KR200496690Y1 - 이송 롤러, 이송 장치 및 기판 처리 시스템 - Google Patents

이송 롤러, 이송 장치 및 기판 처리 시스템 Download PDF

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KR200496690Y1 KR2020170006193U KR20170006193U KR200496690Y1 KR 200496690 Y1 KR200496690 Y1 KR 200496690Y1 KR 2020170006193 U KR2020170006193 U KR 2020170006193U KR 20170006193 U KR20170006193 U KR 20170006193U KR 200496690 Y1 KR200496690 Y1 KR 200496690Y1
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플로리안 칼텐바흐
닥터 슈페판 알렉시스 페디아디타키스
닥터 베른트-우베 잰더
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레나 테크놀로지스 게엠베하
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Abstract

기판(2)을 이송하기 위해 돌출부들(11)을 표면(10)에 배치한 이송 롤러(9, 18); 적어도 하나의 그러한 이송 롤러(9, 18)를 가지는 기판 처리 시스템(1)용 이송 장치(8); 이송 장치(8) 및 처리 용액(4, 6)을 담고 있는 처리 용기(3, 5)를 가지는, 특히 기판(2)의 한쪽 면을 습식 화학적 처리하기 위한 기판 처리 시스템(1).

Description

이송 롤러, 이송 장치 및 기판 처리 시스템{TRANSPORT ROLLER, TRANSPORT DEVICE AND SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM}
본 발명은 기판을 이송하기 위한 이송 롤러 및 기판 처리 시스템용 이송 장치에 관한 것이다. 그 외에도, 본 발명은 이송 장치를 구비한 기판 처리 시스템에 관한 것이다.
여러 기술 분야들에서, 예를 들어 태양 전지 제조에서는 (웨이퍼라고도 불리는) 기판의 한쪽 면만에 대한 처리가 필요한 반면, 기판의 반대쪽 면은 이러한 처리에 영향을 받아서는 안된다.
이때, 습식 공정들의 영역에서, 예를 들어 습식 화학적 테두리 격리(edge isolation)(디퓨전을 통해 후면이 도포된 기생 이미터의 한쪽 면에 대한 에칭), 광택(기판 한쪽 면에 대한 화학적 평탄화, 특히 텍스쳐화된 기판 후면에 대한 화학적 평탄화), 갈바닉 공정(특히 메탈라이징의 전기 화학적 분리) 또는 후속 처리들에 선행하는 한쪽 면 프리컨디셔닝 단계(one-sided preconditioning step)(기판 에지의 소수화처럼)이 언급될 수 있다.
많은 배치(batch) 방법이 시스템 때문에 기판의 양 측면과 관련되어 있는 것과 달리, 인라인(inline) 방법에서는 기판의 한 측면에 대한 처리가 실현될 수 있다.
기판의 한쪽 면을 처리하는 종래 인라인 방법은 메니스커스의 형성하에 처리하려는 기판과 처리 용액 간 전면 접촉이 하측에서 발생하는 방법으로서 WO 2005/093788 A1에 설명된 방법이다. 만약 기판의 한쪽 면이 그와 같은 방식으로 처리되면, 이 기판은 처리 용액을 담고 있는 처리 용기를 떠난 후, 기판 하측에서 처리 용액 방울들이 붙을 수 있다.
이 처리 용액의 방울들은, 이 처리 용기 뒤에 배치되어 기판을 이송하기 위해 사용되는 이송 롤러와 기판이 접촉할 때, 이송 롤러 위로 이동될 수 있다. 후속 기판이 이송 롤러와 접촉할 때, 이 후속 기판은 상기 이송 롤러 위에 남아 있는 방울들과 접촉할 수도 있다. 이는 일반적으로 심각하진 않은데, 왜냐하면 후속 기판 역시 자신의 하측에서 상기 처리 용액의 잔류를 동반하므로 이송 롤러 위에 남아 있는 처리 용액 방울들이 후속 기판에 대해 추가적인 부정적 효과를 갖지는 않기 때문이다.
