KR20070072966A - Color filter substrate and fabricating method thereof - Google Patents

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Abstract

A color filter substrate and a manufacturing method thereof are provided to maintain a cell gap uniformly and to implement a color with high saturation. A black matrix(140) is formed on a substrate and divides a pixel area having a reflection area and a transmission area. At least two color filters(142) with different transmittance are formed on the reflection area. An insulating pattern(144) is formed on the color filter and makes the difference of a cell gap between the reflection area and the transmission area. The first color filter is formed at the reflection area and the transmission area in order to form a light hole at a partial area of the reflection area. The second color filter is filled with the first light hole, formed with the same height as the first color filter and has the low transmittance in comparison with the first color filter.

Description

컬러필터 기판 및 그 제조방법{Color Filter Substrate And Fabricating Method Thereof}Color filter substrate and its manufacturing method {Color Filter Substrate And Fabricating Method Thereof}

도 1은 본 발명에 따른 반투과형 박막트랜지스터 어레이 기판과 컬러필터 기판을 나타내는 평면도이다.1 is a plan view illustrating a transflective thin film transistor array substrate and a color filter substrate according to the present invention.

도 2는 도 1에서 선"Ⅰ-Ⅰ'"를 따라 절취한 컬러필터 기판과 박막트랜지스터 어레이 기판을 나타내는 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a color filter substrate and a thin film transistor array substrate cut along the line "I-I '" in FIG. 1.

도 3은 도 2에 도시된 컬러필터 기판의 다른 실시 예를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating another embodiment of the color filter substrate illustrated in FIG. 2.

도 4a 및 도 4b는 종래 라이트 홀을 가지는 액정 표시 장치의 컬러필터와 본 발명에 따른 라이트 홀 내에 충진된 제2 컬러필터를 가지는 액정 표시 장치의 컬러필터의 투과율을 나타내는 도면이다.4A and 4B are diagrams illustrating transmittances of a color filter of a liquid crystal display having a color filter of a liquid crystal display having a conventional light hole and a second color filter filled in the light hole according to the present invention.

도 5a 내지 도 5f는 도 2에 도시된 컬러필터 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다.5A through 5F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the color filter substrate illustrated in FIG. 2.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

101,111 : 기판 102 : 게이트라인101,111 substrate 102 gate line

104 : 데이터라인 106 : 게이트전극104: data line 106: gate electrode

108 : 소스전극 110 : 드레인전극108: source electrode 110: drain electrode

112 : 게이트절연막 114 : 활성층112: gate insulating film 114: active layer

116 : 오믹접촉층 118 : 보호막116: ohmic contact layer 118: protective film

120 : 콘택홀 122 : 화소전극120 contact hole 122 pixel electrode

130 : 반사 전극 138 : 라이트 홀130: reflective electrode 138: light hole

140 : 블랙매트릭스 142 : 컬러필터140: black matrix 142: color filter

144 : 절연 패턴 146 : 공통전극144: insulating pattern 146: common electrode

150 : 컬러필터 기판 160 : 박막트랜지스터 기판150: color filter substrate 160: thin film transistor substrate

본 발명은 컬러필터 기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 셀갭을 균일하게 할 수 있음과 아울러 채도가 높은 색을 구현할 수 있는 컬러필터 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a color filter substrate and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a color filter substrate and a method for manufacturing the same, which can realize a high color saturation and uniform cell gap.

통상, 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 액정 패널에 매트릭스 형태로 배열된 액정셀들 각각이 비디오 신호에 따라 광투과율을 조절하게 함으로써 화상을 표시하게 된다. In general, a liquid crystal display (LCD) displays an image by allowing each of the liquid crystal cells arranged in a matrix form on a liquid crystal panel to adjust light transmittance according to a video signal.

이러한 액정 표시 장치 중 반투과형 액정 표시 장치는 투과형과 반사형의 장 점을 가지고 있다. 이 반투과형 액정 표시 장치는 외부광이 충분하면 반사 모드로, 불충분하면 백라이트 유닛을 이용한 투과 모드로 동작하게 된다. 따라서, 반투과형 액정표시장치는 투과형 액정표시장치보다 소비전력을 줄일 수 있으면서 반사형 액정표시장치와 달리 외부광의 제약을 받지 않게 된다.The transflective liquid crystal display of the liquid crystal display has advantages of transmissive and reflective. The transflective liquid crystal display operates in a reflection mode when the external light is sufficient, and in a transmission mode using the backlight unit when the external light is insufficient. Therefore, the transflective liquid crystal display device can reduce power consumption than the transmissive liquid crystal display device and is not subject to external light, unlike the reflective liquid crystal display device.

