KR200469764Y1 - 기판 세정 장치 - Google Patents

기판 세정 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR200469764Y1
KR200469764Y1 KR2020130001744U KR20130001744U KR200469764Y1 KR 200469764 Y1 KR200469764 Y1 KR 200469764Y1 KR 2020130001744 U KR2020130001744 U KR 2020130001744U KR 20130001744 U KR20130001744 U KR 20130001744U KR 200469764 Y1 KR200469764 Y1 KR 200469764Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
roller
contact protrusions
roller body
cleaning
Prior art date
Application number
KR2020130001744U
Other languages
English (en)
Inventor
박종호
Original Assignee
박종호
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 박종호 filed Critical 박종호
Priority to KR2020130001744U priority Critical patent/KR200469764Y1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200469764Y1 publication Critical patent/KR200469764Y1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 고안은 기판이 이송되는 이송 경로가 형성되는 장치 몸체와; 상기 기판의 저면으로 세정액을 공급하는 세정액 공급부; 및 상기 이송 경로를 따라 간격을 이루어 회전되도록 배치되고, 외측 둘레가 상기 기판의 저면과 다수의 점접촉을 이루는 다수의 이송 롤러를 포함하는 기판 세정 장치를 제공한다.

Description

기판 세정 장치{APPARATUS FOR CLEANING GLASS PANEL}
본 고안은 기판 세정 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판으로 공급되는 세정액을 기판의 저면에 골고루 공급하여 세정력을 향상시키고, 세정 이후의 세정액을 기판으로부터 용이하게 배출하여 기판을 정상적 이동시킴과 아울러 기판에 발생되는 스크레치 현상을 최소화할 수 있는 기판 세정 장치에 관한 것이다.
최근, 반도체 및 평판디스플레이 제조공정에서 신뢰성에 큰 영향을 주는 요인 중 하나가 기판표면의 금속 오염과 유기물을 포함한 파티클이다.
특히 파티클의 부착은 디바이스의 수율에 미치는 영향이 크다. 파티클은 프로세스 중의 생성반응, 작업자, 제조장치로부터 발생하여 기판 표면에 부착된다. 이런 파티클은 패널 표면이 불균일한 상태가 되는 원인이 될 수 있으며, 균일하지 않은 표면 상태는, 생산 공정과 제품이 불안정해지며, 또 다른 문제의 발생 원인이 될 수 있다.
따라서 공정 전,후 신뢰성 확보 및 수율 향상을 위해 파티클을 제거해 주어야 하는데, 이것이 세정 공정이며, 기술이 진보함에 따라서 패널의 대형화 및 패턴의 미세화가 이루어지면서 세정 공정 또한 기술적 발전을 요하고 있다.
본 고안과 관련된 선행문헌에는 대한민국 등록특허 등록번호 제10-0818559호가 있으며, 상기 선행문헌에는 유리기판 표면의 각종 이물질을 효율적으로 제거할 수 있는 유리기판용 세정롤러에 대한 기술이 개시된다.
본 고안의 목적은, 기판의 저면으로 공급되는 세정액을 기판의 저면에 골고루 공급하여 기판 저면에 대한 세정 효율을 향상시킬 수 있는 기판 세정용 롤러 및 이를 갖는 기판 세정 장치를 제공함에 있다.
본 고안의 다른 목적은, 기판의 저면을 세정한 이후의 세정액을 하부로 용이하게 배출시켜 기판의 저면과의 슬립 현상을 최소화하여 기판을 정상적으로 이송시킬 수 있는 기판 세정용 롤러 및 이를 갖는 기판 세정 장치를 제공함에 있다.