그러나 이러한 이송 롤러에 붙은 처리 용액의 방울이 후속 기판의 하측과 접촉하지 않고 오히려 가장자리와 접촉하는 위험은 현존한다. 왜냐하면 이송 롤러에 붙어있는 처리 용액의 방울은 밀리미터 범위에 있는 크기를 가질 수 있는 반면, 처리하려는 기판의 두께는 일반적으로 10분의 2 밀리미터의 범위에 있기 때문에, 이와 같은 가장자리 접촉이 야기하는 바는 상기 처리 용액이 이송 롤러로부터 후속 기판의 상측 위로 이동되는 것이다. 특히 기판 후방 에지에서 이런 점이 종종 관찰된다. 처리 용액에 의해 기판의 상측이 오염되면 기판 상측에서의 불원한 효과가, 예를 들어 기판 상측에 대한 에칭이 야기될 수 있다.
과거에 이런 점은 덜 중요하였는데, 왜냐하면 현재의 기판 처리 시스템에서 일반적으로 세정 장치가 처리 용기 뒤에 오기 때문이었으며, 이때 세정 장치 안에서 상기 기판이 처리 용기를 떠난 직후 양측에서 세정되므로, 이 처리 용액은 기판 상측에서 단지 잠시 영향을 줄 수 있다.
그러나 새로운 프로세스들은 더 큰 대역폭의 프로세스 시퀀스, 예를 들어 기판의 한쪽 면에 대해 여러 번의 연이은 처리를 요구하며, 특히 처리 용기들 사이에서 건조 구간을 포함하는 처리를 요구하는 데, 이때 개별 처리 용기들 사이에서 기판의 중간 세정이 불가능하거나 또는 처리 시스템의 복잡성은 상당히 높아질 수가 있다. 또한, 그러는 사이에 반응성이 높은 처리 용액들이 사용되어, 이때 이런 반응성은 세정 때까지의 짧은 영향 시간 동안에도 기판 상측에 부정적 효과를 끼칠 수 있다.
본 발명의 과제는 처리 용액으로 기판의 하측을 처리할 때 이송 롤러로부터 후속 기판의 상측으로 처리 용액의 이동을 줄이는 데 있으며, 바람직하게는 이를 막는 데 있다.
처리 용기를 떠난 후 처리된 기판의 세정을 통해 및/또는 반응성이 작은 처리 용액의 사용을 통해 상기 목적을 달성하려고 지금까지 노력하였다. 그러나 이는 하기의 단점들을 수반할 수 있다:
- 프로세스 시퀀스에서 제약들,
- 프로세스 배쓰(process bath)의 반응성에서 제약들,
- 어쩌면 있을 수 있는 기판 보호층의 상측에 대한 더 높은 요구사항.
위에서 언급한 과제는 본 발명에 따르면 제 1 항에 따른 이송 롤러를 통해, 제 16 항에 따른 이송 장치를 통해 및 제 17 항에 따른 기판 처리 시스템을 통해 해결된다.
본 발명을 이용해 하기 장점들 중 하나 또는 다수의 장점이 실현될 수 있다:
- 가능한 프로세스 시퀀스의 확장, 특히 한쪽 면을 추가로 후속 처리하기 전에 한쪽 면에 대한 프리컨디셔닝 단계를 실시하기 위한 가능성,
_ 특히 반응성이 높은 처리 용액으로 처리한 후 기판의 상측에 대한 부식을 피하기 위한 관점에서 현존 시스템 컨셉(system concept)의 개선,
- 처리하려는 기판을 세정하는 데 필요한 세정 장치의 수의 감소.
기판을 이송하기 위한 본 발명에 따른 이송 롤러가 가지는 돌출부들은 이의 표면에 배치된다.
이송 롤러의 돌출부들은 지지 지점을 형성하므로, 이송하려는 기판은 이 기판의 이송 시에 상기 지지 지점 위에 위치할 수 있다. 만약 이송하려는 기판의 처리된 하측에 붙어 있는 처리 용액의 방울은 이의 돌출부들 중 어느 하나에서 이송 롤러에 의해 제거되면, 이 방울은 돌출부로부터 이송 롤러의 축근접 영역 쪽으로 흘러내릴 수 있다. 이때 이송 롤러의 축근접 영역은 이송 롤러의 표면 영역으로서, 이때 표면 영역은 돌출부의 표면보다 이의 종축에 더 가까이에 위치한다. 이송 롤러의 이러한 축근접 영역에서 후속 기판과 방울의 접촉이 불가능한 것이 유리하므로, 이 방울이 후속 기판으로 이동되는 것이 회피될 수 있다.
