KR20050023120A - 유해 가스의 정화 장치 - Google Patents

Abstract

반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를 대형 혹은 복잡한 구성을 이용함이 없이 처리 대상 유해 가스의 분해율의 저하 및 분해실 벽면에 있어서의 분화물의 퇴적을 억제할 수 있고, 장시간에 걸쳐 안전하고 안정하게 정화할 수 있는 정화 장치를 제공한다.

반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를 연료를 연소하여 얻어지는 연소 배기가스 또는 화염에 의해 열분해하여 정화하는 정화 장치에 있어서, 열분해실의 측면을 통기성 및 단열성을 가지는 벽으로 하고 이것을 통하여 산소 함유 가스를 열분해실에 도입하는 구성을 갖춘 정화 장치로 한다.

Description

유해 가스의 정화 장치 {APPARATUS FOR PURIFICATION OF HARMFUL GAS}

본 발명은 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 성분을 포함하는 유해 가스를 제거하기 위한 정화 장치에 관한 것이다. 더 상세하게는, 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를 연료를 연소하여 얻어지는 연소 배기가스 또는 화염과 산소의 존재 하에서 고온으로 접촉시켜 열분해하는 것에 의하여 무해한 물질 혹은 용이하게 무해화 할 수 있는 물질로 변화시키기 위한 정화 장치에 관한 것이다.

근래의 반도체 공정의 발전과 함께, 반도체 제조 공정에 있어서는 매우 다양한 종류의 가스가 사용되어 오고 있다. 그러나, 이들 가스는 인체 및 환경에 대하여 유해한 물질이 많아 공장 외부로 배출하기에 앞서 정화하는 것이 필수로 되어 있다. 이들 가스를 연소시키는 것에 의해 분해 처리하는 연소식 정화 방법은 배기가스의 조성이나 물성에 의존하지 않고 적용할 수 있는 편리한 방법으로 특히 고농도, 대유량의 경우는 건식 정화 방법이나 습식 정화 방법과 비교하여 효율적이다.

연소식 정화 방법에 의해 처리되는 유해 가스는 프로판, LPG (liquid propane gas), LNG (liquid natural gas) 등의 연료 가스, 공기 또는 산소, 필요에 따라 불활성 가스와 연소실에서 혼합, 연소하여 무해한 산화물 혹은 용이하게 무해화 할 수 있는 물질로 되도록 처리된다. 종래부터 사용되고 있는 일반적인 연소식 정화 장치는 유해 가스를 연소하기 위한 연소실, 처리 대상의 유해 가스 성분을 포함하는 유해 가스, 연료 가스, 공기 등의 산소 함유 가스를 연소실에 도입하기 위한 각 배관, 연소 후의 가스를 연소실로부터 배출하기 위한 배출구로 구성되어 있다. 또한, 아울러 이들 외에 화염을 안정한 상태로 유지하기 위한 원추 형상 또는 그것과 유사한 형상의 보염기(保炎器)가 설치되어 있는 장치가 있다.

이와 같은 구성의 연소식 정화 장치에서 유해 가스는 연소 처리되는 가스의 배출구로부터 배기되어 대기에 방출되거나 혹은 후속의 처리장치에 운반된다. 그러나, 처리 대상 가스가 예를 들어 실란, 포스핀, 아르신(arsine), 디보란(diborane) 같은 가스인 경우는 연소에 의해 각각 규소, 인, 비소, 붕소의 고체 입자 형상의 산화물이 생성하고 대부분은 연소실 내를 통과하여 후공정에서 처리되지만, 일부는 연소실 내에 분화물(粉化物)로서 퇴적하여 아래와 같은 단점을 발생시킨다는 문제가 되고 있다.

즉, 상기와 같은 분화물은 유해 가스의 연소 개시와 함께 발생하여 연소실 내의 내벽에 퇴적하고, 연소시간의 경과와 함께 그 부착 면적, 두께가 증가한다. 그 결과 유해 가스와 연료 가스, 공기, 산소 등과의 균일한 혼합이 방해되어 완전 연소가 저해되고 연소 온도의 저하, 처리 대상의 유해 가스의 분해율의 저하를 일으킬 뿐만 아니라 분화물의 퇴적량이 매우 많은 경우는 실화(失火)될 우려가 있다.

