KR20040104531A - 저 pH, 고 피부 마찰의 미용 크림 - Google Patents

저 pH, 고 피부 마찰의 미용 크림 Download PDF

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Abstract

소비자가 원하는 종래의 배니싱(vanishing) 크림의 감각적 성질을 제공할 수 있으며, 저 pH에서 안정하고, 고체의 비대칭 입자 및 약 4.5 미만의 pKa 수치를 갖는 음이온성 유화제를 포함하는 고 피부 마찰 미용 조성물. 이 조성물은 바람직하게는 산성의 피부에 이로운 물질을 더 포함한다. 피부에 본 발명의 조성물을 도포하는 것에 의한, 지성 피부 외관 및(또는) 감촉을 특히 얼굴 부분에서 억제 또는 방지하는 방법도 또한 개시된다.

Description

저 pH, 고 피부 마찰의 미용 크림{LOW PH, HIGH SKIN FRICTION COSMETIC CREAMS}
본 발명은 저 pH의 고 피부 마찰을 제공하는 미용 피부 크림에 관한 것이다.
고온 다습한 기후에 사는 소비자, 또는 지성 피부의 소비자는 사용 도중에 특유한 촉감 성질을 갖는 미용 제품을 원한다. 특히 그러한 제품은 피부에 도포 시에, 고 피부 마찰 및 무광택 표면을 제공해서 지성 피부 감촉 및 번들거리는 피부 외관을 극복한다. 피부 마찰 증가가 클수록 사용자는 제품을 덜 미끄럽게 느낀다. 로퍼(Laufer) 등의 문헌["Objective Measurement and Self-Assessment of Skin-Care Treatments", Cosmetics and Toiletries Magazine, vol. 111, June 1996, pp. 92-96]을 참고한다.
보다 구체적으로, 배니싱(vanishing) 크림으로도 알려져 있는 이들 고 피부 마찰 및 무광택 표면 크림의 전형적인 감각적 및 광학적 특성은 다음과 같다: 1) 건조하고, 뻑뻑하고, 미끄럽지 않은 감촉을 피부에 제공한다; 2) 번들거리지 않는, 무광택 표면을 제공한다; 3) 피부에 잘 퍼진다; 4) 피부에 빨리 흡수되거나 "사라진다". 종래에 사용된 배니싱 크림은 다량의 스테아르산 및 제품의 물리적 안정성에 중요한 유화제로서의 알칼리성 금속 비누를 포함한다. 비누는 스테아르산 부분에서의 가성 칼륨 또는 기타 알칼리에 의한 자체 중화에 의해 형성된다. 결론적으로, 스테아르산의 비누화에 의해 제조된 크림은 산 및 산 비누의 적절한 균형을 유지하기 위한 pH 한계를 갖는데, 즉 5.7 초과여야 한다. 음이온성 비누는 가수분해가 일어나는 산성 조건에서 비활성으로 되기 때문에, 스테아르산이 분해되지 않게 되므로, 저 pH에서의 물리적 안정성의 문제가 야기된다.
저 pH에서 산 비누 유화 배니싱 크림의 물리적 안정성이 부족하다는 것은, 산성 활성제가 조성물의 pH를 낮춘다는 것 때문에, 가치가 있는 산성의 이로운 활성제, 예컨대 알파-히드록시 카르복실산을 거기에 사용할 수 없다는 면에서 불리하다. 그러나 피부 관리의 최근 경향은 배니싱 크림 배합물이 산성의 피부에 이로운 물질을 포함하는데 적합할 것을 요구하고 있다.
미국 특허 제 6,153,177 호(바르톨론(Bartolone) 등)는 5 초과의 pH를 가지며, 피부 미백화 효과를 달성하기 위해 알파-히드록시산(AHA)의 알칼리 또는 알칼리토금속 염을 포함하는 산 비누 포함 배니싱 크림을 개시한다. 상기한 바와 같은 이유로 인해 산에 의한 염기의 불안정화를 피하기 위해 배합물에 산 형태의 AHA가 포함되지 않도록 하는 노력이 기울여졌다.
그러나 일반적으로 산 형태의 활성제가 그의 이온화 형태보다 피부에 잘 침투되며, 염 또는 전해질은 비누 기재 배니싱 크림 형태의 감각적 감촉에 영향을 미치는 경향이 있는 것으로 인정되고 있다. 문헌[Percutaneous Penetration Enhancers, CRC Press, pp. 407(1995)]을 참고한다.
그러므로 종래 배니싱 크림의 감각적 특성은 유지하면서, 산성의 피부에 이로운 물질을 전달하는 배니싱 크림의 성능을 개선하기 위한 더 많은 연구가 필요하다는 사실이 명백했다.
제 WO 01/70187 호(뒤바휴(Dwiwahyu) 등)는 피부에 이로운 성질이 개선된 저 pH(2-4.8)의 비-산 비누 배니싱 크림을 개시한다. 저 pH의 스테아르산 기재 배니싱 크림을 안정화시키기 위해 C8-C22 지방산 치환 사카라이드를 사용한다: 비록 이들 조성물이 산성의 피부에 이로운 물질을 전달하는 것으로 언급되었지만, 종래 배니싱 크림의 감각적 특성은 실현되지 않았는데, 이것은 적절한 유화제 계의 결여 때문인 것으로 생각된다.
미국 특허 제 4,536,519 호(스즈끼(Suzuki) 등)는 중성 내지 약산성의 pH에서 유화제로서의 중화 인산 에스테르, HLB<6의 비이온성 계면활성제 및 천연 오일, 왁스, 지방, 및 지방산 또는 알콜을 포함하는 지방 성분을 사용하고, 배니싱 크림을 포함하는, 유화 미용 조성물을 개시한다. 그러나 이들 조성물은 종래 배니싱 크림의 감각적 특성을 나타내지 않는데, 이것은 적절한 유화제 계의 결여 때문인 것으로 생각된다.
그러므로 배니싱 크림의 특유한 감각적 특성을 유지할 뿐만 아니라 pH 민감성의 피부에 이로운 물질을 포함할 수도 있는 pH 비민감성의 그리고 안정한 미용 조성물의 제공이 요구되고 있다.
선행 기술의 단점은 소비자가 원하는 종래 배니싱 크림의 감각적 성질을 제공할 수 있으면서, 산 비누 배합물의 pH 허용 범위를 벗어나는 저 pH에서 안정한 조성물에 의해 해결된다.
본 발명의 제 1 국면은:
(a) 조성물 중량의 약 4% 이상의 고체 비대칭 입자;
(b) 알킬 술페이트, 아르알킬 술페이트, 알킬 에톡시 에테르 술페이트, 알크아릴 술포네이트, 알킬 숙시네이트, 알킬 술포숙시네이트, N-알코일 사르코시네이트, 이세티오네이트, N-아실 타우레이트, 메틸 타우라이드의 지방산 아미드 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 음이온성 유화제; 및
(c) 미용학적으로 허용 가능한 부형제를 포함하는 미용 조성물에 관한 것인데;
여기에서 조성물의 pH는 약 5.7 미만이고;
조성물은 약 -100 밀리뉴톤 미만의 수직 응력을 갖는다.
이 조성물은 산성의 피부에 이로운 물질을 더 포함할 수 있다. 본 발명의 목적에 적합한 피부에 이로운 물질은 알파-히드록시 카르복실산, 베타-히드록시 카르복실산, 폴리-히드록시 카르복실산 및 이들의 혼합물을 포함한다. 알파-히드록시 카르복실산의 예는 글리콜산, 락트산, 2-히드록시옥탄산, 및 이들의 혼합물이다. 베타-히드록시 카르복실산의 한 예는 살리실산이다. 기타 적합한 산성의 피부에 이로운 물질은 페룰산 및 세박산을 포함한다.
본 발명은 또한 본 발명의 조성물을 피부에 도포하는 것에 의해, 지성 피부 외관 및(또는) 감촉을 특히 얼굴 부분에서 억제 또는 방지하는 미용 방법도 포함한다.
실시예 및 비교예, 또는 구체적으로 지시된 것을 제외하고, 본 명세서 중의 물질의 양 또는 반응의 조건, 물질의 물리적 성질 및(또는) 사용을 나타내는 모든 수치는 단어 "약"으로 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 구체적으로 언급되지 않는 한, 모든 양은 최종 조성물의 중량에 의한 것이다.
본 명세서에서 사용되는 용어 "포함하는"은 포함하는, 제조된, 이루어진, 구성된 및(또는) 본질적으로 구성된을 의미한다.
본 명세서에서 용어 "피부"는 얼굴, 목, 가슴, 등, 팔, 손, 다리 및 두피의 피부를 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 용어 "고체"는 25℃에서 유체가 아닌 물질을 의미한다.
본 명세서에서 사용되는 용어 "유체"는 25℃에서 유체인 물질을 의미한다.
산 비누 배합물의 pH 허용 범위를 벗어나는 저 pH에서 안정하고, 소비자가 원하는 종래 배니싱 크림의 감각적 성질을 제공하기 위해, 본 발명의 미용 조성물은:
(a) 조성물 중량의 약 4% 이상의 고체 비대칭 입자;
(b) 알킬 술페이트, 아르알킬 술페이트, 알킬 에톡시 에테르 술페이트, 알크아릴 술포네이트, 알킬 숙시네이트, 알킬 술포숙시네이트, N-알코일 사르코시네이트, 이세티오네이트, N-아실 타우레이트, 메틸 타우라이드의 지방산 아미드 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 음이온성 유화제; 및
(c) 미용학적으로 허용 가능한 부형제를 포함하는데;
조성물의 pH는 약 5.7 미만이고;
조성물은 약 -100 밀리뉴톤 미만의 수직 응력을 갖는다.
바람직하게, 비대칭 입자는 판 형태인데, 피부에 도포될 때, 입자가 전단력하에 정렬되면, 피부 표면에서 건조하고 뻑뻑한 감촉으로 느껴지는 음의 수직 응력이 형성된다. 바람직한 판 형태의 비대칭 입자는 지방산 결정이다.
제품의 점성은 또한 산 비누 망상구조를 대체하는 pH 안정성 구조화제의 사용을 통해 달성된다. 상기 음이온성 유화제가 그러한 pH-안정성 구조화제이므로 저 pH에서 여전히 음이온성이어서 음이온성 유화제와 함께 임의로 사용될 수 있는 비이온성 유화제와 계를 안정화시킨다.
조성물은 산성의 피부에 이로운 물질을 더 포함할 수 있다. 본 발명의 목적에 적합한 피부에 이로운 물질은 알파-히드록시 카르복실산, 베타-히드록시 카르복실산, 폴리-히드록시 카르복실산 및 이들의 혼합물을 포함한다. 알파-히드록시 카르복실산의 예는 글리콜산, 락트산, 2-히드록시옥탄산 및 이들의 혼합물을 포함한다. 베타-히드록시 카르복실산의 한 예는 살리실산이다. 기타 적합한 산성의 피부에 이로운 물질은 페룰산 및 세박산을 포함한다.
본 발명은 또한 본 발명의 조성물을 피부에 도포해서 지성 피부 외관 및(또는) 감촉을 특히 얼굴 부분에서 억제 또는 방지하는 미용 방법을 포함한다.
본 발명의 조성물은 크림과 같은 점도를 부여하기 위해 비대칭 고체 입자를 사용한다. 게다가, 비대칭에 의해, 입자가 피부에 고 피부 마찰을 전달한다. 적합한 고체 입자는 지방산 결정, 운모, 탈크, 점토 및 이들의 혼합물을 포함한다. 바람직한 고체 입자는 지방산의 탄소수가 12-22인 지방산 결정으로부터 선택되는데, 왜냐하면 이들의 가격이 저렴하고 미적으로 최상으로 허용 가능하기 때문이다. 가장 바람직한 지방산은 스테아르산이다.
본 발명의 조성물은 최상의 감촉, 외관 및 점도를 달성하기 위해 4중량% 이상의 비대칭 고체 입자, 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 10 내지 25중량%, 가장 바람직하게는 12 내지 20중량%의 비대칭 고체 입자를 포함한다. 정확한 양은 최종 조성물 및 조성물 중 기타 성분의 성질에 의존한다. 그러나 비대칭 고체 입자의 양은 조성물에 배니싱 크림과 같은 점성을 부여하기에 충분해야 하는데, 즉 한정된 측정 조건 하에서 하기하는 바와 같은 한정된 3개의 전단 속도에서의 점도 프로파일을 가져야 한다.
본 발명의 조성물은 용이하게 문지를 수 있는 크림 점성을 제공하기 위한 다음과 같은 3개의 한정된 전단 속도에서의 배니싱 크림의 점도 프로파일을 갖는다:
(1) 역 1초(1s-1)의 전단 속도에서의 약 10 내지 약 75파스칼-초(PaS),
(2) 10s-1의 전단 속도에서의 약 2 내지 약 25PaS, 및
(3) 100s-1의 전단 속도에서의 약 0.6 내지 약 5PaS.
바람직하게는 점도 프로파일은 다음과 같다:
(1a) 1s-1의 전단 속도에서의 약 15 내지 약 60PaS,
(2a) 10s-1의 전단 속도에서의 약 2.5 내지 약 15PaS, 및
(3a) 100s-1의 전단 속도에서의 약 0.8 내지 약 3PaS.
가장 바람직하게는, 점도 프로파일은 다음과 같다:
(1b) 1s-1의 전단 속도에서의 약 20 내지 약 50PaS,
(2b) 10-s-1의 전단 속도에서의 약 3 내지 약 7PaS, 및
(3b) 100s-1의 전단 속도에서의 약 1 내지 약 2PaS.
점도 측정 방법은 다음과 같다: 점도는 전단력 수용능력 및 수직력 변환기를 갖는 레오미터(rheometer)(예를 들면, 레오메트릭스(Rheometrics)의 아레스(ARES)(어드밴스드 레오메트릭 익스팬션 시스템(Advanced Rheometric Expansion System))를 사용해서 측정한다. 샘플을 직경 25mm 및 갭(두 판 사이의 간격) 100미크론의 평행 판 사이에서 압축했다. 측정은 전단 속도 범위 0 내지 10,000s-1의 전단 스위프(sweep) 모드로 수행한다. 측정은 실온(즉, 25℃) 및 압력에서 수행한다.
본 발명의 조성물에 있어서, 고체 비대칭 입자는 물에 분산된다. 산성의 피부에 이로운 물질 및 음이온성 계면활성제는 원하는 피부에 이로운 효과를 제공하고 본 발명 조성물의 고 피부 마찰을 손상시키지 않는 양으로 사용한다.
피부 마찰은 수직 응력에 의해 측정한다. 수직 응력은 전단 유동 하에서 물질에 의해 축 방향으로 가해지는 힘이다. 물질(생성물) 미세구조가 유동 하에 비등방성으로 될 때 수직 응력이 발생된다. 음의 수직 응력은 전단 유도 규칙성과 같은 벌크 "부피"의 감소에 의해 발생된다. 그러한 성질을 나타내는 물질은 결정질 상(예를 들면 지방산), 봉, 작은 판, 액정 및 계면활성제 라멜라 중간상이다.
수직력은 전단력 수용능력 및 수직력 변환기를 갖는 레오미터(예를 들면, 레오메트릭스의 아레스(어드밴스드 레오메트릭 익스팬션 시스템))를 사용하는 측정 방법에 의해 측정한다. 샘플을 직경 25mm 및 갭(두 판 사이의 간격) 100미크론의 평행 판 사이에서 압축했다. 측정은 전단력 범위 0 내지 10,000s-1의 전단 스위프 모드로 수행한다. 수직 응력 수치는 0 전단 속도에서의 힘 및 최고 전단 속도에서의 힘 사이의 차로서 계산했다. -100 밀리뉴톤 미만의 음의 차는 뻑뻑한 느낌(고 피부 마찰)의 제품/물질과 상관관계가 있다. 측정은 실온(즉, 25℃)에서 수행한다.
본 발명의 조성물은 약 -100 밀리뉴톤 미만; 바람직하게는 -200 밀리뉴톤 미만; 가장 바람직한 고 피부 마찰을 달성하기 위해서 가장 바람직하게는 -100 밀리뉴톤 미만; 예를 들면 약 -200 밀리뉴톤 내지 약 -2000 밀리뉴톤의 수직 응력을 갖는다.
본 발명에 따라서 사용하기 적합한 음이온성 유화제는 전형적으로 약 5.7 미만의 그의 산 형태의 pKa를 가지며, 특정한 바람직한 실시태양에 있어서는 이들은 약 4.5 미만의 pKa를 가질 수 있고; 이들은 화학식 (I)에 상응하는 것들을 포함한다:
RYX
상기 화학식에서:
R은 탄소수 6 내지 30의 알킬 및(또는) 알케닐 아르알킬, 알크아릴라디칼이고,
Y는 친수성 음이온성 헤드(head) 기이고,
X는 알칼리금속 및(또는) 알칼리토금속, 암모늄, 알킬암모늄, 알칸올암모늄 또는 글루크암모늄이다.
바람직한 음이온성 유화제는 약 5.7 미만의, 특정 실시태양에서는 4.5 미만의 pKa 수치를 갖는, 저 pH에서 여전히 음이온성인 것들이다.
바람직한 음이온성 유화제는 음이온성 술페이트, 술포네이트 및 사르코시네이트 유화제의 염(예를 들면, 소듐, 포타슘, 암모늄 및 치환 암모늄 염, 예컨대 모노-, 디- 및 트리에탄올아민염 포함)을 포함한다.
기타 바람직한 음이온성 유화제는 또한 이세티오네이트, 예컨대 아실 이세티오네이트, N-아실 타우레이트, 메틸 타우라이드의 지방산 아미드, 알킬 숙시네이트 및 술포숙시네이트, 술포숙시네이트의 모노에스테르(특히, 포화 및 불포화 C12-C18모노에스테르, 예컨대 소듐 올레일 숙시네이트, 암모늄 라우릴 술포숙시네이트), 술포숙시네이트의 디에스테르(특히 포화 및 불포화 C6-C18디에스테르), N-아실 사르코시네이트를 포함한다.
본 발명에 사용하기 적합한 음이온성 술페이트 유화제는 선형 및 분지쇄 1차 알킬 술페이트, 알킬 에톡시술페이트, 지방 올레일 글리세롤 술페이트, 알킬 페놀 에틸렌 옥사이드 에테르 술페이트, C5-C17아실 N-(C1-C4알킬) 및 -N-(C1-C2히드록시알킬)글루카민 술페이트 및 알킬폴리사카라이드의 술페이트, 예컨대 알킬폴리글루코시드의 술페이트 및 이들의 혼합물, 특히 이들의 소듐, 마그네슘, 암모늄 및 모노-, 디- 및 트리에탄올아민 염을 포함한다. 알킬기는 일반적으로 탄소수 6 내지 30이고 바람직하게는 지방산 알킬기이다. 알킬 에톡시 에테르 술페이트는 분자당 1 내지 30개의 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드 단위를 포함하며, 바람직하게는 분자당 2 내지 10개의 에틸렌 옥사이드 단위를 포함한다. 바람직한 예는 소듐 세틸 술페이트, 소듐 라우릴 술페이트, 소듐 스테아릴 술페이트, 소듐 라우릴 에테르 술페이트, 암모늄 라우릴 술페이트, 트리에탄올아민 라우릴 술페이트, 소듐 C14-C16 올레핀 술포네이트, 암모늄 파레트-25 술페이트(합성 C12-C15 지방 알콜 혼합물의 술페이트화 폴리에틸렌 글리콜 에테르의 암모늄 염), 소듐 미리스틸 에테르 술페이트, 암모늄 라우릴 에테르 술페이트를 포함한다.
본 발명에 사용하기 적합한 음이온성 술포네이트 유화제는 C5-C20선형 알킬벤젠 술포네이트, 알킬 에스테르 술포네이트, C6-C221차 또는 2차 알칸 술포네이트, C6-C24올레핀 술포네이트, 알킬 글리세롤 술포네이트, 지방 아실 글리세롤 술포네이트, 지방 올레일 글리세롤 술포네이트의 염, 및 그의 임의의 혼합물을 포함한다. 바람직한 예는 소듐 도데실벤젠 술포네이트 및 트리에탄올아민 도데실벤젠 술포네이트를 포함한다.
기타 적합한 음이온성 계면활성제는 하기 화학식의 알칼리 금속 사르코시네이트이다:
R-C(O)N(R1)CH2COOM
상기 화학식에서, R은 C5-C20선형 또는 분지쇄 알킬 또는 알케닐기이고, R1은 C1-C4알킬기이고 M은 알칼리금속 이온이다. 바람직한 예는 미리스틸 및 올레일 메틸 사르코시네이트, 그의 소듐 염 형태의 소듐 N-라우로일 사르코시네이트이다.
가장 바람직한 음이온성 계면활성제는 소듐 세틸 술페이트, 소듐 스테아릴 술페이트, 트리에탄올아민 라우릴 술페이트, 소듐 라우릴 에테르 술페이트 모노-에틸렌-옥사이드, 소듐 라우릴 에테르 술페이트 디-에틸렌-옥사이드, 소듐 라우릴 에테르 술페이트 트리-에틸렌-옥사이드, 암모늄 라우릴 술페이트 및 암모늄 라우릴 에테르 술페이트 모노-에틸렌-옥사이드, 암모늄 라우릴 에테르 술페이트 디-에틸렌-옥사이드, 및 암모늄 라우릴 에테르 술페이트 트리-에틸렌-옥사이드 및 이들의 혼합물이다.
조성물 중 음이온성 유화제의 양은 약 0.1 내지 약 10중량%, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 5중량%, 보다 바람직하게는 약 0.75 내지 약 3중량%의 범위이다.
선택된 비이온성 유화제도 또한 선택적으로 그러나 바람직하게 포함될 수 있다. 비이온성 유화제는 바람직하게는 고체이고 바람직하게는 탄소수 12 내지 20, 바람직하게는 탄소수 14 내지 18의 모노 지방 알킬기를 가지며, 바람직하게는 포화이다. 비이온성 유화제의 예는 다음을, 단독으로 또는 조합해서 포함한다:
-에톡실화 알킬 에테르, ICI(미국 델라웨어주 윌밍톤)로부터 상표명브리즈(Brij)로 상업적으로 구입할 수 있는 것, 예컨대 브리즈 계열의 C12 이상의 알킬 사슬을 포함하는 폴리옥실렌 알킬 에테르;
-소르비탄 에스테르, 예를 들면 ICI(미국 델라웨어주 윌밍톤)로부터 상표명 스판(Span), 예컨대 스판 60 또는 스판 40으로 상업적으로 구입할 수 있는 유화제;
-에톡실화 소르비탄 에스테르, 예를 들면 ICI(미국 델라웨어주 윌밍톤)로부터 상표명 트윈(Tween)으로 상업적으로 구입할 수 있는 유화제, 예컨대 트윈 60(등록상표) 또는 트윈 61(등록상표)과 같은 C12 이상의 알킬 사슬을 포함하는 폴리소르베이트;
-에톡실화 지방산 에스테르, 예컨대 에톡실화 스테아레이트, 예를 들면 ICI(미국 델라웨어주 윌밍톤)로부터 상표명 미르지(MYRJ)로 상업적으로 구입할 수 있는 유화제, 예컨대 미르지(등록상표) 계열의 폴리에틸렌 글리콜(PEG) 스테아레이트; 및
-지방 알콜, 에톡실화 지방 알콜, 글리세린 및 지방산의 에스테르.
비이온성 유화제가 존재할 때, 음이온성 유화제 대 비이온성 유화제의 중량비는 고 마찰 피부 크림 조성물이 상기한 바와 유사한 3개의 전단 속도 하에서의 점도 프로파일을 나타내고, 조성물이 -100 밀리뉴톤 미만의 수직력 수치를 나타내도록 설정된다.
음이온성 대 비이온성 유화제의 중량비는 전형적으로는 1:0.0000001 내지 1:9, 바람직하게는 3:2 내지 1:7, 가장 바람직하게는 1:1 내지 1:4일 수 있다.
피부에 이로운 물질, 특히 산성의 피부에 이로운 물질도 또한 임의로 그러나바람직하게 본 발명의 조성물에 포함될 수 있다. 피부에 이로운 물질은 피부에 이로운 효과를 전달하는 활성 화합물로서 정의된다. 본 발명의 목적을 위해서, 용어 산성의 피부에 이로운 물질은 산성 형태에서 보다 활성이 강하면서 전체 조성물을 산성으로 만드는 피부에 이로운 물질과, 산성 조건에서 보다 활성이 강하지만 자신이 전체 조성물을 보다 산성으로 만들지는 않는 것들을 지칭한다.
산성의 피부에 이로운 물질의 예는 알파-히드록시산, 베타-히드록시산, 폴리히드록시산, 피부 미백제 및 이들의 혼합물을 포함한다. 바람직한 산성의 피부에 이로운 물질의 예는 글리콜산, 락트산, 2-히드록시옥탄산, 살리실산, 페룰산 및 세박산 또는 이들의 혼합물을 포함한다.
산성의 피부에 이로운 물질의 양은 바람직하게는 조성물 중량의 약 0.001% 이상이다.
기타 적합한 선택적인 피부에 이로운 물질 및 화장품 첨가물에 있어서, 소수성 변형 중합체 유화제가 본 발명의 조성물에 공-구조화제로서 임의로 존재할 수 있는데, 전형적으로는 비. 에프. 굿리치(B. F. Goodrich)(미국 오하이오주 클리브랜드)에 의해 공급되는 상표명 페물렌(Pemulen) TR 계통의 것들이, 예를 들어 0.001 내지 2중량%의 양으로 존재한다.
필요하다면, 특히 조성물의 pH를 상당히 낮출 수 있는 특정 산성 활성화제 존재하에, pH 조절제를 사용해서 원하는 pH를 유지할 수 있다. 바람직한 pH 조절제는 무기 또는 유기 염기, 예컨대 수산화암모늄, 수산화칼륨, 수산화나트륨 및 트리에탄올아민을 포함한다. 바람직한 pH 조절제는 또한 무기산, 예컨대 히드로클로라이드 산도 포함한다.
실리콘 오일 또는 합성 에스테르의 군으로부터 선택된 연화제 물질(유체 오일)이 본 발명의 조성물에 포함될 수 있다. 오일은 본 발명 조성물의 고 피부 마찰을 손상시키지 않는 양으로 사용된다. 이들은, 조성물이 상기한 측정 조건 하에서 -100 밀리뉴톤(mN) 미만의 수직력 수치를 나타내도록 하는, 고체 입자, 즉 지방산에 대한 중량비로 존재할 수 있다. 고체 입자에 대한 연화제 물질의 중량비는 1.0 미만, 바람직하게는 0.5 미만, 가장 바람직하게는 0.2 미만이다. 조성물에 사용될 때, 유성 햇볕차단제는 연화제 물질로 간주되며, 하기에 더 설명될 것이다.
실리콘 오일이 조성물에 연화제 물질로서 포함될 수 있다. 이들은 바람직하게는 약 3 내지 약 9개, 바람직하게는 약 4 내지 약 5개의 규소 원자를 포함하는 시클릭 또는 선형 폴리디메틸실록산으로부터 선택된다. 기타 실리콘 오일도 포함될 수 있는데, 예컨대 폴리알킬 실록산, 폴리알킬아릴 실록산 및 폴리에테르 실록산 공중합체(예를 들면, 디메티콘 코폴리올)이다. 본 발명에서 유용한 폴리알킬 실록산은, 예를 들면 25℃에서 약 5 내지 약 100,000센티스토크의 점도를 갖는 폴리디메틸 실록산, 바람직하게는 25℃에서 약 10 내지 약 400센티스토크의 점도를 갖는 폴리디메틸 실록산이다.
적합한 에스테르 연화제는 다음을 포함한다; 지방산 또는 알콜과 탄화수소의 에스테르, 바람직하게는 지방산의 C8-C20알킬 에스테르, 예컨대 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 이소스테아릴 팔미테이트, 트리데실 살리실레이트, C12-C15 옥타노에이트 및 이소프로필 스테아레이트, 또는 이들의 임의의 혼합물.
오일은 단독으로 또는 서로 간의 혼합물로서 사용될 수 있다.
본 발명의 조성물은 가장 바람직하게는 항산화제, 환원제, 킬레이트화제 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된 성분을 더 포함해서 미용 크림의 안정성을 개선한다. 이들 성분들은 미용 크림 중의 피부에 이로운 물질의 산화를 보다 더 방지한다. 본 발명의 배합물에 대한 항산화제, 환원제 및 킬레이트화제의 일반적인 예는 문헌[CTFA International Cosmetic Ingredient Dictionary 4thEdition, The Cosmetic, Toiletry, and Fragrance Association, Inc., Washington, D.C., 1991]에서 찾을 수 있다.
바람직한 환원제는 아황산나트륨, 중아황산나트륨, 메타중아황산나트륨, 티오황산나트륨 또는 기타 티올, 예컨대 티오글리세롤, 티오우레아, 티오글리콜산, 시스테인 등이다. 바람직한 항산화제는 라크-6-히드록시-2,5,7,8-테트라-메틸크로만-2-카르복실산(트로록스), 프로필 갈레이트, n-프로필 트리히드록시벤조에이트, t-부틸 히드로퀴논 및 부틸화 히드록시톨루엔(BHT), 부틸화 히드록시아니솔(BHA), 토코페릴 아세테이트, 아스코르빌 팔미테이트, 히드로퀴논, 디부틸 히드로퀴논 등이다.
킬레이트화제의 적합한 예는 EDTA, 시트르산, 타르타르산, 유기아미노포스폰산 및 몬산토(Monsanto)에 의해 시판되고 있는 상업적으로 구입할 수 있는 특정 디퀘스트(Dequest)TM화합물을 포함하는 유기 포스폰산 성분을 포함하는데, 이것으로제한되는 것은 아니다. 바람직하게는 1-히드록시에틸렌, (1.1-디포스폰산)이다.
유기 아미노포스폰산은 1개 이상의 포스폰산기 및 1개 이상의 아미노기를 포함하는 유기 화합물이다. 본 발명에 사용하기 적합한 유기 아미노포스폰산 성분은 아미노 알킬렌 폴리(알킬렌 포스폰산) 및 니트릴로 트리메틸렌 포스폰산을 포함한다. 이런 유형의 유기 아미노포스폰산 성분의 예는 몬산토에 의해 시판되고 있는 상업적으로 구입할 수 있는 특정 디퀘스트TM화합물을 포함한다.
바람직하게는 아미노 트리(메틸렌 포스폰산)(디퀘스트 2006(등록상표)), 디에틸렌 트리아민 펜타(메틸렌 포스폰산) 및 헥사메틸렌 디아민 테트라(메틸렌 포스폰산)이다.
본 발명에 사용하기 적합한 기타 추가의 중금속 이온 제거제는 니트릴로트리아세트산 및 폴리아미노카르복실산, 예컨대 에틸렌디아미노테트라아세트산 또는 에틸렌트리아민 펜트아세트산을 포함한다.
본 발명에 사용하기 적합한 또 다른 추가의 중금속 이온 제거제는 이미노디아세트산 유도체, 예컨대 2-히드록시에틸 디아세트산 또는 글리세릴 이미노 디아세트산이다.
항산화제는 본 발명의 조성물에 0.01 내지 10%, 바람직하게는 0.1 내지 5%, 가장 바람직하게는 0.2 내지 4%의 양으로 포함된다. 환원제는 본 발명의 조성물에 0.01 내지 10%, 바람직하게는 0.1 내지 5%, 가장 바람직하게는 0.2 내지 4%의 양으로 포함된다. 킬레이트화제는 본 발명의 조성물에 0.01 내지 1%, 바람직하게는0.05 내지 0.5%, 가장 바람직하게는 0.05 내지 0.3%의 양으로 포함된다.
다양한 기타 유형의 활성 성분이 본 발명의 미용 조성물에 존재할 수 있다. 활성제는 연화제 이외의 그리고 단순히 조성물의 물리적 특성만을 개선하는 성분이 아닌 피부 또는 모발에 이로운 물질로서 정의된다. 일반적인 예는 피부 미백제(산성의 피부에 이로운 물질 이외의 것), 햇볕차단제 및 일광욕제를 포함하는데 이러한 범위로 제한되는 것은 아니다.
햇볕차단제는 자외선을 차단하기 위해 일반적으로 사용되는 물질을 포함한다. 예를 들면 PABA의 유도체, 신나메이트 및 살리실레이트의 화합물이다. 예를 들면, 옥틸 메톡시신나메이트 및 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논(옥시벤존으로도 알려져 있음)이 사용될 수 있다. 옥틸 메톡시신나메이트 및 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논은 각각 상표명, 파르솔(Parsol) MCX 및 벤조페논(Benzophenone)-3으로 상업적으로 구입할 수 있다.
유탁액에 사용되는 햇볕차단제의 정확한 양은 태양 UV 조사의 원하는 차단 정도에 의존해서 변화될 수 있다. 그러나 첨가되는 햇볕차단제의 양은 연화제 물질에 대해서도 이미 설명된 바와 같이 본 발명 조성물의 고 피부 마찰을 손상시켜서는 안된다.
또 하나의 바람직한 선택적인 성분은 필수 지방산(EFA), 즉 모든 세포의 세포질 막 형성에 필수적인 지방산으로부터 선택되는데, 각질형성세포에서의 EFA 결핍은 세포를 과증식성으로 만든다. EFA를 보충하면 이것을 고칠 수 있다. EFA는 또한 표피의 지질 생합성을 증진하며 표피의 장벽 형성에 대한 지질을 제공한다.필수 지방산은 바람직하게는 리놀렌산, 감마 리놀렌산, 호모-감마-리놀렌산, 콜룸빈산, 에이코사-(n-6,9,13)-트리에노산, 아라키돈산, 감마 리놀렌산, 팀노돈산, 헥사엔산 및 이들의 혼합물로부터 선택된다.
기타 선택적인 성분은 착색제, 불투명화제 및 안료(예를 들면, 이산화티탄, 실리카) 및 향료를 포함할 수 있다. 이들 물질의 양은 조성물 중량의 0.001% 내지 20%의 범위일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 주로 인간 피부에 국소 도포하기 위한 미용 제품, 특히 피부의 미백 또는 탈색소화제, 피부의 조절 및 유연화제 및 주름지거나 노화된 피부의 방지 또는 완화제로서 사용된다.
사용 시에, 적합한 용기 또는 도포기로부터 소량의 조성물, 예를 들면 1 내지 5ml를 피부의 노출된 표면에 도포하고, 필요하다면 손 또는 손가락 또는 적절한 장치를 사용해서 피부에 펴바르고(펴바르거나) 문지른다.
조성물을 그의 점도 및 소비자의 의도하는 용도에 적합하도록 적합한 용기에 포장할 수 있다. 예를 들면, 조성물을 간단하게 비변형성 병 또는 짜내는 용기, 예컨대 튜브 또는 뚜껑이 있는 자아(jar)에 저장할 수 있다.
따라서 본 발명은 본 발명에서 정의된 바와 같은 미용학적으로 허용 가능한 조성물을 포함하는 폐쇄된 용기(재밀봉될 수 있음)를 제공한다.
하기 특정 실시예는 본 발명을 보다 상세하게 설명하기 위한 것이지, 본 발명을 제한하기 위한 것은 아니다.
실시예 1 내지 5
본 발명에 따른 배합물의 예를 하기 표 1에 요약했다.
성분 상표명 및 CTFA 명칭 1 2 3 4 5
스테아르산 14.9 14.9 12.9 17.9 15.7
소듐 세타아릴 술페이트(음이온성 유화제) A 1.0 1.0 1.5 1.5 0.5
미르지 59(비이온성 유화제) A 2.0 1.5 2 2 2
스판 60(비이온성 유화제) A 2.0 1.5 2 2 2
파르솔 1789 A 0.40 0.4 0.4 0.4
프로필 파라벤 A 0.10 0.10 0.10 0.10 0.10
BHT A 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
파르솔 MCX A 0.75 0.75 0.75 0.75
디메티콘 A 0.50 0.75 0.75
B BAL* BAL BAL BAL BAL
EDTA B 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
페물렌 TR2 B 0.10 0.05 0.05
메틸 파라벤 B 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15
피부에 이로운 물질 C 3.5 2.0 2.0 2.0 2.0
연석제 C 10 10 8 7 8
전체 100 100 100 100 100
pH 4.5 4.7 4.6 4.6 4.7
*BAL=100까지의 나머지
표 1의 배합물들은 다음 방법으로 제조했다. 상 A 성분을 75℃로 가열했다. 상 A와는 별도의 용기에서 상 B를 75℃로 가열했다. 그 후에 가열은 하지 않고 혼합해서 상을 합했다. 상 C를 62℃로 가열하고 62℃에서 상A/B에 혼합했다. 혼합물을 40℃까지 냉각하고 포장했다.
실시예 6-13
-100 밀리뉴톤 미만의 수직력 수치 및 정해진 전단 속도에서 배니싱 크림에대해 요구되는 점도 범위, 즉 1s-1의 전단 속도에서의 10 내지 75PaS, 10s-1의 전단 속도에서의 2 내지 20PaS 및 100s-1의 전단 속도에서의 0.6 내지 5Pas를 달성하는 배합물의 특별한 장점을 증명하기 위해 한 세트의 비교 조성물을 제조했다. 비교용으로, 산 비누 기재 배니싱 크림 조성물(실시예 6)도 제조했으며 그의 레올로지 성질도 측정했다. 비교예 6-13의 조성, pH 및 레올로지 성질을 하기 표 2에 기재했다.
성분 실시예(중량%)
6산 비누 기재 7 8 9 10 11 12 13
스테아르산 A 17.9 17.9 17.9 17.9 17.9 17.9 17.9 17.9
소듐 세테아릴 술페이트(음이온성 유화제) A 2.2 1 1.5 2 3 2
미르지 59(비이온성 유화제) A 2 2 2 2 2 1
스판 60(비이온성 유화제) A 2 2 2 2 2 1
KOH, 22%(스테아르산과 비누 형성) 2.20
B BAL BAL BAL BAL BAL BAL BAL BAL
글리세린 B 1 1 1 1 1 1 1 1
음이온성 대 비이온성의 중량비 N/A 1:0 0:1 1:4 1.5:4 1:2 3:4 1:1
r=1s-1에서의 점도(r=전단 속도) 28.9 18 9.05 10 17.3 20.8 38.5 12.3
r=10s-1에서의 점도(r=전단 속도) 3.98 2.72 1.64 2.44 4.95 5.17 7.37 2.66
r=100s-1에서의 점도(r=전단 속도) 1.63 1.13 0.48 1.09 1.8 1.63 1.75 0.8
수직력 수치, 밀리뉴톤 -1220 -1150 -82 -140 -909 -1800 -1413 -220
pH 7.5 4.5 4.5 4.5 4.5 4.5 4.5 4.5
*BAL=100까지 나머지
수직력 및 점도를 전단력 수용능력 및 수직력 변환기를 갖는 제어 응력 레오미터(예를 들면, 레오메트릭스 코포페이션의 아레스(어드밴스드 레오메트릭 익스팬션 시스템))를 사용해서 측정했다. 표 2에 기재된 수직력 측정치와 다음 실시예의 측정치를 다음과 같은 방법으로 측정했다. 샘플을 직경 25mm 및 갭 100미크론의 평행 판 사이에서 압축했다. 전단 속도 범위 0 내지 10,000sec-1로 전단 스위프 모드로 측정했다. 수직 응력 수치는 0 전단 속도에서의 힘 및 최고 전단 속도에서의 힘의 차로서 계산했다. 측정은 실온 25℃에서 수행했다.
표 1 및 2에 기재된 바람직한 실시예의 숙련인 평가단에 의한 감각 평가는 산-비누로부터 제조된 배니싱 크림과 대등한 것으로 증명되었다.
실시예 14
본 실시예는 본 발명이 아닌 전형적인 조성물은 양의 수직력과 배니싱 크림의 범위를 벗어나는 한정된 전단 속도에서의 점도 프로파일을 갖는다는 것을 증명했다. 조성을 하기 표 3에 기재했다.
중량%
물, DI 100까지 A
디소듐 EDTA 0.05 A
마그네슘 알루미늄 실리케이트 0.6 A
메틸 파라벤 0.15 A
시메티콘 0.01 A
부틸렌 글리콜 1,3 3.0 A
히드록시에틸셀룰로스 0.5 A
글리세린, USP 2.0 A
크산탄 검 0.2 A
트리에탄올아민 1.2 B
스테아르산 3.0 B
프로필 파라벤 NF 0.1 B
글리세릴 히드록시스테아레이트 1.5 B
스테아릴 알콜 1.5 B
이소스테아릴 팔미테이트 6.0 B
C12-C15 알콜 옥타노에이트 3.0 B
디메티콘 1.0 B
콜레스테롤 NF 0.5 B
소르비탄 스테아레이트 1.0 B
부틸화 히드록시톨루엔 0.05 B
토코페릴 아세테이트 0.1 B
PEG-100 스테아레이트 2.0 B
소듐 스테아로일 락틸레이트 0.5 B
히드록시카프릴산 0.1 C
글리콜산, 70% 11.43 C
수산화암모늄 2.4 C
알파-비스아볼올 0.2 C
이 조성물의 pH는 3.8이었다.
표 3의 실시예 14의 조성물은 다음과 같이 제조했다:
1. 상 A를 80℃로 가열했다.
2. 상 B를 별개의 용기에서 75℃로 가열했다.
3. B를 A에 가하고 가열하지 않으면서 30분간 혼합했다.
4. 50℃에서 상 C를 가하고 10분간 혼합했다.
표 4에는 실시예 14의 조성물에 대한 수직력 및 점도 수치를 기재했다.
수직력,밀리뉴톤 점도, Pas
1s-1 10s-1 100s-1
실시예 14 +160 92 11 1.63
표 4에서 볼 수 있는 바와 같이, 실시예 14의 조성물은 불충분한 스테아르산 함량 및 스테아르산에 대한 오일의 높은 비율로 인해서 양의 수직력을 가졌는데, 이것은 표 3에 기재된 바와 같은 본 발명의 범위를 벗어나는 것이다.
본 명세서에 기술되어 있는 실시태양은 단지 예시를 위한 것이며 당업계 숙련인은 본 발명의 취지 및 범위를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 변화 및 변형을 가할 수 있을 것이다. 그러므로 그러한 모든 변화 및 변형은 첨부된 청구의 범위에 정의된 바와 같은 본 발명의 범위 내에 속한다.

Claims (18)

  1. (a) 조성물 중량의 약 4% 이상의 고체 비대칭 입자;
    (b) 알킬 술페이트, 아르알킬 술페이트, 알킬 에톡시 에테르 술페이트, 알크아릴 술포네이트, 알킬 숙시네이트, 알킬 술포숙시네이트, N-알코일 사르코시네이트, 이세티오네이트, N-아실 타우레이트, 메틸 타우라이드의 지방산 아미드 및 이들의 혼합물로부터 선택된 음이온성 유화제; 및
    (c) 미용학적으로 허용 가능한 부형제를 포함하고;
    pH가 약 5.7 미만이며;
    약 -100 밀리뉴톤 미만의 수직 응력을 갖는 미용 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 비이온성 유화제를 더 포함하는 조성물.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 비이온성 유화제는 소르비탄 에스테르, 에톡실화 소르비탄 에스테르, 에톡실화 알킬 에테르, 에톡실화 지방산 에테르, 지방 알콜, 에톡실화 지방 알콜 및 글리세린과 지방산의 에스테르, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것인 조성물.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 음이온성 유화제 대 상기 비이온성 유화제의 비가 약 1:0.0000001 내지 약 1:9의 범위인 조성물.
  5. 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 음이온성 유화제 대 상기 비이온성 유화제의 비는 상기 조성물이 25℃하의 1s-1, 10s-1및 100s-1의 전단 속도에서 각각 10 내지 75PaS, 2 내지 25PaS 및 0.5 내지 6PaS의 점도 프로파일을 나타내도록 설정되고; 여기에서 상기 조성물은 약 -100 밀리뉴톤 미만의 수직 응력을 갖는 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 음이온성 유화제는 저 pH에서 여전히 음이온성인 조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 음이온성 유화제는 상기 조성물 중량의 약 0.1% 내지 약 10%의 양으로 존재하는 조성물.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고체 비대칭 입자는 상기 조성물 중량의 약 10% 내지 약 25%를 구성하는 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 고체 비대칭 입자는 상기 조성물 중량의 약 12% 내지 약 20%를 구성하는 조성물.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고체 비대칭 입자는 결정질인 조성물.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물의 점도는 25℃하의 1s-1, 10s-1및 100s-1의 전단 속도에서 각각 10 내지 75PaS, 2 내지 25PaS, 및 0.5 내지 6PaS인 조성물.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고체 비대칭 입자는 지방산 입자, 운모, 탈크, 점토 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것인 조성물.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고체 비대칭 입자는 탄소수 12 내지 22의 지방산의 입자인 조성물.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 산성의 피부에 이로운 물질을 더 포함하는 조성물.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 산성의 피부에 이로운 물질의 양은 조성물 중량의 약 0.0001% 이상인 조성물.
  16. 제 14 항 또는 제 15 항에 있어서, 상기 산성의 피부에 이로운 물질은 알파-히드록시산, 베타-히드록시산, 폴리-히드록시산, 피부 미백제, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것인 조성물.
  17. 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산성의 피부에 이로운 물질은 글리콜산, 락트산, 2-히드록시옥탄산, 살리실산, 페룰산, 세박산 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것인 조성물.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 피부에 도포하는 것에 의해 지성 피부 외관 또는 감촉을 억제 또는 방지하는 방법.
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