anhydride)을 들 수 있으며, 구체적으로 예시하면, Lonza로부터 상업적으로 입수 가능한 MHHPA를 들 수 있다. 본 발명에 이용할 수 있는, 특히 유리 전이 온도를 상승시키기 위해 이용할 수 있는 그 밖의 환형 무수물을 예시하면, 메틸테트라-하이드로프탈산 무수물, 나딕 메틸 무수물, 헥사-하이드로프탈산 무수물, 테트라-하이드로프탈산 무수물, 프탈산 무수물, 도데실 숙신산 무수물, 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다. 선형 폴리안하이드라이드 및 환형 무수물을 모두 포함하는 언더필 캡슐화제 조성물에서, 상기 두 성분의 비율은 양론비인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 바람직한 조성물은, 조급한 점도 증가 및 가교 공정의 가속화에 의해 상기 선형 폴리안하이드라이드의 효과를 저하시킬 수 있는 반응성 종을 실질적으로 포함하지 않아야 한다.
그리고, 본 발명의 언더필 캡슐화제 조성물은 솔더 및 실리콘 다이에 대한 상기 언더필 캡슐화제 조성물의 부착성을 증대시키기 위해, 또한 상기 조성물의 온도 내성을 저해하지 않으면서 상기 조성물의 파괴 인성(fracture toughness)을 향상시키기 위해, 코어-셸 폴리머 강인화제를 포함한다. 상기 언더필 캡슐화제 조성물의 내균열성(crack resistance)은 열 사이클 공정 중의 파손 여부를 결정하는 주요 특성이다. 따라서, 상기 조성물이 코어-셸 폴리머 강인화제를 포함함으로써, 상기 언더필 캡슐화제 조성물의 열 사이클 특성 또한 개선될 수 있다. 본 발명에 이용되는 코어-셸 폴리머 강인화제는 상기 언더필 캡슐화제 조성물에 대한 분산성이 양호하고, 서브-마이크로미터 입자 크기가 약 0.1∼0.5 ㎛인 유기 충전재인 것이 바람직하다. 상기 코어-셸 폴리머 강인화제의 서브-마이크로미터 입자 크기가 전술한 범위인 경우에는 재용융화 공정 중에 솔더 접합부의 형성을 억제하지 않음으로써, 그 수율이 저하되지 않는다. 또한, 상기 언더필 캡슐화제 조성물에 상기 강인화제를 첨가하는 것에 의해서는 상기 캡슐화제 조성물의 Tg에 대한 효과가 얻어지지 않는 것으로 확인되었다. 표 1로부터 확인되는 바와 같이, 상기 강인화제를 이용함으로써, -55℃ 내지 125℃ 범위의 온도에서 액체-액체 열 사이클 공정을 수행할 때, 솔더 접합부의 신뢰성을 크게 향상시킬 수 있다. 그리고, 표 2를 통해 알 수 있듯이, 전술한 바와 같이 신뢰성을 향상시킴으로써, 상기 솔더와 기판의 부착력을 증대시킬 수 있고, 파괴 인성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 조성물에 강인화제로서 상기 유기 충전재를 사용하는 경우에는 비유동성 언더필 캡슐화제 조성물의 엔탈피를 낮춤으로써, 제한성이 낮은 충전 규정 및 종류에 부합되는 캡슐화제를 제공할 수 있다는 이점이 있다. 본 발명에 이용되는 코어-셸 폴리머 강인화제를 예시하면, 상품명 BLENDEX-415(General Electric Company로부터 입수 가능함)로 시판되는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 코어-셸 폴리머; 및 상품명 BTA-753(Rohm & Haas Company로부터 입수 가능함)으로 시판되는 메타크릴레이트 부타디엔 스티렌 코어-셸 폴리머를 들 수 있다. 본 발명이 이용할 수 있는 그 밖의 코어-셸 폴리머 개질제를 예시하면, 아크릴 충격 개질제를 들 수 있다.