다시 말하면, 이송 롤러의 돌출부들을 통해 회피하려는 것은 이송 롤러와 이송하려는 기판 간에 접촉이 이루어지는 이송 롤러의 상기 지점들에 앞서 이송된 기판들의 처리 용액이 남으면, 이것은 처리하려는 기판의 상측을 오염시킬 수도 있다.
먼저 이송된 기판들로부터 이송 롤러에 남아있는 처리 용액과 이송하려는 기판의 상측 간 불원한 접촉 및 어쩌면 이로부터 결과하는, 기판 상측에 대한 처리 용액의 영향, 예를 들어 기판 상측에 대한 에칭이 회피될 수 있다.
유리하게는 이송 롤러가 적어도 2개의 돌출부들을 포함하며, 이송하려는 기판이 측면으로 기울어짐이 없이 돌출부 위에 놓여 이송될 수 있는 방식으로, 돌출부들이 이송 롤러의 표면에 배치되어 있다. 바람직하게는 이 돌출부들 중 적어도 2개는 이송 롤러의 종방향으로 전후로 배치되어 있고, 특히 바람직하게는 서로 이격되어 있다.
본 발명의 유리한 그외 형성예에서 돌출부는 고원(plateau)없이 실시되어 있다. 달리 표현하면, 바람직하게는 각 돌출부는, 돌출부 위에 놓여있는 기판이 단지 한 점에서 돌출부와 접촉하는 방식으로, 형성되어 있다. 이는 이송 롤러 위에 있는 처리 용액이 이송하려는 기판 쪽으로 이동하는 것이 특히 효과적으로 회피되는 것을 가능하게 한다.
본 발명의 유리한 실시예에서 이송 롤러는 본체, 특히 원통형 본체를 갖는다. 바람직하게는 이 돌출부들은 본체와 일체로 형성되어 있다.
상기 돌출부들 중 어느 하나 또는 다수는 이송 롤러의 원주 방향으로 적어도 부분적으로 연장할 수 있다. 또한, 상기 돌출부들 중 어느 하나 또는 다수가 이송 롤러의 원주 방향 쪽으로 적어도 부분적으로 경사지게 연장할 수 있다.
바람직하게는 이송 롤러는 대칭축을 갖는다. 이 돌출부들 중 어느 하나 또는 다수는 이송 롤러의 대칭축과 관련하여 축대칭적으로 형성될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구성에서 상기 돌출부들 중 적어도 하나는 폐쇄형 링 구조로서 실시되어 있다. 폐쇄형 링 구조로서 실시되어 있는 돌출부는, 이송 롤러의 원주 방향으로 끊김 없는 링 형상 구조를 갖는 돌출부이다.
돌출부들 중 적어도 하나는 예각으로, 즉 90°이하의 각도로 만나는 2개의 측벽을 가질 수 있다. 바람직하게는 이 측벽들이 기껏해야 75°의 각도로 만난다. 이는 이러한 돌출부의 측벽들로부터 처리 용액이 빠르게 흘러내리는 것을 가능하게 한다.
더 나아가서, 상기 돌출부들 중 적어도 하나가 가지는 2개의 측벽은 곡선으로, 특히 오목한 곡선으로 형성되는 것이 유리하다. 추가로 이러한 곡선형 측벽들은 예각으로 만날 수 있다.
이송 롤러의 종방향으로, 인접 돌출부들은 유리하게는 서로 일정한 거리를 가지며, 이 거리는 기판의 이송시에 이송 롤러로 전달될 수 있는 처리 용액의 방울의 크기에 비해 크다. 그러므로 돌출부의 모세관 효과가 회피될 수 있다.
반대로 만약 전술한 거리가 작으면, 이 돌출부들은 처리 용액에 대해 모세관 효과를 가질 수 있으며, 이는 이송 롤러로부터 후속 기판으로 처리 용액의 이동을 용이하게 할 수 있다. 이송 롤러의 종방향으로 인접해 있는 돌출부들이 상호 간에 작은 거리를 가지는 경우에, 이송 롤러는 예를 들어 이송하려는 기판 쪽으로 용액을 적극적으로 유도하는데 이용될 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에서 이송 롤러의 종방향으로 인접해 있는 돌출부들은 적어도 5mm의 거리, 바람직하게는 적어도 10mm의 거리를 갖는다.
