KR20050003517A

KR20050003517A - A exposure apparatus

Info

Publication number: KR20050003517A
Application number: KR1020030042412A
Authority: KR
Inventors: 김명재
Original assignee: 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date: 2003-06-27
Filing date: 2003-06-27
Publication date: 2005-01-12

Abstract

PURPOSE: An exposing device is provided to reduce a defect in exposure generated due to deflection of a glass and to minimize damage of the glass. CONSTITUTION: A glass is mounted to a plate stage(41). Several number of support pins(42) are formed at the center of the plate stage. A support guide(43) is formed on the remaining side except for a side of the plate stage. The plate stage is moved toward up, down, right and left for exposing. The support pins support the center of the glass when loading the glass. The support guide supports an edge of the glass and is made of ceramic material. The support pins and the support guide are formed with the same height and are constructed by a structure with an elastic force.

Description

Exposure apparatus {A EXPOSURE APPARATUS}

본 발명은 노광장치에 관한 것으로서, 특히 노광장치의 글래스를 지지하는 플레이트 스테이지에 글래스의 처짐을 방지하지 위한 구성을 추가함으로써, 글래스의 처짐으로 인해 발생되는 노광불량을 감소하면서 글래스의 손상을 최소화 할 수있는 노광장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus, and in particular, by adding a configuration for preventing the glass from sagging to the plate stage supporting the glass of the exposure apparatus, thereby minimizing the damage of the glass while reducing the exposure failure caused by the glass sagging. It relates to an exposure apparatus that can.

일반적으로, 컴퓨터 및 각종 전자 제품에 적용되는 반도체 소자나, 화상 표시소자로서 부각되고 있는 액정 표시 소자(LCD), 플라즈마 디스플레이 소자(PDP), 전자 부품이 실장 되는 회로 기판(PCB), 필터 및 박막 기술을 이용한 부품 등의제작에는 미세한 패턴을 형성하기 위하여 사진 식각법이 이용되고 있다.BACKGROUND ART In general, semiconductor devices applied to computers and various electronic products, liquid crystal display devices (LCDs), plasma display devices (PDPs), circuit boards (PCBs) on which electronic components are mounted, filters, and thin films are emerging as image display devices. Photolithography is used to form fine patterns in the production of components and the like using technology.

일반적인 사진 식각 공정은 세정과 감광막 도포, 노광 및 현상, 그리고 식각 등의 여러 공정을 포함한다.Common photolithography processes include cleaning and photoresist coating, exposure and development, and etching.

이러한 사진 식각 공정은 레티클(reticle) 또는 마스크(mask)의 패턴 (pattern)을 기판에 형성된 감광막에 전사할 수 있도록 노광장치가 필수적으로 사용된다.In such a photolithography process, an exposure apparatus is essentially used to transfer a pattern of a reticle or a mask to a photosensitive film formed on a substrate.

그리고, 반도체 소자나 액정 표시 소자 등을 제조하기 위해서는 원 소재, 예컨대 웨이퍼나 액정 표시 소자용 기판 등에 소정의 패턴 예컨대, 회로 패턴을 형성시키기 위해 노광장치에서 이들 패턴이 형성된 레티클을 이용하여 노광공정을 반복적으로 실시하게 된다.In order to form a semiconductor device, a liquid crystal display device, or the like, an exposure process is performed using a reticle having these patterns formed in an exposure apparatus in order to form a predetermined pattern, for example, a circuit pattern, on a raw material such as a wafer or a substrate for a liquid crystal display device. It is done repeatedly.

도 1은 종래에 따른 노광장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다. 이에 도시한 바와 같이, 노광장치는, 광원(10)과, 상기 광원(10)의 하부에 위치하고 기판(미도시)을 고정한 상태에서 기판을 상하좌우로 움직이도록 하는 기판의 이동수단(11)과, 상기 기판 이동수단(11)의 움직이는 경로가 일정하도록 지지하는 요 가이드(12)와, 상기 요 가이드(12)와 근접하여 위치하고 실질적으로 상기 기판 이동수단(11)을 움직이도록 하는 고정자(13)를 포함한다.1 is a view schematically showing the structure of a conventional exposure apparatus. As shown in the drawing, the exposure apparatus includes a light source 10 and a substrate moving means 11 for moving the substrate up, down, left, and right while being positioned below the light source 10 and fixing the substrate (not shown). A yaw guide 12 supporting the moving path of the substrate moving means 11 and a stator 13 positioned close to the yaw guide 12 and substantially moving the substrate moving means 11; It includes.

