KR200494428Y1 - Electrostatic chuck system - Google Patents

Electrostatic chuck system Download PDF

Info

Publication number
KR200494428Y1
KR200494428Y1 KR2020200000737U KR20200000737U KR200494428Y1 KR 200494428 Y1 KR200494428 Y1 KR 200494428Y1 KR 2020200000737 U KR2020200000737 U KR 2020200000737U KR 20200000737 U KR20200000737 U KR 20200000737U KR 200494428 Y1 KR200494428 Y1 KR 200494428Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrostatic chuck
flexible
electrostatic
tension adjustment
zone
Prior art date
Application number
KR2020200000737U
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210002033U (en
Inventor
치우퐁 후앙
Original Assignee
우순 테크놀로지 컴퍼니, 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 우순 테크놀로지 컴퍼니, 리미티드 filed Critical 우순 테크놀로지 컴퍼니, 리미티드
Priority to KR2020200000737U priority Critical patent/KR200494428Y1/en
Publication of KR20210002033U publication Critical patent/KR20210002033U/en
Application granted granted Critical
Publication of KR200494428Y1 publication Critical patent/KR200494428Y1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H01L21/6833Details of electrostatic chucks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q3/00Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
    • B23Q3/15Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N13/00Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect

Abstract

정전 척 시스템은 정전 흡착 구역을 가진 가요성 정전 척, 정전 흡착 구역 둘레에 위치한 텐션 조정 구역, 및 박막 필름을 체결하도록 정전 척킹력을 발생하는 상기 텐션 조정 구역상에 위치한 하나 이상의 통공으로 이루어진 척 베이스와, 시트 부재를 체결하도록 바다면에 있는 평평 흡착면을 가진 상부 흡입 플랫폼; 및 상기 박막 필름이 상기 시트 부재에 부드럽게 효과적으로 부착되도록 상 상기 가요성 정전 척에 상방 압력을 가하도록 가요성 스톱퍼를 이동하도록 제어하는 가동 머신으로 구성되며, 가요성 정전 척의 라미네이팅 작업 중에, 텐션 조정 구역 상의 통공은 텐션을 조정하고 응력을 분산하도록 사용되고, 크랙와 손상을 방지하고 내구 수명을 연장된다.The electrostatic chuck system comprises a chuck base comprising a flexible electrostatic chuck having an electrostatic attraction zone, a tension adjustment zone positioned around the electrostatic attraction zone, and one or more apertures positioned on the tension adjustment zone to generate an electrostatic chucking force to engage the thin film. and an upper suction platform having a flat suction surface on the sea surface to engage the seat member; and a movable machine controlling to move a flexible stopper to apply upward pressure to the flexible electrostatic chuck on the thin film to smoothly and effectively adhere to the sheet member, during laminating operation of the flexible electrostatic chuck, a tension adjustment zone Perforations in the top are used to adjust tension and distribute stress, prevent cracks and damage and extend durability.

Description

정전 척 시스템{ELECTROSTATIC CHUCK SYSTEM}Electrostatic chuck system

본 고안은 정전 척 기술에 관한 것이며, 보다 상세히는 정전 흡착 구역, 정전 흡착 구역 둘레에 위치한 텐션 조정 구역, 및 박막 필름을 체결하도록 정전 척킹력을 발생하도록 텐션 조정 구역 상에 위치한 하나 또는 다수의 통공을 가진 정전 척 시스템에 사용되는 가요성 정전 척에 관한 것이다. 가요성 정전 척의 라미네이팅 작업 중에, 텐션 조정 구역 상의 통공은 텐션을 조정하도록 그리고 응력을 분산하도록 사용되어, 크랙킹이나 손상을 방지하고 내구 수명을 연장시킨다.The present invention relates to electrostatic chuck technology, and more particularly, an electrostatic adsorption section, a tension adjusting section positioned around the electrostatic adsorption section, and one or multiple apertures positioned on the tension adjusting section to generate an electrostatic chucking force to fasten a thin film It relates to a flexible electrostatic chuck used in an electrostatic chuck system having a During the laminating operation of the flexible electrostatic chuck, the apertures on the tension adjustment zone are used to adjust the tension and to distribute the stress, thereby preventing cracking or damage and extending the service life.

오늘날 제조 산업은 심각한 노동력 부족에 직면하고 있다. 더욱이, 제조 산업은 환경을 오염하기 쉽다. 부각되는 환경 경각심은 전통적인 공정과 제조 방식에 큰 영향을 미친다. 노동력, 환경 및 다른 요소의 영향으로, 제조 산업은 증가하는 노동자와 작업 비용의 몇 가지 문제점에 직면하고, 노동 집약 작업에서 기술 집약 작업으로 변환하는 압력을 받는다. 증가하는 생산 비용의 압력에 맞서기 위하여, 제조자들은 그들의 공장을 외국으로 이전하고, 외국 노동자를 맞이하고 또는 자동화 기술과 지식 공정 도구를 채택하여, 작업 시스템 및 생산율을 증대시키고 제조 비용을 절감시키고, 인력 소모를 감소시킨다.The manufacturing industry today faces a severe labor shortage. Moreover, the manufacturing industry is prone to polluting the environment. Growing environmental awareness has a major impact on traditional processes and manufacturing practices. Under the influence of labor force, environment and other factors, the manufacturing industry faces several problems of increasing workers and operating costs, and is under pressure to transform from labor-intensive work to technology-intensive work. To combat the pressures of rising production costs, manufacturers are relocating their factories abroad, welcoming foreign workers, or adopting automated technologies and knowledge process tools to increase work systems and production rates, reduce manufacturing costs, and reduce manpower. reduce consumption.

평면 패널 디스플레이 기술의 발전으로, 새로운 세대의 디스플레이는 가볍고, 얇고, 플렉스블한 특징 또는 굴곡면을 가지며, 보다 세련된 전자 및 전기 제품을 소비자에게 제공한다. 결과적으로, 액정 패널상의 편광자, 반사방지 필름, 광학 필름, 터치 제어 멤블레인, 또는 가요성 활성 유기 발광 패널(가요성 AMOLED)용 상면과 하면 박막 필름층, 기능성 필름, 패키징 필름, 보호 필름, 지지 멤브레인, 및 많은 여러 멤브레인, 디스플레이 장치의 구성을 위한 필름 및 시트 부재는 더 가볍고 더 얇게 만들어져야 하고, 주름없이 다른 시트 부재에 정확하고 자연스럽게 부착되어야 한다.With the development of flat panel display technology, a new generation of display has a light, thin, flexible feature or curved surface, and provides consumers with more sophisticated electronic and electrical products. As a result, polarizer on liquid crystal panel, antireflection film, optical film, touch control membrane, or top and bottom thin film layers for flexible active organic light emitting panel (flexible AMOLED), functional film, packaging film, protective film, support Membrane, and many other membranes, films and sheet members for the construction of display devices should be made lighter and thinner, and should be accurately and naturally attached to other sheet members without wrinkles.