본 고안의 또 다른 목적은, 기판의 저면과의 접촉 면적을 점접촉으로 최소화하여 기판 이송시 기판 저면에 스크레치의 발생을 방지할 수 있는 기판 세정용 롤러 및 이를 갖는 기판 세정 장치를 제공함에 있다.
본 고안은 기판이 이송되는 이송 경로가 형성되는 장치 몸체와; 상기 기판의 저면으로 세정액을 공급하는 세정액 공급부; 및 상기 이송 경로를 따라 간격을 이루어 회전되도록 배치되고, 외측 둘레가 상기 기판의 저면과 다수의 점접촉을 이루는 다수의 이송 롤러를 포함하는 기판 세정 장치를 제공한다.
상기 다수의 이송 롤러는, 상기 장치 몸체에 양단이 회전 지지되는 중심축을 갖는 롤러 몸체와, 상기 롤러 몸체의 외측 둘레의 다수 위치에 돌출 형성되며, 하나로 모아지는끝단이 꼭지점을 이루어 상기 기판의 저면과 점접촉을 이루는 다수의 접촉 돌기를 구비하는 것이 바람직하다.
상기 다수의 접촉 돌기들 각각은, 상기 꼭지점으로부터 상기 롤러의 외측 둘레를 따라 점진적으로 퍼지는 다수의 안내면을 갖는 것이 바람직하다.
상기 다수의 접촉 돌기들 각각은, 상기 롤러의 외측 둘레에 형성되는 4개의 모서리부를 갖는 바닥면과, 상기 4개의 모서리부로부터 외측으로 연장되어 끝단이 상기 꼭지점을 이루는 4개의 안내면을 구비하는 것이 바람직하다.
상기 다수의 접촉 돌기는, 상기 롤러의 외측 둘레에서 연속적 또는 불연속적으로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 롤러 몸체의 양단에는 결합부가 형성되고, 상기 결합부에는, 상기 결합부와 결합되고 금속으로 형성되는 캡이 설치되고, 상기 캡에는 상기 중심축의 단부가 돌출되어 형성되는 것이 바람직하다.
상기 롤러 몸체는, 피크(peek) 소재로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 접촉 돌기들은, 상기 롤러 몸체의 외측 둘레에서 탈착 가능한 것이 바람직하다.
본 고안은, 기판의 저면으로 공급되는 세정액을 기판의 저면에 골고루 공급하여 기판 저면에 대한 세정 효율을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.
또한, 본 고안은, 기판의 저면을 세정한 이후의 세정액을 하부로 용이하게 배출시켜 기판의 저면과의 슬립 현상을 최소화하여 기판을 정상적으로 이송시킬 수 있는 효과를 갖는다.
또한, 본 고안은, 기판의 저면과의 접촉 면적을 점접촉으로 최소화하여 기판 이송시 기판 저면에 스크레치의 발생을 방지할 수 있는 효과를 갖는다.
도 1은 본 고안의 기판 세정 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 본 고안에 따르는 이송 롤러를 보여주는 사시도이다.
도 3은 본 고안에 따르는 이송 롤러를 보여주는 다른 사시도이다.
도 4는 본 고안에 따르는 이송 롤러를 보여주는 평면도이다.
도 5는 본 고안에 따르는 이송 롤러의 접촉 돌기를 보여주는 사시도이다.
도 6은 본 고안의 기판 세정 장치에서 기판이 세정되는 상태를 보여주는 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 기판 세정 장치를 설명한다.
도 1은 본 고안의 기판 세정 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 2는 본 고안에 따르는 이송 롤러를 보여주는 사시도이다. 도 3은 본 고안에 따르는 이송 롤러를 보여주는 다른 사시도이다. 도 4는 본 고안에 따르는 이송 롤러를 보여주는 평면도이다. 도 5는 본 고안에 따르는 이송 롤러의 접촉 돌기를 보여주는 사시도이다.
도 1 내지 도 5를 참조하여, 본 고안의 기판 세정 장치의 구성을 설명한다.
본 고안의 기판 세정 장치는 크게 장치 몸체(100)와, 세정액 공급부(200)와, 다수의 이송 롤러(300)로 구성된다.
상기 장치 몸체(100)에는 기판(10)이 이송되는 이송 경로(a)가 형성된다. 여기서, 상기 기판(10)은 글래스 기판이다.