그 때문에 연소실 내에, 회전하면서 상하 방향으로 왕복운동하는 스크레이퍼(scraper) 및 고정 돌기를 설치하여 퇴적하는 분화물을 긁어서 제거할 수 있는 장치 (일본 특개평 11-193916호 공보), 혹은 연료를 이론 공기량에 가까운 혼합 조성하에 연소시켜 연소에 의하여 얻어진 열에너지 보유 가스 중에 반도체 제조 배기가스를 도입하여 열분해하고 이어서, 다른 섹션에 과잉 공기를 공급하여 산화 반응을 완결시키는 정화 방법 및 정화 장치 (일본 특개평 11-211036호 공보) 등이 제안되어 있다.

그러나, 일본 특개평 11-193916호 공보에 기재된 정화 장치는 스크레이퍼를 회전시키는 것과 함께 회전축 방향으로 왕복운동시키기 위한 구동부가 필요하여 장치가 복잡해지고 고가의 것으로 된다는 문제가 있었다. 또한, 스크레이퍼 및 고정 돌기를 이용한 경우의 고체 부착물의 퇴적 상황은 이들을 이용하지 않는 경우보다는 훨씬 양호하지만 정기적인 분해 소제를 피할 수 없고 장치가 복잡한 구성인 까닭에 유지관리(maintenance)에 손이 많이 간다는 문제가 있었다.

일본 특개평 11-211036호 공보에 기재된 정화 장치는 반도체 제조 공정으로부터의 유해 가스를 열분해 할 때 화염을 사용하지 않기 때문에 실화될 우려가 없고 또한 그 때 산소량을 제어하여 고체 입자 형상의 산화물의 생성을 억제하기 때문에 분해실 내의 벽면에 퇴적하는 분화물을 적어지게 할 수 있으나, 후속 공정에서 산화로가 필요하여 장치가 대형 및 복잡한 구성으로 된다는 문제가 있었다.

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이들 종래 기술의 결점을 해결하고 대형 혹은 복잡한 구성을 사용함이 없이 처리 대상 유해 가스의 분해율 저하, 및 분해실 벽면에 있어서의 분화물의 퇴적을 억제할 수 있고, 장시간에 걸쳐 안전하고 안정한 정화를 할 수 있도록 하는 유해 가스의 정화 장치를 제공하는 것이다.

본 발명자들은 이들 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를 연소 배기가스 또는 화염에 의해 열분해 (또는 연소)하여 정화하는 정화 장치에 있어서, 열분해실의 측면을 통기성 및 단열성을 가지는 벽으로 하고 이것을 통하여 산소 함유 가스를 열분해실에 도입하는 구성으로 함으로써, 대형 혹은 복잡한 구성을 이용함 없이 처리 대상 유해 가스를 효율적으로 용이하게 분해할 수 있는 것과 함께, 분해실 벽면에 있어서의 분화물의 퇴적을 억제할 수 있고 더욱이 장시간에 걸쳐 안전하고 안정한 정화가 가능한 것을 발견하여 본 발명의 유해 가스의 정화 장치에 도달하였다.

즉 본 발명은 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를, 연료를 연소하여 얻어지는 연소 배기가스 또는 화염에 의해 열분해하여 정화하는 정화 장치로서, 적어도 유해 가스의 열분해실, 연소 배기가스 또는 화염을 상기 열분해실에 도입하는 노즐, 유해 가스를 상기 열분해실에 도입하는 노즐, 통기성 단열벽을 통하여 산소 함유 가스를 측면으로부터 상기 열분해실에 도입하는 수단 및 열분해 후의 가스를 외부에 배출하는 배출구를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해 가스의 정화 장치이다.

본 발명은 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를 연료를 연소하여 얻어지는 연소 배기가스 또는 화염에 의해 열분해하여 정화하는 정화 장치에 적용되는데, 특히 산소와 반응하여 분화물을 생성하는 유해 성분을 포함하는 가스를 처리하는 경우에 분해실 벽면에 있어서의 분화물의 퇴적을 억제할 수 있는 점에서 효과를 발휘한다.

본 발명의 정화 장치에서 처리할 수 있는 유해 가스 성분으로서는 아르신, 포스핀, 실란, 디실란, 디클로로실란, 디보란, 셀렌화 수소(hydrogen selenide), 게르만(germane) 등의 수소화물 가스; 삼불화 붕소, 삼염화 붕소, 사불화 규소, 사염화 규소, 사염화 티탄, 염화 알루미늄, 사불화 게르마늄, 육불화 텅스텐 등의 산성 가스; 암모니아, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 히드라진 등의 염기성 가스; 퍼플루오로카본, 히드로플루오로카본 등의 할로겐화 탄소를 예시할 수 있다.