도 9는 박막 필름을 시트 부재에 부착하기 위한 종래의 진공 라미네이팅 시스템을 도시한다. 이 종래의 설계에 따르면, 시스템은 진공 챔버(A0)를 한정하는 진공 캐비넷(A), 진공 챔버(A0)에 가동가능하게 배치된 라미네이팅 휠(A1), 진공 챔버(A0)의 상부에 배치된 흡입구역(A2), 공기 누설을 방지하기 위하여 접착제 또는 접착 테이프로 밀봉되고 흡입구역(A2) 둘레에 진공 챔버(A0)의 상부에 한정되는 비흡입구역(A3), 적용되는 필름 부재(B)의 위치결정을 위하여 흡입구역(A2)에 장착된 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21), 시트 타입 작업물(C1)을 체결하도록 진공 캐비넷(A) 상부로 이격된 상부 흡입 플랫폼(C)으로 구성된다. 이 종래의 설계에 따르면, 시스템은 진공 챔버(A0)를 한정하는 진공 캐비넷(A), 진공 챔버(A0)에 가동가능하게 배치된 라미네이팅 휠(A1), 진공 챔버(A0)의 상부에 배치된 흡입구역(A2), 공기 누설을 방지하기 위하여 접착제 또는 접착 테이프로 밀봉되고 흡입구역(A2) 둘레에 진공 챔버(A0)의 상부에 한정되는 비흡입구역(A3), 적용되는 필름 부재(B)의 위치결정을 위하여 흡입구역(A2)에 장착된 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21), 시트 타입 작업물(C1)을 체결하도록 진공 캐비넷(A) 상부로 이격된 상부 흡입 플랫폼(C)으로 구성된다. 라미네이팅 작업 동안, 라미네이팅 휠(A1)은 진공 챔버(A0)에서 올려져서 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21)의 바닥면에 맞닿고 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21)의 바닥면을 따라 이동되고, 필름 부재(B)를 시트 타입 작업물(C1)의 표면에 라미네이팅한다. 필름 부재(B)는 얇고 매우 플렉스블하여, 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21)의 네트 마킹은 필름 부재(B)로 전사될 때 필름 부재(B)는 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21)에 의해서 시트 타입 작업물(C1)에 부착된다. 만약 네트 마킹이 시트 타입 작업물(C1)에 존재한다면 시트 타입 작업물(C1)은 결함이 있게 된다.9 shows a conventional vacuum laminating system for attaching a thin film to a sheet member. According to this conventional design, the system consists of a vacuum cabinet A defining a vacuum chamber A0 , a laminating wheel A1 movably disposed in the vacuum chamber A0 , disposed on top of the vacuum chamber A0 . Suction section (A2), non-suction section (A3), which is sealed with adhesive or adhesive tape to prevent air leakage and confined to the top of vacuum chamber (A0) around suction section (A2), film member (B) to which it is applied It consists of a screen plate suction platform (A21) mounted in the suction area (A2) for positioning of the vacuum cabinet (A) and an upper suction platform (C) spaced apart from the upper part of the vacuum cabinet (A) to fasten the sheet type workpiece (C1). According to this conventional design, the system consists of a vacuum cabinet A defining a vacuum chamber A0 , a laminating wheel A1 movably disposed in the vacuum chamber A0 , disposed on top of the vacuum chamber A0 . Suction section (A2), non-suction section (A3), which is sealed with adhesive or adhesive tape to prevent air leakage and confined to the top of vacuum chamber (A0) around suction section (A2), film member (B) to which it is applied It consists of a screen plate suction platform (A21) mounted in the suction area (A2) for positioning of the vacuum cabinet (A) and an upper suction platform (C) spaced apart from the upper part of the vacuum cabinet (A) to fasten the sheet type workpiece (C1). During the laminating operation, the laminating wheel A1 is raised in the vacuum chamber A0 and abuts against the bottom surface of the screen plate suction platform A21 and is moved along the bottom surface of the screen plate suction platform A21, and the film member B ) is laminated on the surface of the sheet-type workpiece (C1). The film member (B) is thin and very flexible, so that when the net marking of the screen plate suction platform (A21) is transferred to the film member (B), the film member (B) is a sheet type operation by the screen plate suction platform (A21) Adheres to water (C1). If net marking is present on the sheet-type workpiece C1, the sheet-type workpiece C1 is defective.

도 10은 박막 필름을 시트 부재에 부착하기 위한 종래의 다른 진공 라미네이팅 시스템을 도시한다. 이 종래의 설계에 따르면, 가요성 멤브레인(A01)은 진공 캐비넷(A) 내로 진공 챔버(A0)의 바닥면에 장착된다; 라미네이팅 휠(A1)은 가요성 멤브레인(A01)에 대하여 바닥면에 위치한다; 흡입구역(A2)은 진공 챔버(A0)의 상부면에 대향하여 한정된다; 비흡입구역(A3)은 공기 누설을 방지하기 위하여 접착제 또는 접착 테이프로 밀봉되고 흡입구역(A2) 둘레에 진공 챔버(A0)의 상부에 한정된다; 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21)은 필름 부재(B)를 유지하기 위하여 흡입구역(A2)에 장착된다; 상부 흡입 플랫폼(C)은 시트 타입 작업물(C1)을 체결하도록 진공 캐비넷(A) 상부에 위치한다. 라미네이팅 휠(A1)이 진공 캐비넷(A) 외부에 위치하기 때문에, 진공 캐비넷(A)의 사이즈는 최소화되어 진공이 진공 챔버(A0)에 빨리 발생될 수 있다. 라미네이팅 작업 동안, 라미네이팅 휠(A1)은 위로 움직여서 가요성 멤브레인(A01) 및 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21)을 들어올려서, 필름 부재(B)가 시트 타입 작업물(C1)에 라미네이팅되게 한다. 그러나, 라미네이팅 휠(A1)이 가요성 멤브레인(A01)을 들어 올릴 때, 가요성 멤브레인(A01)은 쉽게 파손될 수 있다. 그러므로, 가요성 멤브레인(A01)은 자주 교체되어야 한다. 더욱이, 라미네이팅 작업 동안, 작업자는 진공 캐비넷(A)의 진공 챔버(A0)의 진공 상태를 관찰할 필요가 있다. 더욱이, 이 설계는 스크린 플레이트 흡입 플랫폼(A21)으로부터 필름 부재(B) 또는 시트 타입 작업물(C1)로 네트 마킹의 전사의 불량품 발생 문제를 여전히 해결할 수 없다.10 shows another conventional vacuum laminating system for attaching a thin film to a sheet member. According to this conventional design, the flexible membrane A01 is mounted on the bottom surface of the vacuum chamber A0 into the vacuum cabinet A; The laminating wheel A1 is located on the bottom surface with respect to the flexible membrane A01; The suction zone A2 is defined opposite the upper surface of the vacuum chamber A0; The non-suction section A3 is sealed with an adhesive or adhesive tape to prevent air leakage and is defined at the top of the vacuum chamber A0 around the suction section A2; The screen plate suction platform A21 is mounted in the suction section A2 to hold the film member B; The upper suction platform (C) is located above the vacuum cabinet (A) to fasten the sheet type workpiece (C1). Since the laminating wheel A1 is located outside the vacuum cabinet A, the size of the vacuum cabinet A is minimized so that a vacuum can be quickly generated in the vacuum chamber A0. During the laminating operation, the laminating wheel A1 moves upward to lift the flexible membrane A01 and the screen plate suction platform A21, so that the film member B is laminated to the sheet-type workpiece C1. However, when the laminating wheel A1 lifts the flexible membrane A01, the flexible membrane A01 may be easily broken. Therefore, the flexible membrane A01 has to be replaced frequently. Moreover, during the laminating operation, the operator needs to observe the vacuum state of the vacuum chamber A0 of the vacuum cabinet A. Moreover, this design still cannot solve the problem of occurrence of defective products in the transfer of the net marking from the screen plate suction platform A21 to the film member B or the sheet-type workpiece C1.