또한, 기판 이동수단(11)은 기판이 안착되는 플레이트 스테이지(15)와, 요 가이드(12)와, 상기 고정자(13)가 고정되는 정반(14)으로 구성되며, 상기 정반(14)은 메인 바디(main body)(16)의 상부에 위치한다.In addition, the substrate moving means 11 is composed of a plate stage 15 on which the substrate is seated, a yaw guide 12, and a surface plate 14 on which the stator 13 is fixed. It is located above the main body 16.

상기 전술한 구성에서, 상기 기판 이동수단(11)은 상기 고정자(13)에 의해 움직이며, 상기 고정자(13)는 상기 요 가이드(12)에 의해 지지된다.In the above-described configuration, the substrate moving means 11 is moved by the stator 13, and the stator 13 is supported by the yaw guide 12.

상기 기판 이동수단(11)은 기판(미도시)을 진공으로 흡착하는 원형 또는 사각형상의 척(미도시)을 포함한 플레이트 스테이트(15)와, 실질적으로 플레이트 스테이지(15)가 좌우로 움직이도록 하는 이동장치(17)로 구성된다.The substrate moving means 11 is a plate state 15 including a circular or square chuck (not shown) that sucks the substrate (not shown) in a vacuum, and a movement such that the plate stage 15 moves substantially to the left and right. It consists of a device (17).

상기 기판 이동수단(11)은 정반(14)으로부터 소정의 높이로 부상하여, 상기 정반(14)내에서 상/하로 움직이며, 이때 동시에 상기 플레이트 스테이지(15)는 이동장치(17)내에서 좌우로 움직이게 된다.The substrate moving means 11 rises from the surface plate 14 to a predetermined height and moves up and down within the surface plate 14, and at the same time, the plate stage 15 is left and right within the moving device 17. Will move to.

이때, 상기 고정자(13)는 기판 이동수단(11)을 움직이도록 하고, 상기 고정자(13)와 함께 정반(14)에 고정된 요 가이드(12)는 상기 기판 이동수단(11)이 정확한 경로를 따라 움직이도록한다.At this time, the stator 13 moves the substrate moving means 11, and the yaw guide 12 fixed to the surface plate 14 together with the stator 13 has the correct path of the substrate moving means 11. To move along.

상기 기판 이동수단(11)의 이동은 상기 정반의 일 측과 이에 평행한 타 측에 구성한 고정자(13)와, 상기 고정자(13)에 감겨진 코일에 의해 발휘되는 전자석에 의한 힘과, 상기 기판 이동수단(11)의 에어 패드(air pad)에서 공급되는 큰 압력의공기에 의한 것이다.The substrate movement means 11 is moved by a stator 13 configured at one side of the surface plate and the other side parallel thereto, and a force by an electromagnet exerted by a coil wound around the stator 13, and the substrate. This is due to the large pressure air supplied from the air pad of the vehicle 11.

이때, 상기 기판 이동수단(11)은 일정한 갭(gap)을 유지하면서 부상하게 되며, 상기 기판 이동수단(11)의 하부에는 자석과 에어패드가 구성되어 있고, 상기기판 이동수단(11)을 상기 정반(14)의 방향으로 끌어당기려는 자력과, 상기 기판 이동수단(11)을 정반으로부터 부상하도록 하려는 에어패드의 힘이 서로 평형을 이루면서 상기 기판 이동수단(11)은 정반(14)으로부터 일정한 갭(5㎛)으로 떠 있는 상태가 유지된다.In this case, the substrate moving means 11 is floated while maintaining a constant gap, the lower portion of the substrate moving means 11 is composed of a magnet and an air pad, the substrate moving means 11 is The magnetic force to pull in the direction of the surface plate 14 and the force of the air pad for causing the substrate movement means 11 to rise from the surface plate balance each other, so that the substrate movement means 11 has a constant gap from the surface plate 14. The floating state is maintained at (5 mu m).