상기 세정액 공급부(200)는 세정액 저장부(210)와, 세정액 분사기(220)로 구성된다.
상기 세정액 저장부(210)에는 기판(10)을 세정하기 위한 세정액이 일정량으로 저장된다.
상기 세정액 분사기(220)는 상기 이송 경로(a)의 하부에 위치되도록 배치된다. 상기 세정액 분사기(220)는 이송 경로(a)를 따라 이송되는 기판(10)의 저면을 향해 세정액을 분사할 수 있도록 설치된다.
상기 세정액 분사기(220)는 세정액 저장부(210)와 공급 파이프(230)로 연결되고, 상기 공급 파이프(230)에는 펌프(240)가 설치된다.
상기 펌프(240)는 세정액를 펌핑하고, 펌핑된 세정액은 세정액 분사기(220)를 통해 기판(10)의 저면으로 분사된다.
이에 더하여, 상기 세정액 공급부(200)는 기판(10)의 상면에 세정액을 분사할 수 있도록 상부 세정액 분사기(미도시)를 더 구비할 수도 있다.
그리고, 상기 다수의 이송 롤러(300)는 장치 몸체(100)에 양단이 회전 가능하도록 간격을 이루어 설치된다.
상기 다수의 이송 롤러(300)는 외부 동력을 제공 받아 기판(10)의 저면에 밀착되는 상태로 회전되면서, 기판(10)을 이송 경로(a)를 따라 이송시킨다.
상기 다수의 이송 롤러(300) 각각은, 원봉 형상의 롤러 몸체(310)와, 다수의 접촉 돌기(320)로 구성된다.
상기 롤러 몸체(310)는 양단이 장치 몸체(100)에 회전 지지되는 중심축(331)을 갖는다.
상기 접촉 돌기들(320)은 상기 롤러 몸체(310)의 외주에서 돌출되도록 형성된다.
여기서, 접촉 돌기들(320) 각각은 롤러 몸체(310)의 외주에서 외측을 따라 돌출되면서, 그 끝단이 하나의 꼭지점(322)을 이루도록 형성된다. 상기 접촉 돌기들(320) 각각의 꼭지점(322)은 기판(10)의 저면에 점접촉을 이루는 부분이다.
상기 접촉 돌기들(320) 각각은 상기 꼭지점(322)으로부터 롤러 몸체(310)의 외주를 따라 점진적으로 퍼지는 다수의 안내면(321)을 갖는다.
바람직하게, 본 고안에 따라는 접촉 돌기들(320)은 5면으로 형성되는 사각뿔 형상으로 형성될 수 있다.
즉, 접촉 돌기들(320) 각각의 바닥면은 롤러 몸체(310)의 외주에 형성되어 4개의 모서리부를 형성한다.
그리고, 각각의 안내면(321)은 각각의 모서리부로부터 상방으로 연장되면서 서로 하나로 공유되는 꼭지점(322)을 형성한다.
본 고안에 따르는 다수의 접촉 돌기들(320)은 롤러 몸체(310)의 외주에서 돌출 형성되며, 이들 각각의 꼭지점(322)의 높이는 서로 동일하게 형성된다.
또한, 본 고안에 따르는 다수의 접촉 돌기(320)는 상기 롤러 몸체(310)의 외측 둘레에서 연속적 또는 불연속적으로 형성될 수 있다.
한편, 이송 롤러(300)의 롤러 몸체(310)의 양단에는 결합부(311)가 형성된다.
상기 결합부(311)에는 금속으로 형성되는 캡(330)이 설치된다.
상기 캡(330)에는 상기 중심축(331)의 단부가 돌출되어 형성된다.
상기 결합부(311)와 캡(330)은 스크류 결합 방식이 적용될 수 있다.
또한, 본 고안에 따르는 이송 롤러(300), 특히 롤러 몸체(310)와 접촉 돌기들(320)은 내열성을 갖는 피크(peek) 소재 즉, 피크 수지로 형성되는 것이 좋다.
그리고, 본 고안에 따르는 접촉 돌기들(320)은 롤러 몸체(310)의 외측 둘레에서 탈착 가능할 수 있다.
예컨대, 도면에 도시되지는 않았지만, 각각의 접촉 돌기(320)를 롤러 몸체(310)의 외주에 형성되는 설치홈들에 끼워 고정하는 방식이 적용될 수도 있고, 롤러 몸체(310)의 외주에 형성되는 스크류 홀에 스크류 결합하는 방식이 적용될 수도 있다.
다음은, 상기와 같은 구성을 갖는 기판 세정 장치 및 이송 롤러를 통한 작용을 설명한다.
도 6은 본 고안의 기판 세정 장치에서 기판이 세정되는 상태를 보여주는 도면이다.
도 6을 참조 하면, 다수의 이송 롤러(300)는 외부로부터 동력을 전달 받아 일정의 회전 속도로 회전된다.
