KR20050034312A - 개선된 보호막을 가진 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

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KR20050034312A
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Abstract

본 발명은 개선된 보호막을 가진 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 보호막을 프릿 형성 부분까지 확장시켜 형성함으로써 균일한 두께의 보호막을 구현한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판, 상기 제1 기판과 제2 기판의 대향면에 각각 형성되면서 서로 교차하도록 배열되는 다수의 제1 전극 및 다수의 제2 전극, 상기 다수의 제1 전극 및 상기 다수의 제2 전극을 각각 덮어서 형성되는 유전체층, 상기 유전체층을 덮어서 형성되는 보호막, 및 상기 제1 기판과 상기 제2 기판이 중첩되는 영역의 가장자리를 따라 도포되는 프릿부를 포함하고, 상기 보호막은 상기 프릿부와 일부분 중첩되는 플라즈마 디스플레이 패널을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명을 통하여 보호막의 두께를 균일하게 하여 특정 위치에서 띠 또는 얼룩 형태의 무늬의 발생을 억제할 수 있었으며, 방전 불능인 셀수를 감소시킬 수 있다.

Description

개선된 보호막을 가진 플라즈마 디스플레이 패널{PLASMA DISPLAY PANEL HAVING IMPROVED PROTECTION LAYER}
본 발명은 개선된 보호막을 가진 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 보호막을 프릿 형성 부분까지 확장시켜 형성함으로써 균일한 두께의 보호막을 구현한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)은 플라즈마 방전에 의한 하부기판 또는 방전에 의해 여기된 형광체에 의해 화상을 형성하는 장치로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 방전공간에 설치된 두 전극에 소정의 전압을 인가하여 이들 사이에서 플라즈마 방전이 일어나도록 하고, 이 플라즈마 방전시 발생되는 자외선에 의해 소정의 패턴으로 형성된 형광체층을 여기시켜 화상을 형성한다.
이와 같은 플라즈마 디스플레이는 크게 교류형(AC type), 직류형(DC type) 및 혼합형(Hybrid type)으로 나누어진다. 도 5는 일반적인 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 분해 사시도이다. 도 5를 참조하면, 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 하부기판(111), 하부기판(111) 위에 형성된 다수의 어드레스 전극(115), 이 어드레스 전극(115)이 형성된 하부기판(111) 위에 형성된 유전체층(119), 이 유전체층(119) 상부에 형성되어 방전거리를 유지시키고 셀간의 크로스 토크(cross talk)를 방지하는 다수의 격벽(123)과 격벽(123) 표면에 형성된 형광체층(125)을 포함한다.
다수의 방전유지전극(117)은 하부기판(111) 상에 형성된 다수의 어드레스 전극(115)과 소정 간격으로 이격되어 직교하도록 상부기판(113) 하부에 형성된다. 그리고 유전체층(121) 및 보호막(127)이 순차적으로 방전유지전극(117)을 덮고 있다. 특히, 보호막(127)으로는 가시광선이 잘 투과될 수 있도록 투명할 뿐만 아니라 유전층 보호 및 2차 전자 방출 성능이 우수한 MgO를 주로 사용하고 있으며, 최근에는 다른 재료로 이루어진 보호막의 연구도 이루어지고 있다.
여기서의 MgO 보호막은 PDP 동작중의 방전시 방전가스의 이온충격으로 인한 영향을 완화시켜 이온 충돌로부터 유전층을 보호하고 2차 전자의 방출을 통하여 방전 전압을 낮추는 역할을 하는 투명 보호 박막으로서, 약 0.5~30.0㎛ 두께를 가진 유전체층을 덮어서 3000~7000Å 두께로 형성한다. MgO 보호막은 스퍼터링법, 전자빔 증착법, IBAD(ion beam assisted deposition, 이온빔지원퇴적법), CVD(chemical vapor deposition, 화학기상증착법) 및 솔-겔(sol-gel)법 등을 사용하여 형성하고 있으나, 여러 문제점이 있어서 최근에는 증발되는 입자를 이온화하여 성막시키는 이온 플레이팅(ion plating) 방식이 시도되고 있다.