또한, 연료 가스로는 프로판 가스, 천연 가스 등을 사용할 수 있다. 이들 가스는 필요에 따라 질소 등의 불활성 가스와 함께 이용된다.

이하, 본 발명의 배기가스의 정화 장치를 도 1 및 도 2에 기초하여 상세하게 설명하나 본 발명은 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.

도 1은 본 발명의 유해 가스의 정화 장치의 예를 나타내는 종단면도이다. 도 2는 본 발명의 정화 장치에 있어서의 통기성 단열벽의 부분확대 평단면도이다.

본 발명의 유해 가스의 정화 장치는 도 1에서 나타내는 바와 같이 적어도 유해 가스의 열분해실(1), 연소 배기가스 또는 화염을 열분해실에 도입하는 노즐(2), 유해 가스를 열분해실에 도입하는 노즐(3), 산소 함유 가스의 도입구(4), 통기성 단열벽(5) 및 열분해 후의 가스를 외부에 배출하는 배출구(17)를 구비하고, 도입구(4)에서 장치 내에 공급된 산소 함유 가스가 통기성 단열벽(5)을 통하여 측면으로부터 열분해실에 도입되도록 구성된 정화 장치이다. 본 발명에서, 상기 통기성 단열벽을 통하여 산소 함유 가스를 측면으로부터 열분해실로 도입하는 수단은 산소 함유 가스 도입구와 산소 함유 가스의 유로를 포함하고 산소 함유 가스의 유로가 통기성 단열벽의 외주 전체에 걸쳐 설치되어 있다.

본 발명의 유해 가스의 정화 장치에서, 유해 가스의 열분해실(1)의 측면에는 원통(円筒), 각통(角筒), 다각통(多角筒) 또는 이들과 유사한 통 형상으로 이루어진 통기성 단열벽(5)이 설치되어 있다. 본 발명에서는, 열분해실에서 유해 가스가 고온도의 연소 배기가스 또는 화염에 접촉하는 것과 함께 열분해실 측면의 단열벽(5)으로부터 공급되는 공기 등의 산소 함유 가스와 접촉하여 유해 가스에 포함되는 유해 성분이 열분해 된다. 그 때, 유해 성분의 종류에 따라서는 분화물이 생성되지만 도 1에서 화살표로 나타내는 것과 같은 산소 함유 가스의 흐름에 의해 분화물의 열분해실 벽면에의 퇴적을 억제할 수 있다.

단열벽(5)의 구성 재료로서는 유해 성분에 대한 내부식성, 열분해 온도에 견디는 내열성 및 단열성이 있는 것이라면 특별히 한정되는 것은 아니나 바람직한 구성 재료로서는 세라믹을 들 수 있다. 세라믹 중에서는 알루미나, 실리카, 티타니아 등 특히 다공질 세라믹이 내부식성, 내열성 및 단열성 관점에서 바람직하다. 또한, 단열벽(5)의 형태로서는 유해 성분의 열분해에 필요한 유량의 산소 함유 가스를 실질적으로 분화물이 비래(飛來)하는 벽면 전체로부터 열분해실(1)에 장시간 안정하게 공급할 수 있는 구성을 가질 필요가 있다.

단열벽(5)의 평단면도의 형태로는 예를 들면 도 2에 나타내는 바와 같은 구성을 들 수 있다. 도 2(a), (b)는 핀홀(pin-hole)을 가진 세라믹 벽의 부분확대 평단면도이고, 그 구멍의 지름(직경)은 통상은 0.01∼3.0mm, 바람직하게는 0.02∼1.0mm 이다. 또한, 구멍(18)은 원형에 한정되지 않고 그와 같은 경우의 구멍의 크기는 상기의 구멍 지름에 상당하는 크기이다. 구멍의 배열도 종횡으로 규칙적으로 배치되거나 랜덤(random)하게 배치한 것을 이용할 수 있다. 도 2(c)는 선 형상(線狀) 간극(19)을 가지는 벽의 부분확대 평단면도이고, 그 간극은 통상은 0.005∼2.0mm, 바람직하게는 0.01∼1.0mm 이다. 도 2(d)는 격자창(格子窓) 형상의 간극(20)을 가지는 벽의 부분확대 평단면도이고, 그 간극은 정방형으로 환산한 경우 한 변의 길이가 통상 0.01∼3.0mm, 바람직하게는 0.02∼1.0mm 이다. 또한, 단열벽(5)의 평단면도의 형태는 이들에 한정되는 것은 아니며 예를 들면, 이들 외에 세공을 가진 다공질 세라믹, 다수의 입자 형상 세라믹이 적층된 적층체, 다수의 내열성 섬유 형상 세라믹이 적층된 적층체 등의 형태를 들 수 있다.