또한, 본 발명의 언더필 캡슐화제 조성물은 바람직한 물성을 얻기 위해 추가의 성분들을 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 일관능성 반응성 희석제는 경화된 언더필의 물리적 물성에 불리한 영향을 끼치지 않으면서 점도의 증가를 지연시킬 수 있다. 본 발명에 바람직한 희석제를 예시하면, p-tert-부틸-페닐-글리시딜에테르, 알릴 글리시딜 에테르, 글리세롤 디글리시딜 에테르, 글리시딜 에테르 또는 알킬, 부탄디오디글리시딜에테르, 및 이들의 혼합물을 이용할 수 있다. 아울러, 본 발명의 조성물은 플립-칩 접합 공정 및 후속적인 솔더 접합부 재용융화 공정과 재료의 경화 공정 중에 보이드가 발생하는 것을 억제하도록 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 상기 계면활성제로서 바람직하게 이용되는 것을 예시하면, 유기 아크릴산 폴리머, 실리콘, 폴리옥시에틸렌/폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머, 에틸렌디아민 기재의 폴리옥시에틸렌/폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머, 폴리올 기재의 폴리옥시알킬렌, 지방산 알코올 기재의 폴리옥시알킬렌, 지방산 알코올 폴리옥시알킬렌 알킬에테르, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 전술한 성분 이외에도, 필요한 경우, 본 발명의 조성물에 커플링제, 폴리머 개질재, 및 기타 성분을 더 첨가할 수 있다.
본 발명의 언더필 캡슐화제 조성물의 다른 구현예로서, 상기 조성물은 에폭시 수지, 용융화제로서 작용하는 선형 폴리안하이드라이드, 촉매, 코어-셸 폴리머, 및 필요한 경우 계면활성제와 같은 기타 성분들을 포함한다. 상기 조성물은 상기 에폭시 수지를 약 25 내지 약 95 중량% 범위의 양으로 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 조성물이 상기 에폭시 수지를 약 35 내지 약 65 중량% 범위의 양으로 포함한다. 또한, 상기 조성물은 용융화제를 함유하는 상기 선형 폴리안하이드라이드를 약 2 내지 약 50 중량%의 양으로 포함한다. 더욱 바람직하게는 상기 조성물은 상기 선형 폴리안하이드라이드 경화제를 약 5 내지 약 35 중량%의 양으로 포함할 수 있다. 상기 선형 폴리안하이드라이드는 입자 크기가 50 ㎛ 미만인 것이 바람직하다. 또한, 상기 코어-셸 폴리머는 본 발명의 조성물 중에 약 1 내지 약 15 중량%의 양으로 포함된다. 가장 바람직하게는 상기 코어-셸 폴리머는 상기 조성물 중에 약 2 내지 약 8 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 그리고, 본 발명의 조성물은 필요한 경우, 추가 성분들을 더 포함할 수 있다. 바람직한 구현예로서, 상기 조성물은 약 0.05 중량% 내지 약 1.0 중량%의 양으로, 더욱 바람직하게는 약 0.1 중량% 내지 약 0.25 중량%의 양으로 촉매를 더 포함할 수 있으며, 약 0 중량% 내지 약 0.75 중량%의 양으로, 더욱 바람직하게는 약 0.2 중량% 내지 약 0.6 중량%의 양으로 계면활성제를 더 포함할 수 있다.
바람직한 구현예로서, 상기 언더필 캡슐화제 조성물은 에폭시 수지, 선형 폴리안하이드라이드, 환형 무수물, 코어-셸 폴리머, 촉매, 및 필요한 경우에 계면활성제와 같은 추가 성분들을 포함한다. 상기 에폭시 수지는 상기 조성물 중에 약 25 내지 약 75 중량%의 양으로 포함된다. 바람직하게는, 상기 에폭시 수지는 상기 조성물 중에 약 35 내지 약 65 중량%의 양으로 포함된다. 또한, 상기 선형 폴리안하이드라이드는 상기 조성물 중에 약 2 중량% 내지 약 40 중량%의 양으로 포함된다. 더욱 바람직하게는 상기 선형 폴리안하이드라이드는 상기 조성물 중에 약 5 중량% 내지 약 30 중량%의 양으로 포함된다. 또한, 상기 선형 폴리안하이드라이드는 입자 크기가 50 ㎛ 미만인 것이 바람직하다. 그리고, 상기 환형 무수물은 상기 조성물 중에 약 0 중량% 내지 약 45 중량%의 양으로 포함된다. 바람직하게는 상기 환형 무수물이 상기 조성물 중에 약 0 중량% 내지 약 30 중량%의 양으로 포함된다. 또한, 상기 코어-셸 폴리머는 상기 조성물 중에 약 1 중량% 내지 약 15 중량%의 양으로 포함된다. 가장 바람직하게는 상기 코어-셸 폴리머는 상기 조성물 중에 약 2 중량% 내지 약 8 중량%의 양으로 포함된다. 경우에 따라, 상기 조성물에 추가 성분들을 더 첨가할 수 있다. 본 발명의 바람직한 구현예로서, 상기 조성물은 약 0.05 중량% 내지 약 1.0 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.1 중량% 내지 약 0.25 중량%의 촉매를 더 포함하고, 약 0 중량% 내지 약 0.75 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.2 중량% 내지 약 0.6 중량%의 계면활성제를 더 포함한다.