도시하지는 않았지만, 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정에서는 상기와 같이 상판 및 하판을 형성한 다음, 하부기판(111)의 가장자리에 프릿을 도포하고, 상부기판(113)과 봉착 및 어닐링한다. 여기서, 프릿은 폭이 약 5.0mm인 저융점 프릿 유리(frit glass)로서, 실링(sealing) 역할을 한다.
이러한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널 제조시, MgO 보호막을 형성하면, MgO 보호막 형성 공정의 특징으로 인하여, MgO 보호막 주변부의 두께가, MgO 보호막 중심부의 두께에 비하여 작을 뿐만 아니라 불균일한 특징이 있다. 이는 MgO 보호막 형성 공정, 즉 예를 들면, 전자총으로부터 방출되는 이온을 전기장과 자기장으로 가속하여 MgO 시료에 충돌시켜 MgO 보호막을 형성하는 공정 자체의 특징에 기인한 것으로, 이러한 공정에서는 균일한 MgO 보호막을 얻기 어렵다. 일례로, MgO 보호막의 경우, 평균 두께에 가까운 중심부의 두께는 약 7000Å 정도인데 비하여, 주변부의 두께는 약 800~1000Å 정도로, 중심부에 비하여 훨씬 얇다.
이와 같은 MgO 보호막의 경우 ,유전체가 도포된 영역을 커버하면서 프릿부 전단까지 보호막을 증착하여 누설(leakage)을 방지하고 있으나, 중심부의 두께에 비하여 주변부의 두께가 작아서, 두께 불균일로 인한 띠무늬와 얼룩이 발생하며, 방전 영역의 경계부에서 이온 충돌로부터 유전층을 보호하기 어려울 뿐만 아니라 2차 전자의 방출이 약화되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 보호막을 주변부에 넓게 도포하여, 표시영역 경계부의 보호막 형성면 일부를 프릿으로 커버함으로써 보호막의 두께를 균일화하여, 플라즈마 디스플레이 패널의 특정 위치에서 띠 형태 또는 얼룩 형태의 무늬가 발생하는 것을 저감하고자 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판, 상기 제1 기판과 제2 기판의 대향면에 각각 형성되면서 서로 교차하도록 배열되는 다수의 제1 전극 및 다수의 제2 전극, 상기 다수의 제1 전극 및 상기 다수의 제2 전극을 각각 덮어서 형성되는 유전체층, 상기 유전체층을 덮어서 형성되는 보호막, 그리고 상기 제1 기판과 상기 제2 기판이 중첩되는 영역의 가장자리를 따라 도포되는 프릿(frit)부를 포함하고, 상기 보호막은 상기 프릿부와 일부분 중첩되는 플라즈마 디스플레이 패널을 특징으로 한다.
여기서, 상기 보호막은 MgO 및 기타 불순물을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 보호막의 상기 프릿부에 인접한 부분의 두께(d)는 상기 보호막의 평균 두께(d0)와 실질적으로 동일한 것이 바람직하다.
상기 프릿부의 단면폭(Wf)에 대한 상기 보호막 중첩부 단면폭(Wo)의 비는 0.2 내지 0.5인 것이 바람직하다.
그리고 상기 다수의 제1 전극들과 상기 다수의 제2 전극들이 교차하여 표시영역을 형성하고, 상기 표시영역에 대응되는 보호막의 두께는 전체적으로 균일할 수 있다.
이하에서는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 단면도로서, 본 발명의 보호막이 프릿과 중첩되어 있는 모습을 원안에 확대하여 도시한 도면이다. 도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 임의의 간격을 두고 실질적으로 평행하게 배치되는 제1 기판 및 제2 기판(11, 13)을 포함한다. 제1 기판(11) 위에는 어드레스 전극인 다수의 제1 전극(15)이 형성되어 있으며, 유전체층(19)이 다수의 제1 전극(15)을 덮으면서 제1 기판(11) 전면에 형성되어 있다. 도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 유전체층(19) 위에는 소정의 높이로 형성되어 방전 공간을 형성하는 다수의 격벽(23)들이 형성되어 있고, 상기 격벽(23)들 사이에 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 형광체층(25)이 형성되어 있다.