이러한 반투과형 액정 표시 장치는 외부광을 이용하여 화상을 구현하는 반사영역과 내부광(백라이트 유닛)을 이용하여 화상을 구현하는 투과 영역을 구비한다. 반사영역으로 입사된 외부광은 액정층을 경유하여 반사전극에서 반사되어 액정층을 다시 경유하여 외부로 방출된다. 그리고, 투과영역으로 입사된 백라이트 유닛의 내부광은 액정층을 투과하여 외부로 방출된다. 이 경우, 반사영역의 외부광은 컬러필터를 2회 통과하는 반면에 투과영역의 내부광은 컬러필터를 1회 통과하므로 반사영역과 투과영역에서 색차가 발생된다. The transflective liquid crystal display includes a reflection area for implementing an image using external light and a transmission area for implementing an image using internal light (backlight unit). The external light incident to the reflective region is reflected by the reflective electrode via the liquid crystal layer and emitted to the outside via the liquid crystal layer again. In addition, the internal light of the backlight unit incident to the transmission region passes through the liquid crystal layer and is emitted to the outside. In this case, the external light of the reflective region passes through the color filter twice, whereas the internal light of the transmissive region passes through the color filter once.

이러한 문제점을 해결하기 위하여, 라이트 홀(Light Hole : LH)을 가지는 이중 셀갭 방식의 액정 표시 장치가 제안되었다.In order to solve this problem, a double cell gap type liquid crystal display device having a light hole (LH) has been proposed.

라이트 홀을 가지는 이중 셀갭 방식의 액정 표시 장치는 색차이를 보상해주기 위한 라이트홀과, 투과 영역과 반사영역의 광경로차를 보상해주기 위한 절연 패턴을 구비한다. The liquid crystal display of a dual cell gap type having a light hole includes a light hole for compensating for color difference, and an insulating pattern for compensating for an optical path difference between a transmission area and a reflection area.

라이트 홀은 반사영역에 위치하는 컬러필터의 일부를 관통하도록 형성되어 반사영역과 투과 영역에서 광의 컬러필터의 통과 횟수에 따른 색차이를 보상해준다. 절연 패턴은 투과영역의 셀갭이 반사영역의 셀갭의 2배가 되도록 하여 내부광과 투과광의 광경로차를 보상해준다. The light hole is formed to penetrate a part of the color filter positioned in the reflection area, thereby compensating for the color difference according to the number of passes of the color filter in the reflection area and the transmission area. The insulating pattern compensates the optical path difference between the internal light and the transmitted light by allowing the cell gap of the transmission area to be twice the cell gap of the reflection area.

이와 같은 라이트 홀을 가지는 이중 셀갭 방식의 액정 표시 장치는 라이트홀과 중첩되게 형성되는 절연 패턴이 라이트 홀에 의해 라이트홀과 중첩되는 영역에서 단차지게 형성된다. 또한, 절연 패턴 상에 형성되는 스페이서도 라이트홀에 의해 라이트홀과 중첩되는 영역에서 단차지게 형성됨으로써 전체 액정 표시 패널의 셀갭이 균일하지 못한 문제점이 있다.In the dual cell gap type liquid crystal display having the light holes as described above, an insulating pattern formed to overlap the light holes is stepped in a region overlapping the light holes by the light holes. In addition, the spacer formed on the insulating pattern is also stepped in the region overlapping with the light hole by the light hole, so that the cell gap of the entire liquid crystal display panel is not uniform.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 셀갭을 균일하게 할 수 있음과 아울러 채도가 높은 색을 구현할 수 있는 컬러필터 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다. Accordingly, the technical problem to be achieved by the present invention relates to a color filter substrate and a method of manufacturing the same, which can make the cell gap uniform and implement high color saturation.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 컬러필터 기판은 기판 상에 형성되며 반사영역과 투과영역을 가지는 화소영역을 구분하는 블랙매트릭스와; 상기 반사영역에서 서로 다른 투과율을 가지도록 형성되는 적어도 두 개의 컬러필터와; 상기 컬러 필터 상에 형성되어 상기 반사 영역과 투과 영역의 셀갭을 다르게 하는 절연 패턴을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, the color filter substrate according to the present invention comprises a black matrix formed on the substrate and separating the pixel region having a reflection region and a transmission region; At least two color filters formed to have different transmittances in the reflection area; And an insulating pattern formed on the color filter to different cell gaps between the reflective area and the transparent area.

상기 적어도 두 개의 컬러필터는 상기 반사 영역의 일부 영역에서 라이트 홀을 마련하도록 상기 반사 영역과 투과 영역에 형성되는 제1 컬러필터와; 상기 제1 라이트 홀 내에 충진되어 상기 제1 컬러필터와 동일 높이로 형성되며 상기 제1 컬 러필터와 투과율이 다른 제2 컬러필터를 포함하는 것을 특징으로 한다.The at least two color filters may include a first color filter formed in the reflection area and the transmission area to provide a light hole in a portion of the reflection area; And a second color filter filled in the first light hole and formed at the same height as the first color filter, and having a transmittance different from that of the first color filter.

상기 제2 컬러필터는 상기 제1 컬러필터의 투과율보다 낮은 투과율을 가지는 것을 특징으로 한다.The second color filter may have a transmittance lower than that of the first color filter.

