KR200472277Y1 - 웨이퍼 설비 조절기 - Google Patents

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Abstract

본 고안은 웨이퍼 설비 조절기에 관한 것으로서, 주요하게 회전 조절 유닛을 통하여 회전 작동함과 아울러, 로드를 구동시켜 받침 블럭으로 하여금 위치 이동하도록 함으로써 받침대를 지지하여 승강하도록 하여 평행판으로 하여금 웨이퍼 기판을 구동시켜 받침대를 이용하여 웨이퍼를 평형시키도록 하여, 빠르게 웨이퍼 설비를 평형 위치 고정시킬 수 있고, 조절을 위하여 많은 시간을 허비할 필요가 없으며, 공정 시간을 줄이고 평형 정확도가 아주 높으며, 특히 조절이 지나쳐 너트가 파손되는 문제를 효과적으로 해결할 수 있다.

Description

웨이퍼 설비 조절기{REGULATING DEVICE FOR WAFER APPARATUS}
본 고안은 웨이퍼 설비 조절기에 관한 것으로서, 특히 제3 지지체와 다수의 하중 지지체에 의하여 평면을 형성하고, 또 하중 지지체에 의하여 정확한 조절을 진행하는 웨이퍼 설비 조절기에 관한 것이다.
종래의 웨이퍼 기판 평형 기술은 대부분 너트를 이용하여 높이를 회전 조절하고, 또 높이 조절 정밀도가 아주 높기 때문에 관련 기술인원들은 너트 조절 시 개인 경험에 의하여 대략의 범위 내에서 조절 작업을 완성하는 바, 완전한 평형 상태로 조절하지 못하는 상황이 발생하고 이러한 문제로 하자가 발생하며, 또 만일 관련 기술인원의 경험이 부족하여 너트를 지나치게 조이면 너트를 파손시키는 문제가 존재하며, 평형판을 지지하는 스프링의 피로 현상으로 인하여 평형판이 스프링의 탄력을 상실하는 문제도 존재한다.
본 고안은 제3 지지체와 다수의 하중 지지체를 통하여 평형판에 의하여 반응실 내부의 웨이퍼에 대하여 평형을 진행하는 것을 목적으로 한다. 상기 하중체에는 예정된 위치의 평면이 구비되고, 평면 상에는 받침대를 수용하는 종방향 천공이 구비되며, 종방향 천공은 받침 블럭을 수용하는 수용 공간과 연통되고, 이 수용 공간은 또 하중 지지체 일측에 구비되는 횡방향 천공과 상호 연통되며, 또 횡방향 천공은 로드에 삽입 설치되고, 로드의 일단은 받침 블럭과 상호 접촉되어 받침 블럭으로 하여금 전, 후 이동되도록 하며, 그리고, 하중 지지체 일측에 회전 조절 유닛이 구비되고, 이 회전 조절 유닛은 로드와 등지면서 로드의 일단과 연결되어 로드로 하여금 회전되도록 하고, 또 회전 조절 유닛에는 상기 하중 지지체와 상호 고정되고, 로드에 의하여 삽입 설치되는 베이스가 구비되고, 베이스를 에워싸고 회전 스위치가 구비되며, 그리고, 베이스 상에 투스 플레이트 베이스가 설치되고, 투스 플레이트 베이스의 꼭대기 주위에는 이가 형성되며, 이는 투스 플레이트 베이스 상에 설치되고, 또 치합부가 구비된 투스 플레이트에 의하여 상호 치합되며, 투스 플레이트 상에 탄성편이 구비되며; 그리고, 베이스, 투스 플레이트 베이스, 투스 플레이트 및 탄성편은 회전 슬리브에 의하여 씌워지고, 회전 슬리브는 파지체와 연결되며; 이로써 웨이퍼 기판에 대하여 평형을 진행할 때, 제3 지지체와 하중 지지체 상에 위치한 평형판은 제3 지지체를 지지 기준으로 하여 회전 조절 유닛을 회전시켜 조절을 진행하는 바, 조절 과정에서 사용자는 파지체를 파지하고 회전 조절 유닛을 회전시킬 수 있으며, 아울러 로드가 회전하면서 받침 블럭으로 하여금 나사산의 작용으로 하여 위치 위동을 하며, 받침대를 받쳐 이로 하여금 상승하게 하거나 또는 받침 블럭이 뒤로 가면서 받침대로 하여금 하강하도록 하여, 진일보 평형판을 구동시켜 상승, 하강하도록 하며, 웨이퍼 기판에 대하여 평형 조절을 진행하고; 이로써 종래 기술에 존재하던 문제를 해결할 수 있으며, 본 고안의 빠르게 웨이퍼 설비를 평형 위치 고정시킬 수 있고, 조절을 위하여 많은 시간을 허비할 필요가 없으며, 공정 시간을 줄이고 평형 정확도가 아주 높으며, 특히 조절이 지나쳐 너트가 파손되는 문제를 효과적으로 해결할 수 있고, 아울러 제3 지지체의 접촉부를 경사지게 디자인함으로써 평형판을 받칠 수 있도록 하여 스프링이 피로함에 의하여 초래되는 문제를 해결할 수 있다.