하기 실시예를 참조하여 본 발명에 대해 더욱 상세하게 설명한다.
(실시예 1)
하기 방법에 따라, 3종의 서로 다른 언더필 캡슐화제를 제조하였다. 먼저, 혼합 용기 중에서 에폭시 수지의 무게를 칭량하였다. 그리고, 상기 에폭시 수지에 코어-셸 폴리머를 첨가한 다음, 느린 속도로 5분간 혼합하여, 상기 수지에 상기 코어-셸 폴리머를 배합시켰다. 그런 다음, 상기 조성물을 고속에서 1∼2 시간 동안 혼합하여, 상기 조성물을 미세하게 분산시켰다. 그리고, 상기 조성물을 Hegman 분쇄 게이지에서 확인하여, 상기 코어-셸 폴리머 입자 중 분산되지 않은 입자들이 없도록 하였다. 이어서, 추가적인 에폭시 수지의 무게를 칭량하여, 상기 조성물에 더 첨가하였다. 그런 다음, 상기 조성물에 공기 방출제(air release agent) 및 접착 촉진제(adhesion promoter)와 같은 첨가제를 첨가하고, 분산 블레이드를 이용하여 2분간 서서히 혼합함으로써, 균일한 조성물을 얻었다. 상기 균일한 조성물을 느린 속도로 교반하면서 폴리세바스산 폴리안하이드라이드를 첨가한 다음, 상기 조성물이 균일해질 때까지 계속 혼합 공정을 수행하였다. 그런 다음, 상기 조성물에 MHHPA를 더 첨가한 다음, 상기 조성물이 균일해질 때까지 10분간 혼합하였다. 그리고, 혼합기의 가동을 중단하고, 혼합 용기의 측벽에서 상기 조성물을 떼 내었다. 끝으로, 상기 조성물에 촉매를 첨가한 다음, 5분간 더 혼합하였다. 이렇게 하여 제조된 캡슐화제는 표 1에 나타낸 바와 같다.
표 1: 코어-셸 폴리머를 포함하는 언더필 캡슐화제
성분 | 대조군 | A | B |
비스페놀 F형 에폭시 수지1 | 54.8 | ||
비스페놀 A/비스페놀 F 에폭시 수지의 블렌드2 | 48.444 | 48.163 | |
코어-셸 폴리머 | 7.53 | 4.2884 | |
폴리세바스산 폴리안하이드라이드 | 22.15 | 20.579 | 22.211 |
MHHPA | 22.15 | 20.579 | 20.211 |
실리콘 공기 방출제5 | 0.4 | 0.251 | 0.251 |
글리시독시프로필 트리-메톡시 실란6 | 0.4 | 0.251 | 0.251 |
촉매7 | 0.22 | 0.125 | 0.125 |
<주>
1 EPPALOY 8230E (CVC Specialty Chemicals, Inc.로부터 입수 가능함)
2 ZX1059 (Nippon Chemical Company로부터 입수 가능함)
3 50%의 BLENDEX-415 (ABS-14 중량%의 양으로 1059 ZX에 미리 분산시켜 사용함)와 50%의 실리콘 (Hanse Chemie로부터 입수 가능함, 비스페놀 A형 수지에 40 중량%의 양으로 분산된 것을 사용함)
4 BTA-753 (Rohm & Haas로부터 입수 가능함, ZX 1059에 8.16 중량%의 양으로 미리 분산시켜 사용함)
5 BYK A-500 (Byk Chemie로부터 입수 가능함)
6 실란 A-187 (Dow Corning으로부터 입수 가능함)
7 대조군- 이미다졸 포스페이트, AMICURE 2PIP (Air Products로부터 입수 가능함)
제제 A 및 제제 B- CURIMID-CN (Shikoku, Air Products로부터 입수 가능함)
상기 각각의 대조군 제제, 제제 A 및 제제 B의 성능 및 물성을 테스트하였으며, 그 결과는 표 2에 나타낸 바와 같다.
표 2: 각각의 언더필 캡슐화제 성능 및 물성
성능 및 물성 | 대조군 | A | B |
25℃에서의 점도(cP) | 3,300 | 2,850 | 3,400 |
수율- uBGA | 100% | 100% | 100% |
수율-PB-8 | 100% | 100% | 100% |
엔탈피 (J/g) | 330 | 269 | 329 |
실리콘 칩에 대한 부착력 (Stud Pull 강도) (lbs) | 42.5 | 71 | 69 |
Tg (DSC) (℃) | 62.2 | 61.3 | 62 |
파괴 인성 강도K1C ㎫*m1/2 | 1.88 | 2.6 | 2.56 |
에너지 방출 속도J/㎡ | 1,255 | 2,800 | 2,753 |
신뢰성:(-55℃ 내지 125℃의 온도 범위)사이클-OSP-Cu 기판 | 658 | 1136 | 1109 |
신뢰성:(-55℃ 내지 125℃의 온도 범위)사이클-Ni-Au 기판 | 230 | 380 | 404 |
표 2로부터, 상기 코어-셸 폴리머를 포함하는 언더필 캡슐화제는 상기 코어-셸 폴리머를 포함하지 않는 언더필 캡슐화제에 비해, 실리콘 칩에 대한 부착력, 파괴 인성 강도, 에너지 방출 속도, 및 신뢰성이 높다는 것을 확인할 수 있다.