상기 제2 컬러필터에 포함된 안료의 크기는 상기 제1 컬러필터에 포함된 안료의 크기보다 작은 것을 특징으로 한다.The size of the pigment included in the second color filter is smaller than the size of the pigment included in the first color filter.

상기 절연 패턴은 상기 제2 컬러필터와 중첩되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The insulating pattern may be formed to overlap the second color filter.

상기 절연 패턴은 상기 반사영역의 셀갭과 유사한 높이로 형성되는 것을 특징으로 한다.The insulating pattern may be formed at a height similar to a cell gap of the reflective region.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 컬러필터 기판의 제조방법은 반사영역과 투과영역을 가지는 화소영역을 구분하는 블랙매트릭스를 기판 상에 형성하는 단계와; 상기 반사영역에서 서로 다른 투과율을 가지는 적어도 두 개의 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 반사 영역과 투과 영역의 셀갭을 다르게 하는 절연 패턴을 상기 컬러필터 상에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, a method of manufacturing a color filter substrate according to the present invention includes the steps of forming a black matrix on the substrate for separating the pixel region having a reflection region and a transmission region; Forming at least two color filters having different transmittances in the reflective region; And forming an insulating pattern on the color filter that makes the cell gap between the reflective area and the transparent area different.

상기 적어도 두 개의 컬러필터를 형성하는 단계는 상기 반사 영역의 일부 영역에서 라이트 홀을 마련하도록 상기 반사영역과 투과 영역에 제1 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 제1 컬러필터와 투과율이 다른 제2 컬러필터를 상기 제1 컬러필터와 동일 높이로 상기 제1 라이트 홀 내에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the at least two color filters may include forming a first color filter in the reflection area and the transmission area to provide a light hole in a portion of the reflection area; And forming a second color filter having a different transmittance from the first color filter in the first light hole at the same height as the first color filter.

이하, 도 1 내지 도 5f를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5F.

도 1은 본 발명에 따른 반투과형 액정 표시 패널을 나타내는 평면도이며, 도 2는 도 1에서 선"Ⅰ-Ⅰ'"를 따라 절단한 액정 표시 패널을 나타내는 단면도이다.1 is a plan view illustrating a transflective liquid crystal display panel according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display panel cut along the line "I-I '" in FIG. 1.

도 2 및 도 3에 도시된 반투과형 액정 표시 패널은 박막트랜지스터 어레이가 형성된 박막트랜지스터 기판(160)과, 컬러필터 어레이가 형성된 컬러필터 기판(150)을 구비한다.The transflective liquid crystal display panel illustrated in FIGS. 2 and 3 includes a thin film transistor substrate 160 having a thin film transistor array and a color filter substrate 150 having a color filter array.

박막트랜지스터 기판(160)은 게이트 라인(102) 및 데이터 라인(104)과 접속된 박막트랜지스터와, 박막트랜지스터와 접속되며 화소영역에 형성된 화소 전극(122)과, 화소영역의 반사영역(RA)에 형성된 반사전극(130)을 구비한다.The thin film transistor substrate 160 may include a thin film transistor connected to the gate line 102 and the data line 104, a pixel electrode 122 connected to the thin film transistor and formed in the pixel region, and a reflective region RA of the pixel region. The reflective electrode 130 is formed.

박막트랜지스터는 게이트라인(102)으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인(104)으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(122)에 공급한다. 이를 위해, 박막트랜지스터는 게이트 라인(102)과 접속된 게이트 전극(106), 데이터 라인(104)에 포함된 소스 전극(108), 보호막(118)을 관통하는 콘택홀(120)을 통해 화소 전극(122)과 접속된 드레인 전극(110), 게이트 전극(106)과 게이트 절연막(112)을 사이에 두고 중첩되면서 소스 전극(108)과 드레인 전극(110) 사이에 채널을 형성하는 활성층(114), 활성층(114)과 소스 전극(108) 및 드레인 전극(110)과의 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층(116)을 구비한다.The thin film transistor selectively supplies the data signal from the data line 104 to the pixel electrode 122 in response to the gate signal from the gate line 102. To this end, the thin film transistor includes a pixel electrode through a gate electrode 106 connected to the gate line 102, a source electrode 108 included in the data line 104, and a contact hole 120 penetrating through the passivation layer 118. An active layer 114 forming a channel between the source electrode 108 and the drain electrode 110 while overlapping the drain electrode 110, the gate electrode 106, and the gate insulating layer 112 connected therebetween. And an ohmic contact layer 116 for ohmic contact between the active layer 114, the source electrode 108, and the drain electrode 110.