이때, 글래스 기판(10)은 상기와 같이 회전되는 이송 롤러들(300)에 의해 저면이 접촉되는 상태로 이송된다.
그리고, 세정액 분사기(220)는 세정액 저장부(210)로부터 세정액을 공급받아 이송되는 기판(10)의 저면에 분사한다.
따라서, 기판(10)의 저면은 분사되는 세정액에 의해 세정되고, 세정된 이후의 세정액은 하방으로 낙하되어 별도의 배수 수단(미도시)을 통해 외부로 배수된다.
여기서, 기판(10)의 저면으로 분사되는 세정액은 다수의 이송 롤러(300)의 외면에도 분사된다.
그리고, 다수의 이송 롤러(300)의 외주에는 다수의 접촉 돌기(320)가 형성되고, 이 접촉 돌기들(320)의 꼭지점(322)은 기판(10)의 저면에 점접촉되는 상태를 이룬다.
물론, 상기 꼭지점(322)의 끝단은 뾰족할 수도 있고, 일정의 곡률이 형성될 수도 있다.
따라서, 기판(10)의 저면은 접촉 돌기들(320)의 꼭지점(322)과 점접촉되기 때문에, 접촉 면적이 최소화될 수 있고, 이에 의해, 기판(10) 이송 시 이송 롤러들(300)과 기판(10)의 저면과의 슬립 현상을 효율적으로 방지할 수 있다.
또한, 다수의 접촉 돌기(320)는 롤러 몸체(310)의 외주 외측으로 하나의 꼭지점(322)을 이루도록 다수의 안내면(321)이 형성된다.
상기 다수의 안내면(321)은 분사되는 세정액이 접촉 돌기들(320) 사이로 공급되면서 안내면들(321)에 의해 기판(10)의 저면으로 확산되도록 하는 효과를 가진다.
따라서, 세정액은 기판(10)의 저면에 골고루 공급되기 때문에, 기판(10)의 저면에 대한 세정 효율이 증가될 수 있다.
또한, 기판(10)의 저면으로 공급되어 세정을 이룬 세정액은 낙하하면서 롤러 몸체(310)의 외면에 형성된 다수의 접촉 돌기들(320)의 안내면들(321)을 통해 하방으로 안내되면서, 낙하가 용이하게 이루어질 수 있다.
따라서, 기판(10)의 저면에 공급된 세정액은 세정 후 기판(10)의 저면에 잔존되지 않고 하방으로의 배수 효율이 증가되기 때문에, 기판(10)의 저면에 세정을 마친 세정액이 다시 공급되거나 잔존되어 기판(10)의 저면에 대한 세정 불량이 발생되는 것을 효율적으로 방지할 수 있다.
한편, 본 고안에 따르는 다수의 접촉 돌기들(320)은 롤러 몸체(310)의 외주에서 연속적 또는 불연속적으로 형성되어 이들 사이에 다수의 골을 형성함으로써, 세정액의 공급 또는 배수를 용이하게 안내할 수 있다.
또한, 기판(10)의 저면이 접촉 돌기들(320)의 꼭지점(322)에 점접촉되어 접촉 면적이 감소됨으로써, 세정 이후 기판(10)의 저면에 물반점등이 발생되는 문제를 해결할 수 있다.
또한, 본 고안에 따르는 이송 롤러(300), 즉, 롤러 몸체(310)와 접촉 돌기들(320)은 피크 수지로 형성되기 때문에, 내열성에 우수한 효과를 가진다.
또한, 본 고안에 따르는 롤러 몸체(310)는 그 양단에 캡(330)이 롤러 몸체(310) 양단에 형성된 결합부(311)와 체결됨으로써, 접촉 돌기들(320)이 손상되는 경우 다른 롤러 몸체(310)로 쉽게 교체할 수 있는 잇점이 있다.
또한, 본 고안에 따르는 접촉 돌기들(320)은 상술한 구성과 같이 롤러 몸체(310)의 외주에서 탈착 가능함으로서, 손상이 발생된 접촉 돌기(320)만을 선별하여 선별된 접촉 돌기(320)만을 선택적으로 교체할 수 잇는 잇점이 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 실시예들을 설명하였으나, 본 고안은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 고안의 기술적 사상이나 필수적인 특징으로 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10 : 기판 100 : 장치 몸체
200 : 세정액 공급부 210 : 세정액 저장부
220 : 세정액 분사기 230 : 공급 파이프
240 : 펌프 300 : 이송 롤러
310 : 롤러 몸체 311 : 결합부
320 : 접촉 돌기 321 : 안내면
322 : 꼭지점 330 : 캡 331 : 중심축

