JP2007199676A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Keiichi Ina
恵一 伊奈
Keisuke Yoshida
圭介 吉田
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Sharp Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device having a preferable display quality and a high numerical aperture. <P>SOLUTION: In the liquid crystal display device, each of a plurality of pixels includes a light reflection display portion for reflecting and displaying light from the display surface side and a light transmission display portion for transmitting and displaying light from the rear side, and either one of the light reflection display portion and the light transmission display portion surrounds the other. An orientation control means for orienting liquid crystal molecules in a liquid crystal layer symmetrically about an axis when voltage is applied to the liquid crystal layer is formed in the center of the pixel. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device.

近年、通信機器、さらには一般の電気機器にも液晶表示装置が急速に適用されている。特に、携帯型液晶表示装置については、その消費電力を抑制するためにバックライトを必要としない反射型の液晶表示装置が用いられている。しかし、反射型液晶表示装置は、外部からの光を光源とするため、暗い室内などでは見えにくくなる。そこで、近年、透過型及び反射型の性質を併せ持つ半透過型の液晶表示装置が研究・開発されている。   In recent years, liquid crystal display devices have been rapidly applied to communication devices and further to general electric devices. In particular, for portable liquid crystal display devices, reflective liquid crystal display devices that do not require a backlight are used to reduce power consumption. However, since the reflective liquid crystal display device uses light from the outside as a light source, it is difficult to see in a dark room. Therefore, in recent years, transflective liquid crystal display devices having both transmissive and reflective properties have been researched and developed.

この半透過型の液晶表示装置は、一つの画素内に透過部と反射部とを有しており、暗い場所ではバックライトを点灯して画素領域の透過部を利用して画像を表示し、明るい場所ではバックライトを点灯することなく反射部において外光を利用して画像を表示する。このため、バックライトを常に点灯しなくてもよく、消費電力が抑制されるという利点を有している。   This transflective liquid crystal display device has a transmissive part and a reflective part in one pixel, and in a dark place, turns on the backlight and displays an image using the transmissive part of the pixel region, In a bright place, an image is displayed using outside light at the reflecting portion without turning on the backlight. For this reason, it is not necessary to always turn on the backlight, and there is an advantage that power consumption is suppressed.

また、これらの液晶表示装置は、本体の扱う情報量の増加に伴いより多くの情報を表示することが望まれ、高コントラスト化及び広視野角化への市場の要求が高まっている。   These liquid crystal display devices are desired to display more information as the amount of information handled by the main body increases, and the market demand for higher contrast and wider viewing angle is increasing.

そこで、近年、高コントラスト化及び広視野角化を実現できる半透過型の液晶表示装置の表示モードとして、垂直配向型液晶層を利用した垂直配向モードが注目されている。垂直配向型液晶層は、一般に、垂直配向膜と誘電異方性が負の液晶材料とで構成されるものである。   Therefore, in recent years, a vertical alignment mode using a vertical alignment liquid crystal layer has attracted attention as a display mode of a transflective liquid crystal display device capable of realizing a high contrast and a wide viewing angle. The vertical alignment type liquid crystal layer is generally composed of a vertical alignment film and a liquid crystal material having negative dielectric anisotropy.

このような液晶表示装置として、特許文献１には、第１基板上の第１電極と、第２基板上の第２電極と、第１電極と第２電極の間に設けられた液晶層とを含む複数の画素を備え、第１基板は複数の画素の間隙に遮光領域を有し、遮光領域の液晶層側に規則的に配列された壁構造体を有し、第１電極は画素内の所定の位置に少なくとも１つの第１開口部を有し、第２電極は画素内の所定の位置に少なくとも１つの第２開口部を有し、かつ液晶層は少なくとも所定の電圧を印加した時に軸対称配向を呈する少なくとも１つの液晶ドメインを形成し、少なくとも１つの液晶ドメインの軸対称配向の中心軸は少なくとも１つの第１開口部および少なくとも１つの第２開口部の内の少なくとも１つの開口部内またはその近傍に形成するものが開示されている。そして、これによれば、液晶の配向を十分に安定化し、コントラスト比または実効開口率の低下を抑制した液晶表示装置を提供することができる、と記載されている。   As such a liquid crystal display device, Patent Document 1 discloses a first electrode on a first substrate, a second electrode on a second substrate, and a liquid crystal layer provided between the first electrode and the second electrode. The first substrate has a light shielding region in the gap between the pixels, has a wall structure regularly arranged on the liquid crystal layer side of the light shielding region, and the first electrode is in the pixel. At least one first opening at a predetermined position, the second electrode has at least one second opening at a predetermined position in the pixel, and the liquid crystal layer is applied with at least a predetermined voltage. Forming at least one liquid crystal domain exhibiting an axially symmetric orientation, wherein the central axis of the axially symmetric orientation of the at least one liquid crystal domain is within at least one of the at least one first opening and the at least one second opening; Or what is formed in the vicinity That. According to this, it is described that a liquid crystal display device can be provided in which the alignment of the liquid crystal is sufficiently stabilized and the reduction in contrast ratio or effective aperture ratio is suppressed.

また、特許文献２には、第１電極が形成された第１基板と、第１電極に対向する第２電極が形成された第２基板と、第１電極と第２電極との間に介在する垂直配向型の液晶層とを有し、第１電極と第２電極とにより複数の画素領域が規定されて、複数の画素領域のうち少なくとも１つの画素領域は、第１基板上に規則的に配置された誘電体構造物によって、複数のサブ画素領域に分割され、サブ画素領域における液晶層中の液晶分子は、第１電極と第２電極との間に所定の電圧を印加したとき第１基板の表面に垂直な軸を中心に軸対称配向するものが開示されている。そして、これによれば、液晶の配向を十分に安定化でき、従来と同等以上の表示品位が得られる液晶表示装置を提供することができる、と記載されている。
特開2005-172944号公報 特開2005-257809号公報 Further, in Patent Document 2, a first substrate on which a first electrode is formed, a second substrate on which a second electrode facing the first electrode is formed, and an intermediate between the first electrode and the second electrode. A plurality of pixel regions defined by the first electrode and the second electrode, and at least one of the plurality of pixel regions is regularly formed on the first substrate. The liquid crystal molecules in the liquid crystal layer in the sub-pixel region are divided into a plurality of sub-pixel regions by a dielectric structure disposed in the sub-pixel region when a predetermined voltage is applied between the first electrode and the second electrode. One having an axially symmetric orientation about an axis perpendicular to the surface of one substrate is disclosed. And according to this, it is described that the liquid crystal display device which can fully stabilize the alignment of the liquid crystal and can obtain the display quality equal to or higher than the conventional one can be provided.
JP-A-2005-172944 JP 2005-257809 A

ここで、図１６及び１７に、上記特許文献１又は２に記載した従来の垂直配向モードを構成する半透過型の液晶表示装置の画素構造１００を示す。画素構造１００は、光反射表示部分と光透過表示部分とがその画素内にそれぞれ独立して形成されている。そして、領域ごとに配向制御手段１０１が設けられて配向制御がなされているため、画素電極１０２を分割して領域ごとに配置しなければならない。この場合、各領域で配向制御のための電界の勾配を形成するため、光反射表示部分と光透過表示部分との間で画素電極が存在しない開口部を設ける必要がある。そのためには、画素電極のくびれ部１０３を設ける必要がある。   Here, FIGS. 16 and 17 show a pixel structure 100 of a transflective liquid crystal display device constituting a conventional vertical alignment mode described in Patent Document 1 or 2. In the pixel structure 100, a light reflection display portion and a light transmission display portion are independently formed in the pixel. Since the alignment control means 101 is provided for each region and the alignment is controlled, the pixel electrode 102 must be divided and arranged for each region. In this case, in order to form an electric field gradient for alignment control in each region, it is necessary to provide an opening where no pixel electrode exists between the light reflection display portion and the light transmission display portion. For this purpose, it is necessary to provide the constricted portion 103 of the pixel electrode.

しかし、光反射表示部分と光透過表示部分との間に画素電極１０２のくびれ部１０３を設けると、くびれ部の領域の画素電極が他領域のものに比べて細くなる。このため、製造工程や使用時の熱膨張・熱収縮等により断切れが発生し、表示品位が低下するおそれがあるという問題がある。   However, when the constricted portion 103 of the pixel electrode 102 is provided between the light reflective display portion and the light transmissive display portion, the pixel electrode in the constricted portion region becomes thinner than those in other regions. For this reason, there is a problem that disconnection may occur due to thermal expansion / contraction of the manufacturing process or use, and display quality may be deteriorated.

