KR20050070230A

KR20050070230A - 화학적 기계적 연마장치의 브러쉬 크리너 모듈 유지보수장치

Info

Publication number: KR20050070230A
Application number: KR1020030099476A
Authority: KR
Inventors: 한경수
Original assignee: 동부아남반도체 주식회사
Priority date: 2003-12-30
Filing date: 2003-12-30
Publication date: 2005-07-07

Abstract

본 발명의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치는 직육면체 프레임(12)을 구성되어 하부의 상하좌우에 바퀴(14)가 장착된 카트(10)와, 중앙에 모듈(도시하지 않음)이 안착되도록 구성된 직사각형 프레임(22)으로 상기 카트(10)의 직육면체 프레임(12)의 상부(13)에 회전가능하게 설치되는 회전판(20)과, 상기 회전판(20)의 회전을 방지하는 회전방지수단(30)과, 상기 카트(20)의 일측에 부착된 설비의 작동판넬(50)로 구성된다. 회전방지수단(30)은 일단에 형성된 핀부(32)와, 타단에 형성된 머리부(34)와, 중간에 형성된 밀폐원판(36)으로 구성되어, 캐이싱(38)내에 좌우로 이동가능하게 설치된 고정 샤프트(40)와, 상기 고정 샤프트(40)의 머리부(34)와 밀폐원판(36)사이에 설치된 스프링(42)으로 구성되며, 상기 고정 샤프트(40)의 일단의 핀부(32)가 상기 회전판(20)의 직사각형 프레임(22)에 형성된 구멍(24)에 삽입가능하도록 설치된다.

본 발명은 무거운 브러쉬 클리너 모듈을 카트에 올려놓고 상하를 회전시킬 수 있으므로, 편리하고 손쉽게 유지보수를 행할 수 있고, 작동판넬이 카트에 부착되어 있으므로, 생산성을 향상하고 장비의 가동율을 증가하는 효과를 가진다.

Description

화학적 기계적 연마장치의 브러쉬 크리너 모듈 유지보수장치{BLUSH CLEANER MODULE PREVENTED-MAINANENCE APPARATUS FOR USE IN A CHEMICAL MECHANICAL POLISHER}

본 발명은 화학적 기계적 연마장치의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 무거운 브러쉬 클리너 모듈을 편리하고 손쉽게 유지보수를 행할 수 있어서 생산성을 향상하고 장비의 가동율을 증가하는 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치에 관한 것이다.

반도체 제조 장비에 있어서, 최근에는 웨이퍼가 대구경화도미에 따라 웨이퍼의 넓어진 면을 평탄화하기 위해서 화학적인 제거 가공과 기계적인 제거 가공을 하나의 가공방법으로 혼합한 화학적 기계적 연마(Chemical-Mechanical Polishing; 이하, "CMP"라 함) 공정이 널리 이용되고 있다.

이러한 CMP 공정이란, 단차를 가지는 웨이퍼 표면을 폴리싱 패드위에 밀착시킨 후 연마제와 화학물질이 포함된 슬러리(slurry)를 웨이퍼와 폴리싱 패드사이에 주입시켜 웨이퍼의 표면을 평탄화시키는 방식으로, CMP 장비는 크게 SMIF와, 폴리싱 부와 클리닝 부의 3부분으로 구성된다.

이러한 CMP 공정을 실시하는 장비중, 클리닝 시스템은 폴리싱을 마친 웨이퍼의 표면에 부착된 파티클, 슬러리, 레지드 등을 제거하기 위해 구비되는 것으로, 웨이퍼 표면을 브러쉬로 세척하는 제 1 및 제 2 브러쉬 클리너(brush cleaner)와, 웨이퍼를 회전시키면서 그 표면에 잔존하는 케미컬을 제거하기 위해 초순수를 분사하여 린스후 건조시키는 스핀 린스 드라이어로 이루어진다.

도 1에는 CMP 장비의 전형적인 클리닝 시스템에서 브러쉬 클리너를 개략적으로 도시하고 있다. 도시된 바와 같이, 종래의 CMP 장비의 브러쉬 클리너(1)는 상측이 개방된 본체(2)와, 본체(2)의 내측에 각각 설치되는 복수의 로울러(3)와, 케미컬 분사 노즐(4)과, 그리고 상부 및 하부의 브러쉬(5,6)로 구성된다.