또한, 제1 기판(11)에 대향하는 제2 기판(13)의 일면에는 다수의 제1 전극(15)과 직교 상태로 배치되는 방전유지전극인 다수의 제2 전극(17)과 이들을 덮으면서 상기 제2 기판(13) 전면에 형성된 유전체층(21)이 위치한다. 유전체층(21) 하부에는 본 발명의 보호막(27)이 형성되어 있다. 본 발명의 보호막(27)은 MgO 및 기타 불순물을 포함하여 형성할 수도 있고, SrO 또는 CaO의 혼합물도 가능하다. 이러한 보호막의 소재는 본 발명을 설명하기 위한 예시에 불과하며, 여기에 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
이와 같이 형성된 하판의 주위를 따라 프릿(29)을 도포하고, 상판과 봉착하여 소성함으로써 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 제조한다. 이와 같이 제조한 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는, 제1 전극(15) 및 제2 전극(17)으로부터 구동 전압을 인가받아 이들 전극들 사이에 어드레스 방전을 일으켜서 유전체층(21)에 벽전하를 형성하고, 어드레스 방전에 의해 선택된 방전셀들에서 한 쌍의 제2 전극(17)에 교반적으로 공급되는 교류 신호에 의하여 한 쌍의 제2 전극(17)들간에 서스테인 방전을 일으킨다. 이에 따라 방전셀을 형성하는 방전 공간에 충진된 방전 가스가 여기되고 천이되면서 자외선을 발생시키고, 자외선에 의한 형광체의 여기로 가시광선을 발생시키면서 화상을 구현하게 된다.
도 1의 확대원에서는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 유전체층(13) 하부에 도포된 보호막(27)이 프릿부(29)와 일부 중첩된 상태를 나타내고 있다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는 이와 같이 보호막(27)을 프릿부(29)와 일부 중첩시켜 도포함으로써, 제1 전극(15) 및 제2 전극(17)에 의하여 형성하는 표시 영역에 있어서, 보호막(27)의 두께를 전체적으로 균일하게 형성한다. 여기서, 프릿부(29)와 보호막(27)이 표시영역에 가장 근접하여 접하는 부분에 있어서의 보호막(27)의 두께인 중첩 높이를 d로 나타낸다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 상판의 사시도로서, 도 1에 도시한 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상부 부분만을 따로 떼어 도시한다. 도 2에서는 제2 기판(13) 상에 다수의 제2 전극(17), 유전체층(21), 보호막(27)이 차례로 형성된 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 상판을 도시한다. 도 2에서는 편의상 이해를 돕기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상판을 180° 뒤집어 도시한다. 또한, 도 2에서는 실제 공정시 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 하판에 부착되어 하판과 봉착되는 역할을 하는 프릿부(frit)(29)의 부착 위치를 상판에 점선으로 도시한다. 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는 보호막 형성 영역 안쪽에 다수의 제1 전극(미도시) 및 다수의 제2 전극(17)이 서로 교차하는 표시영역을 형성하며, 그 주변부는 비표시영역이다. 제2 기판(13) 상에 형성된 다수의 제2 전극(17)은 FPC(flexible printed circuit, 연성회로기판)와 연결될 수 있도록 그 단자부가 유전체층(21)의 좌우로 돌출되어 있다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서 보호막(27)은 점선으로 도시한 프릿부(29)로 봉합될 부분과 중첩되어 형성된다. 보호막 형성 영역을 좀더 자세하게 설명하기 위하여, 도 3에 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 상판의 평면도를 도시한다.