また、画素電極１０２にくびれ部１０３を設けることにより形成された開口部、即ちくびれ部１０３の両側に形成された画素電極１０２が存在しない領域が生じると、図１６に示すように表示領域内であるのに表示に寄与しない無効領域が発生してしまう。このため、開口率が減少するという問題もある。   Further, when an opening formed by providing the constricted portion 103 in the pixel electrode 102, that is, a region where the pixel electrode 102 formed on both sides of the constricted portion 103 does not exist is generated in the display region as shown in FIG. However, there is an invalid area that does not contribute to display. For this reason, there also exists a problem that an aperture ratio reduces.

さらに、図１７に示すように、開口部、即ち画素電極が存在しない領域における下地配線１０４による電位が光反射表示部分及び光透過表示部分の配向制御に影響し、表示異常が発生するおそれがあるという問題もある。   Further, as shown in FIG. 17, the potential due to the base wiring 104 in the opening, that is, the region where the pixel electrode does not exist, affects the orientation control of the light reflection display portion and the light transmission display portion, which may cause display abnormality. There is also a problem.

本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、表示品位が良好で且つ高開口率を実現する液晶表示装置を提供することである。  The present invention has been made in view of such various points, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which has a good display quality and realizes a high aperture ratio.

本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向するように設けられた第１基板及び第２基板と、第１基板と該第２基板との間に挟持された液晶層を有し、液晶層は、負の誘電異方性を有する液晶材料で形成されており、電圧無印加状態において、液晶材料の液晶分子は、第１基板及び第２基板に概ね垂直に配向し、液晶表示パネルの表示領域が複数の画素で構成された液晶表示装置であって、複数の画素のそれぞれは、表示面側からの光を反射して表示を行う光反射表示部分と、背面側からの光を透過して表示を行う光透過表示部分と、を有すると共に、光反射表示部分及び光透過表示部分のいずれか一方が他方を囲むように設けられ、液晶層に電圧を印加したときに液晶層の液晶分子を軸対称配向させる配向制御手段が画素の中央部に設けられていることを特徴とする。   The liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate provided so as to face each other, and a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, The liquid crystal material is formed of a liquid crystal material having negative dielectric anisotropy, and in a state where no voltage is applied, the liquid crystal molecules of the liquid crystal material are aligned substantially perpendicularly to the first substrate and the second substrate, and the display region of the liquid crystal display panel Is a liquid crystal display device composed of a plurality of pixels, and each of the plurality of pixels reflects a light from a display surface and displays a light reflection display portion and transmits light from a back surface. A light-transmitting display portion that performs display, and one of the light-reflecting display portion and the light-transmitting display portion is provided so as to surround the other, and the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are arranged when a voltage is applied to the liquid crystal layer. An alignment control means for axisymmetric alignment is provided at the center of the pixel. And said that you are.

ここで、図１８及び１９に、本発明に係る液晶表示装置の表示部分の構造１１０の概略を示す。このような構成によれば、液晶表示パネルの複数の画素のそれぞれが、光反射表示部分及び光透過表示部分のいずれか一方が他方を囲むように設けられているため、画素電極１１２に開口部を設けるためのくびれ部が存在しない。従って、画素電極１１２が細く形成された領域がないためその部分で生じていた断切れが発生せず、表示品位の低下を回避することができる。   18 and 19 schematically show the structure 110 of the display portion of the liquid crystal display device according to the present invention. According to such a configuration, each of the plurality of pixels of the liquid crystal display panel is provided so that one of the light reflection display portion and the light transmission display portion surrounds the other. There is no constriction to provide Therefore, since there is no region in which the pixel electrode 112 is formed thinly, the disconnection that has occurred in that portion does not occur, and deterioration of display quality can be avoided.

また、画素電極１１２にくびれ部を設けて開口部を形成する必要がなく表示領域内に表示に寄与しない無効領域が発生しない。従って、開口率の減少を回避することができる。   In addition, it is not necessary to provide a constricted portion in the pixel electrode 112 to form an opening, and an invalid region that does not contribute to display does not occur in the display region. Therefore, a decrease in the aperture ratio can be avoided.

さらに、表示領域内に画素電極１１２が存在しない無効領域がないため、下地配線１１４の電位による影響を受けることがなく、表示異常が発生しない。   Further, since there is no invalid area in which the pixel electrode 112 does not exist in the display area, the display area is not affected by the potential of the base wiring 114 and no display abnormality occurs.

また、本発明に係る液晶表示装置は、光透過表示部分が光反射表示部分を囲むように設けられており、光反射表示部分が光透過表示部分の中央部に形成されていてもよい。   In the liquid crystal display device according to the present invention, the light transmissive display portion may be provided so as to surround the light reflective display portion, and the light reflective display portion may be formed at the center of the light transmissive display portion.

このような構成によれば、光反射表示部分が光透過表示部分の中央部に形成されているため、図１９に示すように、配向制御手段から放射状に液晶分子を配向させる際に画素全体にバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since the light reflection display portion is formed in the central portion of the light transmission display portion, as shown in FIG. 19, when the liquid crystal molecules are aligned radially from the alignment control means, Liquid crystal molecules can be aligned with a good balance. Therefore, the display quality becomes better.

さらに、本発明に係る液晶表示装置は、光反射表示部分が光透過表示部分を囲むように設けられており、光透過表示部分が光反射表示部分の中央部に形成されていてもよい。   Furthermore, in the liquid crystal display device according to the present invention, the light reflective display portion may be provided so as to surround the light transmissive display portion, and the light transmissive display portion may be formed at the center of the light reflective display portion.

このような構成によれば、光透過表示部分が光反射表示部分の中央部に形成されているため、上述のように、配向制御手段から放射状に液晶分子を配向させる際に画素全体にバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since the light transmissive display portion is formed in the central portion of the light reflective display portion, as described above, when the liquid crystal molecules are aligned radially from the alignment control means, the entire pixel is well balanced. Liquid crystal molecules can be aligned. Therefore, the display quality becomes better.

また、本発明に係る液晶表示装置は、光反射表示部分の外形と光透過表示部分の外形とが相似であってもよい。   In the liquid crystal display device according to the present invention, the outer shape of the light reflection display portion and the outer shape of the light transmission display portion may be similar.

このような構成によれば、光反射表示部分の外形と光透過表示部分の外形とが相似であるため、配向制御手段から放射状に液晶分子を配向させる際に画素全体にバランス良く行うことができ、表示品位が向上する。   According to such a configuration, since the outer shape of the light reflection display portion and the outer shape of the light transmission display portion are similar, when the liquid crystal molecules are aligned radially from the alignment control means, the entire pixel can be balanced. , Display quality is improved.

さらに、本発明に係る液晶表示装置は、光反射表示部分及び光透過表示部分がいずれも外形が正方形であってもよい。   Further, in the liquid crystal display device according to the present invention, the light reflection display portion and the light transmission display portion may both have a square outer shape.

このような構成によれば、光反射表示部分及び光透過表示部分がいずれも外形が正方形であるため、光反射表示部分の中心から光透過表示部分の端までバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since both the light reflection display portion and the light transmission display portion have a square outer shape, liquid crystal molecules can be aligned in a balanced manner from the center of the light reflection display portion to the end of the light transmission display portion. it can. Therefore, the display quality becomes better.

また、本発明に係る液晶表示装置は、光反射表示部分の外形が六角形であると共に、光透過表示部分の外形が円形であってもよい。   In the liquid crystal display device according to the present invention, the outer shape of the light reflection display portion may be a hexagon and the outer shape of the light transmission display portion may be a circle.

このような構成によれば、光反射表示部分の外形が六角形であると共に、光透過表示部分の外形が円形であるため、光反射表示部分の端から光透過表示部分の中心までバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since the outer shape of the light reflective display portion is hexagonal and the outer shape of the light transmissive display portion is circular, the liquid crystal is well balanced from the end of the light reflective display portion to the center of the light transmissive display portion. The molecules can be oriented. Therefore, the display quality becomes better.

さらに、本発明に係る液晶表示装置は、配向制御手段が光反射表示部分の中央部に形成されていてもよい。   Furthermore, in the liquid crystal display device according to the present invention, the orientation control means may be formed at the center of the light reflection display portion.

このような構成によれば、配向制御手段が光反射表示部分の中央部に形成されているため、表示部分の中心部を配向の中心として全体に亘りバランス良く放射状に液晶分子を配向させることができ、表示品位が向上する。   According to such a configuration, since the alignment control means is formed in the central portion of the light reflection display portion, the liquid crystal molecules can be aligned radially in a well-balanced manner with the central portion of the display portion as the center of alignment. Display quality is improved.

