KR200487444Y1

KR200487444Y1 - Bubble removal device for chamical tank

Info

Publication number: KR200487444Y1
Application number: KR2020130010687U
Authority: KR
Inventors: 이지운
Original assignee: 주식회사 케이씨텍
Priority date: 2013-12-23
Filing date: 2013-12-23
Publication date: 2018-09-17
Also published as: KR20150002559U

Abstract

본 고안은 케미컬 탱크의 기포 제거장치에 관한 것으로, 드레인관을 통해 드레인된 케미컬을 저장하는 탱크부와, 상기 탱크부에 발생 된 기포를 오버플로우 시키는 오버플로우관과, 상기 오버플로우관을 통해 오버플로우된 기포를 저장하고, 순환펌프의 압력으로 저장된 상기 기포를 공기와 케미컬로 분리하는 기포제거관과, 상기 기포제거관의 공기와 케미컬을 상기 탱크부로 재유입시키는 재유입관을 포함한다. 본 고안은 탱크부로 드레인된 케미컬에 포함된 기포를 분리하고, 순환펌프의 압력을 이용하여 기포를 탱크부 외부로 배출한 후, 그 배출된 기포에 압력을 가하여 케미컬과 공기를 분리하도록 구성되어, 케미컬에서 기포를 제거하는 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a bubble removing device for a chemical tank, comprising a tank part for storing a chemical drained through a drain pipe, an overflow pipe for overflowing bubbles generated in the tank part, A bubble eliminating pipe for storing the flowed bubbles and separating the air bubbles stored in the circulation pump into air and chemicals; and a reflux pipe for re-introducing the air and the chemical of the bubbling pipe into the tank. The present invention is configured to separate bubbles contained in a chemical drained into a tank portion, discharge the bubbles to the outside of the tank portion using the pressure of the circulation pump, and apply pressure to the discharged bubbles to separate the chemical and air, The effect of removing the air bubbles from the chemical can be enhanced.

Description

Technical Field [0001] The present invention relates to a bubble removal device for a chemical tank,

본 고안은 케미컬 탱크의 기포 제거장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 공정배스에서 약액을 회수하여 저장하여, 이후 공정 배스로 재공급할 수 있도록 하는 케미컬 탱크 내에 기포가 발생 되는 것을 방지할 수 있는 케미컬 탱크의 기포 제거장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a bubble removing apparatus for a chemical tank, and more particularly, to a bubble removing apparatus for a chemical tank capable of preventing bubbles from being generated in a chemical tank for recovering and storing a chemical solution in a process bath, To a bubble removing device.

일반적으로 반도체나 평판 디스플레이 장치를 제조하는 제조설비에는 기판의 처리에 사용된 케미컬을 제조설비의 하단에 마련된 케미컬 탱크로 회수 및 정화 처리하여 재사용할 수 있는 설비를 갖추고 있다. 이는 케미컬의 낭비를 방지하여 비용을 줄이며, 환경오염을 최소화하기 위한 것이다.
In general, a manufacturing facility for manufacturing a semiconductor or a flat panel display device is provided with a facility for recovering and reusing the chemical used in the processing of the substrate with a chemical tank provided at the lower end of the manufacturing facility. This is to prevent wastage of chemicals, reduce costs, and minimize environmental pollution.

이처럼 공정 배스와 케미컬 탱크가 상하로 배치되기 때문에 공정 배스에서 사용된 케미컬을 케미컬 탱크로 회수할 때 낙차에 의해 기포가 생기게 된다. 케미컬 탱크 내에 기포가 존재하게 되면, 케미컬 탱크의 수위 측정이 어렵게 되며, 원하는 압력으로 케미컬을 공정 배스로 공급하기 어려워지는 문제점이 있었다.
Since the process bath and the chemical tank are arranged as above, bubbles are generated by the drop when the chemical used in the process bath is recovered to the chemical tank. When bubbles are present in the chemical tank, it is difficult to measure the level of the chemical tank, and it is difficult to supply the chemical to the process bath at a desired pressure.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 기체와 액체를 분리하는 장치들이 개발되었다. 케미컬의 회수와는 차이가 있지만 본 고안의 출원인이 등록권리자인 등록특허 101284682호(2013년 7월 4일 등록, 기판 세정장비의 배기장치)는 다수의 경사판을 사용하여 기체와 액체를 분리시키는 예이며, 공개특허 10-2011-0071830호(2011년 6월 29일 공개, 기포 없는 약액을 공급하는 약액 공급 장치 및 그 방법)은 약액이 이송되는 이송관을 이용하여 기체와 액체를 분리하는 예이다. To solve these problems, devices for separating gas and liquid have been developed. Patent No. 101284682 (Registered on July 4, 2013, the exhaust apparatus of the substrate cleaning apparatus), in which the applicant of the present invention is a registered owner, is different from the chemical recovery but an example of separating gas and liquid using a plurality of swash plates , And Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-2011-0071830 (published on June 29, 2011, a chemical liquid supply device for supplying a chemical liquid without bubbles and a method thereof) is an example of separating a gas and a liquid using a transfer tube to which a chemical liquid is transferred .