도 3은, 도 2에 도시한 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 상판의 평면도로서, 도 3에 도시한 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성요소는 도 2에 도시한 구성요소와 모두 동일하다. 도 3에서도 도 2와 마찬가지로 제2 기판(13)상에 다수의 제2 전극(17)을 형성한 다음, 그 위에 유전체층(21)을 형성하고 그 위에 다시 보호막(27)을 형성하고 있다. 여기서, 보호막(27)은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 주위를 따라 도포되는 프릿부(29)와 일부 중첩되어 있는데, 이를 도 3에 확대원으로 도시한다.
도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는 보호막의 전체적인 두께를 균일하게 하기 위하여 보호막(27)을 좀더 넓게 형성하여 그 경계부가 프릿부(29)와 일부 중첩되도록 한다. 도 3의 확대원에 도시한 바와 같이, 프릿부(29) 단면폭은 Wf로, 프릿부(29)와 보호막(27)이 중첩되는 단면폭은 Wo로 나타낸다. 도 3에서는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서 상기한 단면폭을 우측에만 도시하였으나, 좌측 및 상하측도 모두 동일하다.
보호막(27)의 크기에 따라 그 주변부를 넓힐 수 있으므로, 보호막 중첩부 단면폭(Wo)을 조정할 수 있다. 다만, 보호막(27)이 프릿부(29)를 넘어서 플라즈마 디스플레이 패널의 주변부까지 형성되는 경우, 누설(leak)이 있을 우려가 있으므로, 본 발명에서는 이를 방지하면서 다음과 같은 실험을 통하여 적절한 보호막 중첩부 단면폭(Wo)을 구하고자 하였다.
이하에서는 실시예를 통하여 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정을 설명한다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 공정에 있어서, 보호막 형성 방법을 제외한 나머지 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은 당해 분야에 널리 알려진 내용이어서 당해 분야에 종사하는 사람들에게는 충분히 이해될 수 있는 내용이므로 본 명세서에서 상세한 설명은 생략한다. 이러한 실시예는 본 발명을 단지 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
도 4는 본 발명에서 제2 전극(17)과 유전체층(21)을 차례로 형성한 제2 기판(13) 상에 보호막(27)을 형성하는 공정을 개략적으로 나타낸 도면으로서, 전자빔 증착법을 그 일례로 나타내고 있다. 전자빔 증착법에서는 전기장과 자기장으로 가속되어지는 전자빔을 증착 재료에 충돌시켜 증착 재료를 가열 및 증발시킴으로써 보호막을 형성한다. 이 경우, 전자빔의 에너지를 재료 표면에 집중시켜 고속증착 및 고순도증착을 실행할 수 있다. 도 4는 이러한 보호막의 형성 공정의 일례를 예시한 것에 지나지 않으며, 보호막의 형성 공정이 전자빔 증착법에 한정되는 것은 아니다.
도 4에 나타낸 보호막(27)의 성막 공정에 있어서는 먼저 제2 기판(13)을 좌측으로부터 우측으로 롤러(41)로 이동시켜 증착실 입구(43)에 로드(load)한다. 제2 기판(13)에 이상이 있는 경우에는 증착실 입구(43)로부터 제2 기판(13)을 언로드(unload)할 수 있다. 증착실(40)의 내부는 진공으로 형성되어야 하므로 진공 펌프(미도시)가 부착되어 배기를 지속적으로 행하며, 셔터(53)를 이용하여 내외부를 이중 차단하면서 개폐한다. 전자총(51)을 작동시켜 자기장 및 전기장을 형성하며, 전자총(51)에서 배출되는 이온을 하부의 증착재(47)에 충돌시켜 증착재(47)를 상부에 위치한 제2 기판(13) 상에 증착시킨다. 증착재(47)의 경우, 이온 충돌로 인하여 과열될 우려가 있어서 냉각 장치(49)를 통하여 냉각시키면서 보호막을 증착한다.