また、本発明に係る液晶表示装置は、配向制御手段が第１基板又は第２基板に形成された凸部であってもよい。   In the liquid crystal display device according to the present invention, the alignment control means may be a convex portion formed on the first substrate or the second substrate.

このような構成によれば、通常のパターン処理等によって凸部を形成すればよく、既存の設備を用いて容易に配向制御手段を形成することができる。   According to such a configuration, the convex portion may be formed by a normal pattern process or the like, and the orientation control means can be easily formed using existing equipment.

さらに、本発明に係る液晶表示装置は、配向制御手段が第１基板又は第２基板に形成された切り欠き部であってもよい。   Further, in the liquid crystal display device according to the present invention, the alignment control means may be a notch formed in the first substrate or the second substrate.

このような構成によれば、通常のパターン処理等によって切り欠き部を形成すればよく、既存の設備を用いて容易に配向制御手段を形成することができる。   According to such a configuration, the cutout portion may be formed by ordinary pattern processing or the like, and the orientation control means can be easily formed using existing equipment.

また、本発明に係る液晶表示装置は、複数の画素のそれぞれが第１基板の第１電極及び第２基板の第２電極を有し、切り欠き部が第１電極又は第２電極に形成されていてもよい。   In the liquid crystal display device according to the present invention, each of the plurality of pixels includes the first electrode of the first substrate and the second electrode of the second substrate, and the notch is formed in the first electrode or the second electrode. It may be.

このような構成によれば、画素電極のパターン処理の際に同時に配向制御手段を形成することができる。従って、製造コスト及び製造効率が良好となる。   According to such a configuration, the orientation control means can be formed simultaneously with the pattern processing of the pixel electrode. Therefore, manufacturing cost and manufacturing efficiency are improved.

以上説明したように、本発明によれば、表示品位が良好で且つ高開口率を実現する液晶表示装置を提供することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device that has a good display quality and realizes a high aperture ratio.

以下、本発明の実施形態１〜８に係る液晶表示装置を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。また、実施形態１〜８に係る液晶表示装置はいずれも透過モードの表示と反射モードの表示の両方を行うことのできる半透過型の液晶表示装置である。さらに、以下、画素内において、表示面側からの光を反射して表示を行う部分を光反射表示部分と、光反射表示部分を囲むように設けられ背面側からの光を透過して表示を行う部分を光透過表示部分と記載する。   Hereinafter, liquid crystal display devices according to Embodiments 1 to 8 of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiment. The liquid crystal display devices according to Embodiments 1 to 8 are all transflective liquid crystal display devices that can perform both transmission mode display and reflection mode display. Further, in the following, in the pixel, a portion that performs display by reflecting light from the display surface side is provided so as to surround the light reflection display portion and the light reflection display portion, and light is transmitted from the back side for display. A portion to be performed is referred to as a light transmission display portion.

（実施形態１）
（液晶表示装置１０の構成）
図１に、本実施形態１に係る液晶表示装置１０の１つの画素構成の断面図を示す。また、図２は液晶表示装置１０の１つの画素構成の平面図を示す。 (Embodiment 1)
(Configuration of the liquid crystal display device 10)
FIG. 1 shows a cross-sectional view of one pixel configuration of the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment. FIG. 2 is a plan view of one pixel configuration of the liquid crystal display device 10.

液晶表示装置１０は、対向する薄膜トランジスタ基板（ＴＦＴ基板１１）及びカラーフィルタ基板（ＣＦ基板１２）、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル１４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 10 includes a thin film transistor substrate (TFT substrate 11) and a color filter substrate (CF substrate 12) facing each other, a liquid crystal display panel 14 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like. It is composed of

ＴＦＴ基板１１は、絶縁性基板１５、絶縁性基板１５の表面に形成された回路要素、絶縁性基板１５上に形成された反射膜１６、反射膜１６を覆うように形成された透明絶縁層１７、透明絶縁層１７上に設けられた画素電極１８及び画素電極１８上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The TFT substrate 11 includes an insulating substrate 15, circuit elements formed on the surface of the insulating substrate 15, a reflective film 16 formed on the insulating substrate 15, and a transparent insulating layer 17 formed so as to cover the reflective film 16. The pixel electrode 18 provided on the transparent insulating layer 17 and a vertical alignment film (not shown) formed on the pixel electrode 18 are configured.

ＴＦＴ基板１１には、いずれも不図示のゲート電極、ソース電極及びドレイン電極等で構成される薄膜トランジスタ８９が形成されている。ゲート電極は走査配線９０に、ドレイン電極は信号配線９１に、またソース配線は画素電極１８に接続されている。ＴＦＴ基板１１は、各画素電極１８内に蓄積容量を設けている。蓄積容量は、画素電極１８と参照電極配線９２で構成されている。   A thin film transistor 89 composed of a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and the like (not shown) is formed on the TFT substrate 11. The gate electrode is connected to the scanning wiring 90, the drain electrode is connected to the signal wiring 91, and the source wiring is connected to the pixel electrode 18. The TFT substrate 11 is provided with a storage capacitor in each pixel electrode 18. The storage capacitor is composed of the pixel electrode 18 and the reference electrode wiring 92.

反射膜１６は、絶縁性基板１５上に、平面視で正方形状に形成されている。反射膜１６によって表示部分９３内の光反射表示部分１３０が規定される。従って、本実施形態の場合、光反射表示部分１３０は正方形状となる。反射膜１６は、凹凸形状に形成された樹脂層上にＡｌ層等が蒸着されることで、その表面が凹凸状に形成されている。反射膜１６は、画素電極１８の中央部に形成されている。   The reflective film 16 is formed in a square shape on the insulating substrate 15 in plan view. The light reflection display portion 130 in the display portion 93 is defined by the reflective film 16. Therefore, in the case of the present embodiment, the light reflection display portion 130 has a square shape. The reflective film 16 has an uneven surface formed by depositing an Al layer or the like on a resin layer formed in an uneven shape. The reflective film 16 is formed at the center of the pixel electrode 18.

透明絶縁層１７は、反射膜１６を覆うように形成されて、反射膜１６の凹凸形状を表面において平坦化している。   The transparent insulating layer 17 is formed so as to cover the reflective film 16, and the uneven shape of the reflective film 16 is flattened on the surface.

画素電極１８は、透明絶縁層１７の平坦な表面上に形成されている。画素電極１８は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等を用いて形成されており、透明電極を構成している。画素電極１８は、所定の位置に形成された切り欠き部９５を有しており、各画素は、この切り欠き部９５によって図２に示すような正方形の画素パターンに分割されている。画素電極１８によって表示部分９３が規定される。液晶層１３に所定の電圧を印加すると、画素電極１８の周囲及び切り欠き部９５の近傍に生成される斜め電界の配向規制によって、複数の画素パターンのそれぞれに放射状傾斜配向を施す液晶ドメインが形成される。   The pixel electrode 18 is formed on the flat surface of the transparent insulating layer 17. The pixel electrode 18 is formed using ITO (Indium Tin Oxide) or the like, and constitutes a transparent electrode. The pixel electrode 18 has a notch portion 95 formed at a predetermined position, and each pixel is divided into a square pixel pattern as shown in FIG. 2 by the notch portion 95. A display portion 93 is defined by the pixel electrode 18. When a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 13, a liquid crystal domain that forms a radial tilt alignment on each of a plurality of pixel patterns is formed by the alignment regulation of an oblique electric field generated around the pixel electrode 18 and in the vicinity of the notch 95. Is done.

ＣＦ基板１２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９、対向電極９９上に形成された凸部１２０（配向制御手段）及び対向電極９９及び凸部１２０上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 12 includes an insulating substrate 96 made of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97, and a transparent dielectric. A counter electrode 99 formed on the body layer 98, a convex portion 120 (alignment control means) formed on the counter electrode 99, and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 and the convex portion 120. Has been.

ＣＦ層９７は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３原色からなる画素パターンで構成されている。これらの画素パターンは、その間に、コントラストを得るための縁取りとしてブラックマトリクス１２１が設けられている。そして、このブラックマトリクス１２１で画素パターンが区切られている。ブラックマトリクス１２１で区切られた画素パターンは、ＴＦＴ基板１１上の正方形の画素電極１８と同形状且つ直上に形成されている。即ち、表示部分９３を平面視した際に画素パターンと画素電極１８とが同一に重なって見えるような位置にそれぞれ形成されている。また、画素パターンを構成するものとしては、ＲＧＢの組合せ以外に、シアン、マゼンタ、イエローの補色を用いてもよく、無色としてもよい。   The CF layer 97 includes a pixel pattern composed of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B). Between these pixel patterns, a black matrix 121 is provided as a border for obtaining contrast. The pixel pattern is divided by the black matrix 121. The pixel pattern partitioned by the black matrix 121 is formed in the same shape and directly above the square pixel electrode 18 on the TFT substrate 11. That is, the pixel pattern and the pixel electrode 18 are formed at positions where they appear to overlap each other when the display portion 93 is viewed in plan. Further, as a component of the pixel pattern, in addition to RGB combinations, complementary colors of cyan, magenta, and yellow may be used, or they may be colorless.