또한, 표 3 및 표 4에 나타낸 바와 같이, 상기 코어-셸 폴리머를 포함하는 언더필 캡슐화제는 Ni-Au 기판 및 OSP 기판 상에서 수행한 다양한 테스트 사이클에서의 연속성(continuity)이 상기 코어-셸 폴리머를 포함하지 않는 언더필과 동등한 수준이거나, 그보다 우수한 수준이었다. 상기 연속성의 수준을 평가하는 데 있어서, 테스트 샘플의 전체 모집단에 대한 평균 비저항을 구한 다음, 2회의 연속적인 테스트 주기 동안 비저항(resistivity)의 20% 이상이 증가한 경우를 실패로 평가하였다.
표 3: Ni-Au 기판에서의 언더필 캡슐화제의 신뢰성
언더필 캡슐화제 | 초기의전기적 연속성(ohm) | 106회 사이클 수행 후의 연속성 | 230회 사이클 수행 후의 연속성 | 379회 사이클 수행 후의 연속성 | 500회 사이클 수행 후의 연속성 | 904회 사이클 수행 후의 연속성 |
대조군 | 7.40 | 7.39 | 실패 | |||
대조군 | 7.71 | 7.72 | 15.23 | 3.54 | 3.43 | 실패 |
대조군 | 7.38 | 7.36 | 실패 | |||
대조군 | 7.42 | 8.68 | 실패 | |||
A | 7.42 | 7.42 | 7.41 | 7.4 | 실패 | |
A | 7.78 | 7.76 | 7.71 | 7.77 | 7.82 | 실패 |
표 3에 나타낸 바와 같이, 상기 코어-셸 폴리머를 포함하는 모든 제제는 379회 사이클 이상의 사이클을 수행한 이후에도 양호한 안정성을 나타낸 반면, 상기 코어-셸 폴리머를 포함하지 않는 제제는 불량한 성능을 나타내었으며, 단지 230회 사이클을 수행한 이후에는 대부분 실패하였다.
표 4: OSP 기판에서의 언더필 캡슐화제의 신뢰성
언더필 캡슐화제 | 초기의전기적 연속성(ohm) | 404회 사이클 수행 후의 연속성 | 536회 사이클 수행 후의 연속성 | 658회 사이클 수행 후의 연속성 | 1136회 사이클 수행 후의 연속성 | 1531회 사이클 수행 후의 연속성 |
대조군 | 8.70 | 10.4 | 9.58 | 8.82 | 10.4 | 실패 |
대조군 | 8.64 | 9.2 | 실패 | |||
대조군 | 8.03 | 12 | 8.16 | 9.4 | 실패 | |
A | 8.35 | 9.8 | 8.7 | 7.94 | 8.6 | 8.5 |
A | 8.44 | 11.3 | 9.8 | 7.89 | 7.9 | 9.3 |
표 4에 나타낸 바와 같이, 상기 코어-셸 폴리머를 포함하는 모든 제제는 1531회 이상의 사이클을 수행한 이후에도 양호한 안정성을 나타낸 반면, 상기 코어-셸 폴리머를 포함하지 않는 제제는 불량한 성능을 나타내었으며, 단지 1136회 사이클을 수행한 이후에는 대부분 실패하였다. 전술한 바와 마찬가지로, 제제 B는 표 5에 나타낸 바와 같이, 1108회 이상의 사이클에서 양호한 안정성을 나타내었다.
표 5: OSP 기판에서의 언더필 캡슐화제의 신뢰성
언더필 캡슐화제 | 초기의전기적연속성(ohm) | 235회 사이클 수행 후의 연속성 | 496회 사이클 수행 후의 연속성 | 903회 사이클 수행 후의 연속성 | 980회 사이클 수행 후의 연속성 | 1108회 사이클 수행 후의 연속성 |
B | 1.66 | 1.68 | 1.71 | 1.69 | 1.68 | 2.16 |
동 기술 분야의 당업자라면 이해할 수 있는 바와 같이, 본 발명의 사상과 범위를 벗어나지 않고 본 발명에 대한 많은 변형 및 변경이 이루어질 수 있다. 본 명세서에 기재된 특정 실시예들은 단지 예로서 제시되는 것으로, 본 발명은 첨부되는 청구의 범위 및 동 청구범위에 귀속되는 모든 등가물에 의해서만 한정되어야 한다.