이와 같이 액체와 기체를 분리하기 위한 구성은 크게 경사판을 이용한 것과, 유체가 흐르는 관의 형상을 이용한 것이 보통이다.
The configuration for separating the liquid and the gas from each other generally uses a swash plate and the shape of the pipe through which the fluid flows.

도 1은 종래 케미컬 탱크의 기포 제거장치의 일례로서 경사판을 사용한 예의 간략한 구성도이다.Fig. 1 is a schematic configuration diagram of an example using a swash plate as an example of a conventional bubble removing device for chemical tanks.

도 1을 참조하면, 종래 케미컬 탱크의 기포 제거장치는, 케미컬(4)을 저장하는 탱크부(1)의 내측 상부에 다수의 경사판(3)이 설치되어 있으며, 드레인관(2)이 탱크부(1)의 상부에 수직방향으로 연결된다.1, a conventional bubble removing device for a chemical tank is provided with a plurality of swash plates 3 on the inner upper side of a tank part 1 for storing a chemical 4, and a drain pipe 2, (Not shown).

상기 드레인관(2)을 통해 드레인되는 케미컬(4)은 상기 다수의 경사판(3)을 따라 흘러 내려오면서 기체가 분리되어 기포가 일부 제거된 상태로 탱크부(1)에 저장된다.
The chemical drained through the drain pipe 2 flows down along the plurality of swash plates 3 and is separated from the gas so that the bubbles are partially removed and stored in the tank 1.

그러나 경사판(3)을 따라 흐르는 케미컬(4)에서 공기를 분리하는 분리제거율이 상대적으로 낮은 문제점 있으며, 그 경사판(3)의 수를 최대한 많은 수로 설치하면 공기의 분리제거율이 높아질 수 있으나, 이러한 경우에는 탱크부(1) 자체의 크기가 커져야 하기 때문에 적용이 어려운 문제점이 있었다.
However, the removal efficiency of separating air from the chemical 4 flowing along the swash plate 3 is relatively low. If the number of the swash plates 3 is maximized, the separation and removal efficiency of air may be increased. However, The size of the tank 1 itself needs to be increased, which makes the application difficult.

도 2는 종래 케미컬 탱크의 기포 제거장치의 다른 예로서, U자형 드레인관을 이용한 예의 간략한 구성도이다.Fig. 2 is a schematic configuration diagram of an example using a U-shaped drain pipe as another example of a conventional bubble removing device for chemical tanks.

도 2를 참조하면, 케미컬(4)을 저장하는 탱크부(1)와, 상기 탱크부(1)의 일측면 하부측의 연결부(5)를 통해 연결되며, 적어도 1회는 절곡된 절곡부를 갖는 드레인관(2)을 포함하여 구성된다.
Referring to FIG. 2, a tank 1 for storing the chemical 4 is connected to a connecting portion 5 at a lower side of one side of the tank 1, and has at least one folded bent portion And a drain pipe (2).

상기 드레인관(2)은 도면에 도시하지 않았지만 공정 배스의 저면부에서 직하방향으로 연장되며, 상기 연결부(5)와의 연결을 위하여 수평방향으로 절곡된 구조를 가지는 것이 보통이다.
Although not shown in the drawings, the drain pipe 2 extends in a downward direction at the bottom of the process bath and has a structure bent in the horizontal direction for connection with the connection unit 5. [

이러한 구조에서 드레인관(2)을 통해 드레인되는 케미컬(4)은 탱크부(1)의 내부에 수용된 케미컬(4)의 압력에 의해 탱크부(1) 내로 유입되지 못하고 드레인관(2)에 일부 정체되어 있으며, 이때 기포(6)는 그 중량에 의해 드레인관(2) 내의 케미컬(4) 상부측에 위치하게 된다.
In this structure, the chemical 4 drained through the drain pipe 2 can not be introduced into the tank part 1 due to the pressure of the chemical 4 contained in the tank part 1, At this time, the bubbles 6 are located on the upper side of the chemical 4 in the drain pipe 2 by their weight.