상기 이송 롤러의 돌출부들 중 적어도 하나는 원추형 피크로서 실시될 수 있다. 이 원추형 피크는 90°이하, 바람직하게는 기껏해야 75°의 원추 개방각을 가질 수 있다.
그 외에도, 상기 돌출부들 중 적어도 2개는 이송 롤러의 원주 방향으로 전후에 배치될 수 있다. 이송 롤러의 원주 방향으로 전후에 배치된 돌출부들은 특히 각각의 경우에 원추형 피크로서 실시될 수 있다.
이송 롤러의 원주 방향으로, 인접한 돌출부들은 유리하게는 서로 간에 거리를 가지며, 이때 거리는 기판의 이송 시에 이송 롤러로 전달될 수 있는 처리 용액의 방울의 크기에 비해 크므로, 특히 돌출부들의 모세관 효과가 회피될 수 있다.
더 나아가서, 이 돌출부들은 유리하게는 적어도 2mm, 바람직하게는 적어도 3mm, 특히 바람직하게는 적어도 4mm의 높이를 갖는다.
또한, 이송 롤러의 표면은 적어도 국지적으로 소수성으로 실시될 수 있다. 그 때문에 특히 처리 용액이 수용성인 경우 돌출부로부터 처리 용액의 방울이 양호하게 흘러내린다. 그런 경우 본 발명의 의미에서, 물방울이 정상 조건(20°C 기온, 1013 mbar 기압)에서 90°이상의 접촉각(적심각(wetting angle)이라고도 불림)을 이송 롤러의 표면의 영역과 함께 형성하면, 상기 표면의 영역을 소수성으로 간주할 수 있다.
본 발명의 유리한 구성에서 이송 롤러는 적어도 이의 표면의 일부 영역에서 합성수지 재료를 갖는다. 그러므로 합성수지 재료는 종종 높은 소수성을 갖는다.
이런 이송 롤러는 유리하게는 습식 화학적 처리 방법의 실시 시에, 특히 한쪽 면에 대해 습식 화학적 처리 방법의 실시 시에 이용될 수 있다. 그러나 이러한 이송 롤러는 그와 같은 방법에서 또는 이와 관련한 시스템들에서의 사용에 국한하지 않는다.
앞서 언급한 것처럼, 본 발명은 기판 처리 시스템용 이송 장치에 관한 것이다.
기판 처리 시스템을 위한 본 발명에 따른 이송 장치는 앞서 언급한 방식의 적어도 하나의 이송 롤러를, 달리 말하면 본 발명에 따른 적어도 하나의 이송 롤러 갖는다.
유리하게는 이송 장치는 이와 같은 복수의 이송 롤러를 구비하며, 이때 이송 롤러들은 특히 서로 평행하게 배치될 수 있다. 이송 롤러들이 여러 개인 경우에 이들은 특히 서로 동일하게 형성될 수 있다.
그 외에도, 본 발명은 이미 설명한 것처럼 기판 처리 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따른 기판 처리 시스템은 앞서 설명한 방식의 이송 장치, 즉 본 발명에 따른 이송 장치 및 처리 용액을 담은 처리 용기를 포함한다.
바람직하게는 상기 기판 처리 시스템은 기판, 특히 태양 전지 기판의 한쪽을 습식 화학적으로 처리하는 데 이용된다. 더 나아가서 상기 기판 처리 시스템은 바람직하게는 인라인 처리 시스템으로서 형성되어 있다.
이송 방향은, 이송 장치와 관련하여, 예를 들어 전술한 처리 용기 뒤에 배치될 수 있다.
바람직하게는 이송 장치의 이송 롤러 또는 이송 장치의 이송 롤러들은 기판 처리 시스템에서 수평으로 정렬되어 있다.