본 고안의 유리한 효과로는 하기와 같다.
1. 쉽게 웨이퍼(9) 평형 상태를 조절할 수 있고, 또 종래의 기술에서 도달할 수 없는 정확도를 구현할 수 있으며, 또 쉽게 정확하게 웨이퍼(9)의 평형을 조절하기 때문에, 빠르게 웨이퍼 설비를 평형 위치 고정시킬 수 있고, 조절을 위하여 많은 시간을 허비할 필요가 없으며, 공정 시간을 줄이고 평형 정확도가 아주 높으며, 특히 조절이 지나쳐 너트가 파손되는 문제를 효과적으로 해결하고, 또 필름이 평형되지 않는 문제를 해결할 수 있다.
2. 원가를 낮추고 설비 수명을 연장시킨다.
3. 눈금을 이용하여 사용자로 하여금 각 웨이퍼 설비의 회전 눈금 위치를 간편하게 기록하도록 하여 다음 번 사용 시, 사용자로 하여금 직접 필름으로 하여금 최적의 상태에 이를 수 있는 위치로 조절할 수 있도록 하였다.
도1은 본 고안의 바람직한 실시예의 입체도1,
도2는 본 고안의 바람직한 실시예의 분해도1,
도3은 본 고안의 바람직한 실시예의 입체도2,
도3A는 본 고안의 바람직한 실시예의 분분 입체도2,
도4는 본 고안의 바람직한 실시예의 분해도2,
도5는 본 고안의 바람직한 실시예의 실시도,
도5A는 본 고안의 바람직한 실시예의 실시 단면도,
도5B는 본 고안의 3 점 평형의 실시도,
도6은 본 고안의 바람직한 실시예의 작동 실시도1,
도7은 본 고안의 바람직한 실시예의 작동 실시도2,
도8은 본 고안의 바람직한 실시예의 작동 실시도3,
도8A는 본 고안의 바람직한 실시예의 분분 도면3,
도9는 본 고안의 바람직한 실시예의 작동 실시도4,
도9A는 본 고안의 바람직한 실시예의 분분 도면4,
도10은 본 고안의 다른 한 바람직한 실시예의 실시도1,
도11은 본 고안의 다른 한 바람직한 실시예의 실시도2이다.
도1, 도2, 도3, 도3A, 도4, 도5, 도5A 및 도5B는 본 고안의 바람직한 실시예의 입체도1, 분해도1, 입체도2, 부분 입체도2, 분해도2, 실시도, 부분 실시도 및 3 점 평형의 실시도로서, 도시된 바와 같이, 본 고안은 설비 조절기를 통하여 평형판(10)을 이용하여 반응실(8) 내부의 웨이퍼 기판(18)에 대하여 각도 조절을 진행하는 것으로서, 설비 조절기 주요 구조에는,
평형판(10)의 일단에 받침되고, 평형판과의 접촉면에 접촉부(11)가 구비되며, 접촉부는 접촉면 또는 접촉점 중의 하나인 제3 지지체(1);
예정된 위치에 상기 평형판(10) 예정 위치를 받치는 평면(21)이 구비되고, 평면(21) 상에는 종방향 천공(22)이 구비되며, 종방향 천공(22)은 수용 공간(23)과 연통되고, 일측에는 수용 공간(23)과 연통된 횡방향 천공(24)이 구비되는 다수의 하중 지지체(2);
종방향 천공(22)에 삽입 설치되고, 받침대(3) 일측에 슬라이딩 홈(31)이 형성되며, 슬라이딩 홈(31) 내에 기둥체(32)가 슬라이딩 설치되는 받침대(3);
수용 공간(23) 내에 수용되고 받침대(3)와 상호 받쳐지며 또 받침대(3)와 접촉되는 위치에 경사진 받침면(41)이 형성되고, 나사 홀이 형성된 받침 블럭(4);
횡방향 천공(24)에 삽입 설치되고, 일단은 나사 홀(42)과 연결되며, 또 횡방향 천공(24) 내에 로드(5)와 상호 작용하는 볼 베어링(51)이 설치되는 로드(5); 및