이와 같은 상태에서, 앞서도 설명한 바와 같이, 상기 기판 이동수단(11)을 상부와 하부로 움직이도록 하는 힘은 상기 정반의 일측과 타측에 구성된 고정자(미도시)에 의한 것이다.In this state, as described above, the force for moving the substrate moving means 11 to the top and bottom is due to a stator (not shown) configured on one side and the other side of the surface plate.

상기 고정자에는 코일(coil)이 감겨 있기 때문에 상기 정반(14)의 상하로 움직이는 이동수단의 내부에 움직이는 플레이트는 상기 고정자의 자기장(B)과 전류(i)가 가해질 경우 힘(F)이 코일(Coil)에 작용하게 되어 코일로 연결된 플레이트 스테이지(15)가 움직이게 된다.Since the coil is wound around the stator, the plate moving inside the moving means moving up and down of the surface plate 14 has a force F when the magnetic field B and the current i of the stator are applied. It acts on the coil to move the plate stage 15 connected by the coil.

이때, 상기 플레이트 스테이지(15)가 앞서 설명한 에어패드와 고정자의 작용으로 정반으로부터 부상하게 된다.At this time, the plate stage 15 is floating from the surface plate by the action of the air pad and the stator described above.

도 2는 종래에 따른 플레이트 스테이지의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다. 이에 도시된 바와 같이, 플레이트 스테이지(21)상의 중앙 부위에는 글래스가 안착될 수 있는 실린더 형태의 소정수의 지지핀(22)이 형성되어 있다.2 is a view schematically showing the structure of a plate stage according to the prior art. As shown in the figure, a predetermined number of support pins 22 in the form of cylinders on which the glass can be seated are formed at the central portion on the plate stage 21.

상기 소정수의 지지핀(22)은 상기 플레이트 스테이지(21) 중앙에 X 자 형태로 배치되어 있으며, 탄성력을 가져 상하로 연동하게 된다.The predetermined number of support pins 22 are arranged in the center of the plate stage 21 in an X shape, and have an elastic force to interlock up and down.

따라서, 글라스는 상기 플레이트 스테이지(21)의 중앙에 형성된 지지핀(22)에 안착하게 된다.Therefore, the glass is seated on the support pin 22 formed at the center of the plate stage 21.

도 3은 종래에 따른 플레이트 스테이지상에 글래스가 안착된 상태를 보여주는 측면도이다. 이에 도시된 바와 같이, 상기 플레이트 스테이지(21)상에 형성된 지지핀(22)에 대면적의 글래스(23)를 올려놓게 되면, 글래스(23)의 양측면이 처지게 된다.3 is a side view showing a glass seated on a plate stage according to the prior art. As shown in the drawing, when the glass 23 having a large area is placed on the support pin 22 formed on the plate stage 21, both sides of the glass 23 sag.

따라서, 상기와 같이 글래스(23)가 처지게 되면 글래스(23)의 중앙부분과 양측면의 높이가 달라지게 되어 노광하는 과정에서 노광되는 정도가 달라지게 되어 글래스 불량을 유발하는 문제가 발생한다.Therefore, when the glass 23 sags as described above, the heights of the center portion and both sides of the glass 23 are changed, so that the degree of exposure is changed during the exposure process, which causes glass defects.

또한, 상기와 같이 플레이트 스테이지(21)상의 중앙에 지지핀(22)만이 형성된 구조는 노광장치에 의해 상하, 좌우로 이동되는 과정에서 글래스의 파손위험이 큰 문제가 발생된다.In addition, the structure in which only the support pins 22 are formed in the center on the plate stage 21 as described above causes a large risk of breakage of the glass in the process of moving up, down, left and right by the exposure apparatus.

본 발명은, 노광장치의 글래스를 지지하는 플레이트 스테이지에 글래스의 처짐을 방지하지 위한 구성을 추가함으로써, 글래스의 처짐으로 인해 발생되는 노광불량을 감소하면서 글래스의 손상을 최소화 할 수 있는 노광장치를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention provides an exposure apparatus capable of minimizing damage to the glass while reducing the exposure failure caused by the deflection of the glass by adding a configuration for preventing the deflection of the glass to the plate stage supporting the glass of the exposure apparatus. Has its purpose.