透明誘電体層９８は、ＣＦ基板１２の光反射表示部分１３０に形成されている。透明誘電体層９８は、ＴＦＴ基板１１上の正方形の反射膜１６と同形状且つ直上に形成されている。即ち、光反射表示部分１３０を平面視した際に透明誘電体層９８と反射膜１６とが同一に重なって見えるような位置に形成されている。透明誘電体層９８は、所定の厚さをもって切頭四角錐状に形成されている。透明誘電体層９８に対応する液晶層１３の厚さｂは、液晶層１３の厚さａの略半分程度であるのが好ましい。反射モードの表示では、表示に用いられる光は液晶層１３を２回通過するのに対し、透過モードの表示では、表示に用いられる光は液晶層１３を１回通過するだけである。従って、光透過表示部分１３１の液晶層１３の厚さａを光反射表示部分１３０の液晶層１３の厚さｂの略２倍に設定すると、両者の光路長が等しくなり、両方の表示モードで良好な表示を実現できる。   The transparent dielectric layer 98 is formed on the light reflection display portion 130 of the CF substrate 12. The transparent dielectric layer 98 is formed in the same shape and directly above the square reflective film 16 on the TFT substrate 11. That is, the transparent dielectric layer 98 and the reflective film 16 are formed so as to appear to overlap each other when the light reflection display portion 130 is viewed in plan. The transparent dielectric layer 98 is formed in a truncated quadrangular pyramid shape with a predetermined thickness. The thickness b of the liquid crystal layer 13 corresponding to the transparent dielectric layer 98 is preferably about half of the thickness a of the liquid crystal layer 13. In the reflection mode display, the light used for display passes through the liquid crystal layer 13 twice, whereas in the transmission mode display, the light used for display passes through the liquid crystal layer 13 only once. Accordingly, if the thickness a of the liquid crystal layer 13 of the light transmissive display portion 131 is set to approximately twice the thickness b of the liquid crystal layer 13 of the light reflective display portion 130, the optical path lengths of both are equal, and both display modes are used. Good display can be realized.

対向電極９９は、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成されている。対向電極９９は、ＩＴＯ等を用いて形成されており、透明電極を構成している。   The counter electrode 99 is formed on the CF layer 97 and the transparent dielectric layer 98, respectively. The counter electrode 99 is formed using ITO or the like, and constitutes a transparent electrode.

凸部１２０は、対向電極９９上で、且つ、透明誘電体層９８の中央部、即ち、光反射表示部分１３０の中央部に形成されている。凸部１２０は、その構成材料は特に限定されず、樹脂製材料、セラミック製又は金属製の材料であってもよい。また、凸部１２０は、対向するＴＦＴ基板１１へ延びるような切頭円錐状に形成されており、その頭頂部とＴＦＴ基板１１との間に間隙が形成されている。凸部１２０は、その形状は限定されず、円錐形状、角錐形状又は切頭角錐形状等に形成されていてもよい。   The convex portion 120 is formed on the counter electrode 99 and at the central portion of the transparent dielectric layer 98, that is, at the central portion of the light reflection display portion 130. The constituent material of the convex portion 120 is not particularly limited, and may be a resin material, a ceramic material, or a metal material. Further, the convex part 120 is formed in a truncated cone shape extending to the opposing TFT substrate 11, and a gap is formed between the top of the head part and the TFT substrate 11. The shape of the convex portion 120 is not limited, and may be formed in a conical shape, a pyramid shape, a truncated pyramid shape, or the like.

液晶層１３は、ＴＦＴ基板１１及びＣＦ基板１２の間に設けられている。液晶層１３は、誘電異方性が負のネマティック液晶材料を含み、必要に応じてカイラル剤をさらに含む。液晶層１３は、電圧無印加状態において、その液晶材料の液晶分子がＴＦＴ基板１１及びＣＦ基板１２に概ね垂直に配向されている。   The liquid crystal layer 13 is provided between the TFT substrate 11 and the CF substrate 12. The liquid crystal layer 13 includes a nematic liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy, and further includes a chiral agent as necessary. In the liquid crystal layer 13, the liquid crystal molecules of the liquid crystal material are aligned substantially perpendicularly to the TFT substrate 11 and the CF substrate 12 when no voltage is applied.

（液晶表示装置１０の製造方法）
次に、液晶表示装置１０の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 10)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 10 will be described.

（ＣＦ基板１２の製造方法）
まず、絶縁性基板９６を用意する。そして、絶縁性基板９６上の遮光部分となる領域に幅５〜５０μｍのブラックマトリクス１２１をスパッタリング法により形成する。次に、絶縁性基板９６上の表示部分９３となる領域に赤の顔料が分散された樹脂フィルム（ドライフィルム）を全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って、第１色層１２２（赤）を形成する。次に、第１色層１２２に重ねて、緑色の顔料が分散された樹脂フィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って、第２色層１２２（緑）を形成する。同様に、第３色層１２２（青）を形成する。 (Manufacturing method of CF substrate 12)
First, an insulating substrate 96 is prepared. Then, a black matrix 121 having a width of 5 to 50 μm is formed by a sputtering method in a region serving as a light shielding portion on the insulating substrate 96. Next, a resin film (dry film) in which a red pigment is dispersed is laminated on the entire surface of the insulating substrate 96 in the region to be the display portion 93, and exposure, development, and baking (heat treatment) are performed to obtain the first color. Layer 122 (red) is formed. Next, a resin film in which a green pigment is dispersed is laminated on the entire surface over the first color layer 122, and exposure, development, and baking (heat treatment) are performed to form the second color layer 122 (green). . Similarly, the third color layer 122 (blue) is formed.

尚、色層１２２は、ストライプ配列となるように形成してもよく、デルタ配列であってもよい。また、色層１２２の形成方法は、ドライフィルムをラミネートする代わりに、顔料が分散された感光性樹脂材料をスピン、スリットコートにより全面に塗布してもよい。更に、着色層１２２の各色の形成順序は、特に限定されず、他の順序でもよい。   The color layer 122 may be formed in a stripe arrangement or a delta arrangement. Further, as a method for forming the color layer 122, instead of laminating a dry film, a photosensitive resin material in which a pigment is dispersed may be applied to the entire surface by spin or slit coating. Furthermore, the order of forming each color of the colored layer 122 is not particularly limited, and may be other orders.

次に、色層１２２上の光反射表示部分１３０となる領域に透明誘電体層９８を形成する。   Next, a transparent dielectric layer 98 is formed in a region on the color layer 122 that becomes the light reflection display portion 130.

次いで、色層１２２、ブラックマトリクス１２１及び透明誘電体層９８上にＩＴＯを蒸着し、対向電極９９を形成する。   Next, ITO is deposited on the color layer 122, the black matrix 121, and the transparent dielectric layer 98 to form the counter electrode 99.

次に、凸部１２０を透明誘電体層９８の中央部に位置するように対向電極９９上に形成する。凸部１２０は、フォトリソグラフィ法により形成される。   Next, the convex portion 120 is formed on the counter electrode 99 so as to be positioned at the central portion of the transparent dielectric layer 98. The convex part 120 is formed by a photolithography method.

次いで、対向電極９９上に垂直配向膜を形成する。   Next, a vertical alignment film is formed on the counter electrode 99.

以上の工程により、ＣＦ基板１２が完成する。   The CF substrate 12 is completed through the above steps.