이 돌출부들은 유리하게는, 돌출부의, 수직 방향으로 위를 향해 가늘어지는 영역에서 상기 처리 용액에 작용하는 중력이 처리 용액과 이송 롤러의 표면 사이에 작용하는 접착력보다 더 크도록, 형성되어 있다. 이와 같은 방법으로 달성할 수 있는 것은, 처리 용액이 돌출부의, 수직 방향으로 위를 향해 가늘어지는 영역과 접촉하면, 이 처리 용액이 돌출부로부터 이송 롤러의 축근접 영역으로 흘러내린다는 것인 데, 왜냐하면 중력의 작용에 반하여 돌출부에 처리 용액을 고정하기 위해 처리 용액과 이송 롤러의 표면 사이에 작용하는 접착력이 충분히 크지 않기 때문이다.
또한, 이송 장치의 각 이송 롤러의 인접 돌출부들은, 돌출부들 사이에 처리 용액을 남도록 야기하는 모세관 효과의 발생이 회피될 수 있도록, 서로 이격되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 또 다른 유리한 형성의 경우에 이송 장치의 각 이송 롤러는, 상기 처리 용액에 의해 젖지 않을 수 있는 재료를 적어도 자신의 표면의 일부 영역에서 갖는다. 이는 돌출부로부터 처리 용액의 흘러내림을 용이하게 한다. 그런 경우 본 발명의 의미에서 재료는, 처리 용액의 방울이 정상 조건(20°C 기온, 1013 mbar 기압)에서 재료와 90°이상의 접촉각을 형성하면, 처리 용액에 의해 젖지 않을 수 있다.
앞서 설명한 접착력 및 모세관 힘은 이송 롤러 표면에 있는 재료들의 재료 특성 및 처리 용액의 재료 특성에 의존한다. 그러므로 특히 이 돌출부들의 형성, 인접 돌출부들 간 거리 및 이송 롤러의 표면을 위한 재료 선택이 각 적용예에 맞춰질 수 있다.
또한, 이 기판 처리 시스템은 하나 또는 복수의 건조 구간을 가질 수 있다. 기판 처리 시스템의 건조 구간은 기판 처리 시스템의 일 영역이며, 이때 처리하려는 기판이 처리 용액과 의도적으로 접촉되지 않는다. 유리하게는 이송 장치는 기판 처리 시스템의 그와 같은 건조 구간에 배치되어 있다.
그 외에도 이 기판 처리 시스템은 처리 용액을 담고 있는 처리 용기를 추가로 가질 수 있다. 제 2 의 처리 용기 안에 담겨있는 처리 용액은 처음에 언급한 처리 용기 안에 있는 처리 용액과 동일할 수 있거나 다른 처리 용액일 수 있다. 이 이송 장치는 예를 들어 처음에 언급한 처리 용기와 추가 처리 용기 사이에 배치되어 있다.
돌출부를 가지지 않는 종래 이송 롤러로부터 이송하려는 기판 쪽으로 처리 용액의 이동을 피하기 위해, 기본적으로 생각할 수 있는 것은 그와 같은 종래 이송 롤러로부터 처리 용액의 방울을 제거하고 아래로 떨어뜨릴 수 있는 제거 장치가 제공될 수 있다는 것이다.
이와 같은 제거 장치는 2가지 가정을 충족시켜야 한다:
- 한편으로, 제거 장치는 미세하게 조정될 수 있어야 하고 플렉시블하여야 하므로, 이것은 이와 같은 종래 이송 롤러의 표면에 최적으로 적응되고 용액 제거가 충분히 효과적으로 보장될 수 있고,
- 동시에 이 제거 장치가 충분히 강해야 하므로, 대량 생산의 조건하에 (기판 처리 시스템의 거친 핸들링, 오염, 큰 대기 사이클 및 대기 사이클의 준수 시에 작은 규칙) 신뢰할 수 있게 기능할 수 있다.
화학적 기판 처리 시스템에서 그 외의 의무적인 특정 인자를 동시에 관찰할 때 "플렉시블" 및 "로버스트" 특성의 조합은 (예를 들어 화학물에 대한 저항성, 기계적 이송 특성) - 가능하면 - 매우 필요하다. 이런 이유로, 그와 같은 제거 장치를 없앨 수 있게 하는 본 발명에 따른 이송 롤러를 사용하는 것이 더 양호하다.