도 1은 종래에 따른 노광장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면.1 is a view schematically showing the structure of a conventional exposure apparatus.

도 2는 종래에 따른 플레이트 스테이지의 구조를 개략적으로 도시한 도면.2 is a view schematically showing the structure of a plate stage according to the prior art.

도 3은 종래에 따른 플레이트 스테이지상에 글래스가 안착된 상태를 보여주는 측면도.Figure 3 is a side view showing a state that the glass is seated on the plate stage according to the prior art.

도 4는 본 발명에 따른 노광장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면.4 schematically shows the structure of an exposure apparatus according to the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 노광장치에 글래스가 안착된 구조를 개략적으로 도시한 도면.5 is a view schematically showing a structure in which a glass is mounted on the exposure apparatus according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

41 --- 플레이트 스테이지 42 --- 지지핀41 --- Plate Stage 42 --- Support Pin

43 --- 지지 가이드 44 --- 글래스43 --- Support Guide 44 --- Glass

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 노광장치는,In order to achieve the above object, the exposure apparatus according to the present invention,

글래스가 안착되는 플레이트 스테이지와;A plate stage on which the glass is seated;

상기 플레이트 스테이지의 중앙에 형성된 소정수의 지지핀과;A predetermined number of support pins formed in the center of the plate stage;

상기 플레이트 스테이지의 일측면을 제외한 나머지 측면에 형성된 지지 가이드를 포함하는 점에 그 특징이 있다.It is characterized in that it comprises a support guide formed on the other side except for one side of the plate stage.

여기서, 특히 상기 지지 가이드가 형성되지 않은 일측면은 글래스가 반입되는 부분인 점에 그 특징이 있다.Here, in particular, one side of the support guide is not formed is characterized in that the glass is a portion to be carried.

여기서, 특히 상기 지지 가이드는 ㄷ 자 형태로 형성되는 점에 그 특징이 있다.Here, in particular, the support guide is characterized in that it is formed in a c-shape.

여기서, 특히 상기 지지 가이드는 세라믹 물질로 형성되는 점에 그 특징이 있다.Here, in particular, the support guide is characterized in that it is formed of a ceramic material.

여기서, 특히 상기 지지핀과 상기 지지 가이드는 같은 높이로 형성되는 점에 그 특징이 있다.Here, in particular, the support pin and the support guide is characterized in that it is formed at the same height.

여기서, 특히 상기 지지핀과 상기 지지 가이드는 탄력성을 갖는 구조인 점에 그 특징이 있다.Here, in particular, the support pin and the support guide is characterized in that it has a structure having elasticity.

이와 같은 본 발명에 의하면, 노광장치의 플레이트 스테이지에 글래스가 안착될 때, 글래스의 처짐을 방지할 수 있다.According to the present invention as described above, when the glass is seated on the plate stage of the exposure apparatus, sagging of the glass can be prevented.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 노광장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다. 이에 도시된 바와 같이, 노광장치는, 글래스가 안착되는 플레이트 스테이지(41)와; 상기 플레이트 스테이지(41)의 중앙에 형성된 소정수의 지지핀(42)과; 상기 플레이트 스테이지(41)의 일측면을 제외한 나머지 측면에 형성된 지지 가이드(43)를 포함하여 구성된다.4 is a view schematically showing the structure of an exposure apparatus according to the present invention. As shown therein, the exposure apparatus includes a plate stage 41 on which glass is seated; A predetermined number of support pins 42 formed in the center of the plate stage 41; It is configured to include a support guide 43 formed on the other side except for one side of the plate stage 41.

상기 플레이트 스테이지(41)는 글래스가 안착되는 것으로 노광장치의 기판이동장치(미도시)에 의해 노광시키기 위해 상하, 좌우로 이동하게 된다.The plate stage 41 is a glass is seated is moved up and down, left and right to expose by a substrate transfer device (not shown) of the exposure apparatus.

상기 플레이트 스테이지(41)상의 중앙에 형성된 지지핀(42)은 글래스가 올려지면 글래스의 중앙을 지지하게 된다.The support pin 42 formed at the center of the plate stage 41 supports the center of the glass when the glass is raised.