Claims (47)
- a) 1종 이상의 에폭시 수지;b) 1종 이상의 선형 폴리안하이드라이드;c) 1종 이상의 촉매; 및d) 1종 이상의 코어-셸 폴리머를 포함하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제1항에 있어서,상기 에폭시 수지가 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산 카르복실레이트, 비닐사이클로헥센 디옥사이드, 3,4-에폭시-6-메틸-사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산 카르복실레이트, 디사이클로펜타디엔 디옥사이드, 비스페놀 A형 수지, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판-에피클로로하이드린 코폴리머, 비스페놀 F형 수지, 에폭시 노볼락 수지, 폴리(페닐글리시딜에테르)-co-포름알데하이드, 바이페닐형 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔-페놀 에폭시 수지, 나프탈렌 에폭시 수지, 에폭시 관능성 부타디엔 아크릴로니트릴 코폴리머, 에폭시 관능성 폴리디메틸 실록산, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제2항에 있어서,상기 에폭시 수지가 분자 당 1.2개 이상의 에폭시기를 함유하는 비스페놀 F형 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제3항에 있어서,상기 에폭시 수지가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 25 중량% 내지 약 75 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제4항에 있어서,상기 에폭시 수지가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 35 중량% 내지 약 65 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제5항에 있어서,상기 에폭시 수지가 비스페놀 A형 에폭시 수지와 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제1항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 폴리세바스산 폴리안하이드라이드, 폴리아젤라산 폴리안하이드라이드, 폴리아디프산 폴리안하이드라이드, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 언더필 캡슐화제 재료.
- 제7항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 폴리세바스산 폴리안하이드라이드인 것을 특징으로 하는 언더필 캡슐화제 재료.
- 제7항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 2 중량% 내지 약 50 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제9항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 5 중량% 내지 약 35 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제1항에 있어서,상기 촉매가 이미다졸인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제11항에 있어서,상기 이미다졸이 반응을 지연시킬 수 있도록 블로킹된 또는 보호된 것임을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제12항에 있어서,상기 촉매가 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸-이미다졸, 알킬 치환된 이미다졸, 트리페닐포스핀, 이미다졸륨염, 이미다졸 포스페이트, 오늄 보레이트, 금속 킬레이트, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제12항에 있어서,상기 촉매가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 0.05 중량% 내지 약 1 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제14항에 있어서,상기 촉매가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 0.1 중량% 내지 약 0.25 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제1항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 코어-셸 폴리머, 메타크릴레이트 부타디엔 스티렌 코어-셸 폴리머, 실리콘 코어-셸 폴리머, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제16항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 코어-셸 폴리머인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제16항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 1 중량% 내지 약 15 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제18항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 2 중량% 내지 약 8 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제1항에 있어서,상기 캡슐화제가 계면활성제, 커플링제, 반응성 희석제, 폴리머 개질제, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제20항에 있어서,상기 계면활성제가 유기 아크릴 폴리머, 실리콘, 폴리옥시에틸렌/폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머, 에틸렌디아민 기재의 폴리옥시에틸렌/폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머, 폴리올 기재의 폴리옥시알킬렌, 지방산 알코올 기재의 폴리옥시알킬렌, 지방산 알코올 기재의 폴리옥시알킬렌 알킬에테르, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제20항에 있어서,상기 반응성 희석제가 p-tert-부틸-페닐-글리시딜에테르, 알릴 글리시딜 에테르, 글리세롤 디글리시딜 에테르, 글리시딜 에테르 또는 알킬, 부탄디오디글리시딜에테르, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제2항에 있어서,환형 무수물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제23항에 있어서,상기 환형 무수물이 지환식 무수물인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제24항에 있어서,상기 환형 무수물이 메틸헥사-하이드로프탈산 무수물, 메틸테트라-하이드로프탈산 무수물, 나딕 메틸 무수물, 헥사-하이드로프탈산 무수물, 테트라-하이드로프탈산 무수물, 도데실 숙신산 무수물, 프탈산 무수물, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제25항에 있어서,상기 환형 무수물이 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 0 중량% 내지 약 30 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제24항에 있어서,상기 에폭시 