또한 본 발명은 도면을 이용해 상술된다. 이 경우 동일한 또는 효과가 동일한 요소들은 동일한 도면 부호를 갖는다. 본 발명은 도면들에 도시된 실시예에 국한되지 않으며, 기능적 특징들과 관련해서도 국한되지 않는다. 지금까지의 설명 및 하기의 도면 설명이 담고 있는 많은 특징은 종속항들에서 부분적으로 다수로 묶여 재현되어 있다. 그러나 이런 특징들을 당업자는 개별적으로도 볼 수 있고 이런 특징들은 의미있는 조합으로 추가로 묶일 수 있다. 특히 이런 특징들은 각각의 경우에 개별적으로 그리고 임의의 적절한 조합으로 본 발명에 따른 이송 롤러, 본 발명에 따른 이송 장치 및/또는 본 발명에 따른 기판 처리 시스템과 조합될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 복수의 이송 롤러를 가지는 기판 처리 시스템의 일 실시예에 대한 개략도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 시스템의 본 발명에 따른 이송 롤러의 일부 영역 및 기판의 일부 영역을 앞에서 바라 본 전면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 이송 롤러의 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 다른 이송 롤러의 단면도이다.
도 1에는 기판(2)의 한쪽을 습식으로 처리하기 위한 기판 처리 시스템(1)이 개략적으로 도시되어 있다.
이 기판 처리 시스템(1)은 인라인(inline)-기판 처리 시스템으로서 실시되어 있고 제 1의 처리 용액(4)을 담고 있는 제 1의 처리 용기(3) 및 제 2의 처리 용액(6)을 담고 있는 제 2의 처리 용기(5)를 포함한다. 상기 양 처리 용기들(3, 5) 사이에서 이 기판 처리 시스템(1)은 건조 구간(7)을 갖는다.
그 외에도, 이 기판 처리 시스템(1)은 이송 장치(8)를 가지며, 이 이송 장치는 전술한 건조 구간(7) 안에 배치되어 있다. 이 이송 장치(8)는 나란히 배치된 복수의 이송 롤러(9)를 포함하며, 이 경우 이송 롤러들은 서로 수평으로 그리고 병렬로 정렬되어 있다. 도 1에는 상기 이송 장치(8)의 이송 롤러들(9)이 예시적으로 5개 도시되어 있다. 전술한 이송 장치(8)의 이송 롤러들(9)은 각각 자신의 표면(10)에서 복수의 돌출부(11)를 갖는다(비교 도2). 본 실시예에서 이송 장치(8)의 모든 이송 롤러(9)는 서로 동일하게 형성되어 있다.
더 나아가서, 이 기판 처리 시스템(1)은 추가로 2개의 이송 장치(12)를 포함하며, 이 이송 장치가 가지는 복수의 이송 롤러(13)는 나란히 배치되고 서로 병렬로 정렬되어 있다. 양 추가 이송 장치(12) 중 어느 하나가 제 1의 처리 용기(3) 안에 배치되어 있는 반면, 양 추가 이송 장치(12) 중 다른 하나는 제 2의 처리 용기(5) 안에 배치되어 있다.
양 추가 이송 장치(12)의 이송 롤러들(13)은 예를 들어 돌출부를 갖지 않은 원통형 롤러로서 형성될 수도 있고 혹은 돌출부를 갖는 롤러로서 형성될 수도 있다. 특히 양 추가 이송 장치들(12)의 이송 롤러(13)는 건조 구간(7) 안에 배치되어 있는 이송 장치(8)의 이송 롤러(9)처럼 형성될 수 있다.
앞서 언급한 이송 장치(8, 12)의 도움을 받으면, 처리하려는 기판(2)은 기판 처리 시스템(1)을 통해 이송 방향(T)을 따라서 이송된다.
처리 용기(3, 5)를 통과할 때 기판(2)에서 이의 하측은 각 처리 용액(4, 6)과 접촉한다. 이의 상측 위에서 각 기판(2)이 경우에 따라서는 보호층을 가질 수 있으며, 이때 보호층은 처리 용액(4, 6)의 영향으로부터 상측을 보호해야 한다.
제 2의 처리 용기(5) 뒤에서 기판 처리 시스템(1)은 경우에 따라서는 이 기판을 세정하기 위한 세정 장치를 가질 수 있지만 이 세정 장치는 도면에 도시되어 있지 않다.
도 2에는 건조 구간(7) 안에 배치된 이송 장치(8)의 이송 롤러들(9) 중 어느 하나의 부분 영역 및 이송 롤러(9)에 의해 이송되는 기판(2)의 부분 영역이 도시되어 있다.