이는 트랩(Trap) 방식으로 기포(6)를 드레인관(2) 내에 가두어 공기가 탱크부(1) 내로 유입되는 것을 방지하는 방식이다.
This is a method in which air bubbles 6 are trapped in the drain pipe 2 by a trap method to prevent air from entering into the tank part 1.

그러나 이와 같은 트랩방식은 탱크부(1) 내부의 케미컬(4) 양이 적어, 드레인관(2)을 통해 드레인되는 케미컬(4)의 압력이 상대적으로 더 큰 경우에는 기포(6)까지 탱크부(1) 내로 유입될 수 있는 문제점이 있었으며, 드레인관(2) 내에 공기가 계속 누적됨을 방지하기 위해 공기를 배출해야 하나 이러한 공기배출 수단의 구성이 어려운 문제점이 있었다.
However, in the trapping method, when the amount of the chemical 4 in the tank 1 is small and the pressure of the chemical 4 drained through the drain pipe 2 is relatively large, There is a problem that the air can be introduced into the drain pipe 1 and air is discharged to prevent accumulation of air in the drain pipe 2,

상기와 같은 문제점을 감안한 본 고안이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 탱크부 내에 유입된 기포를 분리하여 제거할 수 있으며, 특히 기존 설치된 순환펌프의 압력을 이용하여 기포 제거 효율을 높일 수 있는 케미컬 탱크의 기포 제거장치를 제공함에 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a chemical tank capable of removing air bubbles introduced into a tank portion and removing air bubbles by using the pressure of a circulating pump And a bubble removing device.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 케미컬 탱크의 기포 제거장치는, 드레인관을 통해 드레인된 케미컬을 저장하는 탱크부와, 상기 탱크부에 발생 된 기포를 오버플로우 시키는 오버플로우관과, 상기 오버플로우관을 통해 오버플로우된 기포를 저장하고, 순환펌프의 압력으로 저장된 상기 기포를 공기와 케미컬로 분리하는 기포제거관과, 상기 기포제거관의 공기와 케미컬을 상기 탱크부로 재유입시키는 재유입관을 포함한다.
According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for removing bubbles in a chemical tank, including a tank for storing a chemical drained through a drain pipe, an overflow tube for overflowing bubbles generated in the tank, A bubble removing pipe for storing air bubbles overflowed through the pipe and separating the air bubbles stored in the circulation pump into air and chemicals; and a re-inflow pipe for re-introducing the air and the chemical of the bubbling pipe into the tank do.

본 고안 케미컬 탱크의 기포 제거장치는, 탱크부로 드레인된 케미컬에 포함된 기포를 분리하고, 순환펌프의 압력을 이용하여 기포를 탱크부 외부로 배출한 후, 그 배출된 기포에 압력을 가하여 케미컬과 공기를 분리하도록 구성되어, 케미컬에서 기포를 제거하는 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.The bubble removal device of the chemical tank separates the bubbles contained in the chemical drained into the tank part, discharges the bubbles to the outside of the tank part by using the pressure of the circulation pump, presses the discharged bubbles, So that the efficiency of removing air bubbles from the chemical can be increased.

또한 기포에 압력의 가하여 공기와 분리된 케미컬을 전부 회수할 수 있기 때문에 케미컬의 회수율을 높여 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.In addition, since all of the chemicals separated from the air can be recovered by applying pressure to the bubbles, it is possible to reduce the cost by increasing the recovery rate of the chemical.

아울러 본 고안은 케미컬 탱크의 크기 변화없이 기존의 탱크에 적용할 수 있어, 설치비용을 최소화할 수 있는 효과가 있다.
In addition, the present invention can be applied to existing tanks without changing the size of the chemical tank, thereby minimizing the installation cost.