수지가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 25 중량% 내지 약 75 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제27항에 있어서,상기 에폭시 수지가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 35 중량% 내지 약 65 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제27항에 있어서,상기 에폭시 수지가 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산 카르복실레이트, 비닐사이클로헥센 디옥사이드, 3,4-에폭시-6-메틸-사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산 카르복실레이트, 디사이클로펜타디엔 디옥사이드, 비스페놀 A형 수지, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판-에피클로로하이드린 코폴리머, 비스페놀 F형 수지, 에폭시 노볼락 수지, 폴리(페닐글리시딜에테르)-co-포름알데하이드, 바이페닐형 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔-페놀 에폭시 수지, 나프탈렌 에폭시 수지, 에폭시 관능성 부타디엔 아크릴로니트릴 코폴리머, 에폭시 관능성 폴리디메틸 실록산, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제29항에 있어서,상기 에폭시 수지가 비스페놀 A형 에폭시 수지와 비스페놀 F형 에폭시 수지의 혼합물인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제24항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 폴리세바스산 폴리안하이드라이드, 폴리아젤라산 폴리안하이드라이드, 폴리아디프산 폴리안하이드라이드, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제31항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 폴리세바스산 폴리안하이드라이드인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제32항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 입자 크기 50 ㎛ 이하의 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제31항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 2 중량% 내지 약 50 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제34항에 있어서,상기 선형 폴리안하이드라이드가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 5 중량% 내지 약 35 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제24항에 있어서,상기 촉매가 이미다졸인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제36항에 있어서,상기 이미다졸이 반응을 지연시킬 수 있도록 블로킹된 또는 보호된 것임을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제24항에 있어서,상기 촉매가 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸-이미다졸, 알킬 치환된 이미다졸, 트리페닐포스핀, 이미다졸륨염, 이미다졸 포스페이트, 오늄 보레이트, 금속 킬레이트, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제36항에 있어서,상기 촉매가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 0.05 중량% 내지 약 1 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제39항에 있어서,상기 촉매가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 0.1 중량% 내지 약 0.25 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제24항에 있어서,상기 캡슐화제가 계면활성제, 커플링제, 반응성 희석제, 폴리머 개질제, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제41항에 있어서,상기 계면활성제가 유기 아크릴 폴리머, 실리콘, 폴리옥시에틸렌/폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머, 에틸렌디아민 기재의 폴리옥시에틸렌/폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머, 폴리올 기재의 폴리옥시알킬렌, 지방산 알코올 기재의 폴리옥시알킬렌, 지방산 알코올 기재의 폴리옥시알킬렌 알킬에테르, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제41항에 있어서,상기 반응성 희석제가 p-tert-부틸-페닐-글리시딜에테르, 알릴 글리시딜 에테르, 글리세롤 디글리시딜 에테르, 글리시딜 에테르 또는 알킬, 부탄디오디글리시딜에테르, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제23항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 코어-셸 폴리머, 메타크릴레이트 부타디엔 스티렌 코어-셸 폴리머, 실리콘 코어-셸 폴리머, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제44항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 코어-셸 폴리머인 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제44항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 1 중량% 내지 약 15 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
- 제46항에 있어서,상기 코어-셸 폴리머가 상기 비유동성 언더필 캡슐화제 재료 중에 약 2 중량% 내지 약 8 중량% 범위의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 비유동성 언더필 캡슐화제 재료.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/289,504 US7056978B2 (en) | 2002-11-06 | 2002-11-06 | Toughened epoxy-anhydride no-flow underfill encapsulant |
US10/289,504 | 2002-11-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050084677A true KR20050084677A (ko) | 2005-08-26 |
Family
ID=32176082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020057007974A KR20050084677A (ko) | 2002-11-06 | 2003-10-31 | 강화된 에폭시/폴리안하이드라이드 비유동성 언더필캡슐화제 조성물 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7056978B2 (ko) |
EP (1) | EP1558678B1 (ko) |