화소전극(122)은 데이터라인(104)과 게이트라인(102)의 교차로 마련된 화소영역에 위치하며 투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 화소전극(122)은 하부기판(101) 전면에 도포되는 보호막(118) 위에 형성되며, 콘택홀(120)을 통해 드레인전극(110)과 전기적으로 접속된다. 화소전극(122)은 박막트랜지스터를 통해 공급된 데이터 신호에 의해 공통전극(146)과 전위차를 발생시킨다. 이 전위차에 의해 액정이 회전하게 되며 반사영역과 투과영역 각각의 액정의 회전 정도에 따라서 광투과량이 결정된다. The pixel electrode 122 is formed of a transparent conductive material having a high transmittance and positioned in a pixel region provided at the intersection of the data line 104 and the gate line 102. The pixel electrode 122 is formed on the passivation layer 118 applied to the entire lower substrate 101 and is electrically connected to the drain electrode 110 through the contact hole 120. The pixel electrode 122 generates a potential difference from the common electrode 146 by a data signal supplied through the thin film transistor. This potential difference causes the liquid crystal to rotate, and the light transmittance is determined according to the degree of rotation of the liquid crystal in each of the reflective and transmissive regions.

반사전극(130)은 컬러 필터 기판(150)을 통해 입사되는 외부광을 컬러 필터 기판(150) 쪽으로 반사시킨다. 이러한 반사전극(130)이 형성된 영역은 각 화소영역 중 반사영역(RA)이 되며, 반사전극(130)이 형성되지 않은 영역은 각 화소영역 중 투과영역(TA)이 된다. The reflective electrode 130 reflects external light incident through the color filter substrate 150 toward the color filter substrate 150. The region in which the reflective electrode 130 is formed becomes the reflective region RA among the pixel regions, and the region in which the reflective electrode 130 is not formed becomes the transmissive region TA of each pixel region.

컬러필터 기판(150)에는 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스(140)와, 칼러 구현을 위한 칼러 필터(142), 반사영역(RA)에 위치하는 컬러 필터(142)의 일부를 관통하도록 형성된 라이트홀(138), 라이트홀(138)과 중첩되도록 형성된 절연 패턴(144), 화소 전극(122)과 수직전계를 이루는 공통전극(146), 액정 표시 패널의 셀갭(d1)을 유지하는 스페이서(148)를 포함하는 컬러필터 어레이가 상부기판(111) 상에 형성된다.The color filter substrate 150 has a light hole formed to penetrate the black matrix 140 to prevent light leakage, the color filter 142 for color implementation, and a part of the color filter 142 positioned in the reflection area RA. 138, an insulating pattern 144 formed to overlap the light hole 138, a common electrode 146 forming a vertical electric field with the pixel electrode 122, and a spacer 148 holding the cell gap d1 of the liquid crystal display panel. An array of color filters is formed on the upper substrate 111.

라이트 홀(138)은 반사 영역(RA)에 위치하는 제1 컬러 필터(142a)의 일부 영역을 관통하도록 형성되어 제2 컬러 필터(142b)의 충진 영역을 마련한다.The light hole 138 is formed to penetrate a portion of the first color filter 142a positioned in the reflective region RA to provide a filling region of the second color filter 142b.

컬러 필터(142)는 블랙매트릭스(140)에 의해 마련된 화소영역에 형성되는 제1 및 제2 컬러 필터(142a,142b)를 포함한다.The color filter 142 includes first and second color filters 142a and 142b formed in the pixel area provided by the black matrix 140.

제1 컬러 필터(142a)는 라이트홀(138)을 제외한 나머지 영역에 적색(R1), 녹 색(G1), 청색(B1) 별로 형성되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)을 구현한다.The first color filter 142a is formed for each of red (R1), green (G1), and blue (B1) in the remaining areas except for the light hole 138, and thus red (R), green (G), and blue (B). Implement

제2 컬러 필터(142b)는 라이트홀(138)에 적색(R2), 녹색(G2), 청색(B2) 별로 충진되도록 형성되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)을 구현한다. 이 때, 제2 컬러 필터(142b)는 제1 컬러 필터(142a)보다 투과율이 낮게 형성된다. 이를 위해, 안료와 폴리머 등으로 이루어진 제2 컬러필터(142b)는 제1 컬러 필터(142a)에 비해 안료의 크기가 작고 폴리머의 함량이 높다. 또는 제2 컬러필터(142b)는 제1 컬러필터(142a)와 동일한 크기의 안료의 함량이 제1 컬러필터(142a)에 비해 낮고 제1 컬러필터(142a)에 비해 폴리머의 함량이 높다.The second color filter 142b is formed to fill the light hole 138 for each of red (R2), green (G2), and blue (B2) to implement red (R), green (G), and blue (B). . In this case, the second color filter 142b has a lower transmittance than the first color filter 142a. To this end, the second color filter 142b made of a pigment and a polymer has a smaller pigment size and a higher polymer content than the first color filter 142a. Alternatively, the second color filter 142b has a lower pigment content than the first color filter 142a and a higher polymer content than the first color filter 142a.