또한, 단열벽의 구멍, 간극이 상기 범위보다 큰 경우는 열분해실로의 산소 함유 가스의 흐름이 편향되어 가스의 유량이 많은 부분과 적은 부분이 생길 우려가 있고 가스의 유량이 적은 부분에는 분화물이 퇴적될 우려가 있다. 또, 상기 범위보다 작은 경우는 단시간에 구멍, 간극이 분화물 등에 의해 폐색할 우려가 있다.

또한, 단열벽의 두께는 열분해실의 크기, 유해 가스의 분해 조건, 단열벽의 구성재료 등에 의해 일괄적으로 특정될 수 있는 것은 아니나 세라믹을 이용한 경우 통상은 2∼50mm, 바람직하게는 5-30mm 이다.

본 발명의 유해 가스의 정화 장치에 있어서는, 통상은 상기와 같은 통기성 단열벽의 외주 전체에 걸쳐 산소 함유 가스의 유로(6)가 설치되어 있다. 산소 함유 가스의 유로의 폭은 통상은 5∼200mm, 바람직하게는 10∼100mm 이다. 유해 가스를 처리할 때에는 열분해실의 온도는 500∼1200℃의 고온으로 되며, 이와 같은 구성으로 함으로써 열분해실의 열이 외부에 확산하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 산소 함유 가스의 유로의 외벽은 단열벽(5)의 형상과 부합하는 것이고 통상은 원통, 각통, 다각통 또는 이들과 유사한 통 형상이다.

본 발명의 유해 가스의 정화 장치에 있어서는, 열분해실의 직전에 연료와 산소 함유 가스가 혼합되어 연소하도록 설정된다. 또한, 연료의 연소시에는 화염(7)의 선단이 열분해실에 들어가도 되고 들어가지 않아도 된다. 또한, 도 1에 나타낸 바와 같이 유해 가스를 열분해실에 도입하는 노즐(3)은 통상은 연소 배기가스 또는 화염(7)을 열분해실에 도입하는 노즐(2)의 외주 측에 설치된다. 이와 같은 구성으로 함으로써 연소 배기가스에 의해 유해 가스를 열분해하는 경우, 연소 배기가스를 고온으로 유지하면서 열분해실에 공급할 수가 있다. 또한, 열분해실에 도입될 때의 연소 배기가스의 온도는 통상 1000∼1500℃ 정도이다. 또한 열분해실의 가스 압력에 있어서도 특별히 제한되는 것은 아니며 통상은 상압이지만, 10 KPa (절대 압력) 정도의 감압 혹은 0.5 MPa (절대 압력) 정도의 가압하에 처리하는 것도 가능하다.

열분해 처리된 후의 가스는 대기에 방출되거나 혹은 후속 처리공정으로 운반되지만, 후속 처리공정으로 운반되는 것과 같은 경우 본 발명의 유해 가스의 정화 장치에서는 이와 같은 처리 공정을 실시하기 위한 설비를 함께 설치하는 것도 가능하다.

도 1의 수조(12) 및 스크러버(scrubber)의 설비는 본 발명의 유해 가스의 정화 장치에 의해 처리한 유해 가스에 있어서, 처리후의 가스에 포함되는 분화물의 제거 및 새롭게 생성된 유해 성분 (용이하게 무해화 할 수 있는 성분)의 제거를 행하기 위한 것이고 본 발명에서는 필수 설비가 아니지만, 이들 설비를 구비하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 열분해실의 배출 측에 분화물의 제거부 및/또는 산성 가스의 제거부를 설치한 유해 가스 정화 장치가 바람직하다.