그러므로, 스크린 플레이트 흡입 플랫폼으로부터 필름 부재로 또는 시트형 작업물로 네트 마킹의 전사가 진공 상태에서 시트형 작업물의 표면 상에 필름 부재를 라미네이팅할 때 불량품으로 발생되는 문제점과 종래의 스크린 플레이트 흡입 플랫폼이 특정 사이즈의 라미네이팅 필름에만 적용될 수 있는 문제점을 어떻게 해결할 것인가는 이 분야의 당업자가 연구하여 개량하여야 할 방향인 것이다.Therefore, there is a problem that the transfer of the net marking from the screen plate suction platform to the film member or to the sheet-like work piece causes a defective product when laminating the film member on the surface of the sheet-like work piece in a vacuum and the conventional screen plate suction platform has a specific size. How to solve the problem that can be applied only to the laminating film of

본 고안에 따른 정전 척 시스템의 목적은 박막 필름을 시트 부재 상에 부착하고, 공정 시간을 단축시키고, 불량품이 되는 스크린 플레이트 흡입 플랫폼으로부터 필름 부재 또는 시트 타입 작업물로 네트 마킹의 전사를 방지하고, 생산율을 향상시키는 데 있다. The object of the electrostatic chuck system according to the present invention is to attach the thin film on the sheet member, shorten the process time, prevent the transfer of the net marking from the screen plate suction platform that becomes a defective product to the film member or the sheet type workpiece, to improve the production rate.

본 고안에 따른 정전 척 시스템의 일예로서, 척 베이스, 상부 흡입 플랫폼, 및 가동 머신으로 구성된다. 가요성 정전 척은 정전 흡착 구역, 정전 흡착 구역 둘레에 위치한 텐션 조정 구역, 및 텐션 조정 구역 상에 위치한 하나 이상의 통공을 가지며 정전기력을 발생하여 박막 필름을 체결한다. 상부 흡입 플랫폼은 시트 부재를 체결하도록 바닥면에서 평평 흡착면을 가진다. 가동 머신은 가요성 스톱퍼를 이동하도록 제어하여 가요성 정전 척에 상방으로 압력을 가하고 박막 필름이 시트 부재에 자연스럽고 효과적으로 부착된다. 가요성 정전 척의 라미네이팅 작업 시, 텐션 조정 구역 상의 통공은 텐션을 조정하고 응력을 분산시키도록 사용되고, 크랙과 손상을 방지하고 내구 수명을 향상시킨다.As an example of the electrostatic chuck system according to the present invention, it is composed of a chuck base, an upper suction platform, and a movable machine. The flexible electrostatic chuck has an electrostatic attraction zone, a tension adjustment zone located around the electrostatic absorption zone, and one or more apertures located on the tension adjustment zone to generate an electrostatic force to engage the thin film. The upper suction platform has a suction surface that is flat at the bottom to engage the seat member. The movable machine controls to move the flexible stopper to apply upward pressure to the flexible electrostatic chuck, and the thin film is naturally and effectively adhered to the sheet member. In the laminating operation of the flexible electrostatic chuck, the aperture on the tension adjustment zone is used to adjust the tension and dissipate the stress, prevent cracks and damage and improve the durability life.

본 고안의 다른 장점 및 특징은 이하의 설명란과 청구범위를 충분히 이해될 것이며, 참조 부호는 구성요소를 표시한다.Other advantages and features of the present invention will be fully understood from the following description and claims, and reference signs indicate components.

본 고안에 따른 정전 척 시스템은 진공 환경하에서 라미네이팅 작업을 수행하게 하여, 가요성 정전 척의 라미네이팅 작업시, 텐션 조정 구역은 텐션을 조정하도록 사용될 수 있어서 응력을 분산시키고, 크랙이나 손상을 방지하고, 전체 내구 수명을 연장시킬 수 있다고, 탁월한 실용성을 가진다.The electrostatic chuck system according to the present invention allows the laminating operation to be performed under a vacuum environment, so that during the laminating operation of the flexible electrostatic chuck, the tension adjustment zone can be used to adjust the tension, thereby dispersing the stress, preventing cracks or damage, and It has excellent practicality to be able to extend the durability life.

또한, 본 고안에 따른 정전 척 시스템은 가요성 정전 척의 텐션과 응력 분산 효과가 조정되고, 크랙이나 손상 발생이 용이하지 않고, 전체 내구 수명이 좋아진다. In addition, in the electrostatic chuck system according to the present invention, the tension and stress dissipation effect of the flexible electrostatic chuck is adjusted, cracks or damage are not easily generated, and overall durability is improved.