이와 같이 제1 컬러필터(142a)보다 투과율이 낮은 제2 컬러필터(142b)를 이용하는 액정 표시 장치는 라이트홀을 가지는 종래 액정 표시 장치에 비해 반사영역에서 채도가 높은 색을 구현할 수 있다. 이에 대하여 도 4a 및 도 4b를 결부하여 설명하기로 한다.As described above, the liquid crystal display using the second color filter 142b having a lower transmittance than the first color filter 142a may implement a color having a higher saturation in the reflection area than the conventional liquid crystal display having the light hole. This will be described with reference to FIGS. 4A and 4B.

도 4a 및 표 1에 도시된 바와 같이 라이트 홀을 가지는 종래 액정 표시 장치는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터 별로 소정 투과율을 가진다. 즉, 종래 적색(R) 컬러필터는 32~95%의 투과율을, 녹색 컬러필터(G)는 20~80%의 투과율을, 청색(B) 컬러필터는 48~94%의 투과율을 가진다.As shown in FIG. 4A and Table 1, the conventional liquid crystal display having a light hole has a predetermined transmittance for each of the red (R), green (G), and blue (B) color filters. That is, the conventional red (R) color filter has a transmittance of 32 to 95%, the green color filter (G) has a transmittance of 20 to 80%, and the blue (B) color filter has a transmittance of 48 to 94%.

Y(특정 파장대의 투과율)Y (transmittance of specific wavelength band) CRCR RR 53.453.4 6.0%   6.0% GG 78.578.5 BB 46.646.6 WW 59.559.5

반면에, 도 4b 및 표 2에 도시된 바와 같이 라이트 홀(138)에 제2 컬러필터(142b)가 충진된 본 발명에 따른 액정 표시 장치는 종래 라이트 홀을 가지는 액정 표시 장치의 컬러필터에 비해 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러 필터 별로 높은 투과율을 가질 뿐만 아니라 투과율 범위가 넓다. 즉, 본 발명에 따른 적색(R) 컬러 필터는 15~99%의 투과율을, 녹색(G) 컬러 필터는 56~98%의 투과율을, 청색(B) 컬러필터는 13~93%의 투과율을 가진다. On the other hand, the liquid crystal display according to the present invention, in which the second color filter 142b is filled in the light hole 138, as shown in FIG. 4B and Table 2, compared to the color filter of the liquid crystal display having the conventional light hole. The red (R), green (G) and blue (B) color filters not only have high transmittance but also have a wide transmittance range. That is, the red (R) color filter according to the present invention has a transmittance of 15 to 99%, the green (G) color filter has a transmittance of 56 to 98%, and the blue (B) color filter has a transmittance of 13 to 93%. Have

Y(특정 파장대의 투과율)Y (transmittance of specific wavelength band) CRCR RR 52.652.6 6.3%   6.3% GG 91.091.0 BB 55.355.3 WW 66.366.3

이와 같이, 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 컬러필터는 종래 액정 표시 장치에 비해 투과율이 높고 투과율의 범위가 넓다. 이에 따라, 본 발명에 따른 액정 표시 장치는 종래 라이트 홀을 가지는 액정 표시 장치에 비해 높은 채도를 갖는 색을 구현할 수 있다.As described above, the color filter of the liquid crystal display according to the present invention has a higher transmittance and a wider range of transmittance than the conventional liquid crystal display. Accordingly, the liquid crystal display according to the present invention may implement a color having a higher saturation compared to a liquid crystal display having a conventional light hole.

절연 패턴(144)은 라이트 홀(138) 내에 충진된 제2 컬러 필터(142b) 상에 1/2의 셀갭(d2) 정도의 높이로 형성된다. 이러한 절연 패턴(144)에 의해 반사 영역(RA)과 투과 영역(TA)에서 액정층을 경유하는 광 경로의 길이가 동일해진다. 이 결과, 반사영역(RA)으로 입사된 외부광은 액정층을 경유하여 반사전극(130)에서 반사되어 액정층을 경유하여 외부로 방출된다. 그리고, 투과영역(TA)으로 입사된 백라이트 유닛의 내부광은 액정층을 투과하여 외부로 방출된다. 이에 따라서, 반사영역(RA)과 투과영역(TA)에서의 광 경로의 길이가 동일하므로 액정표시장치의 반사모드와 투과모드의 투과효율이 같아진다. The insulating pattern 144 is formed on the second color filter 142b filled in the light hole 138 to a height of about 1/2 the cell gap d2. By the insulating pattern 144, the lengths of the optical paths passing through the liquid crystal layer in the reflection area RA and the transmission area TA are the same. As a result, the external light incident to the reflective region RA is reflected by the reflective electrode 130 via the liquid crystal layer and emitted to the outside via the liquid crystal layer. In addition, the internal light of the backlight unit incident to the transmission area TA passes through the liquid crystal layer and is emitted to the outside. Accordingly, since the lengths of the optical paths in the reflection area RA and the transmission area TA are the same, the transmission efficiency of the reflection mode and the transmission mode of the liquid crystal display device is the same.