JP (1) | JP2006505675A (ko) |
KR (1) | KR20050084677A (ko) |
CN (1) | CN1732225A (ko) |
AT (1) | ATE340219T1 (ko) |
AU (1) | AU2003287428A1 (ko) |
DE (1) | DE60308545T2 (ko) |
DK (1) | DK1558678T3 (ko) |
WO (1) | WO2004044053A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101117757B1 (ko) * | 2009-02-26 | 2012-03-15 | 도레이첨단소재 주식회사 | 비유동성 언더필용 수지조성물 및 이를 이용한 비유동성 언더필 필름 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060194064A1 (en) * | 2002-03-01 | 2006-08-31 | Xiao Allison Y | Underfill encapsulant for wafer packaging and method for its application |
US7064929B2 (en) * | 2003-06-30 | 2006-06-20 | Hitachi Global Storage Netherlands B.V. | Sliders bonded by a debondable encapsulant containing styrene and acrylate polymers |
US7209324B2 (en) * | 2003-06-30 | 2007-04-24 | Hitachi Global Storage Netherlands, B.V. | Sliders bonded by a debondable encapsulant containing styrene and butadiene polymers |
EP1649322A4 (en) | 2003-07-17 | 2007-09-19 | Honeywell Int Inc | PLANARIZATION FILMS FOR ADVANCED MICROELECTRONIC DEVICES AND APPLICATIONS AND METHODS FOR PRODUCING SAID FILMS |
US20070261883A1 (en) * | 2004-04-22 | 2007-11-15 | Chan Bruce C | Methods For Improving The Flux Compatibility Of Underfill Formulations |
US20060025509A1 (en) * | 2004-07-29 | 2006-02-02 | Ruzhi Zhang | Fluxing no-flow underfill composition containing benzoxazines |
WO2006019041A1 (ja) * | 2004-08-18 | 2006-02-23 | Kaneka Corporation | 半導体封止剤用エポキシ樹脂組成物およびエポキシ樹脂成形材料 |
WO2007125806A1 (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Showa Denko K.K. | 熱硬化性樹脂組成物およびその用途 |
US8217098B2 (en) * | 2007-02-28 | 2012-07-10 | Kaneka Corporation | Thermosetting resin composition having rubbery polymer particle dispersed therein, and process for production thereof |
CN101143933B (zh) * | 2007-09-27 | 2010-09-29 | 成都多沐汽车工程有限公司 | 实心环氧塑料板材及生产方法 |
TW200948888A (en) * | 2008-04-16 | 2009-12-01 | Henkel Corp | Flow controllable B-stageable composition |
JP2011525207A (ja) * | 2008-06-16 | 2011-09-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 強化硬化性組成物 |
EP2223966B1 (en) * | 2009-02-25 | 2017-08-16 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy adhesive compositions with high mechanical strength over a wide temperature range |
BR112012023949A2 (pt) * | 2010-03-24 | 2017-08-08 | Dow Global Technologies Llc | composição de resina epóxi curável |
CN101864147B (zh) * | 2010-06-28 | 2012-12-26 | 深圳市库泰克电子材料技术有限公司 | 一种低粘度、低线膨胀系数的底部填充胶 |
JP2012162585A (ja) * | 2011-02-03 | 2012-08-30 | Namics Corp | 半導体樹脂封止材 |
CN102516963B (zh) * | 2011-10-17 | 2013-07-31 | 中国石油天然气股份有限公司 | 用于油水井套管修复的化学复合树脂封固剂 |
CN102559115B (zh) * | 2011-12-22 | 2013-11-27 | 烟台德邦科技有限公司 | 一种芯片级底部填充胶及其制备方法 |
CN105315618B (zh) * | 2011-12-27 | 2018-05-29 | 日立化成工业株式会社 | 电子部件用液状树脂组合物及其制造方法、以及电子部件装置 |
RU2015118587A (ru) * | 2012-10-19 | 2016-12-10 | БЛЮ КЬЮБ АйПи ЭлЭлСи | Ударопрочные эпоксидные термореактопласты, содержащие каучуки типа ядро-оболочка и полиолы |
WO2014062409A2 (en) * | 2012-10-19 | 2014-04-24 | Dow Global Technologies Llc | Low odor epoxy resin systems based on nadic anhydride-type harneders |
JP2016518469A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-06-23 | ブルー キューブ アイピー エルエルシー | コアシェルゴム及びポリオールを含有する強化エポキシ熱硬化性物質 |
US20160280864A1 (en) * | 2013-10-08 | 2016-09-29 | Timothy A. Morley | Low odor epoxy resin systems based on nadic anhydride-type hardeners |
KR102477328B1 (ko) * | 2018-03-08 | 2022-12-15 | 다우 실리콘즈 코포레이션 | 자가-접착 실리콘 탄성중합체 |
CN108794987B (zh) * | 2018-06-20 | 2021-04-20 | 深圳博元新材科技有限公司 | 一种高增韧的环氧组合物及其制备方法 |
US20210242102A1 (en) * | 2020-02-04 | 2021-08-05 | Intel Corporation | Underfill material for integrated circuit (ic) package |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5789482A (en) * | 1990-03-30 | 1998-08-04 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Epoxy resin with anhydride, toughener and active hydrogen-containing compound |