하중 지지체(2) 일측에 설치되고 또 상기 로드(5)와 등지면서 나사 홀(42)의 단에 연결 설치되고, 그 중에는, 하중 지지체(2)와 상호 고정되고, 로드(5)에 의하여 삽입 설치되는 베이스(61); 베이스(61)를 에워싸고 설치되고, 그 내부에 적어도 하나의 베이스(61)와 서로 받쳐지는 리브(621)가 구비되며, 또 리브(621)의 일단에 제1 경사면(622)이 구비되는 회전 스위치(62); 베이스(61) 상에 설치되고 또 로드(5)에 의해 삽입 설치되며, 꼭대기 주위에 이(631)가 형성되고, 배면에 적어도 하나의 베이스(61)와 고정 받침되는 고정 받침부(632)가 구비되고, 고정 받침부(632)는 예정된 위치에 회전 스위치(62)와 상호 작용하는 제2 경사면(633)이 형성되는 투스 플레이트 베이스(63); 투스 플레이트 베이스(63) 상에 설치되고 또 로드(5)에 의해 삽입 설치되며, 저면에 투스 플레이트(64)와 치합되는 치합부(641)가 구비되고, 적어도 하나의 홀(642)이 구비되는 투스 플레이트(64); 투스 플레이트(64) 상에 설치되고 또 로드(5)에 의해 삽입 설치되는 탄성편(65); 표면에 눈금이 형성되고, 내부에 수용 공간(661)이 형성되며, 베이스(61), 투스 플레이트 베이스(63), 투스 플레이트(64) 및 탄성편(65)에 씌워 설치되고, 내벽에 돌출부(662)이 구비되는 회전 슬리브(66); 및 회전 슬리브(66) 상에 씌워 설치되어 사용자가 파지하도록 하고, 눈금(663)이 새겨져 사용자로 하여금 회전 슬리브(66)를 회전시킴과 아울러 눈금(663)을 보면서 기록하거나 다음 번 회전 시 신속하게 위치 고정시키는 파지체(67);가 포함되는 회전 조절 유닛(6);이 포함된다.
그리고, 하중 지지체(2) 회전 조절 유닛(6)과 등진 일측에 베플판(7)이 구비된다.
도1 내지 도9는 본 고안의 바람직한 실시예의 입체도1, 2, 부분 입체도2, 분해도1, 2, 실시도, 3 점 평형 실시도, 작동도1, 4로서, 도면에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 기판(81)에 대하여 평형을 진행할 때, 제3 지지체(1)와 하중 지지체(2) 사이에 위치한 평형판(10)은 제3 지지체(1)를 지지 기준으로 하여 회전 조절 유닛(6)을 회전시켜 조절을 진행하는 바, 조절 과정에서 사용자는 파지체(67)를 파지하고 회전 조절 유닛(6)을 회전시킬 수 있으며, 이때 돌출부(662)가 홀(642) 측변을 받쳐 투스 플레이트(64)를 구동하고, 또 이때 투스 플레이트(64)와 투스 플레이트 베이스(63)는 치합부(641)를 통하여 상호 작동하여 로드에 대하여 미세 조절 회전시키고, 동시에 다수의 볼 베어링(51)이 상호 작용하며, 그 후, 로드(5)의 회전으로 인하여 로드(5)와 나사 결합된 받침 블럭(4)으로 하여금 약간 위치 위동을 하며, 받침 블럭(4)의 받침면(41)이 경사 상태이기 때문에, 받침면(41)이 서서히 받침대(3)를 승강시키며, 본 실시예에 있어서, 받침 블럭(41)이 내측으로 이동할 때, 받침대(3)의 저부가 받침 블럭(4)의 경사면 꼭대기로 슬라이딩 이동하고, 받침대(3)는 위로 밀리며, 그 후 웨이퍼(8)가 평형 상태에 달하면, 회전 스위치(62)를 잠금 상태(즉 폐쇄 상태)로 회전시키며, 잠금 상태일 때, 리브(621)의 제1 경사면(622)은 제2 경사면(633)가 상호 받침되고 교차되어 투스 플레이트 베이스(63)로 하여금 위로 밀리도록 하고, 아울러 탄성편(65)이 변형되어 회전 슬리브(66)를 눌러 고정 효과를 달성하며, 반대로 하면 회전 가동한다.