（ＴＦＴ基板１１の製造工程）
続いて、絶縁性基板１５を用意し、Ｔａ又はＡｌ／Ｔｉからなるゲート電極をスパッタ法により形成し、パターニングする。次に、ゲート絶縁膜としてＳｉＮｘ、薄膜として半導体ａ−Ｓｉを形成する。次いで、エッチング保護膜としてＳｉＮｘを形成し、パターン形成を行う。尚、薄膜トランジスタはP−Ｓｉあるいは単結晶Ｓｉでも良く、トランジスタ構造はトップゲート構造でもよい。次に、コンタクトホール、ドレイン電極及びソース電極を形成する。さらに、同一工程又は別工程によって、基板端部にドライバを設け、薄膜トランジスタ８９を形成する。さらに、光反射表示部分１３０となる領域に反射膜１６を形成し、パターン形成を行い、これらの上層に透明絶縁層１７を形成する。次に、ＩＴＯを真空蒸着してさらにパターン形成し、所定の切り欠き部９５を有する画素電極１８を形成する。画素電極１８は表示部分９３となる領域に形成する。続いて、セル厚を規定するための柱状スペーサ（不図示）を、フォトリソグラフィ工程を経て表示部分９３外の所定位置に複数形成する。なお、柱状スペーサはＣＦ側に形成してもよく、表示部９３内の所定位置に形成してもよく、また球状スペーサを散布する方式を用いてもよい。 (Manufacturing process of TFT substrate 11)
Subsequently, an insulating substrate 15 is prepared, and a gate electrode made of Ta or Al / Ti is formed by sputtering and patterned. Next, SiNx is formed as a gate insulating film, and semiconductor a-Si is formed as a thin film. Next, SiNx is formed as an etching protective film, and pattern formation is performed. The thin film transistor may be P-Si or single crystal Si, and the transistor structure may be a top gate structure. Next, a contact hole, a drain electrode, and a source electrode are formed. Further, a thin film transistor 89 is formed by providing a driver at the edge of the substrate by the same process or another process. Further, the reflective film 16 is formed in a region to be the light reflection display portion 130, pattern formation is performed, and the transparent insulating layer 17 is formed on these layers. Next, ITO is vacuum-deposited and further patterned to form the pixel electrode 18 having a predetermined notch 95. The pixel electrode 18 is formed in a region that becomes the display portion 93. Subsequently, a plurality of columnar spacers (not shown) for defining the cell thickness are formed at predetermined positions outside the display portion 93 through a photolithography process. Note that the columnar spacer may be formed on the CF side, may be formed at a predetermined position in the display portion 93, or may be a system in which spherical spacers are dispersed.

（液晶表示パネル１４の形成工程）
次に、ディスペンサ等を用いて、例えば１ショット当り２ｍｇの液晶材料をＴＦＴ基板１１に滴下する。この際、液晶材料はＴＦＴ基板１１の遮光領域外周囲に枠状に塗布されたシール剤の内方に滴下する。続いて、液晶材料が滴下されたＴＦＴ基板１１にＣＦ基板１２を位置合わせして貼り付ける。この工程は真空中で行われる。次いで、大気中に戻すと貼り合わされたＴＦＴ基板１１及びＣＦ基板１２間の液晶材料が大気圧により拡散する。次に、シール剤の塗布領域に沿ってＵＶ光源を移動させながらＵＶ光をシール剤に照射し、シール剤を硬化させる。このようにして、拡散した液晶材料は２枚の基板間に封止されて液晶表示パネル１４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて液晶表示装置１０を完成させる。 (Formation process of the liquid crystal display panel 14)
Next, for example, 2 mg of liquid crystal material per shot is dropped onto the TFT substrate 11 using a dispenser or the like. At this time, the liquid crystal material is dropped inside the sealing agent applied in a frame shape around the outside of the light shielding region of the TFT substrate 11. Subsequently, the CF substrate 12 is aligned and attached to the TFT substrate 11 onto which the liquid crystal material has been dropped. This step is performed in a vacuum. Next, when returned to the atmosphere, the liquid crystal material between the bonded TFT substrate 11 and CF substrate 12 diffuses due to atmospheric pressure. Next, UV light is irradiated to the sealing agent while moving the UV light source along the application area of the sealing agent to cure the sealing agent. Thus, the diffused liquid crystal material is sealed between two substrates to form a liquid crystal display panel 14, and a backlight unit (not shown) or the like is provided on the liquid crystal display panel 14 to complete the liquid crystal display device 10.

また、液晶表示パネル１４は、本実施形態のように形成されなくてもよく、液晶表示パネル１４の側方に液晶注入口を設けて、そこへ液晶材料を注入し、その後液晶注入口を紫外線硬化樹脂等で封止するものであってもよい。   Further, the liquid crystal display panel 14 may not be formed as in the present embodiment. A liquid crystal injection port is provided on the side of the liquid crystal display panel 14 and a liquid crystal material is injected therein. It may be sealed with a cured resin or the like.

（実施形態２）
（液晶表示装置２０の構成）
図５に、本実施形態２に係る液晶表示装置２０の１つの画素構成の断面図を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 2)
(Configuration of the liquid crystal display device 20)
FIG. 5 shows a cross-sectional view of one pixel configuration of the liquid crystal display device 20 according to the second embodiment. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置２０は、対向するＴＦＴ基板１１及びＣＦ基板２２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル２４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 20 includes a TFT substrate 11 and a CF substrate 22 facing each other, a liquid crystal display panel 24 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＣＦ基板２２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９及び対向電極９９上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 22 includes an insulating substrate 96 made of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97 and a transparent dielectric. The counter electrode 99 is formed on the body layer 98 and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 is formed.

対向電極９９は、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成されている。対向電極９９は、透明誘電体層９８上の中央部に円形状の切り欠き部２５（配向制御手段）が形成されている。切り欠き部２５は円形状でなくてもよく、楕円形状や多角形状に形成されていてもよい。   The counter electrode 99 is formed on the CF layer 97 and the transparent dielectric layer 98, respectively. The counter electrode 99 has a circular notch 25 (orientation control means) formed in the center on the transparent dielectric layer 98. The notch 25 may not be circular, and may be formed in an elliptical shape or a polygonal shape.

（液晶表示装置２０の製造方法）
次に、液晶表示装置２０の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 20)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 20 will be described.

（ＣＦ基板２２の製造方法）
まず、実施形態１と同様にして、絶縁性基板９６上に色層１２２、ブラックマトリクス１２１及び透明誘電体層９８を形成する。次に、透明誘電体層９８上にＩＴＯを蒸着し、対向電極９９を形成する。 (Manufacturing method of CF substrate 22)
First, the color layer 122, the black matrix 121, and the transparent dielectric layer 98 are formed on the insulating substrate 96 in the same manner as in the first embodiment. Next, ITO is deposited on the transparent dielectric layer 98 to form the counter electrode 99.

次いで、透明誘電体層９８の中央部に円形状の切り欠き部２５が位置するように対向電極９９をパターニングし、さらに、対向電極９９上に垂直配向膜を形成する。以上の工程により、ＣＦ基板２２が完成する。   Next, the counter electrode 99 is patterned so that the circular notch 25 is located at the center of the transparent dielectric layer 98, and a vertical alignment film is formed on the counter electrode 99. The CF substrate 22 is completed through the above steps.

（ＴＦＴ基板１１の製造工程）
続いて、実施形態１と同様にして、ＴＦＴ基板１１を形成する。 (Manufacturing process of TFT substrate 11)
Subsequently, the TFT substrate 11 is formed in the same manner as in the first embodiment.

（液晶表示パネル２４の形成工程）
次に、実施形態１と同様にして、液晶材料を２枚の基板間に設けて封止した液晶表示パネル２４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて液晶表示装置２０を完成させる。 (Formation process of the liquid crystal display panel 24)
Next, in the same manner as in the first embodiment, a liquid crystal display panel 24 in which a liquid crystal material is provided between two substrates and sealed is formed. Finalize.

（実施形態３）
（液晶表示装置３０の構成）
図６に、本実施形態３に係る液晶表示装置３０を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 3)
(Configuration of the liquid crystal display device 30)
FIG. 6 shows a liquid crystal display device 30 according to the third embodiment. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置３０は、対向するＴＦＴ基板１１及びＣＦ基板３２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル３４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 30 includes a TFT substrate 11 and a CF substrate 32 facing each other, a liquid crystal display panel 34 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＣＦ基板３２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９及び対向電極９９上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 32 includes an insulating substrate 96 made of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97, and a transparent dielectric. The counter electrode 99 is formed on the body layer 98 and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 is formed.

対向電極９９は、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成されており、さらにその上には垂直配向膜が形成されている。   The counter electrode 99 is formed on each of the CF layer 97 and the transparent dielectric layer 98, and a vertical alignment film is further formed thereon.