이와 같은 보호막 증착 공정으로 보호막의 두께, 막밀도 및 막배향면을 조절할 수 있다. 보호막 증착시에는 프레임(51)을 사용하여 제2 기판(13)의 주변부를 모두 가리고, 보호막이 도포될 제2 기판(13)의 가운데 부분만 하부로 노출시키므로, 원하는 곳에 보호막을 도포할 수 있다. 또한, 프레임(51)의 크기를 조절함으로써, 제2 기판(13)에 도포되는 보호막의 면적을 조절할 수 있다. 다만, 도 4의 확대원에 도시한 바와 같이, 보호막이 수Å~수십Å으로 미세하게 유전체층(21)상에 부착되므로, 유전체층(21)과 프레임(51)이 접하여 제2 기판(13)을 받치고 있는 주변부에도 불가피하게 보호막(27)이 형성되며, 그 두께는 보호막의 중심부 두께에 비해 얇다.
이와 같은 과정을 거쳐 보호막을 형성한 제2 기판(13)을, 증착실(40)로부터 도 4에 나타낸 바와 같이 우측에 위치한 증착실 출구(45)로 배출한 다음 프릿부가 형성된 하부기판과 봉착하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조한다.
본 발명의 실시예에서는 MgO 증착재를 이용하여 보호막을 제2 기판(13)에 형성된 유전체층(17)상에 형성하였다. 이러한 본 발명의 증착재는 단지 예시를 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
이하에서는 본 발명의 실시예에 있어서 중첩부 단면폭(Wo)의 최적 범위를 도출하기 위하여 다음과 같은 여러가지 실험을 행하였다.
실시예 1
증착실 내부의 경우, 기본 압력을 1×10-4Pa로, 증착 형성시의 압력을 5.3×10-2Pa로 하였으며, 산소를 100sccm(유량부피단위)로 공급하면서 제2 기판(13)을 200±5℃로 유지하였다. 전류를 390mA, 전압을 -15kV DC로 조절한 전자총(51)을 통하여 전자빔을 조사하였고, 증착 속도를 35Å/s로 하여 보호막(27)을 증착시켰다. MgO 보호막의 평균 두께(d0)는 7000Å 정도가 되도록 하였다. 상기와 같이 MgO 보호막을 형성한 제2 기판(13)을, 폭(Wf)이 5.0mm인 프릿이 도포된 제1 기판과 봉착한 후 소성하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하였다. 플라즈마 디스플레이 패널 제조시에는 프레임(51)의 크기를 조절하는 등의 방법으로 보호막을 크게 하고 프릿을 도포하여 중첩부 단면폭(Wo)이 0.5mm가 되도록 하면, 중첩 높이(d)는 5923Å이었다. 실험 결과, 지글거림(암점) 현상은 심했고, 누설은 없었다.
실시예 2
중첩부 단면폭(Wo)이 1.0mm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실험을 하면, 중첩 높이(d)는 6321Å이었다. 실험 결과, 지글거림 현상은 약간 있었고, 누설은 없었다.
실시예 3
중첩부 단면폭(Wo)이 1.5mm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실험을 하면, 중첩 높이(d)는 6435Å이었다. 실험 결과, 지글거림 현상은 약간 있었고, 누설은 없었다.
실시예 4
중첩부 단면폭(Wo)이 2.0mm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실험을 하면, 중첩 높이(d)는 6534Å이었다. 실험 결과, 지글거림 현상은 약간 있었고, 누설은 없었다.
실시예 5
중첩부 단면폭(Wo)이 2.5mm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실험을 하면, 중첩 높이(d)는 6654Å이었다. 실험 결과, 지글거림 현상은 약간 있었고, 누설은 없었다.
실시예 6
중첩부 단면폭(Wo)이 3.0mm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실험을 하면, 중첩 높이(d)는 6734Å이었다. 실험 결과, 지글거림 현상은 거의 없었으나, 누설은 약간 있었다.
실시예 7
중첩부 단면폭(Wo)이 3.5mm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 실험을 하면, 중첩 높이(d)는 6834Å이었다. 실험 결과, 지글거림 현상은 거의 없었으나, 누설은 약간 있었다.