한편, 절연 패턴(144)은 도 3에 도시된 바와 같이 라이트 홀(138) 내에 충진되도록 형성되고 제2 컬러필터(142b)가 절연 패턴(144) 상에 형성될 수도 있다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 3, the insulating pattern 144 may be formed to be filled in the light hole 138, and the second color filter 142b may be formed on the insulating pattern 144.

공통 전극(146)은 상부 기판(111) 상에 형성되어 공급된 공통 전압을 이용하여 액정의 움직임을 제어한다.The common electrode 146 is formed on the upper substrate 111 to control the movement of the liquid crystal using the supplied common voltage.

스페이서(148)는 공통 전극(146) 상에 절연 패턴(144)과 중첩되게 형성되어 박막 트랜지스터 기판(160)과 칼라필터 기판(150) 사이의 셀갭을 유지시킨다. 이러한 스페이서(148)는 절연 패턴(144)의 높이와 유사하게 셀 갭(d2)의 1/2정도의 높이(d1)로 형성된다.The spacer 148 is formed to overlap the insulating pattern 144 on the common electrode 146 to maintain a cell gap between the thin film transistor substrate 160 and the color filter substrate 150. The spacer 148 is formed to have a height d1 about 1/2 of the cell gap d2 similar to the height of the insulating pattern 144.

이와 같이, 본 발명에 따른 반투과형 컬러필터 기판은 라이트 홀을 마련하는 제1 컬러필터와, 라이트 홀 내에 투과율이 낮은 제2 컬러필터가 충진된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 반투과형 컬러필터 기판은 제1 및 제2 컬러필터 간의 단차가 제거됨으로써 이들 상에 형성되는 절연 패턴, 공통 전극 및 스페이서 자체의 단차가 없어져 전체 액정셀갭이 균일해진다. 또한, 본 발명에 따른 반투과형 컬러필터 기판은 라이트 홀 내에 제2 컬러필터가 충진됨으로써 라이트홀을 가지는 종래 액정 표시 장치에 비해 높은 채도를 갖는 색을 구현할 수 있다.As described above, the transflective color filter substrate according to the present invention is filled with a first color filter for providing a light hole and a second color filter having a low transmittance in the light hole. Accordingly, the semi-transmissive color filter substrate according to the present invention eliminates the step between the first and second color filters, thereby eliminating the step between the insulating pattern, the common electrode, and the spacer itself formed thereon, thereby making the entire liquid crystal cell gap uniform. In addition, the semi-transmissive color filter substrate according to the present invention may implement a color having a higher saturation than a conventional liquid crystal display having a light hole by filling the second color filter in the light hole.

도 5a 내지 도 5e는 본 발명에 따른 반투과형 액정 표시 패널의 컬러필터 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다.5A to 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color filter substrate of a transflective liquid crystal display panel according to the present invention.

도 5a를 참조하면, 상부기판(101) 상에 블랙매트릭스(140)가 형성된다.Referring to FIG. 5A, a black matrix 140 is formed on the upper substrate 101.

구체적으로, 상부기판(101) 상에 불투명층이 스퍼터링 또는 스핀 코팅공정을 통해 전면 도포된다. 불투명층은 크롬 등의 불투명 금속층 또는 불투명 수지 등이 이용된다. 이 불투명층이 포토리소그래피공정과 식각공정으로 패터닝됨으로써 블랙 매트릭스(140)가 형성된다.In detail, an opaque layer is applied on the upper substrate 101 through a sputtering or spin coating process. As the opaque layer, an opaque metal layer such as chromium or an opaque resin is used. The opaque layer is patterned by a photolithography process and an etching process to form a black matrix 140.

도 5b를 참조하면, 블랙매트릭스(140)가 형성된 상부기판(101) 상에 각 화소 영역마다 라이트 홀(138)을 가지는 제1 컬러필터(142a)가 형성된다.Referring to FIG. 5B, a first color filter 142a having a light hole 138 is formed in each pixel area on the upper substrate 101 on which the black matrix 140 is formed.

구체적으로, 블랙매트릭스(140)가 형성된 상부기판(111) 상에 소정색을 구현하는 수지층이 형성된다. 이 소정색을 구현하는 수지층이 포토리소그래피공정으로 패터닝됨으로써 해당 화소영역에 라이트 홀(138)을 가지는 소정 색의 컬러필터(R1,G1,B1)가 형성된다. 이와 같은 방법으로 제1 컬러 필터(142a)에 포함되는 적색, 녹색 및 청색 컬러필터(R1,G1,B1)가 형성된다.Specifically, a resin layer that implements a predetermined color is formed on the upper substrate 111 on which the black matrix 140 is formed. The resin layer that implements the predetermined color is patterned by a photolithography process to form color filters R1, G1, and B1 having predetermined colors having the light holes 138 in the pixel region. In this manner, the red, green, and blue color filters R1, G1, and B1 included in the first color filter 142a are formed.