ＣＦ基板３２の垂直配向膜、対向電極９９及びその直下の透明誘電体層９８には、それらの厚さ方向に亘って切り欠き部３５（配向制御手段）が形成されている。切り欠き部３５は、透明誘電体層９８内に頂点を有し、垂直配向膜の表面に底辺を有する円錐形状に形成されている。切り欠き部３５は、透明誘電体層９８上の中央部に位置するように形成されている。切り欠き部３５は円錐形状でなくてもよく、切頭円錐形状、角錐形状又は切頭角錐形状等に形成されていてもよい。   In the vertical alignment film of the CF substrate 32, the counter electrode 99, and the transparent dielectric layer 98 immediately below the cutout portion 35 (alignment control means) are formed in the thickness direction thereof. The notch 35 is formed in a conical shape having a vertex in the transparent dielectric layer 98 and having a base on the surface of the vertical alignment film. The notch 35 is formed so as to be located at the center on the transparent dielectric layer 98. The notch 35 may not be conical, and may be formed in a truncated cone shape, a pyramid shape, a truncated pyramid shape, or the like.

（液晶表示装置３０の製造方法）
次に、液晶表示装置３０の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 30)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 30 will be described.

（ＣＦ基板３２の製造方法）
まず、実施形態１と同様にして、絶縁性基板９６上に色層１２２、ブラックマトリクス１２１及び透明誘電体層９８を形成する。次に、透明誘電体層９８上にＩＴＯを蒸着し、対向電極９９を形成し、さらに対向電極９９上に垂直配向膜を形成する。次いで、透明誘電体層９８の中央部に円錐形状の切り欠き部３５が位置するように垂直配向膜、対向電極９９及び透明誘電体層９８をパターニングする。 (Manufacturing method of CF substrate 32)
First, the color layer 122, the black matrix 121, and the transparent dielectric layer 98 are formed on the insulating substrate 96 in the same manner as in the first embodiment. Next, ITO is vapor-deposited on the transparent dielectric layer 98 to form a counter electrode 99, and a vertical alignment film is formed on the counter electrode 99. Next, the vertical alignment film, the counter electrode 99 and the transparent dielectric layer 98 are patterned so that the conical cutout 35 is located at the center of the transparent dielectric layer 98.

以上の工程により、ＣＦ基板３２が完成する。   The CF substrate 32 is completed through the above steps.

（ＴＦＴ基板１１の製造工程）
続いて、実施形態１と同様にして、ＴＦＴ基板１１を形成する。 (Manufacturing process of TFT substrate 11)
Subsequently, the TFT substrate 11 is formed in the same manner as in the first embodiment.

（液晶表示パネル３４の形成工程）
次に、実施形態１と同様にして、液晶材料を２枚の基板間に設けて封止した液晶表示パネル３４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて液晶表示装置３０を完成させる。 (Formation process of the liquid crystal display panel 34)
Next, in the same manner as in the first embodiment, a liquid crystal display panel 34 in which a liquid crystal material is provided between two substrates is sealed to form a liquid crystal display panel 30. Finalize.

（実施形態４）
（液晶表示装置４０の構成）
図７に、本実施形態４に係る液晶表示装置４０を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 4)
(Configuration of the liquid crystal display device 40)
FIG. 7 shows a liquid crystal display device 40 according to the fourth embodiment. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置４０は、対向するＴＦＴ基板４１及びＣＦ基板４２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル４４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 40 includes a TFT substrate 41 and a CF substrate 42 facing each other, a liquid crystal display panel 44 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＴＦＴ基板４１は、絶縁性基板１５、絶縁性基板１５の表面に形成された回路要素、絶縁性基板１５上に形成された反射膜１６、反射膜１６を覆うように形成された透明絶縁層１７、透明絶縁層１７上に設けられた画素電極１８及び画素電極１８上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The TFT substrate 41 includes an insulating substrate 15, circuit elements formed on the surface of the insulating substrate 15, a reflective film 16 formed on the insulating substrate 15, and a transparent insulating layer 17 formed so as to cover the reflective film 16. The pixel electrode 18 provided on the transparent insulating layer 17 and a vertical alignment film (not shown) formed on the pixel electrode 18 are configured.

画素電極１８は、透明絶縁層１７の平坦な表面上に形成されている。画素電極１８は、所定の位置に形成された切り欠き部９５を有しており、各画素は、この切り欠き部９５によって図２に示すような正方形の画素パターンに分割されている。画素電極１８によって表示部分９３が規定される。液晶層１３に所定の電圧を印加すると、画素電極１８の周囲及び切り欠き部９５の近傍に生成される斜め電界の配向規制によって、複数の画素パターンのそれぞれに放射状傾斜配向を施す液晶ドメインが形成される。画素電極１８は、画素中央部、即ち表示部分９３の中央部に円形状の切り欠き部４５（配向制御手段）が形成されている。切り欠き部４５は円形状でなくてもよく、楕円形状や多角形状に形成されていてもよい。   The pixel electrode 18 is formed on the flat surface of the transparent insulating layer 17. The pixel electrode 18 has a notch portion 95 formed at a predetermined position, and each pixel is divided into a square pixel pattern as shown in FIG. 2 by the notch portion 95. A display portion 93 is defined by the pixel electrode 18. When a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 13, a liquid crystal domain that forms a radial tilt alignment on each of a plurality of pixel patterns is formed by the alignment regulation of an oblique electric field generated around the pixel electrode 18 and in the vicinity of the notch 95. Is done. The pixel electrode 18 has a circular cutout 45 (orientation control means) formed at the center of the pixel, that is, at the center of the display portion 93. The cutout 45 does not have to be circular, and may be formed in an elliptical shape or a polygonal shape.

ＣＦ基板４２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９、対向電極９９上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 42 includes an insulating substrate 96 made of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97, and a transparent dielectric. The counter electrode 99 is formed on the body layer 98, and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 is formed.

（液晶表示装置４０の製造方法）
次に、液晶表示装置４０の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 40)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 40 will be described.

（ＣＦ基板４２の製造方法）
まず、実施形態１と同様に、絶縁性基板９６を用意し、絶縁性基板９６上の遮光部分となる領域にブラックマトリクス１２１を、絶縁性基板９６上の表示部分９３となる領域に色層１２２を、それぞれ形成する。次に、色層１２２上の光反射表示部分１３０となる領域に透明誘電体層９８を形成する。次いで、色層１２２、ブラックマトリクス１２１及び透明誘電体層９８上にＩＴＯを蒸着し、対向電極９９を形成し、次いで対向電極９９上に垂直配向膜を形成する。以上の工程により、ＣＦ基板４２が完成する。 (Manufacturing method of CF substrate 42)
First, as in the first embodiment, an insulating substrate 96 is prepared, a black matrix 121 is provided in a region serving as a light shielding portion on the insulating substrate 96, and a color layer 122 is provided in a region serving as a display portion 93 on the insulating substrate 96. Are formed respectively. Next, a transparent dielectric layer 98 is formed in a region on the color layer 122 that becomes the light reflection display portion 130. Next, ITO is vapor-deposited on the color layer 122, the black matrix 121, and the transparent dielectric layer 98 to form the counter electrode 99, and then a vertical alignment film is formed on the counter electrode 99. The CF substrate 42 is completed through the above steps.

（ＴＦＴ基板４１の製造工程）
続いて、絶縁性基板１５を用意し、実施形態１と同様にして回路要素を設ける。さらに、光反射表示部分１３０となる領域に反射膜１６を形成し、パターン形成を行い、これらの上層に層間絶縁膜を形成する。次に、ＩＴＯを真空蒸着してさらにパターン形成し、所定の切り欠き部４５を有する画素電極１８を形成する。画素電極１８は表示部分９３となる領域に形成する。 (Manufacturing process of TFT substrate 41)
Subsequently, an insulating substrate 15 is prepared, and circuit elements are provided in the same manner as in the first embodiment. Further, the reflective film 16 is formed in a region to be the light reflection display portion 130, pattern formation is performed, and an interlayer insulating film is formed on these layers. Next, ITO is vacuum-deposited to further form a pattern, and the pixel electrode 18 having a predetermined notch 45 is formed. The pixel electrode 18 is formed in a region that becomes the display portion 93.

ここで、切り欠き部４５は、表示部分９３を規定するように各画素単位に区切るために設けるもの、及び、配向制御手段として表示部分９３の中央部に設けるためのものをそれぞれ同時に形成する。   Here, the notch 45 is formed at the same time so as to divide each pixel unit so as to define the display portion 93 and to be provided at the center of the display portion 93 as orientation control means.

続いて、セル厚を規定するための柱状スペーサを、フォトリソグラフィ工程を経て表示部分９３外の所定位置に複数形成する。   Subsequently, a plurality of columnar spacers for defining the cell thickness are formed at predetermined positions outside the display portion 93 through a photolithography process.