도 1은 본 고안의 제1 실시예에 따른 정전 척 시스템의 척 베이스의 경사사시도
도 2는 본 고안의 제1 실시예에 따른 척 베이스의 가요성 정전 척의 분해사시도
도 3은 본 고안의 제1 실시예에 따른 정전 척 시스템의 척 베이스의 대략 측면도
도 4는 정전 척의 바닥면의 일측면에 맞닿는 가요성 스톱퍼와 연장된 왕복운동 로드를 도시한 본 고안의 제1 실시예에 따른 대략 실시도
도 5는 정전 척의 바닥면을 따라 리프트 스탠드와 함께 가동되는 가요성 스톱퍼를 도시한 도 4의 대응도
도 6은 정전 척의 바닥면의 다른 측면으로 리프트 스탠드와 함께 가동되는 가요성 스톱퍼를 도시한 도 5의 대응도
도 7은 본 고안의 제2 실시예에 따른 정전 척 시스템의 척 베이스의 경사 상부 사시도
도 8은 본 고안의 제3 실시예에 따른 정전 척 시스템의 척 베이스의 경사 상부 사시도
도 9는 종래 기술에 따른 진공 라미네이팅 시스템의 측면도
도 10은 다른 종래 기술에 따른 진공 라미네이팅 시스템의 측면도
1 is an oblique perspective view of a chuck base of an electrostatic chuck system according to a first embodiment of the present invention;
2 is an exploded perspective view of a flexible electrostatic chuck of a chuck base according to a first embodiment of the present invention;
3 is a schematic side view of a chuck base of an electrostatic chuck system according to a first embodiment of the present invention;
Fig. 4 is a schematic implementation view according to the first embodiment of the present invention showing a flexible stopper and an extended reciprocating rod abutting on one side of the bottom surface of the electrostatic chuck;
FIG. 5 is a diagram corresponding to FIG. 4 showing a flexible stopper movable with a lift stand along the bottom surface of the electrostatic chuck;
FIG. 6 is a diagram corresponding to FIG. 5 showing a flexible stopper movable with a lift stand to the other side of the bottom surface of the electrostatic chuck;
7 is an oblique upper perspective view of a chuck base of an electrostatic chuck system according to a second embodiment of the present invention;
8 is an oblique upper perspective view of a chuck base of an electrostatic chuck system according to a third embodiment of the present invention;
9 is a side view of a vacuum laminating system according to the prior art;
10 is a side view of a vacuum laminating system according to another prior art;

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 고안에 따른 정전 척 시스템이 도시된다. 정전 척 시스템은 척 베이스(1), 상부 흡입 플랫폼(2) 및 가동 머신(3)으로 구성된다.1 to 6 , an electrostatic chuck system according to the present invention is illustrated. The electrostatic chuck system is composed of a chuck base (1), an upper suction platform (2) and a movable machine (3).

척 베이스(1)는 중공형 시트(11), 중공형 시트(11)의 상부면에 장착된 가요성 정전 척(12), 및 가요성 정전 척(12) 아래에 중공형 시트(11) 내에 한정된 작업 공간부(10)로 구성된다. The chuck base 1 includes a hollow seat 11 , a flexible electrostatic chuck 12 mounted on the upper surface of the hollow seat 11 , and a hollow seat 11 under the flexible electrostatic chuck 12 . Consists of a limited working space (10).

상부 흡입 플랫폼(2)은 바닥면에 위치하고 시트 부재(22)를 체결하기 위한 평평 흡착면(21)으로 구성된다.The upper suction platform 2 is located on the bottom surface and consists of a flat suction surface 21 for fastening the seat member 22 .

가동 머신(3)은 머신 베이스(31), 및 머신 베이스(31)에 대해서 수평적으로 이동가능하고 지지되는 리프트 스탠드(32)로 구성된다. 리프트 스탠드(32)는 공압실린더, 유압실린더 또는 전기 리프트 또는 이들의 결합일 수 있고, 왕복운동 로드(321) 및 왕복운동 로드(321)의 상부 단부에 장착된 가요성 스톱퍼(322)로 구성된다. The movable machine 3 is composed of a machine base 31 and a lift stand 32 which is horizontally movable and supported with respect to the machine base 31 . The lift stand 32 may be a pneumatic cylinder, a hydraulic cylinder, or an electric lift or a combination thereof, and consists of a reciprocating rod 321 and a flexible stopper 322 mounted on the upper end of the reciprocating rod 321 . .

설치 시에, 상부 흡입 플랫폼(2)은 척 베이스(1)의 가요성 정전 척(12) 상부에 정렬되고, 척 베이스(1)에 대해서 수직하게 상하로 이동가능할 수 있다. 더욱이, 가동 머신(3)은 가요성 정전 척(12)의 작업 공간부(10)에서 바닥면에 정렬되며, 리프트 스탠드(32)의 작동으로 왕복운동 로드(321)가 수축 또는 인장되어 가요성 스톱퍼(322)가 작업 공간부(10)에서 수직하게 가동되고, 리프트 스탠드(32)가 머신 베이스(31)에서 수평 왕복운동하게 한다. 따라서, 척 베이스(1), 상부 흡입 플랫폼(2) 및 가동 머신(3)은 정전 척 시스템을 형성하도록 조립된다. Upon installation, the upper suction platform 2 is aligned above the flexible electrostatic chuck 12 of the chuck base 1 , and may be vertically movable with respect to the chuck base 1 . Furthermore, the movable machine 3 is aligned with the floor surface in the working space portion 10 of the flexible electrostatic chuck 12, and the reciprocating rod 321 is contracted or stretched by the operation of the lift stand 32 to make the flexible electrostatic chuck 12 flexible. A stopper 322 is vertically movable in the working space portion 10 and causes the lift stand 32 to reciprocate horizontally in the machine base 31 . Accordingly, the chuck base 1, the upper suction platform 2 and the movable machine 3 are assembled to form an electrostatic chuck system.