그리고, 평형판(10)은 주요하게 제3 지지체(1)를 제3 지지점으로 하고, 하중 지지체(2)를 양측 지지점으로 하여 삼각형 형태의 평명을 형성하고, 제3 지지체(1)는 접촉부(11)가 경사 형태이기 때문에 평형판으로 하여금 더욱 큰 조절 공간을 갖도록 하여 제3 지지체(1)와 하중 지지체(2)로 하여금 동일한 평형 높이에 이르도록 하며; 그 후 하중 지지체(2)가 평형판(10)에 대하여 경사 각도 조절을 진행하는 바, 물리적 특성으로 말하면, 제3 지지체(1)을 지지점으로 할 때, 하중 지지체(2)가 양측의 높이를 조절하기만 하면 평형판(10)으로 하여금 필요한 각도를 갖도록 할 수 있다.
도10 및 도11은 본 고안의 다른 한 바람직한 실시예의 실시도1, 2로서, 도면에 도시된 바와 같이, 제3 지지체(1a)는 원형 핀 조인트 볼 형태(중 머리)이고, 제3 지지체(1a)도 평형판(10a)과 상호 핀 조인트되며, 또 도11에 도시된 바와 같이, 평형판(10a)은 3개 지지점의 형태로 유니버셜 작동을 구현한다.
1 : 제3 지지체
2 : 하중 지지체
3 : 받침대
4 : 받침 블럭
5 : 로 드
6 : 회전 조절 유닛
61 : 베이스
62 : 회전 스위치
63 : 투스 플레이트 베이스
64 : 투스 플레이트
65 : 탄성편
66 : 회전 슬리브
67 : 파지체

Claims (3)

  1. 설비 조절기를 통하여 평형판을 이용하여 반응실 내의 웨이퍼에 대하여 각도 조절을 진행하는 웨이퍼 설비 조절기에 있어서, 상기 설비 조절기의 주요 구조에는,
    예정된 위치에 상기 평형판 예정 위치를 받치는 평면이 구비되고, 상기 평면 상에는 종방향 천공이 구비되며, 상기 종방향 천공은 수용 공간과 연통되고, 일측에는 수용 공간과 연통된 횡방향 천공이 구비되는 다수의 하중 지지체;
    상기 종방향 천공에 삽입 설치되는 받침대;
    상기 수용 공간 내에 수용되고 받침대와 상호 받쳐지며 또 나사 홀이 형성된 받침 블럭;
    상기 횡방향 천공에 삽입 설치되고 일단이 나사 홀과 연결되는 로드; 및
    상기 하중 지지체 일측에 설치되고 또 상기 로드와는 나사 홀의 반대편 단부에서 연결 설치되는 회전 조절 유닛을 포함하며, 상기 회전 조절 유닛에는,
    상기 하중 지지체와 상호 고정되고, 로드에 의하여 삽입 설치되는 베이스;
    상기 베이스를 에워싸고 설치되고, 그 내부에 적어도 하나의 상기 베이스와 서로 받쳐지는 리브가 구비되며, 또 상기 리브의 일단에 제1 경사면이 구비되는 회전 스위치;
    상기 베이스 상에 설치되고 또 로드에 의해 삽입 설치되며, 꼭대기 주위에 이가 형성되고, 배면에 적어도 하나의 베이스와 고정 받침되는 고정 받침부가 구비되고, 상기 고정 받침부는 예정된 위치에 회전 스위치와 상호 작용하는 제2 경사면이 형성되는 투스 플레이트 베이스;
    상기 투스 플레이트 베이스 상에 설치되고 또 로드에 의해 삽입 설치되며, 저면에 투스 플레이트와 치합되는 치합부가 구비되고, 적어도 하나의 홀이 구비되는 투스 플레이트;
    투스 플레이트 상에 설치되고 또 상기 로드에 의해 삽입 설치되는 탄성편;
    표면에 눈금이 형성되고, 내부에 수용 공간이 형성되며, 상기 베이스, 투스 플레이트 베이스, 투스 플레이트 및 탄성편에 씌워 설치되는 회전 슬리브; 및
    회전 슬리브 상에 씌워 설치되어 사용자가 파지하도록 하는 파지체;가 포함되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 설비 조절기.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 설비 조절기에는 또 제3 지지체가 포함되고, 상기 제3 지지체는 상기 평형판의 일단에 받쳐지고, 또 상기 제3 지지체와 평형판의 접촉면에 접촉부가 구비되며, 상기 접촉부는 받침면 또는 받침점 중의 하나이며, 상기 받침대 일측에는 슬라이딩 홈이 형성되고, 상기 슬라이딩 홈 내에는 기둥체가 슬라딩 설치되며, 그리고 하중 지지체는 회전 조절 유닛과 배향되는 일측에 베플판이 설치되고, 상기 횡방향 천공 내에는 다수의 볼 베어링이 설치되고 이러한 볼 베어링은 상기 로드와 상호 작용하며, 상기 받침 블럭과 받침대가 접촉되는 위치에 경사진 받침면이 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 설비 조절기.
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