도 5c를 참조하면, 제1 컬러필터(142a)가 형성된 상부 기판(111) 상에 제2 컬러필터(142b)가 형성된다.Referring to FIG. 5C, a second color filter 142b is formed on the upper substrate 111 on which the first color filter 142a is formed.

구체적으로, 블랙매트릭스(140)가 형성된 상부기판(111) 상에 소정색을 구현하는 수지층이 형성된다. 이 소정색을 구현하는 수지층이 포토리소그래피공정으로 패터닝됨으로써 해당 화소영역의 라이트 홀(138)에 충진되는 소정 색의 컬러필터(R2,G2,B2)가 형성된다. 이와 같은 방법으로 제2 컬러 필터(142b)에 포함되는 적색, 녹색 및 청색 컬러필터(R2,G2,B2)가 형성된다.Specifically, a resin layer that implements a predetermined color is formed on the upper substrate 111 on which the black matrix 140 is formed. The resin layer implementing the predetermined color is patterned by a photolithography process to form color filters R2, G2, and B2 having predetermined colors filled in the light holes 138 of the pixel region. In this manner, the red, green, and blue color filters R2, G2, and B2 included in the second color filter 142b are formed.

도 5d를 참조하면, 제2 컬러필터(142b)가 형성된 상부 기판(111) 상에 절연 패턴(144)이 형성된다. Referring to FIG. 5D, an insulating pattern 144 is formed on the upper substrate 111 on which the second color filter 142b is formed.

구체적으로, 제2 컬러필터(142b)가 형성된 상부기판(111) 상에 스핀 코팅 또는 스핀리스 코팅 등의 방법으로 절연막이 형성된다. 이 절연막이 포토리소그래피공정과 식각 공정으로 패터닝됨으로써 제2 컬러 필터와 중첩되는 절연 패턴(144)이 형성된다. 절연막은 아크릴 수지 등의 유기 절연물질 또는 질화 실리콘 등의 무기 절연물질이 이용된다.Specifically, an insulating film is formed on the upper substrate 111 on which the second color filter 142b is formed by spin coating or spinless coating. The insulating layer is patterned by a photolithography process and an etching process to form an insulation pattern 144 overlapping the second color filter. As the insulating film, an organic insulating material such as acrylic resin or an inorganic insulating material such as silicon nitride is used.

도 5e를 참조하면, 절연 패턴(144)이 형성된 상부 기판(111) 상에 공통전극(146)이 형성된다.Referring to FIG. 5E, a common electrode 146 is formed on the upper substrate 111 on which the insulation pattern 144 is formed.

구체적으로, 절연 패턴(144)이 형성된 상부 기판(111) 상에 스퍼터링 등의 증착방법을 통해 투명 도전층이 전면 증착됨으로써 공통전극(146)이 형성된다. 투명 도전층은 인듐 틴 옥사이드 등과 같은 투명 도전성 물질이 이용된다.In detail, the common electrode 146 is formed by depositing a transparent conductive layer on the entire surface of the upper substrate 111 on which the insulating pattern 144 is formed through a deposition method such as sputtering. As the transparent conductive layer, a transparent conductive material such as indium tin oxide or the like is used.

도 5f를 참조하면, 공통 전극(146)이 형성된 상부 기판(111) 상에 스페이서(148)이 형성된다.Referring to FIG. 5F, a spacer 148 is formed on the upper substrate 111 on which the common electrode 146 is formed.

구체적으로, 공통 전극(146)이 형성된 상부 기판(111) 상에 유기 절연막이 전면 도포된 후 그 유기 절연막이 포토리소그래피 공정과 식각 공정에 의해 패터닝됨으로써 스페이서(148)가 형성된다. 여기서, 유기 절연막은 아크릴 수지 등과 같은 유기 절연 물질이 이용된다.Specifically, a spacer 148 is formed by applying an entire surface of an organic insulating layer on the upper substrate 111 on which the common electrode 146 is formed, and then patterning the organic insulating layer by a photolithography process and an etching process. Here, an organic insulating material such as an acrylic resin is used for the organic insulating film.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 컬러필터 기판 및 그 제조방법은 라이트 홀을 마련하는 제1 컬러필터와, 라이트 홀 내에 투과율이 낮은 제2 컬러필터가 충진된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 컬러필터 기판 및 그 제조방법은 제1 및 제2 컬러필터 간의 단차가 제거됨으로써 이들 상에 형성되는 절연 패턴, 공통 전극 및 스페이서 자체의 단차가 없어져 전체 액정셀갭이 균일해진다. 또한, 본 발명에 따른 컬러필터 기판 및 그 제조방법은 라이트홀을 가지는 종래 액정 표시 장치에 비해 높은 채도를 갖는 색을 구현할 수 있다.As described above, the color filter substrate and the method of manufacturing the same according to the present invention are filled with a first color filter for providing a light hole and a second color filter having a low transmittance in the light hole. Accordingly, the color filter substrate and the method of manufacturing the same according to the present invention eliminate the step between the first and second color filters, thereby eliminating the step between the insulating pattern, the common electrode, and the spacer itself formed thereon, thereby making the entire liquid crystal cell gap uniform. . In addition, the color filter substrate and the method of manufacturing the same according to the present invention can implement a color having a higher saturation than the conventional liquid crystal display having a light hole.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (11)