상술한 바와같이, 척 베이스(1)의 중공형 시트(11)는 중공 부재이고, 척 베이스(1)의 가요성 정전 척(12)은 중공형 시트(11)의 상부면에 장착된다. 더욱이, 가요성 정전 척(12)은 플라스틱 박막 필름 포장 쿠퍼 포일 서킷의 일종일 수 있으며 정전 척킹력이 발생되어 전기가 유도되었을 때 물체를 클램핑할 수 있다. 가요성 정전 척(12)은 대향하는 상부면과 바닥면에 각각 위치한 2개의 폴리이미드 필름(121, 122), 2개의 폴리이미드 필름(121, 122) 사이에 정렬된 2개의 본딩 접착층(123, 125), 및 2개의 본딩 접착층(123, 125) 사이에 샌드위치되며 전기가 유도되었을 때 가요성 정전 척(12)의 외부면 상에 정전력을 발생하게 하는 쿠퍼 서킷층(124)으로 구성된다. 따라서, 박막 필름(4)이 가요성 정전 척(12)의 표면상에 위치할 때, 주름짐이 없이 부드럽게 유지될 수 있다. 더욱이, 가요성 정전 척(12)의 본딩 접착층(123, 125)은 에폭시 또는 유기 실리콘 접착제일 수 있다.As described above, the hollow sheet 11 of the chuck base 1 is a hollow member, and the flexible electrostatic chuck 12 of the chuck base 1 is mounted on the upper surface of the hollow sheet 11 . Moreover, the flexible electrostatic chuck 12 may be a type of plastic thin film wrapped copper foil circuit and may clamp an object when an electrostatic chucking force is generated and electricity is induced. The flexible electrostatic chuck 12 includes two polyimide films 121 and 122 positioned on opposite top and bottom surfaces, respectively, and two bonding adhesive layers 123 arranged between the two polyimide films 121 and 122, respectively. 125 ), and a cooper circuit layer 124 sandwiched between the two bonding adhesive layers 123 , 125 and generating an electrostatic force on the outer surface of the flexible electrostatic chuck 12 when electricity is induced. Therefore, when the thin film 4 is placed on the surface of the flexible electrostatic chuck 12, it can be kept smooth without wrinkling. Furthermore, the bonding adhesive layers 123 and 125 of the flexible electrostatic chuck 12 may be epoxy or organic silicone adhesives.

본 실시예에서, 가요성 정전 척(12)의 4면은 중공형 시트(11)의 상부면에 고정된다. 가요성 정전 척(12)은 정전 흡착 구역(12a)과 그 표면 상에 한정된 텐션 조정 구역(12b)을 가지며, 정전 흡착 구역(12a)은 쿠퍼 서킷층(124)의 중앙 영역에 대응하는 가요성 정전 척(12)의 상부면이 중앙 영역에 위치하고, 텐션 조정 구역(12b)은 정전 흡착 구역(12a) 둘레 4면에 위치한다. 가요성 정전 척(12)은 쿠퍼 서킷층(124) 상부에 텐션 조정 구역(12b) 상에 위치하는 복수개의 통공(120)을 더 가진다. 통공(120)은 중공형 시트(11)와 정전 흡착 구역(12a)의 4개의 대각방향 연결선 상에 형성되는 것이 바람직하다. 상부 흡입 플랫폼(2)은 작동되어 시트 부재(22)가 평평 흡착면(21)에 진공 흡입, 정전기적 인력 또는 흡입컵 흡입에 의해서 체결된다. 시트 부재(22)는 유리 기판, LCD 패널, 터치 패널, 가요성 디스플레이 또는 유기 발광장치 패널일 수 있다. In this embodiment, the four sides of the flexible electrostatic chuck 12 are fixed to the upper surface of the hollow sheet 11 . The flexible electrostatic chuck 12 has an electrostatic adsorption region 12a and a tension adjustment region 12b defined on its surface, the electrostatic adsorption region 12a being flexible corresponding to the central region of the copper circuit layer 124 . The upper surface of the electrostatic chuck 12 is located in the central region, and the tension adjustment region 12b is located on four sides around the electrostatic adsorption region 12a. The flexible electrostatic chuck 12 further has a plurality of through holes 120 positioned on the tension adjustment region 12b on the cooper circuit layer 124 . The through holes 120 are preferably formed on the four diagonal connecting lines of the hollow sheet 11 and the electrostatic adsorption zone 12a. The upper suction platform 2 is actuated so that the seat member 22 is fastened to the flat suction surface 21 by vacuum suction, electrostatic attraction or suction cup suction. The sheet member 22 may be a glass substrate, an LCD panel, a touch panel, a flexible display, or an organic light emitting device panel.

더욱이, 가동 머신(3)의 머신 베이스(31) 및 리프트 스탠드(32)는 레일과 스라이딩 홈, 도브테일 블록과 도브테일 홈, 또는 풀리와 풀리 트랙 사이에 대응 정렬에 의해서 함께 결합될 수 있고, 리프트 스탠드(32)가 머신 베이스(31)에 대해서 수평적으로 전후로 이동하게 한다. 더욱이, 리프트 스탠드(32)의 왕복운동 로드(321)의 상부 단부에 장착되는 가요성 스톱퍼(322)는 가요성 프라스틱, 고무 또는 실리콘 고무로 이루어진 부드러운 바디 또는 휠일 수 있다. Moreover, the machine base 31 and the lift stand 32 of the movable machine 3 can be joined together by corresponding alignment between the rail and the sliding groove, the dovetail block and the dovetail groove, or the pulley and the pulley track, It causes the stand 32 to move back and forth horizontally with respect to the machine base 31 . Moreover, the flexible stopper 322 mounted on the upper end of the reciprocating rod 321 of the lift stand 32 may be a wheel or a soft body made of flexible plastic, rubber or silicone rubber.

적용시에, 척 베이스(1)의 가요성 정전 척(12) 상에 박막 필름(4)을 위치시키고, 그런 다음, 상부 흡입 플랫폼(2)의 평평 흡착면(21)의 작동으로 시트 부재(22)를 체결하고, 그런 다음, 가동 머신(3)을 작동하여 박막 필름(4)의 일측면에 대응하는 위치로 척 베이스(1) 하부에서 머신 베이스(31) 상에 수평으로 리프트 스탠드(32)를 가동시키고, 그런 다음, 상부 흡입 플랫폼(2)을 작동하여 가요성 정전 척(12) 상의 박막 필름(4)을 향하여 시트 부재(22)를 낮추고, 그런 다음, 리프트 스탠드(32)를 작동하여 왕복운동 로드(321)를 신장시키고, 가요성 스톱퍼(322)를 가요성 정전 척(12)의 바닥면에 대해서 작업 공간부(10)에서 상방으로 더 밀고, 가요성 정전 척(12)의 일부가 시트 부재(22)의 대응 부분과 박막 필름(4)의 일측면에 대해서 상방으로 돌출되게 하고, 그런 다음, 리프트 스탠드(32)를 제어하여 머신 베이스(31) 상에서 수평방향으로 다른 측면을 향하여 움직이게 하고, 리프트 스탠드(32)의 가요성 스톱퍼(322)가 가요성 정전 척(12)의 바닥면을 따라서 움직이게 하고, 따라서, 박막 필름(4)은 가요성 정전 척(12)에 의해서 시트 부재(22)의 표면에 부착된다. In application, the thin film 4 is placed on the flexible electrostatic chuck 12 of the chuck base 1, and then the sheet member ( 22), and then operate the movable machine 3 to horizontally lift the stand 32 on the machine base 31 from the lower part of the chuck base 1 to a position corresponding to one side of the thin film 4 ), and then actuate the upper suction platform 2 to lower the sheet member 22 toward the thin film 4 on the flexible electrostatic chuck 12 , and then actuate the lift stand 32 . to extend the reciprocating rod 321 , and further push the flexible stopper 322 upward in the working space 10 with respect to the bottom surface of the flexible electrostatic chuck 12 , A portion is made to protrude upward with respect to the corresponding portion of the sheet member 22 and one side of the thin film 4, and then control the lift stand 32 to horizontally lift the other side on the machine base 31 and the flexible stopper 322 of the lift stand 32 moves along the bottom surface of the flexible electrostatic chuck 12 , so that the thin film 4 is seated by the flexible electrostatic chuck 12 . It is attached to the surface of the member 22 .