도 2에는 이송 롤러(9)가 도시되어 있으며, 이의 종방향(L)은 도면 평면에 대해 나란하게 뻗어있다.
이송 롤러(9)는 이의 표면(10)에서 복수의 돌출부(11)를 가지며, 이때 돌출부들은 이송 롤러(9)의 원통형 본체(14)와 일체로 형성되어 있다. 이송 롤러(9)에 의해 이송되는 기판(2)은 이송 롤러(9)의 돌출부(11)와만 접촉한다.
더 나아가, 이송 롤러(9)는 종축(15)을 가지며, 이 종축을 기준으로 돌출부들(11)은 축대칭으로 형성되어 있다. 본 실시예에서 이 돌출부(11)는 각각의 경우에 폐쇄형 링 구조로서 형성되어 있으며 이송 롤러(9)의 원주 방향(U)으로 뻗어 있다(비교 도 3).
이 돌출부들(11)은 고원없이 실시되어 있다. 이 돌출부들(11) 각각은 오목한 곡선으로 형성된 2개의 측벽들(16)을 가지며, 이때 측벽들은 예각으로 만나고 있다.
또한, 돌출부들(11)은 이송 롤러(9)의 종방향(L)으로 전후에 배치되어 있다. 본 실시예에서 이송 롤러(9)의 종방향(L)으로 인접해 있는 돌출부들(11)은, 이들 중앙 평면 사이를 측정할 때, 서로 간에 23mm의 거리(d)를 갖는다. 더 나아가서, 이 돌출부들(11)은 본 실시예에서는 4mm의 높이(h)를 갖는다.
이송 롤러(9)에서 이의 표면(10)은 소수성 합성수지 재료로 이루어지므로, 물방울은 정상 조건에서(20°C 기온, 1013 mbar 기압) 표면(10)과 함께 90° 이상의 접촉각을 형성한다.
만약 제 1의 처리 용액(4)의 방울(17)이 이송되는 기판(2)의 하측에 붙지만 이송 롤러에 의해 닦여지면, 방울(17)은 표면 장력 때문에 및 중력의 영향하에, 돌출부들(11) 중 어느 하나로부터 이송 롤러(9)의 축근접 영역 안으로, 다시 말해 이송 롤러(9)의 2개의 돌출부들(11) 사이로, 흘러간다. 그 때문에 이 방울(17)은 후속 기판(2)과 접촉할 수 없고 그 결과 후속 기판(2) 위로 이동할 수도 없다.
도 3에는 도 2에 도시된 절단면(A-A)을 따라서 절단된 도 2의 이송 롤러(9)의 단면도가 도시되어 있다.
이 단면도에서 이송 롤러(9)의 돌출부들(11) 중 어느 하나가, 더 정확하게 말하면, 이 돌출부(11)의 양 측벽들(16) 중 어느 하나를 볼 수 있다.
도 4에는 종방향에 대해 수직 방향을 이루는 다른 이송 롤러(18)의 단면도가 도시되어 있다.
이송 롤러(18) 역시 마찬가지로 복수의 돌출부(11)를 가지며, 이들은 이송 롤러(18)의 원통형 본체(14)와 일체로 형성되어 있다. 이송 롤러(18)의 돌출부들(11)은 각각의 경우에 90°이하의 원추형 개방각을 갖는 원추형 피크로서 실시되어 있다.
도 4에서 돌출부들(11) 중 8개를 볼 수 있으며, 이 돌출부들은 이송 롤러(18)의 원주 방향(U)으로 전후로 배치되어 있다. 눈에 보이는 8개의 돌출부(11)에 더하여, 이송 롤러(18)는 도 4에서 볼 수 없는 또 다른 돌출부(11)를 가지며, 이들 중 각각의 경우 8개 조각이 이송 롤러(18)의 원주 방향(U)으로 전후로 배치되어 있다. 그외 돌출부들(11)은 이송 롤러(18)의 종방향으로, 즉 도 4의 도면 평면에 대해 수직 방향으로, 가시적인 돌출부들(11)에 엇갈려 위치되어 있다.