이하에서는 상기한 본 발명의 실시예 1 내지 실시예 7의 결과를 표 1에 요약하여 나타낸다.
상기한 실험 결과, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는 보호막의 평균 두께(d0)를 7000Å으로 하였는 데, 이에 대한 중첩높이비(d/d0)가 90%가 넘는 실시예 2 내지 실시예 7이 바람직하다. 이 경우, 보호막의 프릿부에 인접한 부분의 두께는 보호막의 평균 두께와 실질적으로 동일하다고 할 수 있다.
또한, 실시예 2 내지 실시예 7에서는 플라즈마 디스플레이 패널의 지글거림 현상이 비교적 적게 관찰되었다. 그리고 누설 현상은 중첩폭비가 커짐에 따라 실시예 6 및 실시예 7에서 관찰되었고, 상대적으로 중첩비가 작은 실시예 1 내지 실시예 5에서는 관찰되지 않았다.
상기한 실험 결과를 토대로 할 때, 중첩폭에 있어서는 보호막의 평균 두께와 비슷하면서 지글거림과 누설 현상이 적은 실시예 2 내지 실시예 5가 가장 바람하다는 것을 알 수 있었다. 따라서 본 발명의 프릿부의 단면폭(Wf)에 대한 보호막 중첩부 단면폭(Wo)의 비는 0.2 내지 0.5가 바람직하다는 것을 알 수 있었다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따라, 보호막을 프릿부와 일부분 중첩되도록 형성하면, 지글거림, 즉 띠 또는 얼룩 형태의 암점의 발생을 억제할 수 있고, 표시 품질을 개선할 수 있었다. 특히, 이러한 현상은 프릿부의 단면폭(Wf)에 대한 상기 보호막 중첩부 단면폭(Wo)의 비가 0.2 내지 0.5인 경우에 더욱 양호하였다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면 보호막의 상기 프릿부에 인접한 부분의 두께(d)는 상기 보호막의 평균 두께(d0)와 실질적으로 동일할 뿐만 아니라 표시영역에 대응되는 보호막의 두께를 전체적으로 균일하게 형성할 수 있어서 방전 특성이 향상되었다.
그리고 플라즈마 디스플레이 패널의 표시영역과 비표시영역사이에서 흔히 발생하며, 보호막의 막두께 감소에 기인한 디스플레이 면적 주변부에서 나타나는 주사 빠짐(address miss) 현상에 기한 블랙 노이즈(black noise) 현상을 저감시킬 수 있었다.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 설명하였지만, 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 상판의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 상판의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서 MgO 보호막을 성막하는 공정을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 분해 사시도이다.

Claims (5)

  1. 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판;
    상기 제1 기판과 제2 기판의 대향면에 각각 형성되면서 서로 교차하도록 배열되는 다수의 제1 전극 및 다수의 제2 전극;
    상기 다수의 제1 전극 및 상기 다수의 제2 전극을 각각 덮어서 형성되는 유전체층;
    상기 유전체층을 덮어서 형성되는 보호막; 및
    상기 제1 기판과 상기 제2 기판이 중첩되는 영역의 가장자리를 따라 도포되는 프릿(frit)부
    를 포함하고,
    상기 보호막은 상기 프릿부와 일부분 중첩되는 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP).
  2. 제1항에 있어서,
    상기 보호막은 MgO 및 기타 불순물을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 보호막의 상기 프릿부에 인접한 부분의 두께(d)는 상기 보호막의 평균 두께(d0)와 실질적으로 동일한 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제1항 또는 제2항에서,
    상기 프릿부의 단면폭(Wf)에 대한 상기 보호막 중첩부 단면폭(Wo)의 비는 0.2 내지 0.5인 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 다수의 제1 전극들과 상기 다수의 제2 전극들이 교차하여 표시영역을 형성하고, 상기 표시영역에 대응되는 보호막의 두께는 전체적으로 균일한 플라즈마 디스플레이 패널.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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