리프트 스탠드(32)의 가요성 스톱퍼(322)가 가요성 정전 척(12)의 텐션 조정 구역(12b)에 대해서 상승하는 과정 동안, 폴리이미드 필름(121, 122)의 거칠기와 가요성, 폴리이미드 필름(121, 122) 상에서 통공(120)의 사이즈 설계와 배열 밀도의 변경(만약 통공(120)의 수가 적으면, 대응 조정 폴리이미드 필름의 텐션은 더 작게 감소하게 되고; 반대로 통공(120)의 수가 증가하면, 대응 조정 폴리이미드 필름의 텐션은 더 감소하게 된다) 및 박막 필름(4)과 시트 부재(22) 사이의 본딩 갭은 텐션을 조정하고 가요성 정전 척(12)으로부터 응력을 분산하도록 사용되어, 따라서, 가요성 정전 척(12)의 라미네이팅 작동 동안 경험한 변형과 인장응력을 크게 감소시키게 된다. 가요성 스톱퍼(322)의 왕복운동 스러스트 하에서, 크랙이나 손상이 발생되기 힘들고, 전체 내구 수명을 효과적으로 연장시킬 수 있다.While the flexible stopper 322 of the lift stand 32 is raised with respect to the tension adjustment region 12b of the flexible electrostatic chuck 12, the roughness and flexibility of the polyimide films 121 and 122, the polyimide Changes in the size design and arrangement density of the apertures 120 on the films 121 and 122 (if the number of apertures 120 is small, the tension of the corresponding adjusted polyimide film will decrease to a smaller extent; conversely, the If the number increases, the tension of the corresponding adjusting polyimide film will be further reduced) and the bonding gap between the thin film 4 and the sheet member 22 to adjust the tension and dissipate the stress from the flexible electrostatic chuck 12 . used, thus greatly reducing the strain and tensile stress experienced during the laminating operation of the flexible electrostatic chuck 12 . Under the reciprocating thrust of the flexible stopper 322, cracks or damage are less likely to occur, and the overall durability life can be effectively extended.

더욱이, 쿠퍼 서킷층(124)은 가요성 정전 척(12)의 중앙 영역에서 정전 흡착 구역(12a) 내부에 위치하고, 전기가 유도될 때 정전기를 발생할 수 있다. 그러므로, 라미네이팅 작업을 수행할 때, 위치한 박막 필름(4)의 사이즈에 따라서 정전 흡착 구역(12a)의 접착 범위를 변경하는 것이 필요하지 않고, 어떤 구조의 사이즈를 변경하는 것이 필요하지 않다. 따라서, 본 발명은 매우 경제적이며 제조시 작업 비용을 감소시킬 수 있고, 일반적인 작동 환경에서 라미네이팅 작동을 수행하게 한다.Moreover, the copper circuit layer 124 is located inside the electrostatic adsorption zone 12a in the central region of the flexible electrostatic chuck 12, and can generate static electricity when electricity is induced. Therefore, when performing the laminating operation, it is not necessary to change the adhesion range of the electrostatic adsorption zone 12a according to the size of the positioned thin film 4, and it is not necessary to change the size of any structure. Therefore, the present invention is very economical and can reduce the operation cost in manufacturing, and allows the laminating operation to be performed in a normal operating environment.

본 고안은 진공 머신의 하부 진공 챔버와 상부 진공 챔버에 적용된다면, 하부 진공 챔버와 상부 진공 챔버는 진공을 발생하도록 가요성 정전 척(12)의 통공(120)을 통하여 서로 연결될 수 있어서, 진공 환경하에서 라미네이팅 작업을 수행하게 한다. 가요성 정전 척(12)의 라미네이팅 작업시, 텐션 조정 구역(12b)은 텐션을 조정하도록 사용될 수 있어서 응력을 분산시키고, 크랙이나 손상을 방지하고, 전체 내구 수명을 연장시킬 수 있다. 그러므로, 본 고안은 탁월한 실용성을 가진다.If the present invention is applied to the lower vacuum chamber and the upper vacuum chamber of a vacuum machine, the lower vacuum chamber and the upper vacuum chamber can be connected to each other through the through hole 120 of the flexible electrostatic chuck 12 to generate a vacuum, so that the vacuum environment Let the laminating operation be performed under In the laminating operation of the flexible electrostatic chuck 12 , the tension adjustment region 12b can be used to adjust the tension, thereby dissipating the stress, preventing cracks or damage, and prolonging the overall service life. Therefore, the present invention has excellent practicality.

도 7 및 도 8을 참조하면, 본 고안의 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 정전 척 시스템용 척 베이스가 각각 도시된다. 도 7에 도시한 제2 실시예에서, 가요성 정전 척(12)의 2개의 측면이 중공형 시트(11)의 상부면에 고정되고, 그러나 이 배열은 고정적인 것이 아니다. 텐션 조정 구역(12b)은 정전 흡착 구역(12a)의 일측면에 위치하고, 가요성 스톱퍼(322)는 상승하기 시작한다(측면도에서 좌측 위치처럼). 도 8에 도시한 제3 실시예에서, 텐션 조정 구역(12b)은 정전 흡착 구역(12a)의 반대 측면에 위치한다(측면도에서 우측 위치처럼). 더욱이, 텐션 조정 구역(12b)은 하나 이상의 통공(120)이 제공된다. 통공(120)은 원형 구멍, 긴 구멍(타원형 구멍, 직사각형 구멍 등) 또는 다른 형상일 수 있다. 통공(120) 세팅의 수와 분산도(일렬, 다수 열, 병렬 및 이들의 조합, 밀도 변경 등), 박막 필름(4)과 시트 부재(22) 사이의 본딩 갭과 박막 필름(4)의 사이즈에 따른 통공(120) 사이즈 설계는 변경할 수 있다. 이러한 방식으로, 가요성 정전 척(12)의 텐션과 응력 분산 효과가 조정되고, 크랙이나 손상 발생이 용이하지 않고, 전체 내구 수명이 좋아진다. 본 고안의 설명과 도면을 이용하여 이루어진 단순한 변형과 동일성 구조 변경은 본 고안의 실용신안등록 청구의 범위에 포함된다.7 and 8 , a chuck base for an electrostatic chuck system according to a second embodiment and a third embodiment of the present invention is shown, respectively. In the second embodiment shown in Fig. 7, the two sides of the flexible electrostatic chuck 12 are fixed to the upper surface of the hollow sheet 11, but this arrangement is not fixed. The tension adjustment zone 12b is located on one side of the electrostatic adsorption zone 12a, and the flexible stopper 322 starts to rise (like the left position in the side view). In the third embodiment shown in Fig. 8, the tension adjustment zone 12b is located on the opposite side of the electrostatic adsorption zone 12a (like the right position in the side view). Moreover, the tension adjustment zone 12b is provided with one or more apertures 120 . The aperture 120 may be a circular hole, an elongated hole (oval hole, rectangular hole, etc.) or other shape. The number and dispersion of the aperture 120 settings (single, multiple rows, parallel and combinations thereof, density change, etc.), the bonding gap between the thin film 4 and the sheet member 22 and the size of the thin film 4 The design of the through hole 120 according to the size can be changed. In this way, the tension and stress dissipation effect of the flexible electrostatic chuck 12 is adjusted, the occurrence of cracks or damage is not easy, and the overall durability life is improved. Simple modifications and identical structure changes made using the description and drawings of the present invention are included in the utility model registration claims of the present invention.