Claims (8)

  1. 기판이 이송되는 이송 경로가 형성되는 장치 몸체;
    상기 기판의 저면으로 세정액을 공급하는 세정액 공급부; 및
    상기 이송 경로를 따라 간격을 이루어 회전되도록 배치되고, 외측 둘레가 상기 기판의 저면과 다수의 점접촉을 이루는 다수의 이송 롤러를 포함하며,
    상기 다수의 이송 롤러는,
    상기 장치 몸체에 양단이 회전 지지되는 중심축을 갖는 롤러 몸체와,
    상기 롤러 몸체의 외측 둘레의 다수 위치에 돌출 형성되며, 하나로 모아지는끝단이 꼭지점을 이루어 상기 기판의 저면과 점접촉을 이루는 다수의 접촉 돌기를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서, 상기 다수의 접촉 돌기들 각각은,
    상기 꼭지점으로부터 상기 롤러의 외측 둘레를 따라 점진적으로 퍼지는 다수의 안내면을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 다수의 접촉 돌기들 각각은,
    상기 롤러의 외측 둘레에 형성되는 4개의 모서리부를 갖는 바닥면과,
    상기 4개의 모서리부로부터 외측으로 연장되어 끝단이 상기 꼭지점을 이루는 4개의 안내면을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 다수의 접촉 돌기는,
    상기 롤러의 외측 둘레에서 연속적 또는 불연속적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 롤러 몸체의 양단에는 결합부가 형성되고,
    상기 결합부에는, 상기 결합부와 결합되고 금속으로 형성되는 캡이 설치되고,
    상기 캡에는 상기 중심축의 단부가 돌출되어 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  7. 제 1항에 있어서,상기 롤러 몸체는,
    피크(peek) 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 접촉 돌기들은,
    상기 롤러 몸체의 외측 둘레에서 탈착 가능한 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
KR2020130001744U 2013-03-08 2013-03-08 기판 세정 장치 KR200469764Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020130001744U KR200469764Y1 (ko) 2013-03-08 2013-03-08 기판 세정 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020130001744U KR200469764Y1 (ko) 2013-03-08 2013-03-08 기판 세정 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR200469764Y1 true KR200469764Y1 (ko) 2013-11-07