상기 플레이트 스테이지(41)의 일측면을 제외한 측면에 형성된 지지 가이드(43)는 상기 글래스의 가장 자리 부분을 지지하게 된다.The support guide 43 formed on the side surface of the plate stage 41 except for one side may support the edge portion of the glass.

도 5는 본 발명에 따른 노광장치에 글래스가 안착된 구조를 개략적으로 도시한 도면이다. 이에 도시된 바와 같이, 상기 플레이트 스테이지(41)의 삼면의 둘레에는 상기 지지 가이드(43)는 ㄷ 자 형태로 형성되어 있다.5 is a view schematically showing a structure in which glass is seated in the exposure apparatus according to the present invention. As shown in the figure, the support guide 43 is formed in a c shape around the three surfaces of the plate stage 41.

보다 상세히 설명하자면, 상기 지지 가이드(43)가 형성되지 않은 일측면은 글래스(44)가 반입될 수 있도록 하고, 나머지 세측면에만 지지 가이드(43)가 형성되어 있다.In more detail, one side where the support guide 43 is not formed allows the glass 44 to be carried therein, and the support guide 43 is formed only on the remaining three sides.

이때, 상기 플레이트 스테이지(41)의 세측면에 ㄷ 자 형태로 형성된 지지 가이드(43)만으로도 글래스(44)의 네측면의 가장 자리의 처짐을 방지하게 된다.At this time, only the support guide 43 formed in the c-shape on the three sides of the plate stage 41 is to prevent the sag of the edges of the four sides of the glass 44.

또한, 상기 지지핀(42)과 상기 지지 가이드(43)는 같은 높이로 형성되어 글래스(44)가 안착되었을 때, 어느쪽으로 기울어짐이 없이 놓여지도록 한다.In addition, the support pin 42 and the support guide 43 are formed at the same height so that when the glass 44 is seated, it is placed without any inclination.

그리고, 상기 지지핀(42)과 상기 지지 가이드(43)는 세라믹 물질로 형성되며, 연동성을 갖는 탄성핀 형태의 구조로 형성된다.In addition, the support pin 42 and the support guide 43 are formed of a ceramic material and have a structure of an elastic pin shape having interlocking properties.

따라서, 상기 플레이트 스테이지(41)에 글래스(44)가 안착되면, 중앙의 지지핀(42)과 가장 자리 부위의 ㄷ 자 형태의 지지 가이드(43)에 의해 안정적으로 글래스(44)가 놓여지게 된다.Therefore, when the glass 44 is seated on the plate stage 41, the glass 44 is stably placed by the central support pin 42 and the c-shaped support guide 43 of the edge portion. .

이는 결과적으로, 노광장치의 플레이트 스테이지에 글래스가 안착될 때, 글래스의 처짐을 방지하여 글래스의 노광 불량율을 줄일 수 있다.As a result, when the glass is seated on the plate stage of the exposure apparatus, it is possible to prevent the glass from sagging and reduce the exposure failure rate of the glass.

본 발명은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments illustrated in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

이상의 설명에서와 같이 본 발명에 따른 노광장치는, 노광장치의 글래스를 지지하는 플레이트 스테이지에 글래스의 처짐을 방지하지 위한 구성을 추가함으로써, 글래스의 처짐으로 인해 발생되는 노광불량을 감소하면서 글래스의 손상을 최소화 할 수 있다.As described above, the exposure apparatus according to the present invention, by adding a configuration for preventing the deflection of the glass to the plate stage for supporting the glass of the exposure apparatus, while reducing the exposure failure caused by the deflection of the glass damage the glass Can be minimized.

Claims

A plate stage on which the glass is seated;

A predetermined number of support pins formed in the center of the plate stage;

An exposure apparatus comprising a support guide formed on the other side of the plate stage except one side.

The method of claim 1,

One side of the support guide is not formed is an exposure apparatus, characterized in that the portion into which the glass is carried.

The method of claim 1,

The support guide is characterized in that formed in the U-shape.

The method of claim 1,

And the support guide is formed of a ceramic material.

The method of claim 1,

And the support pins and the support guides are formed at the same height.

The method of claim 1,

The support pin and the support guide is characterized in that the structure having elasticity.