본 고안의 특별한 실시예가 설명을 위하여 상세히 설명되었지만, 여러 가지 변형과 개량은 본 고안의 정신과 범위를 벗어남이 없이 이루어질 수 있다. 따라서, 본 고안은 실용신안등록 청구의 범위를 제외하고, 한정되는 것이 아니다. Although specific embodiments of the present invention have been described in detail for purposes of explanation, various modifications and improvements can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the present invention is not limited except for the scope of the utility model registration claim.

1 : 척 베이스 2 : 상부 흡입 플랫폼 3 : 가동 머신
4 : 박막 필름 10 : 작업 공간부 11 : 중공형 시트
12 : 가요성 정전 척 12a : 정전 흡착 구역 12b : 텐션 조정 구역
21 : 평평 흡착면 22 : 시트 부재 31 : 머신 베이스
32 : 리프트 스탠드 120 : 통공 121, 122 : 폴리이미드 필름
123, 125 : 본딩 접착층 124 : 쿠퍼 서킷층
321 : 왕복운동 로드 322 : 가요성 스톱퍼
1: chuck base 2: upper suction platform 3: movable machine
4: thin film 10: work space part 11: hollow sheet
12: flexible electrostatic chuck 12a: electrostatic adsorption zone 12b: tension adjustment zone
21 flat adsorption surface 22 seat member 31 machine base
32: lift stand 120: through hole 121, 122: polyimide film
123, 125: bonding adhesive layer 124: cooper circuit layer
321: reciprocating rod 322: flexible stopper

Claims (10)

정전기력으로 박막 필름을 체결하도록 표면상에 위치한 정전 흡착 구역, 상기 정전 흡착 구역 둘레에 위치한 텐션 조정 구역, 상기 텐션 조정 구역상에 위치한 하나 이상의 통공 및 바닥면에 한정된 작업 공간부로 이루어진 가요성 정전 척으로 이루어진 척 베이스와,
상기 가요성 정전 척을 향하여 마주보도록 바닥면에 위치하고 상기 박막 필름의 라미네이팅을 위하여 시트 부재를 체결하도록 진공 흡입력을 발생시키는 평평 흡착면으로 구성되며, 상기 척 베이스 상부에 위치한 상부 흡입 플랫폼; 및
상기 박막 필름이 상기 시트 부재에 부착되도록 상기 상부 흡입 플랫폼의 상기 평평 흡착면에 대해서 상기 가요성 정전 척에 상방 압력을 가하도록 이동가능한 가요성 스톱퍼로 구성되며, 상기 가요성 정전 척의 상기 작업 공간부 하부에 위치한 가동 머신으로 구성되며,
상기 가요성 스톱퍼는 상기 상부 흡입 플랫폼의 상기 평평 흡착면에 대해서 상기 가요성 정전 척에 상방 압력을 가하도록 이동될 때, 상기 텐션 조정 구역 상에 하나 이상의 통공은 상기 가요성 정전 척의 텐션을 조정하도록 사용되는 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
A flexible electrostatic chuck comprising: an electrostatic adsorption zone positioned on a surface to clamp a thin film by electrostatic force; a tension adjustment zone positioned around the electrostatic attraction zone; one or more apertures positioned on the tension adjustment zone; and a working space defined in a bottom surface. a chuck base made up of
an upper suction platform positioned on the bottom to face the flexible electrostatic chuck and having a flat suction surface generating a vacuum suction force to fasten a sheet member for laminating the thin film, the upper suction platform positioned above the chuck base; and
and a flexible stopper movable to apply upward pressure to the flexible electrostatic chuck against the flat suction surface of the upper suction platform such that the thin film is attached to the sheet member, the working space of the flexible electrostatic chuck It consists of a movable machine located at the bottom,
When the flexible stopper is moved to apply upward pressure to the flexible electrostatic chuck against the flat suction surface of the upper suction platform, one or more apertures on the tension adjustment zone are configured to adjust the tension of the flexible electrostatic chuck. An electrostatic chuck system characterized in that used.
제1항에 있어서,
상기 척 베이스는 상기 가요성 정전 척을 지지하기 위한 중공형 시트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
According to claim 1,
The electrostatic chuck system of claim 1, wherein the chuck base further includes a hollow seat for supporting the flexible electrostatic chuck.
제1항에 있어서,
상기 가요성 정전 척은 전기가 유도되었을 때 물체를 크램핑하도록 전자기 척킹력을 발생하는 플라스틱 박막 필름 포장 쿠퍼 포일 서킷이며, 상기 가요성 정전 척은 대향하는 상부 및 바닥면에 각각 위치한 2개의 폴리이미드 필름, 2개의 폴리이미드 필름 사이에 배열된 2개의 본딩 접착층, 및 상기 2개의 본딩 접착층 사이에 끼워진 쿠퍼 서킷층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
According to claim 1,
The flexible electrostatic chuck is a plastic thin film wrapped copper foil circuit that generates an electromagnetic chucking force to clamp an object when electricity is induced, the flexible electrostatic chuck comprising two polyimide polyimides located on opposing top and bottom surfaces, respectively An electrostatic chuck system comprising: a film, two bonding adhesive layers arranged between two polyimide films, and a cooper circuit layer sandwiched between the two bonding adhesive layers.
제3항에 있어서,
상기 정전 흡착 구역은 상기 쿠퍼 서킷층의 중앙 영역에 대응하는 가요성 정전 척의 상부면의 중앙 영역에 위치하고, 하나 이상의 통공은 상기 쿠퍼 서킷층 상부에 텐션 조정 구역 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
4. The method of claim 3,
wherein the electrostatic adsorption region is located in a central region of an upper surface of the flexible electrostatic chuck corresponding to a central region of the copper circuit layer, and at least one through hole is located on a tension adjustment region on the top of the copper circuit layer. system.
제1항에 있어서,
상기 텐션 조정 구역은 상기 정전 흡착 구역이 일측에 위치하고, 상기 가요성 스톱퍼는 상부 흡입 플랫폼의 평평 흡착면에 대해서 상기 가요성 정전 척에 상방 압력을 가하도록 시작하고, 하나 이상의 통공은 상기 정전 흡착 구역에 대해서 일측에서 텐션 조정 구역 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
According to claim 1,
wherein the tension adjustment zone has the electrostatic adsorption zone positioned on one side, the flexible stopper begins to apply upward pressure to the flexible electrostatic chuck against the flat suction surface of the upper suction platform, and one or more apertures are provided in the electrostatic suction zone Electrostatic chuck system, characterized in that located on the tension adjustment zone on one side with respect to
제1항에 있어서,
상기 텐션 조정 구역은 상기 정전 흡착 구역의 양 대향면에 위치하고, 하나 이상의 통공은 텐션 조정 구역 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
According to claim 1,
The electrostatic chuck system of claim 1, wherein the tension adjustment zone is located on opposite surfaces of the electrostatic adsorption zone, and at least one aperture is located on the tension adjustment zone.
제1항에 있어서,
상기 텐션 조정 구역은 상기 정전 흡착 구역 둘레의 4면에 위치하고, 하나 이상의 통공은 텐션 조정 구역 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
According to claim 1,
wherein the tension adjustment zone is located on four sides around the electrostatic adsorption zone, and the at least one aperture is located on the tension adjustment zone.
제1항에 있어서,
상기 통공은 원형, 타원형 또는 사각형 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
According to claim 1,
The through hole is an electrostatic chuck system, characterized in that any one of a circle, an oval, or a square.
제1항에 있어서,
상기 시트 부재는 유리 기판, LCD 패널, 터치 패널, 가요성 디스플레이 또는 유기 발광장치 패널 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.
According to claim 1,
The sheet member is an electrostatic chuck system, characterized in that any one of a glass substrate, an LCD panel, a touch panel, a flexible display, or an organic light emitting device panel.
제1항에 있어서,
상기 가동 머신은 머신 베이스 및 상기 머신 베이스에 대해서 수평으로 이동가능하고 지지되는 리프트 스탠드로 구성되며, 상기 리프트 스탠드는 상하로 이동하고 상부면에서 상기 가요성 스톱퍼를 유지하는 왕복운동 로드로 구성되며, 상기 가요성 스톱퍼는 가요성 플라스틱, 러버 또는 실리콘 러버 중 어느 하나로 이루어진 부드러운 바디 또는 휠 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 정전 척 시스템.