（液晶表示パネル４４の形成工程）
次に、実施形態１と同様にして、液晶材料を２枚の基板間に設けて封止した液晶表示パネル４４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて液晶表示装置４０を完成させる。 (Formation process of the liquid crystal display panel 44)
Next, in the same manner as in the first embodiment, a liquid crystal display panel 44 in which a liquid crystal material is provided between two substrates and sealed is formed, and a backlight unit (not shown) or the like is provided on the liquid crystal display panel 44 to form the liquid crystal display device 40. Finalize.

（実施形態５）
（液晶表示装置５０の構成）
図８に、本実施形態５に係る液晶表示装置５０を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 5)
(Configuration of the liquid crystal display device 50)
FIG. 8 shows a liquid crystal display device 50 according to the fifth embodiment. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置５０は、対向するＴＦＴ基板５１及びＣＦ基板４２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル５４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 50 includes a TFT substrate 51 and a CF substrate 42 facing each other, a liquid crystal display panel 54 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＴＦＴ基板５１は、絶縁性基板１５、絶縁性基板１５の表面に形成された回路要素、絶縁性基板１５上に形成された透明絶縁層５６及び遮光層５７、透明絶縁層５６上に設けられた画素電極１８、画素電極１８上に形成された反射膜１６、透明絶縁層１７及び不図示の垂直配向膜で構成されている。   The TFT substrate 51 is provided on the insulating substrate 15, circuit elements formed on the surface of the insulating substrate 15, a transparent insulating layer 56 and a light shielding layer 57 formed on the insulating substrate 15, and the transparent insulating layer 56. The pixel electrode 18, the reflective film 16 formed on the pixel electrode 18, the transparent insulating layer 17, and a vertical alignment film (not shown) are configured.

透明絶縁層５６は、回路要素が形成された絶縁性基板１５上に形成されている。透明絶縁層５６は表示部分９３の中央部が円形状に欠損しており、ここに遮光層５７が形成されている。このため、遮光層５７も円形状に形成されている。   The transparent insulating layer 56 is formed on the insulating substrate 15 on which circuit elements are formed. In the transparent insulating layer 56, the central portion of the display portion 93 is missing in a circular shape, and a light shielding layer 57 is formed here. For this reason, the light shielding layer 57 is also formed in a circular shape.

遮光層５７は、後述するＴＦＴ基板５１表面に形成した切り欠き部５５（配向制御手段）の真下に位置して、反射層の切り欠き部５５からの光洩れを規制する働きをするため、反射層の切り欠き部５５と同一又はそれ以上の大きさに形成されている。   The light shielding layer 57 is located directly below a notch 55 (orientation control means) formed on the surface of the TFT substrate 51 described later, and functions to regulate light leakage from the notch 55 of the reflective layer. It is formed in the same size or larger than the notch 55 of the layer.

画素電極１８は、透明絶縁層５６上に形成されている。画素電極１８は、所定の位置に形成された切り欠き部９５を有しており、各画素は、この切り欠き部９５によって図２に示すような正方形の画素パターンに分割されている。画素電極１８によって表示部分９３が規定される。液晶層１３に所定の電圧を印加すると、画素電極１８の周囲及び切り欠き部９５の近傍に生成される斜め電界の配向規制によって、複数の画素パターンのそれぞれに放射状傾斜配向を施す液晶ドメインが形成される。   The pixel electrode 18 is formed on the transparent insulating layer 56. The pixel electrode 18 has a notch portion 95 formed at a predetermined position, and each pixel is divided into a square pixel pattern as shown in FIG. 2 by the notch portion 95. A display portion 93 is defined by the pixel electrode 18. When a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 13, a liquid crystal domain that forms a radial tilt alignment on each of a plurality of pixel patterns is formed by the alignment regulation of an oblique electric field generated around the pixel electrode 18 and in the vicinity of the notch 95. Is done.

反射膜１６は、画素電極１８上でその中央部に平面視で正方形状に形成されている。反射膜１６によって表示部分９３内の光反射表示部分１３０が規定される。従って、本実施形態の場合、光反射表示部分１３０は正方形状となる。反射膜１６は、凹凸形状に形成された樹脂層上にＡｌ層等が蒸着されることで、その表面が凹凸状に形成されている。   The reflective film 16 is formed in a square shape on the pixel electrode 18 at the center thereof in plan view. The light reflection display portion 130 in the display portion 93 is defined by the reflective film 16. Therefore, in the case of the present embodiment, the light reflection display portion 130 has a square shape. The reflective film 16 has an uneven surface formed by depositing an Al layer or the like on a resin layer formed in an uneven shape.

透明絶縁層１７は、反射膜１６を覆うように形成されて、反射膜１６の凹凸形状を表面において平坦化している。   The transparent insulating layer 17 is formed so as to cover the reflective film 16, and the uneven shape of the reflective film 16 is flattened on the surface.

ＴＦＴ基板５１の透明絶縁層５６及び反射膜１６には、それらの厚さ方向に亘って切り欠き部５５が形成されている。切り欠き部５５は、反射膜１６内に頂点を有し、透明絶縁層５６の表面に底辺を有する円錐形状に形成されている。切り欠き部５５は、反射膜１６上であって、その中央部に位置するように形成されている。切り欠き部５５は円錐形状でなくてもよく、切頭円錐形状、角錐形状又は切頭角錐形状等に形成されていてもよい。   A cutout 55 is formed in the transparent insulating layer 56 and the reflective film 16 of the TFT substrate 51 in the thickness direction thereof. The cutout 55 is formed in a conical shape having a vertex in the reflective film 16 and having a base on the surface of the transparent insulating layer 56. The cutout portion 55 is formed on the reflective film 16 so as to be positioned at the center thereof. The notch 55 does not have to be conical, and may be formed in a truncated cone shape, a pyramid shape, a truncated pyramid shape, or the like.

ＣＦ基板４２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９及び対向電極９９上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 42 includes an insulating substrate 96 made of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97, and a transparent dielectric. The counter electrode 99 is formed on the body layer 98 and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 is formed.

（液晶表示装置５０の製造方法）
次に、液晶表示装置５０の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 50)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 50 will be described.

（ＣＦ基板４２の製造方法）
まず、実施形態４と同様にして、ＣＦ基板４２を作製する。 (Manufacturing method of CF substrate 42)
First, the CF substrate 42 is manufactured in the same manner as in the fourth embodiment.

（ＴＦＴ基板５１の製造工程）
続いて、絶縁性基板１５を用意し、実施形態１と同様にして回路要素を設け、この絶縁性基板１５上に透明絶縁層５６を形成した後、パターニングにより切り欠き部５５を形成し、形成した切り欠き部５５に遮光層５７を設ける。 (Manufacturing process of TFT substrate 51)
Subsequently, an insulating substrate 15 is prepared, circuit elements are provided in the same manner as in the first embodiment, a transparent insulating layer 56 is formed on the insulating substrate 15, and a notch 55 is formed by patterning. A light shielding layer 57 is provided in the cutout 55.

次に、ＩＴＯを真空蒸着してさらにパターン形成し、所定の切り欠き部９５を有する画素電極１８を形成する。画素電極１８は表示部分９３となる領域に形成する。   Next, ITO is vacuum-deposited and further patterned to form the pixel electrode 18 having a predetermined notch 95. The pixel electrode 18 is formed in a region that becomes the display portion 93.

次いで、画素電極１８上の光反射表示部分１３０となる領域に反射膜１６を形成し、さらに透明絶縁層１７を形成して表面を平坦化し、その上に垂直配向膜を形成する。   Next, the reflective film 16 is formed on the pixel electrode 18 in the region to be the light reflection display portion 130, and the transparent insulating layer 17 is further formed to flatten the surface, and the vertical alignment film is formed thereon.

続いて、反射部分の中央部に円錐形状の切り欠き部５５が位置するように垂直配向膜、透明絶縁層１７及び反射膜１６をパターニングする。   Subsequently, the vertical alignment film, the transparent insulating layer 17 and the reflective film 16 are patterned so that the conical cutout 55 is located at the center of the reflective part.

続いて、セル厚を規定するための柱状スペーサを、フォトリソグラフィ工程を経て表示部分９３外の所定位置に複数形成する。   Subsequently, a plurality of columnar spacers for defining the cell thickness are formed at predetermined positions outside the display portion 93 through a photolithography process.

（液晶表示パネル５４の形成工程）
次に、実施形態１と同様にして、液晶材料を２枚の基板間に設けて封止した液晶表示パネル５４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて液晶表示装置５０を完成させる。 (Formation process of the liquid crystal display panel 54)
Next, in the same manner as in the first embodiment, a liquid crystal display panel 54 in which a liquid crystal material is provided between two substrates and sealed is formed, and a backlight unit (not shown) or the like is provided on the liquid crystal display panel 54 to form the liquid crystal display device 50. Finalize.