도 1은 종래 케미컬 탱크의 기포 제거장치의 일례로서 경사판을 사용한 예의 간략한 구성도이다.
도 2는 종래 케미컬 탱크의 기포 제거장치의 다른 예로서, U자형 드레인관을 이용한 예의 간략한 구성도이다.
도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 탱크의 기포 제거장치의 구성도이다.Fig. 1 is a schematic configuration diagram of an example using a swash plate as an example of a conventional bubble removing device for chemical tanks.
Fig. 2 is a schematic configuration diagram of an example using a U-shaped drain pipe as another example of a conventional bubble removing device for chemical tanks.
3 is a configuration diagram of a bubble removing apparatus for a chemical tank according to a preferred embodiment of the present invention.

이하, 본 고안 케미컬 탱크의 기포 제거장치에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, a bubble removing device of the present invention chemical tank will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 탱크의 기포 제거장치의 구성도이다.3 is a configuration diagram of a bubble removing apparatus for a chemical tank according to a preferred embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 탱크의 기포 제거장치는, 드레인관(20)을 통해 공정 배스의 케미컬(11)을 회수하여 저장하는 탱크부(10)와, 상기 탱크부(10)에 마련되어 상기 드레인관(20)을 통해 회수된 케미컬에서 발생된 기포(12)가 탱크부(10) 내의 다른 영역으로 이동하지 못하도록 이동을 제한하는 격벽부(60)와, 상기 탱크부(10)의 케미컬(11)을 상기 공정 배스로 공급하는 공급펌프(40)와, 상기 탱크부(10)의 케미컬(11)을 순환시켜 혼합하는 순환펌프(30)와, 상기 탱크부(10)에 모아진 기포(12)를 유출시켜, 상기 순환펌프(30)의 압력으로 기포에서 공기와 케미컬을 분리한 후, 상기 탱크부(10)로 재유입시키는 기포제거관(50)과, 상기 탱크부(10)의 공기를 배기하는 배기부(70)로 구성된다.Referring to FIG. 3, the apparatus for bubble removal of a chemical tank according to a preferred embodiment of the present invention includes a tank unit 10 for recovering and storing a chemical 11 of a process bath through a drain pipe 20, A partition wall 60 provided in the tank 10 to restrict the movement of the bubble 12 generated in the chemical recovered through the drain pipe 20 to prevent the bubble 12 from moving to another area in the tank 10, A circulation pump 30 for circulating and mixing the chemical 11 of the tank part 10 and a circulation pump 30 for circulating the chemical 11 of the tank part 10 to the tank 10 A bubble removing pipe 50 for discharging the collected bubbles 12 to the tank 10 and separating the air and the chemical from the bubbles by the pressure of the circulation pump 30 and re-introducing the air and the chemical into the tank 10; And an exhaust unit 70 for exhausting the air of the unit 10.

상기 기포제거관(50)에는 개폐 상태에 따라 탱크부(10)의 기포(12)를 오버플로우시키는 제2밸브(V2)와, 개폐 상태에 따라 상기 기포제거관(50)으로 오버플로우된 기포(12)에 순환펌프(30)의 압력을 가하여 공기와 케미컬을 분리하거나, 분리된 케미컬을 상기 탱크부(10)로 재유입시키는 제3밸브(V3)를 포함한다.The bubble removing pipe 50 is provided with a second valve V2 for overflowing the bubble 12 of the tank unit 10 according to the opening and closing state and a second valve V2 for overflowing the bubble removing pipe 50, And a third valve (V3) for applying pressure of the circulation pump (30) to the tank (12) to separate the air and the chemical, or to re-introduce the separated chemical into the tank (10).

상기 제2밸브(V2)가 설치된 관을 오버플루우관(51), 제3밸브(V3)가 설치된 관을 재유입관(52)이라하여 설명한다.
The pipe provided with the second valve V2 is referred to as an overflow pipe 51 and the pipe provided with the third valve V3 is referred to as a refueling pipe 52. [

이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 탱크의 기포 제거장치의 구성과 작용에 대하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, the structure and operation of the bubble removing device of the chemical tank according to the preferred embodiment of the present invention will be described in detail.