Family

ID=50741199

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2020130001744U KR200469764Y1 (ko) 2013-03-08 2013-03-08 기판 세정 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200469764Y1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180001805U (ko) * 2016-12-08 2018-06-18 레나 테크놀로지스 게엠베하 이송 롤러, 이송 장치 및 기판 처리 시스템
KR20230101545A (ko) * 2021-12-29 2023-07-06 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단 줄히팅 기반 롤투롤 그래핀 제조방법 및 그래핀 제조장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090053981A (ko) * 2007-11-26 2009-05-29 주식회사 케이씨텍 디스플레이 기판 이송장치
KR20100046954A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 세메스 주식회사 기판 처리시스템의 세정장치
KR20110055162A (ko) * 2009-11-19 2011-05-25 세메스 주식회사 기판 이송 장치
KR20130015462A (ko) * 2011-08-03 2013-02-14 삼성전기주식회사 기판 처리 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090053981A (ko) * 2007-11-26 2009-05-29 주식회사 케이씨텍 디스플레이 기판 이송장치
KR20100046954A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 세메스 주식회사 기판 처리시스템의 세정장치
KR20110055162A (ko) * 2009-11-19 2011-05-25 세메스 주식회사 기판 이송 장치
KR20130015462A (ko) * 2011-08-03 2013-02-14 삼성전기주식회사 기판 처리 장치

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180001805U (ko) * 2016-12-08 2018-06-18 레나 테크놀로지스 게엠베하 이송 롤러, 이송 장치 및 기판 처리 시스템
KR200496690Y1 (ko) * 2016-12-08 2023-04-03 레나 테크놀로지스 게엠베하 이송 롤러, 이송 장치 및 기판 처리 시스템
KR20230101545A (ko) * 2021-12-29 2023-07-06 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단 줄히팅 기반 롤투롤 그래핀 제조방법 및 그래핀 제조장치
KR102672557B1 (ko) 2021-12-29 2024-06-05 재단법인 파동에너지 극한제어 연구단 줄히팅 기반 롤투롤 그래핀 제조방법 및 그래핀 제조장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102412134B (zh) 基板处理装置
CN107170667B (zh) 基板湿制程工艺方法及基板湿制程工艺装置
KR200469764Y1 (ko) 기판 세정 장치
CN106079893B (zh) 一种清洁装置及清洁方法
CN103909474A (zh) Cmp站清洁的系统和方法
JP2017034101A (ja) エッチング装置
JP5701551B2 (ja) 基板処理装置
JP2017098278A (ja) エッチング装置
CN104246989A (zh) 药液处理装置
KR101842113B1 (ko) 기판 처리 방법
KR101090347B1 (ko) 기판 식각장치
KR102250362B1 (ko) 예비 토출 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법
KR102176209B1 (ko) 이물질 제거용 기판처리장치
KR101007688B1 (ko) 세정액을 분사하기 위한 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치
KR200461844Y1 (ko) 에어나이프 및 이를 포함한 기판 공정용 기기
KR102094943B1 (ko) 식각 장치
KR102223760B1 (ko) 유체 공급 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치
JP5785454B2 (ja) 基板処理装置
KR101544358B1 (ko) 유리의 연속 코팅장치
KR101155623B1 (ko) 기판 세정 유닛 및 이를 갖는 기판 세정 장치
KR102570115B1 (ko) 기판 연마 시스템
CN220216144U (zh) 一种清洗槽及晶圆槽式清洗机
JP2014069126A (ja) 基板処理装置
KR101252601B1 (ko) 유리기판 에칭 장치
KR20100123196A (ko) 기판 표면 처리장치 및 그 처리방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160925

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170919

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181217

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200103

Year of fee payment: 7