도 1에 도시된 기판 처리 시스템(1)의 경우 도 4의 이송 롤러(18)는 도 2 및 도 3과 관련하여 설명된 이송 롤러(9)에 대한 대안으로 또는 그에 추가로 이용될 수 있다. 특히 건조 구간(7) 안에 배치된 이송 장치(8)의 모든 이송 롤러(9)는 도 4에 도시된 이송 롤러(18)로 대체될 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예들을 이용해 상세히 설명되었다. 그럼에도 불구하고 본 발명은 개시된 예들에 국한되지 않거나 또는 이들 때문에 제한받지 않는다. 본 발명에 근거한 사상에서 벗어남이 없이, 다른 변형예들도 상기 실시예들로부터 당업자에 의해 도출될 수 있다.
[도면 부호]
1 기판 처리 시스템
2 기판
3 처리 용기
4 처리 용액
5 처리 용기
6 처리 용액
7 건조 구간
8 이송 장치
9 이송 롤러
10 표면
11 돌출부
12 이송 장치
13 이송 롤러
14 본체
15 종축
16 측벽
17 방울
18 이송 롤러
d 거리
h 높이
L 종방향
T 이송 방향
U 원주 방향

Claims (22)

  1. 기판(2)을 이송하기 위해 돌출부들(11)을 표면(10)에 배치한 이송 롤러(9, 18)로서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 하나는 곡선으로 형성된 2개의 측벽(16)을 가지고,
    2개의 곡선형 측벽은 예각으로 서로 만나고,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 하나는 오목한 곡선으로 형성된 2개의 측벽(16)을 가지는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 2개는 상기 이송 롤러(9, 18)의 종방향(L)으로 전후에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11)은 고원없이 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11)과 일체로 형성되어 있는 본체(14)를 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 하나는 적어도 국지적으로 이송 롤러(9, 18)의 원주 방향(U)으로 연장해 있는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 하나가 축대칭적으로 형성되도록 기준이 되는 종축(15)을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 하나는 폐쇄형 링 구조로서 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 하나는 예각으로 만나는 2개의 측벽(16)을 가지는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  9. 삭제
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 이송 롤러(9, 18)의 종방향(L)으로 인접해 있는 돌출부들(11)은 서로 간에 적어도 5mm의 거리(d)를 가지는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 하나는 원추형 피크로서 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11) 중 적어도 2개는 상기 이송 롤러(9, 18)의 원주 방향(U)으로 전후에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 돌출부들(11)은 적어도 2mm의 높이(h)를 가지는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 표면(10)은 적어도 국지적으로 소수성으로 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 이송 롤러(9, 18)는 적어도 상기 표면(10)의 일부 영역에서 합성수지 재료를 가지는 것을 특징으로 하는 이송 롤러(9, 18).
  16. 제 1 항에 따른 적어도 하나의 이송 롤러(9, 18)를 가지는, 기판 처리 시스템(1)용 이송 장치(8).
  17. 제 16 항에 따른 이송 장치(8) 및 처리 용액(4, 6)을 담고 있는 처리 용기(3, 5)를 가지는, 기판 처리 시스템(1).
  18. 제 17 항에 있어서,
    이송 롤러(9, 18)의 돌출부들(11)은, 돌출부들(11)에서 수직 방향으로 위를 향해 가늘어지는 영역들에서 처리 용액(4, 6)에 작용하는 중력이 처리 용액(4, 6)과 이송 롤러(9, 18)의 표면(10) 사이에 작용하는 접착력보다 더 크도록, 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템(1).
  19. 제 17 항에 있어서,
    이송 롤러(9, 18)의 인접 돌출부들(11)은, 돌출부들(11) 사이에 처리 용액(4, 6)의 잔류를 야기하는 모세관 효과가 회피될 수 있을 정도로, 서로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템(1).
  20. 제 17 항에 있어서,
    이송 롤러(9, 18)는 적어도 표면(10)의 일부 영역에서, 처리 용액(4, 6)에 의해 젖지 않는 재료를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템(1).
  21. 제 17 항에 있어서,
    건조 구간(7)으로서, 이송 장치(8)가 건조 구간(7) 안에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템(1).
  22. 제 17 항에 있어서,
    처리 용액(4, 6)을 담고 있는 추가 처리 용기(3, 5)로서, 이송 장치(8)가 처음에 언급한 그리고 추가 처리 용기(3, 5) 사이에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템(1).
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