본체(2)는 웨이퍼 이송아암(미도시)에 의해 복수의 로울러(3)로 웨이퍼(W)를 로딩/언로딩하도록 상측이 개방되게 형성된다.

로울러(3)는 복수개로 이루어진 본체(2)의 바닥면에 원형으로 배열되도록 설치되어 웨이퍼 이송아암(미도시)에 의해 본체(2)내측으로 로딩/언로딩되는 웨이퍼(W)의 가장자리를 지지한다.

케미컬 분사노즐(4)은 본체(2)의 바닥면에 일정 높이로 설치되며, 클리닝시 로울러(3)에 의해 지지된 웨이퍼(W)를 향해 케미컬을 분사한다.

하지만, 이상과 같은 종래의 클리닝 시스템은 상부 및 하부의 브러쉬(5,6)뿐만아니라, 모터들과, 실린더들과 같은 구동 파트들은 모두 모듈로 구성되어 있고, 각설비의 작동판넬이 제공되어 있으므로, 클리닝 시스템을 점검하고자 하면, 다음과 같이 각 모듈을 해체해야 한다.

먼저, 모듈을 약간 들어 올린 후, 설비의 작동판넬을 제거한 다음, 2명의 작업자가 함께 모듈을 들어서 바닥에 내린다. 이때, 모듈의 아래 부분에는 모터와 실린더등이 설치되어 있으므로, 위 부분을 아래로 향하게 하여 바닥에 내린다. 이어서, 고장부위를 확인하고 수리를 행한 다음, 정상적으로 작동하는지를 확인하기 위하여 다시 클리너 프레임에 올려놓는다. 프레임에 올려놓은 모듈의 모든 동작을 설비의 작동판넬에 에어 공급라인만을 연결하여 확인한다. 이러한 확인 과정에서 문제가 해결되지 않거나 다른 문제가 생기면 다시 내려서 수리를 행한 다음 재차 클리너 프레임에 올려놓고 동작확인을 행한다.

이와 같이 종래에는 모듈을 올렸다 내렸다를 작업자가 반복하여 행함으로서 작업자가 부상을 당할 염려가 있고, 작업의 능률 역시 저하되는 문제가 있었다.

따라서, 본 발명은 이에 따라 안출된 것으로, 그 목적은 무거운 브러쉬 클리너 모듈을 편리하고 손쉽게 유지보수를 행할 수 있어서 생산성을 향상하고 장비의 가동율을 증가하는 화학적 기계적 연마장치의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치를 제공하는 것이다.

이러한 목적을 달성하기 위한 수단으로서, 본 발명의 CMP의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치는 직육면체 프레임을 구성되어 하부의 상하좌우에 바퀴가 장착된 카트와, 중앙에 모듈이 안착되도록 구성된 직사각형 프레임으로 상기 카트의 직육면체 프레임의 상부에 회전가능하게 설치되는 회전판과, 상기 회전판의 회전을 방지하는 회전방지수단과, 상기 카트의 일측에 부착된 설비의 작동판넬를 포함한다.

본 발명에 의하면, 무거운 브러쉬 클리너 모듈을 카트에 올려놓고 상하를 회전시킬 수 있으므로, 편리하고 손쉽게 유지보수를 행할 수 있고, 작동판넬이 카트에 부착되어 있으므로, 생산성을 향상하고 장비의 가동율을 증가하는 효과를 가진다.

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 CMP의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치를 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 CMP의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치를 나타내는 것으로, 도시된 바와 같이, 본 발명의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치는 직육면체 프레임(12)을 구성되어 하부의 상하좌우에 바퀴(14)가 장착된 카트(10)와, 중앙에 모듈(도시하지 않음)이 안착되도록 구성된 직사각형 프레임(22)으로 상기 카트(10)의 직육면체 프레임(12)의 상부(13)에 회전가능하게 설치되는 회전판(20)과, 상기 회전판(20)의 회전을 방지하는 회전방지수단(30)과, 상기 카트(10)의 일측에 부착된 설비의 작동판넬(50)로 구성된다.

작동판넬(50)에는 예를 들어, 상부 브러쉬 업 스위치, 상부 브러쉬 다운 스위치, 상부 브러쉬 인 스위치, 상부 브러쉬 아웃 스위치와, 하부 브러쉬 업 스위치, 하부 브러쉬 다운 스위치등이 제공된다.