먼저, 공정 배스에서 기판의 처리에 사용된 케미컬(11)은 드레인관(20)을 통해 탱크부(10)에 유입된다. 이때 상기 드레인관(20)을 통해 케미컬(11)이 탱크부(10)의 내측으로 낙하되면서 공기가 유입되어 기포(12)가 발생하게 된다.First, the chemical 11 used in the processing of the substrate in the process bath is introduced into the tank portion 10 through the drain pipe 20. At this time, the chemical 11 falls down to the inside of the tank 10 through the drain pipe 20, and air is introduced into the bubble 12.

이때 발생된 기포(12)는 격벽부(60)에 의해 그 격벽부(60)가 제한하는 영역 이외로는 이동할 수 없다. The bubbles 12 generated at this time can not move to the region other than the region limited by the partition wall portion 60 by the partition wall portion 60. [

상기 격벽부(60)는 탱크부(10)의 천정으로부터 하향으로 연장된 것이며, 그 끝단이 바닥에 가깝게 위치하여 케미컬(11)에 비하여 밀도가 작은 기포(12)의 이동을 차단한다. 즉, 격벽부(60)는 기포가 모이는 기포수집영역(61)과 기포가 없는 기포분리영역(62)으로 상기 탱크부(10)를 분할하게 된다.
The partition wall portion 60 extends downward from the ceiling of the tank portion 10 and the end of the partition wall portion 60 is positioned close to the bottom so as to block the movement of the bubble 12 having a smaller density than the chemical. That is, the partition wall portion 60 divides the tank portion 10 into a bubble collecting region 61 in which bubbles are collected and a bubble separation region 62 in which no bubble is formed.

상기 탱크부(10)의 기포수집영역(61)에는 오버플로우관(51)이 제2밸브(V2)를 통해 연결되어 있으며, 상기 드레인관(20)을 통해 드레인이 완료되면 기포수집영역(61)에 모인 기포(12)를 상기 기포제거관(50)으로 오버플로우시킨다. The overflow pipe 51 is connected to the bubble collecting area 61 of the tank unit 10 through the second valve V2. When the drain is completed through the drain pipe 20, the bubble collecting area 61 (12) over the bubbling tube (50).

이때 상기 순환관(31)에 마련된 제1밸브(V1)는 닫힌 상태이고, 재유입관(52)에 마련된 제3밸브(V3)는 열린 상태가 됨이 바람직하다.At this time, it is preferable that the first valve (V1) provided in the circulation pipe (31) is closed and the third valve (V3) provided in the refueling pipe (52) is opened.

이는 기포(12)의 오버플로우시 상기 기포제거관(50)에 공기가 차 있으면 원활하게 오버플로우가 되기 어렵기 때문이다.This is because, when air bubbles in the bubbling tube 50 overflows when the bubbles 12 overflow, it is difficult for the overflow to smoothly occur.

이처럼 기포(12)의 오버플로우가 완료되면, 상기 제1밸브(V1), 제2밸브(V2) 및 제3밸브(V3)가 모두 닫힌 상태에서 순환펌프(30)가 동작한다. 상기 순환펌프(30)의 동작에 의하여 상기 순환펌프(30)의 압력에 의하여 탱크부(10)에 저장된 케미컬(11)이 압력을 받아 배출되어 기포제거관(50)으로 공급된다.When the overflow of the bubble 12 is completed, the circulation pump 30 operates in a state where the first valve V1, the second valve V2, and the third valve V3 are all closed. The chemical 11 stored in the tank 10 is discharged under the pressure of the circulation pump 30 by the operation of the circulation pump 30 and is supplied to the bubble removing pipe 50.

이때 기포제거관(50)으로 오버플로우된 기포(12)들은 케미컬(11)의 공급 압력을 받아 터지게 되어, 공기와 케미컬(11)이 분리된다.
At this time, the bubbles 12 overflowed by the bubble removing pipe 50 are blown by the supply pressure of the chemical 11, so that the air and the chemical 11 are separated.

이처럼 압력을 가한 후, 상기 재유입관(52)의 제3밸브(V3)를 열면 상기 공기와 분리된 케미컬 및 공기는 재유입관(52)을 통해 탱크부(10)로 유입된다.When the third valve (V3) of the re-inlet pipe (52) is opened after the pressure is applied, the chemical and air separated from the air flow into the tank unit (10) through the refueling pipe (52).