예를 들면, 본 발명의 유해 가스의 정화 장치에 의하여, 아르신, 포스핀, 실란, 디보란 등의 수소화물을 처리한 경우는 연소에 의해 각각 비소, 인, 규소, 붕소 등의 고체 입자 형상 산화물이 생성한다. 또한, 삼불화 붕소, 삼염화 붕소, 사불화 규소, 사염화 규소, C₂F₆ 등의 할로겐화물을 처리한 경우는 새롭게 염화 수소, 불화 수소 등의 산성 가스 (용이하게 무해화 할 수 있는 성분)가 생성한다. 도 1의 정화 장치에서는 분화물은 주로 스프레이 노즐(9)로부터 물을 살포하고 다공판(14)에서 포착함으로써 제거할 수 있다. 또한, 염화수소, 불화수소 등은 주로 충전재(15)에 의해 제거할 수 있다. 또한 디미스터(demister)(16)에 의해 수분도 함께 제거할 수 있다. 또한, 도 1에 있어서 (8)은 냉각 배관, (10)은 플로우미터(flowmeter), (11)은 펌프(pump), (13)은 배수관, (17)은 열분해후의 가스를 외부에 배출하는 배출구를 표시한다.

실시예

다음에 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하나 본 발명이 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.

실시예 1

(정화 장치의 제작)

도 1에 나타내는 바와 같은 외벽이 스테인레스강(SUS 316)제인 높이 2000mm의 정화 장치를 제작했다. 열분해실의 측면의 단열벽은 도 2(b)에 나타내는 바와 같은 미세다공을 가지는 다공질 세라믹인 알루미나제 원통 형상의 것을 사용했다. 이 단열벽은 직경 300mm, 길이 600mm, 두께 25mm 이고 직경 10∼100㎛ 에 상당하는 미세다공을 가지는 것이었다. 아울러 그 외측의 외벽은 직경 480mm, 두께 3mm 의 스테인레스강제의 원통 형상의 것을 사용했다. 또한 연소 배기가스를 열분해실로 도입하는 노즐의 내경은 32mm, 유해 가스를 열분해실에 도입하는 노즐의 내경은 44mm 이고 길이는 모두 200mm 였다.

정화 장치의 하부에는 세로 1000mm, 가로 600mm, 높이 500mm 의 수조를 설치하고 정화 장치의 우측부에는 다공판, 폴리프로필렌 수지를 주재료로 하는 충전재 및 디미스터를 가지는 스크러버를 설치했다. 또한, 스프레이 노즐, 플로우미터, 펌프 등을 연결하여 정화 장치를 완성했다.

(정화 장치의 평가)

수조에 깊이가 350mm 로 될 때까지 물을 주입한 후 펌프 등을 가동하여 스프레이 노즐로부터 물을 분출시켰다. 또한, 프로판 (유량 30 L/분)과 공기 (유량 715 L/분)를 혼합 연소시켜 얻어진 연소 배기가스를 노즐로부터 열분해실에 도입하는 것과 함께 공기를 200 L/분의 유량으로 측면으로부터 단열벽을 통해 열분해실에 도입했다. 이어서, 유해 가스로서의 실란 (유량 10 L/분)을 포함하는 질소 가스 (유량 490 L/분)를 노즐로부터 열분해실에 도입하여 열분해 처리를 행했다.

실란의 열분해 처리는 120시간 행하고, 이 사이에 실란의 연소 상태의 변화를 확인하기 위해서 분해실 내에 설치한 온도 센서에 의해 분해실 내부의 온도를 측정하는 것과 함께 배출구로부터 배출하는 가스의 일부를 샘플링하여 실란의 농도를 측정했다. 또한, 실란의 농도의 측정에는 바이오닉스(주)사 (Bionics Co., Ltd.)제 TG-4000 XA (검출 하한 1.5ppm)를 이용했다. 결과를 표 1에 나타낸다 (표 1 내의 ND 는 검출할 수 없었던 것을 표시한다). 실험 종료 후의 고체 부착물의 상황은 연소실의 벽면에 약간 퇴적되어 있는 정도였다. 또한, 연소실 온도의 측정 결과 및 연소실 출구의 실란 농도의 측정 결과로부터 실란은 완전히 연소한 것이 확인되었다.

비교예 1

실시예 1의 정화 장치의 제작에 있어서, 열분해실의 측면의 단열벽으로서 비다공질 세라믹인 비통기성 알루미나제 원통 (직경 300mm, 길이 500mm, 두께 25mm) 형상인 것을 이용하고 단열벽의 상부 100mm 의 공간으로부터 산소 함유 가스를 열분해실에 도입할 수 있는 구성으로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서 정화 장치를 제작했다.