회전방지수단(30)은 일단에 형성된 핀부(32)와, 타단에 형성된 머리부(34)와, 중간에 형성된 밀폐원판(36)으로 구성되어, 캐이싱(38)내에 좌우로 이동가능하게 설치된 고정 샤프트(40)와, 상기 고정 샤프트(40)의 머리부(34)와 밀폐원판(36)사이에 설치된 스프링(42)으로 구성되며, 상기 고정 샤프트(40)의 일단의 핀부(32)가 상기 회전판(20)의 직사각형 프레임(22)에 형성된 구멍(24)에 삽입가능하도록 설치된다.

이상과 같이 구성된 본 발명의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치는 다음과 같이 사용된다.

먼저, 브러쉬 클리너 모듈을 회전판(20)의 직사각형 프레임(22)의 중앙에 올려놓고 고정한다(도시하지 않음). 이어서, 유지보수하고자 하는 부분이 위로 오도록, 회전방지수단(30) 타단의 머리부(34)을 당겨서 회전판(20)을 회전한 후, 당김을 해제하면, 스프링(42)의 탄성에 의해 핀부(32)가 회전판(20)의 직사각형 프레임(22)에 형성된 구멍(24)에 삽입되어 회전판(20)이 고정된다. 이 후, 브러쉬 클리너 모듈을 수리하고 테스트하기 위해 모듈에 필요한 에어를 작동판넬(50)에 연결한다.

예들 들어, 상부 브러쉬를 업하고자 하면, 상부 브러쉬 업 스위치를 누름에 따라, 이 누름 동작을 감지하는 센서(도시하지 않음)에 의해 이의 해당 경고등이 작동하도록 되어 있으므로, 이와 같은 센싱을 편리하게 할 수 있다.

한편, 전원 24vdc를 사용한다면, 카트 하단에 파워 서플라이를 장착하고, 220V의 전원을 24vdc로 만들어 사용할 수 있음은 물론이다.

상술한 바와 같이 본 발명의 CMP의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치는 무거운 브러쉬 클리너 모듈을 카트에 올려놓고 상하를 회전함으로서 편리하고 손쉽게 유지보수를 행할 수 있어서 생산성을 향상하고 장비의 가동율을 증가하는 효과를 가진다.

이상에 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 CMP의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치는 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이, 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변경내지 변형 실시가 가능한 범위까지 명의 기술적 정신에 포함된다고 보아야 할 것이다.

도 1은 반도체 제조 장치의 전형적인 CMP 장비의 브러쉬 클리너를 개략적으로 도시한 사시도이고,

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 CMP 장비의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치를 도시하는 개략도이고,

도 3은 도 2 카트의 직육면체 프레임의 상부에 설치되는 회전방지수단을 구체적으로 도시하는 상세도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

10 : 카트 12 : 직육면체 프레임

14 : 바퀴 20 : 회전판

22 : 직사각형 프레임 24 : 구멍

30 : 회전방지 수단 32 : 핀부

34 : 머리부 36 : 밀폐원판

40 : 스프링 42 : 고정 샤프트

50 : 작동판넬

Claims

화학적 기계적 연마장치의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치에 있어서,

직육면체 프레임을 구성되어 하부의 상하좌우에 바퀴가 장착된 카트와,

중앙에 모듈이 안착되도록 구성된 직사각형 프레임으로 상기 카트의 직육면체 프레임의 상부에 회전가능하게 설치되는 회전판과,

상기 회전판의 회전을 방지하는 회전방지수단과,

상기 카트의 일측에 부착된 설비의 작동판넬를 포함하는 화학적 기계적 연마장치의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치.
제 1 항에 있어서,

상기 회전방지수단은 일단에 형성된 핀부와, 타단에 형성된 머리부와, 중간에 형성된 밀폐원판으로 구성되어, 캐이싱내에 좌우로 이동가능하게 설치된 고정 샤프트와, 상기 고정 샤프트의 머리부와 밀폐원판사이에 설치된 스프링으로 구성되며, 상기 고정 샤프트의 일단의 핀부가 상기 회전판의 직사각형 프레임에 형성된 구멍에 삽입가능하도록 설치된 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마장치의 브러쉬 클리너 모듈 유지보수장치.