이때 상기 재유입관(52)의 연결위치는 상기 격벽부(60)에 의해 정의되는 기포분리영역(62)이 되며, 상기 재유입관(52)을 통해 탱크부(10)로 재유입되는 케미컬은 그 양이 적으며, 상대적으로 적은 낙차를 가지는 것으로 거품이 발생하지 않는다.At this time, the connection position of the re-inlet pipe 52 becomes a bubble separating region 62 defined by the partition wall portion 60, and the chemical re-introduced into the tank portion 10 through the re- The amount is small, the relatively low foaming is not caused by foaming.

또한 공급된 공기는 배기부(70)를 통해 외부로 배기된다.
The supplied air is also exhausted to the outside through the exhaust part (70).

이처럼 본 고안은 격벽부(60)를 사용하여 케미컬을 저장하는 탱크부(10)를 기포가 있는 기포수집영역(61)과 기포가 없는 기포분리영역(62)을 구분하여, 기포를 수집하고, 기포를 오버플로우 시킨 후 압력을 가하여 공기와 케미컬을 분리하기 때문에 탱크부(10)의 크기 변화 없이도 기포를 완전히 제거할 수 있게 된다.
As described above, in the present invention, the tank portion 10 for storing chemicals is divided into a bubble collecting region 61 having bubbles and a bubble-separating region 62 having no bubbles by using the partition wall portion 60, Since the air and the chemical are separated by applying the pressure after the air bubbles are overflowed, the air bubbles can be completely removed without changing the size of the tank part 10.

상기 제2밸브(V2)와 제3밸브(V3)를 닫고, 제1밸브(V1)를 열어둔 상태에서 상기 순환펌프(30)가 가동되면, 상기 순환관(31)을 통해 상기 탱크부(10)에 저장된 케미컬(11)이 순환되면서 고르게 혼합되며, 필요한 경우 공급펌프(40)를 가동하여 공급관(11)을 통해 공정 배스에 케미컬(11)을 공급하게 된다.
When the circulation pump 30 is operated in a state that the second valve V2 and the third valve V3 are closed and the first valve V1 is opened, The chemical 11 stored in the process chamber 10 is circulated and mixed evenly and the supply pump 40 is operated to supply the chemical 11 to the process bath through the supply pipe 11 if necessary.

본 고안은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 고안의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정, 변형되어 실시될 수 있음은 본 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims and their equivalents. will be.

10:탱크부 11:케미컬
12:기포 20:드레인관
30:순환펌프 31:순환관
40:공급펌프 41:공급관
50:기포제거관 51:오버플로우관
52:재유입관 60:격벽부
61:기포수집영역 62:기포분리영역
70:배기부10: tank part 11: chemical
12: Bubble 20: Drain tube
30: circulation pump 31: circulation pipe
40: feed pump 41: feed pipe
50: bubble removing pipe 51: overflow pipe
52: Re-entrance 60:
61: air bubble collecting area 62: bubble separating area
70:

Claims

A tank portion for storing the chemical drained through the drain pipe;
An overflow pipe for overflowing bubbles generated in the tank portion;
A bubble removing pipe in which bubbles overflowed through the overflow pipe are stored and separated into air and chemical;
A re-inlet pipe for re-introducing the air and the chemical of the bubbling pipe into the tank;
And a circulation pump for supplying the chemical of the tank portion to the bubbling canal,
Wherein the overflow pipe and the reflux pipe are selectively opened and closed,
Wherein the bubbles are stored in the bubbling tube by supplying chemical to the bubbling tube in a state that the overflow tube and the reflux tube are closed, thereby separating the bubbles into chemical and air. .

The method according to claim 1,
A lower portion extending downward from the ceiling of the tank portion,
Further comprising a partition wall part dividing the inside of the tank part into a bubble collecting area where bubbles are collected and a bubble separation area without bubbles.

3. The method of claim 2,
The drain pipe draining the chemical to the bubble collecting area,
Wherein the refluxing means re-introduces the chemical into the bubble separation region.

3. The method of claim 2,
And an exhaust unit for exhausting the air introduced through the reflux pipe to the outside.

The method according to claim 1,
A circulation pipe for circulating the chemical discharged from the tank portion to the tank portion by operation of the circulation pump;
A first valve for opening / closing the circulation pipe;
And an air bubble removing device for removing air bubbles from the chemical tank.

The method according to claim 1,
And a second valve for opening / closing the overflow pipe.

The method according to claim 1,
And a third valve for opening and closing the reflux pipe.