KR100193147B1 (ko) | 1990-03-30 | 1999-06-15 | 월터클라웨인, 한느-피터 위트린 | 개질된 에폭시 수지 |
EP0578613B1 (de) | 1992-07-09 | 2000-07-12 | Ciba SC Holding AG | Härtbare Suspensionen auf Basis von Epoxidharzen |
EP0717073B1 (de) * | 1994-12-13 | 2000-10-11 | Ciba SC Holding AG | Core/Shell-Zähigkeitsvermittler enthaltende härtbare Epoxidharz-Giessmassen |
US6180696B1 (en) | 1997-02-19 | 2001-01-30 | Georgia Tech Research Corporation | No-flow underfill of epoxy resin, anhydride, fluxing agent and surfactant |
WO2000055254A1 (de) * | 1999-03-16 | 2000-09-21 | Vantico Ag | Härtbare zusammensetzung mit besonderer eigenschaftskombination |
US6624216B2 (en) * | 2002-01-31 | 2003-09-23 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | No-flow underfill encapsulant |
-
2002
- 2002-11-06 US US10/289,504 patent/US7056978B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-10-31 CN CNA2003801078681A patent/CN1732225A/zh active Pending
- 2003-10-31 AU AU2003287428A patent/AU2003287428A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-31 KR KR1020057007974A patent/KR20050084677A/ko not_active Application Discontinuation
- 2003-10-31 EP EP03781663A patent/EP1558678B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-31 DK DK03781663T patent/DK1558678T3/da active
- 2003-10-31 AT AT03781663T patent/ATE340219T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-10-31 DE DE60308545T patent/DE60308545T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-31 JP JP2004551651A patent/JP2006505675A/ja active Pending
- 2003-10-31 WO PCT/US2003/034810 patent/WO2004044053A1/en active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101117757B1 (ko) * | 2009-02-26 | 2012-03-15 | 도레이첨단소재 주식회사 | 비유동성 언더필용 수지조성물 및 이를 이용한 비유동성 언더필 필름 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE340219T1 (de) | 2006-10-15 |
CN1732225A (zh) | 2006-02-08 |
DK1558678T3 (da) | 2007-01-29 |
US20040087681A1 (en) | 2004-05-06 |
EP1558678A1 (en) | 2005-08-03 |
DE60308545T2 (de) | 2007-09-13 |
EP1558678B1 (en) | 2006-09-20 |
WO2004044053A1 (en) | 2004-05-27 |
JP2006505675A (ja) | 2006-02-16 |
US7056978B2 (en) | 2006-06-06 |
AU2003287428A1 (en) | 2004-06-03 |
DE60308545D1 (de) | 2006-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20050084677A (ko) | 강화된 에폭시/폴리안하이드라이드 비유동성 언더필캡슐화제 조성물 | |
JP4204865B2 (ja) | フラックス処理用アンダーフィル組成物 | |
US5863970A (en) | Epoxy resin composition with cycloaliphatic epoxy-functional siloxane | |
JP2009144169A (ja) | 非フローアンダーフィルカプセル封止材料 | |
KR100953579B1 (ko) | 비유동성 언더필 조성물 | |
KR20040088569A (ko) | B-스테이지 가공 가능한 언더필 캡슐화제 및 그의 적용방법 | |
KR20070081435A (ko) | 웨이퍼 패키지용 언더필 인캡슐런트, 및 그의 도포 방법 | |
JP2005516090A5 (ko) | ||
US6780674B2 (en) | Liquid epoxy resin composition and semiconductor device | |
JP2002097257A (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
US7247683B2 (en) | Low voiding no flow fluxing underfill for electronic devices | |
US8075721B2 (en) | Low exothermic thermosetting resin compositions useful as underfill sealants and having reworkability | |
JP4176619B2 (ja) | フリップチップ実装用サイドフィル材及び半導体装置 | |
JP2004051734A (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
KR101692668B1 (ko) | 칙소성이 우수한 에폭시 플럭스 페이스트 조성물 | |
KR20070118041A (ko) | 저점도 경화성 조성물 | |
JP2006188573A (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物、該組成物を用いた電子部品装置及びその製造方法 | |
JP2008509241A (ja) | 電子デバイス用の低空孔で非流動性のフラクシングアンダーフィル | |
KR101092417B1 (ko) | 액상 봉지용 에폭시 수지 조성물 | |
KR101139759B1 (ko) | 비유동성 언더필용 수지조성물 | |
JP5275297B2 (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物及び該液状エポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物で封止された半導体装置 | |
KR100529257B1 (ko) | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 | |
KR100785572B1 (ko) | 에폭시수지조성물 및 전자장치 | |
KR20070083541A (ko) | 전자소자를 위한, 낮은 공극 형성성을 갖는 비-유동 플럭싱언더필 | |
KR20110080417A (ko) | 비유동성 언더필용 수지 조성물 및 이를 이용한 플립칩 패키지 조립체 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |