KR20040024964A - Transreflective liquid crystal display device and method for fabricating thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A transreflective liquid crystal display and its fabrication method are provided to realize a high quality display by reducing luminance deviation at a light reflection area and a light transmission area. CONSTITUTION: The transreflective liquid crystal display includes the first substrate(100), and the second substrate including the second transparent substrate and a common electrode formed on the second transparent substrate, and a liquid crystal injected between the first substrate and the second substrate. The first substrate includes the first transparent substrate, a power supply unit(120) supplying the first voltage to a plurality of pixel areas formed on the first transparent substrate, a non-transparent organic film having a contact hole and a light transmission area and a pixel electrode(140) including a reflection electrode applying the first voltage to the light reflection area and a transparent electrode applying the first voltage to the light transmission area.

Description

반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법{TRANSREFLECTIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}Reflective-transmissive liquid crystal display and its manufacturing method {TRANSREFLECTIVE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}

본 발명은 반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 디스플레이 특성을 향상시킨 반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a reflection-transmissive liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a reflection-transmissive liquid crystal display device and a method of manufacturing the same improved display characteristics.

일반적으로 액정표시장치(Liquid Crystal Display device)는 액정으로 정보를 디스플레이 한다.In general, a liquid crystal display device displays information by liquid crystal.

액정은 자기장에 의하여 배열이 변경되는 전기적 특성 및 배열에 의하여 광투과도가 변경되는 광학적 특성을 갖는다.The liquid crystal has electrical characteristics in which the arrangement is changed by the magnetic field and optical characteristics in which the light transmittance is changed by the arrangement.

액정은 스스로 광을 발생시키지 못한다. 따라서, 액정표시장치로 영상을 디스플레이 하기 위해서는 광을 필요로 한다.Liquid crystals do not generate light by themselves. Therefore, light is required to display an image with a liquid crystal display.

액정표시장치는 광의 이용 방법에 따라, 반사형 액정표시장치(reflective LCD), 투과형 액정표시장치(transmissive LCD) 및 반사-투과형 액정표시장치(transreflective LCD)로 나뉜다.Liquid crystal displays are classified into reflective LCDs, transmissive LCDs, and reflective-transmissive LCDs, depending on how light is used.

반사형 액정표시장치는 소형 디스플레이 장치에 주로 사용되며, 투과형 액정표시장치는 소형으로부터 초대형 액정표시장치에 폭넓게 사용되고 있다.Reflective liquid crystal display devices are mainly used in small display devices, and transmissive liquid crystal display devices are widely used in small to super large liquid crystal display devices.

반사형 액정표시장치는 소비전력이 매우 작은 장점 및 광이 없는 곳에서는디스플레이가 불가능한 단점을 갖고 있으며, 투과형 액정표시장치는 광에 구애받지 않고 어디서나 자유롭게 디스플레이를 수행할 수 있는 장점 및 소비전력이 지나치게 큰 단점을 갖고 있다.Reflective liquid crystal display has the advantages of very low power consumption and the disadvantage that display is not possible in the absence of light, and transmissive liquid crystal display has the advantage of freely performing display anywhere regardless of light and consumes too much power. It has a big disadvantage.

반사-투과형 액정표시장치는 저소비전력을 갖는 장점 및 어디서나 디스플레이를 수행할 수 있는 장점을 함께 갖는다.The reflection-transmissive liquid crystal display has the advantages of low power consumption and the advantage of being able to display anywhere.

구조적으로 반사-투과형 액정표시장치는 TFT 기판(Thin Film Transistor substrate), 컬러필터 기판(Color Filter substrate) 및 액정(Liquid Crystal)으로 구성된다.Structurally, the reflection-transmissive liquid crystal display device is composed of a TFT film (Thin Film Transistor substrate), a color filter substrate (Liquid Crystal).

TFT 기판은 다시 투명 기판(transparent substrate), 박막 트랜지스터(Thin Film transistor), 투명 유기막(transparent organic film), 반사 전극(reflective electrode), 투명 전극(transparent electrode)을 포함한다.The TFT substrate again includes a transparent substrate, a thin film transistor, a transparent organic film, a reflective electrode, and a transparent electrode.

박막 트랜지스터는 투명기판에 매트릭스 형태로 배치된다. 박막 트랜지스터는 게이트 전극(gate electrode), 소오스 전극(source electrode), 드레인 전극(drain electrode) 및 채널층(channel layer)으로 구성된다.The thin film transistor is arranged in a matrix on a transparent substrate. The thin film transistor includes a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and a channel layer.

투명 유기막은 박막 트랜지스터가 덮이도록 투명기판의 전면적에 걸쳐 후박하게 형성된다. 투명 기판에 형성된 투명 유기막에는 박막 트랜지스터의 드레인 전극이 개구되도록 콘택홀(contact hole) 및 올록볼록한 엠보싱 요철이 함께 형성된다.The transparent organic film is thinly formed over the entire surface of the transparent substrate so that the thin film transistor is covered. In the transparent organic film formed on the transparent substrate, contact holes and convex embossed irregularities are formed together to open the drain electrode of the thin film transistor.

반사 전극은 투명 유기막에 형성되며 일부는 드레인 전극에 연결된다. 이때, 하나의 반사 전극에는 하나의 박막 트랜지스터가 연결된다. 또한, 반사 전극에는투명 기판 및 투명 유기막을 통하여 외부광이 입사되도록 개구창이 형성된다.The reflective electrode is formed in the transparent organic film and partly connected to the drain electrode. In this case, one thin film transistor is connected to one reflective electrode. In addition, an opening window is formed in the reflective electrode such that external light is incident through the transparent substrate and the transparent organic film.

투명 전극은 반사 전극의 전체 및 개구창이 형성된 부분에까지 형성된다. 하나의 반사 전극에는 하나의 투명 전극이 연결된다.The transparent electrode is formed up to the entirety of the reflective electrode and the portion where the opening window is formed. One transparent electrode is connected to one reflective electrode.

컬러필터 기판은 다시 투명 기판, 블랙 매트릭스(black matrix), 컬러필터 (color filter) 및 공통전극(common electrode)을 포함한다.The color filter substrate again includes a transparent substrate, a black matrix, a color filter, and a common electrode.

투명 기판에는 격자 형상을 갖는 블랙 매트릭스가 형성된다. 블랙 매트릭스는 TFT 기판에 형성된 박막 트랜지스터를 가리고, 외부광을 흡수하여 휘도를 향상시키며, 반사 전극과 반사 전극의 사이를 가려 광 누설을 방지하는 역할들을 겸한다.A black matrix having a lattice shape is formed on the transparent substrate. The black matrix serves to cover the thin film transistor formed on the TFT substrate, absorb external light to improve brightness, and cover light between the reflective electrode and the reflective electrode to prevent light leakage.

컬러필터는 블랙 매트릭스에 의하여 구획된 영역마다 형성된다. 컬러필터는 레드 파장을 필터링 하는 레드 컬러필터, 그린 파장을 필터링 하는 그린 컬러필터 및 블루 파장을 필터링 하는 블루 컬러필터로 구성된다.The color filter is formed for each area partitioned by the black matrix. The color filter is composed of a red color filter that filters the red wavelength, a green color filter that filters the green wavelength, and a blue color filter that filters the blue wavelength.

공통전극은 컬러필터가 덮이도록 투명기판의 전면적에 걸쳐 형성된다.The common electrode is formed over the entire surface of the transparent substrate to cover the color filter.

TFT 기판 및 컬러필터 기판은 상호 어셈블리 되고, TFT 기판과 컬러필터 기판의 사이에는 액정이 주입되어 반사-투과형 액정표시장치가 제작된다.The TFT substrate and the color filter substrate are assembled together, and a liquid crystal is injected between the TFT substrate and the color filter substrate to produce a reflection-transmissive liquid crystal display device.

그러나, 이와 같은 종래 반사-투과형 액정표시장치는 TFT 기판 및 컬러필터 기판의 얼라인을 정밀하게 수행하지 않을 경우, 블랙 매트릭스가 반사 전극의 일부를 가리게 되어 개구율이 감소되어 디스플레이 성능이 저하되는 문제점을 갖는다.However, such a conventional reflection-transmissive liquid crystal display device has a problem in that when the alignment of the TFT substrate and the color filter substrate is not precisely aligned, the black matrix covers a part of the reflective electrode and the aperture ratio is reduced, thereby degrading display performance. Have

또한, 종래 반사-투과형 액정표시장치는 반사 전극에서의 디스플레이 휘도와 투명 전극에서의 디스플레이 휘도가 동일하지 않고, 이에 따라 디스플레이 성능이저하되는 문제점을 갖는다.In addition, the conventional reflection-transmissive liquid crystal display device has a problem in that the display luminance at the reflective electrode and the display luminance at the transparent electrode are not the same, and thus display performance is deteriorated.

따라서, 본 발명은 이와 같은 종래 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 제1 목적은 광 반사 영역 및 광 투과 영역에서의 휘도 편차를 감소시켜 고품질 디스플레이를 구현할 수 있는 액정표시장치를 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of such a conventional problem, and a first object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of realizing a high-quality display by reducing luminance variations in a light reflection region and a light transmission region.

또한, 본 발명의 제 2 목적은 광 반사 영역 및 광 투과 영역에서의 휘도 편차를 감소시켜 고품질 디스플레이를 구현할 수 있는 액정표시장치의 제조 방법을 제공함에 있다.In addition, a second object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of realizing a high quality display by reducing luminance deviation in a light reflection region and a light transmission region.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치를 도시한 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating a reflection-transmissive liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 제 1 기판에 형성된 복수개의 픽셀 중 1 개를 도시한 블록도이다.FIG. 2 is a block diagram illustrating one of a plurality of pixels formed on a first substrate according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 A-A 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 제 2 기판의 평면도이다.4 is a plan view of a second substrate according to a first embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 C-C 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG.

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 제 1 기판 및 제 2 기판이 조립된 액정표시장치의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device in which a first substrate and a second substrate are assembled according to the first embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 제 1 기판에 박막 트랜지스터를 형성하는 것을 도시한 공정도이다.7 is a flowchart illustrating the formation of a thin film transistor on a first substrate of a reflection-transmissive liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 1 투명 기판에 불투명 유기막이 형성된 것을 도시한 공정도이다.8 is a flowchart illustrating an opaque organic film formed on a first transparent substrate according to a second embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 패터닝된 불투명 유기막을 도시한 공정도이다.9 is a flowchart illustrating an opaque organic film patterned according to a second embodiment of the present invention.

도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 2 기판을 제조하는 과정을 도시한 공정도이다.10 is a process diagram illustrating a process of manufacturing a second substrate according to a second embodiment of the present invention.

이와 같은 본 발명의 제 1 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 제 1 투명 기판, 제 1 투명 기판에 형성된 복수개의 픽셀 영역에 제 1 전압을 공급하는 전원 공급 수단, 전원 공급 수단의 출력단 위치에 형성된 콘택홀 및 픽셀 영역마다 광이 통과하는 광 투과 영역이 형성된 불투명 유기막, 픽셀 영역마다 출력단을 통하여 픽셀 영역 중 광 투과 영역을 제외한 광 반사 영역에 제 1 전압을 인가하는 반사 전극 및 출력단을 통하여 광 투과 영역에 제 1 전압을 인가하는 투명 전극을 포함하는 화소 전극을 포함하는 제 1 기판, 제 2 투명 기판, 제 2 투명 기판에 형성된 공통전극을 포함하는 제 2 기판 및 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 주입된 액정을 포함하는 반사-투과형 액정표시장치를 제공한다.In order to realize the first object of the present invention, the present invention provides a first transparent substrate, a power supply means for supplying a first voltage to a plurality of pixel regions formed on the first transparent substrate, and a contact formed at an output terminal position of the power supply means. An opaque organic film having light transmitting regions through which light passes through the holes and pixel regions, and light transmitting through the output electrode and the reflecting electrode applying a first voltage to the light reflecting region except the light transmitting region among the pixel regions through the output stage for each pixel region. Between a first substrate including a pixel electrode including a transparent electrode applying a first voltage to a region, a second transparent substrate, a second substrate including a common electrode formed on the second transparent substrate, and a first substrate and a second substrate Provided is a reflection-transmissive liquid crystal display comprising a liquid crystal injected into.

또한, 본 발명의 제 2 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 제 1 투명 기판에 형성된 복수개의 픽셀 영역에 제 1 전압을 공급하는 전원 공급 수단을 형성하는 단계, 전원 공급 수단의 출력단 위치에 콘택홀을 형성 및 픽셀 영역마다 광이 통과하는 광 투과 영역이 형성된 불투명 유기막을 형성하는 단계, 픽셀 영역마다 출력단을 통하여 픽셀 영역 중 광 투과 영역을 제외한 광 반사 영역에 반사 전극을 형성 및 출력단을 통하여 광 투과 영역에 투명 전극을 형성하여 제 1 기판을 제조하는 단계, 제 2 투명 기판에 공통전극을 형성하여 제 2 기판을 제조하는 단계 및 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 액정을 주입하는 단계를 포함하는 반사-투과형 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다.In addition, in order to implement the second object of the present invention, the present invention comprises the steps of forming a power supply means for supplying a first voltage to the plurality of pixel areas formed on the first transparent substrate, contact hole at the output terminal position of the power supply means Forming and forming an opaque organic film having a light transmitting region through which light passes through each pixel region, and forming a reflective electrode in a light reflecting region other than the light transmitting region of the pixel region through an output terminal for each pixel region and a light transmitting region through the output terminal Forming a transparent electrode on the first substrate, forming a common electrode on the second transparent substrate, manufacturing a second substrate, and injecting a liquid crystal between the first substrate and the second substrate; A manufacturing method of a transmissive liquid crystal display device is provided.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

<실시예 1><Example 1>

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치를 도시한 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating a reflection-transmissive liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 반사-투과형 액정표시장치(500)는 제 1 기판(100), 제 2 기판(200) 및 액정(300)으로 구성된다.Referring to FIG. 1, the reflection-transmissive liquid crystal display device 500 includes a first substrate 100, a second substrate 200, and a liquid crystal 300.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 제 1 기판에 형성된 복수개의 픽셀 중 1 개를 도시한 블록도이다. 도 3은 도 2의 A-A 단면도이다.FIG. 2 is a block diagram illustrating one of a plurality of pixels formed on a first substrate according to a first embodiment of the present invention. 3 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 2 또는 도 3을 참조하면, 제 1 기판(100)은 제 1 투명 기판(110), 전압 공급 장치(120), 불투명 유기막(130) 및 화소 전극(140)을 포함한다.2 or 3, the first substrate 100 includes a first transparent substrate 110, a voltage supply device 120, an opaque organic layer 130, and a pixel electrode 140.

제 1 투명 기판(110)은 바람직하게 광투과도가 뛰어난 유리 기판이다. 유리 기판에는 요구 해상도에 적합한 픽셀 영역(160)들이 형성된다. 픽셀 영역(160)의개수는 해상도가 800 ×600일 때, 800 ×600 ×3개이다.The first transparent substrate 110 is preferably a glass substrate excellent in light transmittance. Pixel regions 160 suitable for the desired resolution are formed on the glass substrate. The number of pixel areas 160 is 800 × 600 × 3 when the resolution is 800 × 600.

전압 공급 장치(120)는 제 1 투명 기판(110)에 형성된 픽셀 영역(160)마다 1 개씩 형성된다. 전압 공급 장치(120)는 다시 박막 트랜지스터(127), 게이트 라인(128) 및 데이터 라인(129)으로 구성된다.One voltage supply device 120 is formed for each pixel region 160 formed on the first transparent substrate 110. The voltage supply device 120 is composed of the thin film transistor 127, the gate line 128, and the data line 129.

박막 트랜지스터(127)는 게이트 전극(121), 채널층(122), 소오스 전극(123), 드레인 전극(124)으로 구성된다. 도 3에 도시된 미설명 도면부호 125는 게이트 전극(121) 및 채널층(122)을 절연시키는 절연막이다.The thin film transistor 127 includes a gate electrode 121, a channel layer 122, a source electrode 123, and a drain electrode 124. Unexplained reference numeral 125 shown in FIG. 3 is an insulating film insulating the gate electrode 121 and the channel layer 122.

게이트 라인(128)은 게이트 전극(121)과 연결되고, 데이터 라인(129)은 소오스 전극(123)과 연결된다. 게이트 라인(128)과 데이터 라인(129)은 절연된 상태로 바람직하게 직교한다.The gate line 128 is connected to the gate electrode 121, and the data line 129 is connected to the source electrode 123. The gate line 128 and the data line 129 are preferably orthogonal in an insulated state.

도 3에 도시된 불투명 유기막(130)은 제 1 투명 기판(110)에 전압 공급 장치(120)가 덮이도록 형성된다. 불투명 유기막(130)은 바람직하게 광투과도는 낮고 광 흡수율은 높으며, 광과 반응하여 제거되는 포지티브 감광물질로 이루어진다. 불투명 유기막(130)은 외부에서 인가된 광을 흡수하여 외부로 광이 재 반사되지 않도록 한다.The opaque organic layer 130 illustrated in FIG. 3 is formed such that the voltage supply device 120 is covered on the first transparent substrate 110. The opaque organic layer 130 is preferably made of a positive photosensitive material which is low in light transmittance, high in light absorption, and is removed by reaction with light. The opaque organic layer 130 absorbs light applied from the outside so that the light is not reflected back to the outside.

불투명 유기막(130)은 콘택홀(131), 광 투과창(132) 및 엠보싱 패턴(133)을 갖는다.The opaque organic layer 130 has a contact hole 131, a light transmitting window 132, and an embossed pattern 133.

콘택홀(131)은 불투명 유기막(130)의 하부에 배치된 박막 트랜지스터(127)의 드레인 전극(124)을 개구시킨다.The contact hole 131 opens the drain electrode 124 of the thin film transistor 127 disposed under the opaque organic layer 130.

광 투과창(132)은 도 2에 도시된 픽셀 영역(160)의 내부에 형성된다. 광 투과창(132)은 제 1 투명 기판(110)을 통하여 광이 투과되도록 한다. 엠보싱 패턴(133)은 불투명 유기막(130)의 상면에 일정한 규칙을 갖는 반구 형상 또는 랜덤한 형상으로 형성된다. 불투명 유기막(130)은 게이트 라인(128) 및 데이터 라인(129)도 함께 덮는다.The light transmitting window 132 is formed inside the pixel region 160 illustrated in FIG. 2. The light transmission window 132 allows light to pass through the first transparent substrate 110. The embossing pattern 133 is formed in a hemispherical shape or a random shape having a predetermined rule on the upper surface of the opaque organic film 130. The opaque organic layer 130 also covers the gate line 128 and the data line 129 together.

도 3을 참조하면, 화소 전극(140)은 다시 반사 전극(142) 및 투명 전극(144)으로 구성된다.Referring to FIG. 3, the pixel electrode 140 is composed of a reflective electrode 142 and a transparent electrode 144.

반사 전극(142)은 각 픽셀 영역(160)마다 형성된다. 반사 전극(142)은 광반사율이 높은 알루미늄, 알루미늄 합금 재질로 제작되며, 반사 전극(142)의 일부는 콘택홀(131)에 의하여 노출된 박막 트랜지스터(127)의 드레인 전극(124)에 연결된다. 이때, 반사 전극(142)중 불투명 유기막(130)에 형성된 광 투과창(132)부분은 개구되어 광 투과창(132)을 통하여 입사되는 광이 반사 전극(142)에 의하여 가려지지 않도록 한다.The reflective electrode 142 is formed for each pixel region 160. The reflective electrode 142 is made of aluminum or an aluminum alloy having high light reflectivity, and a part of the reflective electrode 142 is connected to the drain electrode 124 of the thin film transistor 127 exposed by the contact hole 131. . In this case, the light transmitting window 132 formed in the opaque organic layer 130 of the reflective electrode 142 is opened so that light incident through the light transmitting window 132 is not blocked by the reflective electrode 142.

투명 전극(144)은 각 픽셀 영역(160)의 전면적에 형성된다. 투명 전극(144)은 도전성이면서 광이 투과되는 인듐 주석 산화막(Indium Tin Oxide) 또는 인듐 아연 산화막(Indium Zinc Oxide) 재질로 이루어진다.The transparent electrode 144 is formed on the entire area of each pixel region 160. The transparent electrode 144 is made of an indium tin oxide film or an indium zinc oxide film that is conductive and transmits light.

이때, 반사 전극(142) 및 투명 전극(144)은 그 위치가 서로 바뀌어도 무방하다.At this time, the positions of the reflective electrode 142 and the transparent electrode 144 may be changed.

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 제 2 기판의 평면도이다. 도 5는 도 4의 C-C 단면도이다.4 is a plan view of a second substrate according to a first embodiment of the present invention. 5 is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG.

도 4 또는 도 5를 참조하면, 제 2 기판(200)은 다시 제 2 투명 기판(210),컬러필터(250) 및 공통 전극(260)으로 구성된다.4 or 5, the second substrate 200 is again composed of a second transparent substrate 210, a color filter 250, and a common electrode 260.

제 2 투명 기판(210)은 광투과율이 높은 유리 기판이다. 제 2 투명 기판(210)에는 요구 해상도에 적합하도록 컬러필터 영역이 형성된다. 컬러필터 영역의 개수는 도 1에 도시된 제 1 기판(100)에 형성된 픽셀 영역(160)의 개수와 동일하며, 컬러필터 영역의 면적은 픽셀 영역(160)의 면적과 거의 동일하다.The second transparent substrate 210 is a glass substrate having a high light transmittance. The color filter region is formed on the second transparent substrate 210 to suit the required resolution. The number of color filter regions is the same as the number of pixel regions 160 formed on the first substrate 100 shown in FIG. 1, and the area of the color filter regions is substantially the same as the area of the pixel region 160.

컬러 필터(250)는 컬러필터 영역마다 형성된다. 컬러 필터(250)는 백색광 중 레드 파장의 광만을 출사시키는 레드 컬러 필터(220), 백색광 중 그린 파장의 광만을 출사시키는 그린 컬러 필터(230) 및 백색광 중 블루 파장의 광만을 출사시키는 블루 컬러필터(240)로 구성된다. 레드 컬러 필터(220), 그린 컬러 필터(230) 및 블루 컬러 필터(240)는 일정한 규칙으로 컬러 필터 영역마다 하나씩 형성된다.The color filter 250 is formed for each color filter region. The color filter 250 includes a red color filter 220 that emits only light of red wavelength among white light, a green color filter 230 that emits only light of green wavelength among white light, and a blue color filter that emits only light of blue wavelength among white light. It consists of 240. The red color filter 220, the green color filter 230, and the blue color filter 240 are formed one by one for each color filter area according to a predetermined rule.

이때, 레드 컬러 필터(220), 그린 컬러 필터(230) 및 블루 컬러 필터(240)의 에지는 상호 오버랩 되거나 오버랩 되지 않아도 무방하다.In this case, the edges of the red color filter 220, the green color filter 230, and the blue color filter 240 may or may not overlap each other.

공통 전극(260)은 다시 제 2 투명 기판(210)의 전면적에 걸쳐 형성된다. 공통 전극(260)은 도전성이면서 광투과도가 뛰어난 인듐 주석 산화막(Indium Tin Oxide) 또는 인듐 아연 산화막(Indium Zinc Oxide)이 사용될 수 있다.The common electrode 260 is again formed over the entire surface of the second transparent substrate 210. The common electrode 260 may be an indium tin oxide film or an indium zinc oxide film having excellent conductivity and light transmittance.

공통 전극(260)은 공통 전극(260)과 화소 전극(140) 사이에 액정을 제어하기 위한 전계가 형성되도록 한다.The common electrode 260 allows an electric field for controlling the liquid crystal to be formed between the common electrode 260 and the pixel electrode 140.

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 제 1 기판 및 제 2 기판이 조립된 액정표시장치의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device in which a first substrate and a second substrate are assembled according to the first embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 이와 같은 구성을 갖는 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200)은 상호 지정된 셀 갭(cell gap)을 갖도록 어셈블리 된다.Referring to FIG. 6, the first substrate 100 and the second substrate 200 having such a configuration are assembled to have a specified cell gap.

액정(300)은 어셈블리 된 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200)의 사이에 주입 또는 적하 된다.The liquid crystal 300 is injected or dropped between the assembled first substrate 100 and the second substrate 200.

이때, 광 투과창(132) 부분에서의 광이 투명 전극(144) 및 컬러 필터(250) 사이를 통과한 길이(D1)가 반사 전극(142) 부분에서 광이 컬러필터(250)-반사 전극(142)-컬러필터(250)를 통과한 길이(D2)와 거의 동일하다. 이처럼, 광 투과창(132) 부분에서 광이 통과한 길이 및 반사 전극(142) 부분에서 광이 통과한 길이가 동일해짐에 따라 광 투과창(132) 부분에서의 휘도 및 반사 전극(142) 부분에서의 휘도가 거의 동일해진다.At this time, the length D1 of the light passing through the transparent window 132 between the transparent electrode 144 and the color filter 250 passes through the color filter 250-reflecting electrode at the reflecting electrode 142. It is approximately equal to the length D2 passed through the (142) -color filter 250. As such, the length of the light passing through the light transmitting window 132 and the length of the light passing through the reflecting electrode 142 become the same, and thus the luminance and the reflecting electrode 142 of the light transmitting window 132. The luminance at becomes almost the same.

도 6에서 미설명 도면부호 170은 액정을 배향하기 위한 배향막이다.In FIG. 6, reference numeral 170 is an alignment layer for orienting liquid crystals.

<제 2 실시예>Second Embodiment

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 제 1 기판에 박막 트랜지스터를 형성하는 것을 도시한 공정도이다.7 is a flowchart illustrating the formation of a thin film transistor on a first substrate of a reflection-transmissive liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 제 1 투명 기판(110)에는 먼저 게이트 전극(121) 및 게이트 라인(도 2참조, 128)이 형성된다.Referring to FIG. 7, a gate electrode 121 and a gate line (see FIG. 2) are formed on the first transparent substrate 110 first.

게이트 전극(121) 및 게이트 라인(128)을 형성하기 위해서, 제 1 투명 기판(110)에는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 재질인 게이트 메탈이 제 1 투명 기판(110)의 전면적에 걸쳐 증착된다. 제 1 투명 기판(110)에 증착된 게이트 메탈을 "게이트 박막"이라 정의하기로 한다.In order to form the gate electrode 121 and the gate line 128, a gate metal made of aluminum or an aluminum alloy is deposited on the first transparent substrate 110 over the entire surface of the first transparent substrate 110. The gate metal deposited on the first transparent substrate 110 will be referred to as a "gate thin film".

제 1 투명 기판(110)에 형성된 게이트 박막은 사진 식각 공정을 거쳐 도 7에도시된 바와 같이 게이트 전극(121) 및 게이트 라인(128)이 동시에 형성된다. 이때, 게이트 전극(121)은 요구 해상도에 적합하게 설정된 픽셀 영역(도 2참조, 160) 마다 하나씩 형성된다.In the gate thin film formed on the first transparent substrate 110, the gate electrode 121 and the gate line 128 are simultaneously formed as shown in FIG. 7 through a photolithography process. In this case, one gate electrode 121 is formed for each pixel region (see FIG. 2, 160) set to meet the required resolution.

이어서, 절연막(125)이 게이트 전극(121) 및 게이트 라인(128)을 덮도록 제 1 투명 기판(110)의 전면적에 걸쳐 증착된다. 이때, 절연막(125)은 투명하면서 저항이 높은 물질이 사용된다.Next, an insulating film 125 is deposited over the entire surface of the first transparent substrate 110 to cover the gate electrode 121 and the gate line 128. In this case, the insulating film 125 is made of a transparent material with high resistance.

절연막(125)이 제 1 투명 기판(110)에 형성된 후, 제 1 투명 기판(110)에는 채널층(120)인 아몰퍼스 실리콘층(122a) 및 n+아몰퍼스 실리콘층(122b)이 순차적으로 증착된다.After the insulating film 125 is formed on the first transparent substrate 110, the amorphous silicon layer 122a, which is the channel layer 120, and the n + amorphous silicon layer 122b are sequentially deposited on the first transparent substrate 110. .

n+아몰퍼스 실리콘층(122b)은 게이트 전극(121)의 상부에서 상호 단락 되도록 패터닝되어 형성되고, 아몰퍼스 실리콘층(122a)은 게이트 전극(121)의 상부에서 상호 단락 되지 않도록 패터닝된다.The n + amorphous silicon layer 122b is patterned to be mutually shorted on the gate electrode 121, and the amorphous silicon layer 122a is patterned so as not to be mutually shorted on the gate electrode 121.

채널층(120)이 형성된 상태에서, 제 1 투명 기판(110)에는 다시 전면적에 걸쳐 소오스/드레인 메탈 박막이 형성된 후 패터닝되어 소오스 전극(123) 및 드레인 전극(124)이 형성된다. 도 2에 도시된 데이터 라인(129)은 소오스 전극(123) 및 드레인 전극(124)이 형성되는 과정에서 형성된다.In the state where the channel layer 120 is formed, the source / drain metal thin film is formed on the first transparent substrate 110 again over the entire area, and then patterned to form the source electrode 123 and the drain electrode 124. The data line 129 illustrated in FIG. 2 is formed while the source electrode 123 and the drain electrode 124 are formed.

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 1 투명 기판에 불투명 유기막이 형성된 것을 도시한 공정도이다. 도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 패터닝된 불투명 유기막을 도시한 공정도이다.8 is a flowchart illustrating an opaque organic film formed on a first transparent substrate according to a second embodiment of the present invention. 9 is a flowchart illustrating an opaque organic film patterned according to a second embodiment of the present invention.

도 8 또는 도 9를 참조하면, 제 1 투명 기판(110)에는 박막 트랜지스터(127)가 모두 덮이도록 불투명 유기물질이 스핀 코팅 등의 방법에 의하여 도포되어 패터닝되지 않은 불투명 유기막(135)이 형성된다.8 or 9, an opaque organic layer 135 is formed on the first transparent substrate 110 so that the opaque organic material is coated by a spin coating method to cover all of the thin film transistors 127. do.

불투명 유기막(135)이 형성된 상태에서 불투명 유기막(135)의 상면에는 다시 패턴 마스크(139)가 얼라인 된다.In the state where the opaque organic film 135 is formed, the pattern mask 139 is again aligned on the upper surface of the opaque organic film 135.

패턴 마스크(139)는 크게 3 개의 서로 다른 패턴을 갖는다. 패턴 마스크(139)에 형성된 첫 번째 패턴(136)은 불투명 유기막(135)의 상면에 엠보싱 요철을 형성하기 위한 패턴으로 슬릿 형태 패턴이다.The pattern mask 139 has three different patterns. The first pattern 136 formed on the pattern mask 139 is a slit pattern as a pattern for forming embossed irregularities on the upper surface of the opaque organic film 135.

두 번째 패턴(137)은 불투명 유기막(135)에 콘택홀이 형성되도록 한다. 두 번째 패턴(137)에 의하여 불투명 유기막(135)중 박막 트랜지스터(127)의 드레인 전극(124) 부분에는 콘택홀이 형성된다.The second pattern 137 allows contact holes to be formed in the opaque organic layer 135. A contact hole is formed in the drain electrode 124 of the thin film transistor 127 of the opaque organic layer 135 by the second pattern 137.

세 번째 패턴(138)은 불투명 유기막(135)에 광 투과창이 형성되도록 한다. 세 번째 패턴(138)에 의하여 불투명 유기막(135)에는 광 투과창이 형성된다.The third pattern 138 allows the light transmission window to be formed in the opaque organic layer 135. The light transmission window is formed on the opaque organic layer 135 by the third pattern 138.

이와 같은 패턴(136, 137, 138)이 형성된 패턴 마스크(139)는 불투명 유기막(135)의 상면에 얼라인 된 상태에서 노광이 수행된다.The pattern mask 139 on which the patterns 136, 137, and 138 are formed is exposed to light while the pattern mask 139 is aligned with the top surface of the opaque organic layer 135.

노광에 의하여 도 9에 도시된 바와 같이 불투명 유기막(135)은 패터닝된다. 이하, 패터닝된 불투명 유기막에 도면부호 130을 부여하기로 한다.As shown in FIG. 9, the opaque organic film 135 is patterned by exposure. Hereinafter, reference numeral 130 will be given to the patterned opaque organic film.

패터닝된 불투명 유기막(130)에는 엠보싱 요철(133), 콘택홀(131) 및 광 투과창(132)이 형성된다.The patterned opaque organic layer 130 is formed with embossed irregularities 133, a contact hole 131, and a light transmitting window 132.

불투명 유기막(130)에 엠보싱 요철(133), 콘택홀(131) 및 광 투과창(132)이형성된 상태에서 불투명 유기막(130)에는 전면적에 걸쳐 화소 전극(140)이 형성된다.The pixel electrode 140 is formed over the entire area of the opaque organic layer 130 in a state where the embossed unevenness 133, the contact hole 131, and the light transmitting window 132 are formed in the opaque organic layer 130.

불투명 유기막(130)에는 전면적에 걸쳐 소오스/드레인 메탈이 형성되고, 소오스/드레인 메탈은 사진, 식각 공정에 의하여 패터닝되어 반사 전극(142)이 형성된다.The source / drain metal is formed on the opaque organic layer 130 over the entire area, and the source / drain metal is patterned by a photo or etching process to form the reflective electrode 142.

반사 전극(142)이 형성된 상태에서 불투명 유기막(130)의 상면에는 다시 인듐 주석 산화막이 전면적에 걸쳐 형성된다. 이후, 인듐 주석 산화막은 픽셀 영역에만 남도록 패터닝되어 투명 전극(144)이 형성된다.An indium tin oxide film is formed over the entire surface of the opaque organic film 130 in the state where the reflective electrode 142 is formed. Thereafter, the indium tin oxide film is patterned to remain only in the pixel region to form a transparent electrode 144.

도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 2 기판을 제조하는 과정을 도시한 공정도이다.10 is a process diagram illustrating a process of manufacturing a second substrate according to a second embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 먼저, 제 2 투명 기판(210)에는 컬러필터(250)가 제작된다. 컬러필터(250)는 레드 컬러필터(220)를 전면 증착한 후 패터닝, 그린 컬러필터(230)를 전면 증착한 후 패터닝 및 블루 컬러필터(240)를 전면 증착한 후 패터닝하는 과정을 거처 제작된다.Referring to FIG. 10, first, a color filter 250 is manufactured on the second transparent substrate 210. The color filter 250 is fabricated through the process of depositing the red color filter 220 on the entire surface, patterning the surface, depositing the green color filter 230 on the front surface, patterning, and depositing the blue color filter 240 on the surface. .

이때, 각 컬러필터(250)의 에지는 상호 오버랩 되거나, 오버랩 되지 않을 수 있다.In this case, the edges of the color filters 250 may overlap each other or may not overlap each other.

컬러필터(250)까지 형성된 상태에서 제 2 투명 기판(210)에는 공통 전극(260)이 형성된다. 공통 전극(260)은 인듐 주석 산화막 또는 인듐 아연 산화막으로 제작되며, 제 2 투명 기판(210)의 전면적에 걸쳐 형성된다.The common electrode 260 is formed on the second transparent substrate 210 while the color filter 250 is formed. The common electrode 260 is made of an indium tin oxide film or an indium zinc oxide film, and is formed over the entire area of the second transparent substrate 210.

이와 같은 과정을 거쳐 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200)이 형성된 상태에서 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200)은 상호 어셈블리 되는 과정을 거친다.Through the above process, the first substrate 100 and the second substrate 200 are assembled to each other while the first substrate 100 and the second substrate 200 are formed.

어셈블리 된 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(200)에는 액정(300)이 주입되어 액정표시장치가 제작된다.The liquid crystal 300 is injected into the assembled first substrate 100 and the second substrate 200 to manufacture a liquid crystal display device.

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 반사-투과형 액정표시장치에서 반사 전극 및 투명 전극을 형성하기 위한 유기막을 광 흡수율은 높고 광반사율은 낮은 불투명 유기막을 사용함으로써 반사 전극 부분에서의 휘도 및 투명 전극 부분에서의 휘도 편차를 감소시킬 수 있으며, 컬러필터가 형성된 기판과 박막 트랜지스터, 화소전극이 형성된 기판의 미스 얼라인에 의한 개구율 변화를 최소화할 수 있는 장점을 갖는다.As described in detail above, the organic film for forming the reflective electrode and the transparent electrode in the reflection-transmissive liquid crystal display device uses an opaque organic film having a high light absorption rate and a low light reflectance ratio, The luminance variation of the substrate can be reduced, and the change in aperture ratio due to misalignment of the substrate including the color filter, the thin film transistor, and the substrate on which the pixel electrode is formed can be minimized.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge in the scope of the invention described in the claims to be described later It will be understood that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the present invention.

Claims (9)

(a) 제 1 투명 기판, (b) 상기 제 1 투명 기판에 형성된 복수개의 픽셀 영역에 제 1 전압을 공급하는 전원 공급 수단, (c) 상기 전원 공급 수단의 출력단 위치에 형성된 콘택홀 및 상기 픽셀 영역마다 광이 통과하는 광 투과 영역을 갖는 불투명 유기막, (d) 상기 픽셀 영역마다 상기 출력단을 통하여 상기 광 투과 영역을 제외한 광 반사 영역에 상기 제 1 전압을 인가하는 반사 전극 및 상기 출력단을 통하여 상기 광 투과 영역에 상기 제 1 전압을 인가하는 투명 전극을 포함하는 화소 전극을 포함하는 제 1 기판;(a) a first transparent substrate, (b) a power supply means for supplying a first voltage to a plurality of pixel regions formed on the first transparent substrate, (c) a contact hole formed at an output end position of the power supply means and the pixel An opaque organic film having a light transmissive region through which light passes through each region, (d) a reflective electrode for applying the first voltage to the light reflecting region other than the light transmissive region through the output terminal per pixel region, and through the output terminal A first substrate including a pixel electrode including a transparent electrode applying the first voltage to the light transmitting region; 제 2 투명 기판, 상기 제 2 투명 기판에 형성된 공통전극을 포함하는 제 2 기판; 및A second substrate including a second transparent substrate and a common electrode formed on the second transparent substrate; And 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 주입된 액정을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치.And a liquid crystal injected between the first substrate and the second substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 불투명 유기막의 상면에는 엠보싱 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치.The reflection-transmissive liquid crystal display device according to claim 1, wherein an embossing pattern is formed on an upper surface of the opaque organic film. 제 2 항에 있어서, 상기 불투명 유기막은 포지티브 블랙 포토레지스트 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치.The liquid crystal display of claim 2, wherein the opaque organic layer is made of a positive black photoresist material. 제 1 항에 있어서, 상기 각 픽셀 영역 중 제 2 기판 및 상기 공통 전극의 사이에는 컬러필터가 형성된 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치.The liquid crystal display of claim 1, wherein a color filter is formed between the second substrate and the common electrode among the pixel areas. 제 1 항에 있어서, 상기 투명 전극은 상기 반사 전극의 상면에 형성된 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치.The reflective-transmissive liquid crystal display device according to claim 1, wherein the transparent electrode is formed on an upper surface of the reflective electrode. 제 1 항에 있어서, 상기 전원 공급 수단은 상기 픽셀 영역마다 형성된 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터에 계조 전압을 인가하는 데이터 라인 및 상기 박막 트랜지스터를 스위칭 하여 상기 계조 전압을 상기 화소 전극으로 인가하는 게이트 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치.The display device of claim 1, wherein the power supply means comprises a thin film transistor formed in each pixel region, a data line for applying a gray voltage to the thin film transistor, and a gate line for switching the thin film transistor to apply the gray voltage to the pixel electrode. Reflective-transmissive liquid crystal display device comprising a. 제 1 투명 기판에 형성된 복수개의 픽셀 영역에 제 1 전압을 공급하는 전원 공급 수단을 형성하는 단계, 상기 전원 공급 수단의 출력단 위치에 콘택홀을 형성 및 상기 픽셀 영역마다 광이 통과하는 광 투과 영역이 형성된 불투명 유기막을 형성하는 단계, 상기 픽셀 영역마다 상기 출력단을 통하여 상기 픽셀 영역 중 상기 광 투과 영역을 제외한 광 반사 영역에 반사 전극을 형성 및 상기 출력단을 통하여 상기 광 투과 영역에 투명 전극을 형성하여 제 1 기판을 제조하는 단계;Forming a power supply means for supplying a first voltage to a plurality of pixel regions formed on the first transparent substrate, forming a contact hole at an output end position of the power supply means, and a light transmitting region through which light passes through each pixel region Forming a formed opaque organic film, forming a reflective electrode in the light reflection region except for the light transmission region of the pixel region through the output terminal for each pixel region, and forming a transparent electrode in the light transmission region through the output terminal 1 manufacturing a substrate; 제 2 투명 기판에 공통전극을 형성하여 제 2 기판을 제조하는 단계; 및Manufacturing a second substrate by forming a common electrode on the second transparent substrate; And 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 액정을 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치의 제조 방법.And injecting a liquid crystal between the first substrate and the second substrate. 제 7 항에 있어서, 상기 불투명 유기막을 형성하는 단계에서는 상기 불투명 유기막의 상면에 엠보싱 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치의 제조 방법.The method of claim 7, wherein the forming of the opaque organic film further comprises forming an embossing pattern on an upper surface of the opaque organic film. 제 7 항에 있어서, 상기 화소 전극을 형성하는 단계는 상기 불투명 유기막의 상면에 상기 반사 전극을 형성한 후 상기 반사 전극의 상면에 상기 투명 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정표시장치의 제조 방법.The reflective-transmissive liquid crystal display of claim 7, wherein the forming of the pixel electrode comprises forming the reflective electrode on an upper surface of the opaque organic film and then forming the transparent electrode on an upper surface of the reflective electrode. Manufacturing method.
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