According to claim 1,
the movable machine comprises a machine base and a lift stand supported and movable horizontally with respect to the machine base, the lift stand comprising a reciprocating rod that moves up and down and holds the flexible stopper at an upper surface; The electrostatic chuck system, characterized in that the flexible stopper is any one of a wheel or a soft body made of any one of flexible plastic, rubber, or silicone rubber.

KR2020200000737U 2020-03-03 2020-03-03 Electrostatic chuck system KR200494428Y1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020200000737U KR200494428Y1 (en) 2020-03-03 2020-03-03 Electrostatic chuck system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020200000737U KR200494428Y1 (en) 2020-03-03 2020-03-03 Electrostatic chuck system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210002033U KR20210002033U (en) 2021-09-14
KR200494428Y1 true KR200494428Y1 (en) 2021-10-08

Family

ID=77782772

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2020200000737U KR200494428Y1 (en) 2020-03-03 2020-03-03 Electrostatic chuck system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200494428Y1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007311823A (en) 2007-07-25 2007-11-29 Ulvac Japan Ltd Chucking device and carrier device
JP2015032552A (en) 2013-08-06 2015-02-16 常陽工学株式会社 Sealing device, sealing method and functional material device
KR101563043B1 (en) 2009-12-30 2015-10-23 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. Apertured segmented films

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101372518B1 (en) * 2011-12-19 2014-03-12 허만옥 Apparatus for attaching film and method thereof
TWI583554B (en) * 2016-04-11 2017-05-21 Usun Technology Co Ltd Soft suction fit platform

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007311823A (en) 2007-07-25 2007-11-29 Ulvac Japan Ltd Chucking device and carrier device
KR101563043B1 (en) 2009-12-30 2015-10-23 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. Apertured segmented films
JP2015032552A (en) 2013-08-06 2015-02-16 常陽工学株式会社 Sealing device, sealing method and functional material device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210002033U (en) 2021-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20170003628U (en) Electrostatic chuck system
TWI643754B (en) Curved surface bonding device and method
KR20150077164A (en) Lamination Equipment
EP2014454B1 (en) Laminator
US10773505B2 (en) Method of attaching substrate and apparatus for attaching substrate
KR101765299B1 (en) Curved laminator
KR200494428Y1 (en) Electrostatic chuck system
KR20150089174A (en) Stretching apparatus for substrate
KR20120134368A (en) Substrate chucking and de-chucking apparatus
CN101452870B (en) Electrostatic chuck and apparatus having the same
KR20140114768A (en) Sheet adhering device and adhering method
KR101930959B1 (en) Chuck device for adhering workpiece and workpiece bonding machine
JP3236414U (en) Pasting sheet and pasting device
JP2019016779A (en) Plate retainer
KR20140085235A (en) Apparatus for attaching substrates
JP2015035524A (en) Sheet sticking device and sheet sticking method
TWM625019U (en) Laminating sheet for optical film
JP7286158B2 (en) Sticking device and sticking method
JP2002214597A (en) Device for sticking film for liquid crystal display element
JP7417246B2 (en) Pasting device and method
TW201823127A (en) Device capable of laminating curved surface object and fitting device using the same improves the yield of products
KR101356624B1 (en) Substrate bonding apparatus
KR20080046939A (en) Electrostatic chuck and a method of manufacturing the same
KR102410284B1 (en) Method and device for fabrication of stretchable electronic device
KR101202744B1 (en) Substrate Chucking/De-chucking Apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
REGI Registration of establishment