이 정화 장치를 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 하여 실란을 열분해하여 평가한 결과를 표 1에 나타낸다. 실험 종료 후의 고체 부착물의 상황은 연소실의 벽면에 다량으로 퇴적해 있는 상태였다. 또한, 연소실 출구의 실란 농도의 측정 결과로부터 실란은 시간의 경과와 함께 분해율이 저하한 것이 확인되었다.

표 1

경과 시간 (시간)	실시예 1	비교예 1
	온도 (℃)	실란 농도 (ppm)	온도 (℃)	실란 농도 (ppm)
0	812	ND	813	ND
10	803	ND	806	ND
30	805	ND	808	ND
60	807	ND	809	10
90	801	ND	802	32
120	807	ND	804	105

본 발명의 유해 가스의 정화 장치는 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를 연료를 연소하여 얻어지는 연소 배기가스 또는 화염과, 산소의 존재하에, 고온에서 접촉시켜 유해 가스를 열분해하여 정화하는 정화 장치로서, 열분해실의 측면을 통기성 및 단열성을 갖는 벽으로 하고 이것을 통하여 산소 함유 가스를 열분해실에 도입하는 구성을 가지는 것이다. 이와 같은 구성에 의해 열분해실로부터의 열 확산이 방지될 수 있고 산소 함유 가스의 흐름에 의해 분해실 벽면에 분화물이 퇴적되기 어렵게 된다. 따라서, 본 발명의 유해 가스의 정화 장치는 소형이면서 간단한 구성의 장치이고, 처리 대상 유해 가스를 효율적이고 용이하게 분해할 수 있는 것과 함께 분해실 벽면에 있어서의 분화물의 퇴적을 억제할 수 있고, 더욱이 장시간에 걸쳐 안전하고 안정한 정화가 가능하다. 또한, 유지관리의 번거로움을 대폭 경감시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 유해 가스의 정화 장치의 예를 나타내는 종단면도이다.

도 2는 본 발명의 정화 장치에 있어서의 통기성 단열벽의 부분확대 평단면도이다.

Claims (9)

1. 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스를 연료를 연소하여 얻어지는 연소 배기가스 또는 화염에 의해 열분해하여 정화하는 정화 장치로서, 적어도 유해 가스 열분해실, 연소 배기가스 또는 화염을 상기 열분해실에 도입하는 노즐, 유해 가스를 상기 열분해실에 도입하는 노즐, 통기성 단열벽을 통하여 산소 함유 가스를 측면으로부터 상기 열분해실에 도입하는 수단 및 열분해 후의 가스를 외부에 배출하는 배출구를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 통기성 단열벽이 원통, 각통(角筒), 다각통(多角筒) 또는 이들과 유사한 통 형상인 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 통기성 단열벽을 통하여 산소 함유 가스를 측면으로부터 열분해실에 도입하는 수단은 산소 함유 가스 도입구와 산소 함유 가스의 유로를 포함하고, 산소 함유 가스의 유로는 통기성 단열벽의 외주 전체에 걸쳐 설치된 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 통기성 단열벽이 세라믹으로 구성된 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 통기성 단열벽이 핀홀(pin-hole)을 가지는 세라믹, 다공질 세라믹, 선 형상(線狀) 간극을 가지는 세라믹, 격자창(格子窓) 형상의 간극을 가지는 세라믹, 다수의 입자 형상 세라믹의 적층체, 또는 다수의 섬유 형상 세라믹(fibrous ceramics)의 적층체로 구성된 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
6. 제 1 항에 있어서,

   상기 유해 가스를 열분해실에 도입하는 노즐이 연소 배기가스 또는 화염을 열분해실에 도입하는 노즐의 외주 측에 설치된 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
7. 제 1 항에 있어서,

   상기 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스는 산소와 반응함으로써 분화물(粉化物)을 생성하는 유해 성분을 포함하는 가스인 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
8. 제 1 항에 있어서,

   상기 반도체 제조 공정에서 배출되는 유해 가스는 산성 가스를 생성하는 유해 성분을 포함하는 가스인 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.
9. 제 1 항에 있어서,

   상기 열분해실의 배출 측에 분화물의 제거부 및/또는 산성 가스 제거부를 설치한 것을 특징으로 하는 유해 가스 정화 장치.