기판 상에 형성되며 반사영역과 투과영역을 가지는 화소영역을 구분하는 블랙매트릭스와;A black matrix formed on the substrate and dividing a pixel region having a reflection region and a transmission region; 상기 반사영역에서 서로 다른 투과율을 가지도록 형성되는 적어도 두 개의 컬러필터와;At least two color filters formed to have different transmittances in the reflection area; 상기 컬러 필터 상에 형성되어 상기 반사 영역과 투과 영역의 셀갭을 다르게 하는 절연 패턴을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.And an insulating pattern formed on the color filter and different in cell gaps between the reflective and transmissive regions. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 적어도 두 개의 컬러필터는The at least two color filters 상기 반사 영역의 일부 영역에서 라이트 홀을 마련하도록 상기 반사 영역과 투과 영역에 형성되는 제1 컬러필터와;A first color filter formed in the reflection area and the transmission area to provide a light hole in a portion of the reflection area; 상기 제1 라이트 홀 내에 충진되어 상기 제1 컬러필터와 동일 높이로 형성되며 상기 제1 컬러필터와 투과율이 다른 제2 컬러필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.And a second color filter filled in the first light hole and formed at the same height as the first color filter, and having a transmittance different from that of the first color filter. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제2 컬러필터는 상기 제1 컬러필터의 투과율보다 낮은 투과율을 가지는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.And the second color filter has a transmittance lower than that of the first color filter. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제2 컬러필터에 포함된 안료의 크기는 상기 제1 컬러필터에 포함된 안료의 크기보다 작고, 제2 컬러필터에 포함된 폴리머의 함량은 상기 제1 컬러필터에 포함된 폴리머의 함량보다 높은 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.The size of the pigment included in the second color filter is smaller than the size of the pigment included in the first color filter, and the content of the polymer included in the second color filter is higher than the content of the polymer included in the first color filter. A color filter substrate, characterized in that. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제2 컬러필터에 포함된 안료의 크기는 상기 제1 컬러필터에 포함된 안료의 크기와 동일하고, 제2 컬러필터에 포함된 폴리머의 함량은 상기 제1 컬러필터에 포함된 폴리머의 함량보다 높고, 제2 컬러필터에 포함된 안료의 함량은 상기 제1 컬러필터에 포함된 안료의 함량보다 낮은 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.The size of the pigment included in the second color filter is the same as the size of the pigment included in the first color filter, the content of the polymer included in the second color filter is less than the content of the polymer included in the first color filter The color filter substrate, characterized in that the high, the content of the pigment contained in the second color filter is lower than the content of the pigment contained in the first color filter. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 절연 패턴은 상기 제2 컬러필터와 중첩되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.The insulation pattern is formed so as to overlap the second color filter. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 절연 패턴은 상기 반사영역의 셀갭과 유사한 높이로 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.The insulating pattern is a color filter substrate, characterized in that formed in the height similar to the cell gap of the reflective region. 반사영역과 투과영역을 가지는 화소영역을 구분하는 블랙매트릭스를 기판 상에 형성하는 단계와;Forming a black matrix on the substrate, the black matrix dividing a pixel region having a reflection region and a transmission region; 상기 반사영역에서 서로 다른 투과율을 가지는 적어도 두 개의 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming at least two color filters having different transmittances in the reflective region; 상기 반사 영역과 투과 영역의 셀갭을 다르게 하는 절연 패턴을 상기 컬러필터 상에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판의 제조방법.And forming an insulating pattern on the color filter, the insulating pattern differenting the cell gap between the reflective area and the transparent area. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 적어도 두 개의 컬러필터를 형성하는 단계는 Forming the at least two color filters 상기 반사 영역의 일부 영역에서 라이트 홀을 마련하도록 상기 반사영역과 투과 영역에 제1 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a first color filter in the reflective and transmissive regions to provide light holes in a portion of the reflective region; 상기 제1 컬러필터와 투과율이 다른 제2 컬러필터를 상기 제1 컬러필터와 동일 높이로 상기 제1 라이트 홀 내에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판의 제조방법.And forming a second color filter having a different transmittance from the first color filter in the first light hole at the same height as the first color filter. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제2 컬러필터는 상기 제1 컬러필터의 투과율보다 낮은 투과율을 가지는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판의 제조방법.And the second color filter has a transmittance lower than that of the first color filter. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 절연 패턴은 상기 제2 컬러필터와 중첩되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판의 제조방법.The insulation pattern is formed to overlap with the second color filter method of manufacturing a color filter substrate.
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