（実施形態６）
（液晶表示装置６０の構成）
図９に、本実施形態６に係る液晶表示装置６０を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 6)
(Configuration of the liquid crystal display device 60)
FIG. 9 shows a liquid crystal display device 60 according to the sixth embodiment. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置６０は、対向するＴＦＴ基板６１及びＣＦ基板４２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル６４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 60 includes a TFT substrate 61 and a CF substrate 42 facing each other, a liquid crystal display panel 64 having the liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＴＦＴ基板６１は、絶縁性基板１５、絶縁性基板１５の表面に形成された回路要素、絶縁性基板１５上に形成された透明絶縁層５６、透明絶縁層５６上に設けられた画素電極１８、画素電極１８上に形成された反射膜１６、透明絶縁層１７及び不図示の垂直配向膜で構成されている。   The TFT substrate 61 includes an insulating substrate 15, circuit elements formed on the surface of the insulating substrate 15, a transparent insulating layer 56 formed on the insulating substrate 15, a pixel electrode 18 provided on the transparent insulating layer 56, It is composed of a reflective film 16 formed on the pixel electrode 18, a transparent insulating layer 17, and a vertical alignment film (not shown).

画素電極１８は、透明絶縁層５６上に形成されている。画素電極１８は、所定の位置に形成された切り欠き部９５を有しており、各画素は、この切り欠き部９５によって図２に示すような正方形の画素パターンに分割されている。画素電極１８によって表示部分９３が規定される。液晶層１３に所定の電圧を印加すると、画素電極１８の周囲及び切り欠き部９５の近傍に生成される斜め電界の配向規制によって、複数の画素パターンのそれぞれに放射状傾斜配向を施す液晶ドメインが形成される。   The pixel electrode 18 is formed on the transparent insulating layer 56. The pixel electrode 18 has a notch portion 95 formed at a predetermined position, and each pixel is divided into a square pixel pattern as shown in FIG. 2 by the notch portion 95. A display portion 93 is defined by the pixel electrode 18. When a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 13, a liquid crystal domain that forms a radial tilt alignment on each of a plurality of pixel patterns is formed by the alignment regulation of an oblique electric field generated around the pixel electrode 18 and in the vicinity of the notch 95. Is done.

反射膜１６は、画素電極１８上でその中央部に平面視で正方形状に形成されている。反射膜１６によって表示部分９３内の光反射表示部分１３０が規定される。従って、本実施形態の場合、光反射表示部分１３０は正方形状となる。反射膜１６は、凹凸形状に形成された樹脂層上にＡｌ層等が蒸着されることで、その表面が凹凸状に形成されている。   The reflective film 16 is formed in a square shape on the pixel electrode 18 at the center thereof in plan view. The light reflection display portion 130 in the display portion 93 is defined by the reflective film 16. Therefore, in the case of the present embodiment, the light reflection display portion 130 has a square shape. The reflective film 16 has an uneven surface formed by depositing an Al layer or the like on a resin layer formed in an uneven shape.

透明絶縁層１７は、反射膜１６を覆うように形成されて、反射膜１６の凹凸形状を表面において平坦化している。   The transparent insulating layer 17 is formed so as to cover the reflective film 16, and the uneven shape of the reflective film 16 is flattened on the surface.

凸部６３（配向制御手段）は、透明絶縁層１７上で、且つ、反射膜１６の中央部、即ち、光反射表示部分１３０の中央部に形成されている。凸部６３は、その構成材料は特に限定されず、樹脂製材料、セラミック製又は金属製の材料であってもよい。また、凸部６３は、対向するＣＦ基板４２へ延びるような切頭円錐状に形成されており、その頭頂部とＣＦ基板４２との間に間隙が形成されている。凸部６３は、その形状は限定されず、円錐形状、角錐形状又は切頭角錐形状等に形成されていてもよい。   The convex portion 63 (orientation control means) is formed on the transparent insulating layer 17 and at the central portion of the reflective film 16, that is, at the central portion of the light reflection display portion 130. The constituent material of the convex portion 63 is not particularly limited, and may be a resin material, a ceramic material, or a metal material. The convex portion 63 is formed in a truncated conical shape extending to the opposing CF substrate 42, and a gap is formed between the top of the head and the CF substrate 42. The shape of the convex portion 63 is not limited, and may be formed in a conical shape, a pyramid shape, a truncated pyramid shape, or the like.

ＣＦ基板４２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９、対向電極９９上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 42 includes an insulating substrate 96 made of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97, and a transparent dielectric. The counter electrode 99 is formed on the body layer 98, and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 is formed.

（液晶表示装置６０の製造方法）
次に、液晶表示装置６０の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 60)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 60 will be described.

（ＣＦ基板４２の製造方法）
まず、実施形態４と同様にして、ＣＦ基板４２を作製する。 (Manufacturing method of CF substrate 42)
First, the CF substrate 42 is manufactured in the same manner as in the fourth embodiment.

（ＴＦＴ基板６１の製造工程）
続いて、絶縁性基板１５を用意し、実施形態１と同様にして回路要素を設け、この絶縁性基板１５上に透明絶縁層５６を形成する。 (Manufacturing process of TFT substrate 61)
Subsequently, an insulating substrate 15 is prepared, circuit elements are provided in the same manner as in the first embodiment, and a transparent insulating layer 56 is formed on the insulating substrate 15.

次に、ＩＴＯを真空蒸着してさらにパターン形成し、所定の切り欠き部９５を有する画素電極１８を形成する。画素電極１８は表示部分９３となる領域に形成する。   Next, ITO is vacuum-deposited and further patterned to form the pixel electrode 18 having a predetermined notch 95. The pixel electrode 18 is formed in a region that becomes the display portion 93.

次いで、画素電極１８上の光反射表示部分１３０となる領域に反射膜１６を形成し、さらに透明絶縁層１７を形成して表面を平坦化し、その上に垂直配向膜を形成する。   Next, the reflective film 16 is formed on the pixel electrode 18 in the region to be the light reflection display portion 130, and the transparent insulating layer 17 is further formed to flatten the surface, and the vertical alignment film is formed thereon.

続いて、凸部６３を光反射部表示部分９４の中央部に位置するように垂直配向膜上に形成する。凸部６３は、フォトリソグラフィ法により形成される。   Subsequently, the convex portion 63 is formed on the vertical alignment film so as to be positioned at the center portion of the light reflecting portion display portion 94. The convex portion 63 is formed by a photolithography method.

次に、セル厚を規定するための柱状スペーサを、フォトリソグラフィ工程を経て表示部分９３外の所定位置に複数形成する。   Next, a plurality of columnar spacers for defining the cell thickness are formed at predetermined positions outside the display portion 93 through a photolithography process.

（液晶表示パネル６４の形成工程）
次に、実施形態１と同様にして、液晶材料を２枚の基板間に設けて封止した液晶表示パネル６４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて液晶表示装置６０を完成させる。 (Formation process of the liquid crystal display panel 64)
Next, in the same manner as in the first embodiment, a liquid crystal display panel 64 in which a liquid crystal material is provided between two substrates and sealed is formed, and a backlight unit or the like (not shown) is provided on the liquid crystal display panel 60 to provide the liquid crystal display device 60. Finalize.

（実施形態７）
（液晶表示装置７０の構成）
図１０に、本実施形態７に係る液晶表示装置７０を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 7)
(Configuration of the liquid crystal display device 70)
FIG. 10 shows a liquid crystal display device 70 according to the seventh embodiment. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置７０は、対向するＴＦＴ基板１１及びＣＦ基板４２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル７４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 70 includes a TFT substrate 11 and a CF substrate 42 facing each other, a liquid crystal display panel 74 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＴＦＴ基板１１は、絶縁性基板１５、絶縁性基板１５の表面に形成された回路要素、絶縁性基板１５上に形成された反射膜１６、反射膜１６を覆うように形成された透明絶縁層１７、透明絶縁層１７上に設けられた画素電極１８及び画素電極１８上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The TFT substrate 11 includes an insulating substrate 15, circuit elements formed on the surface of the insulating substrate 15, a reflective film 16 formed on the insulating substrate 15, and a transparent insulating layer 17 formed so as to cover the reflective film 16. The pixel electrode 18 provided on the transparent insulating layer 17 and a vertical alignment film (not shown) formed on the pixel electrode 18 are configured.

ＣＦ基板４２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９及び対向電極９９上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 42 includes an insulating substrate 96 formed of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97, and a transparent dielectric. The counter electrode 99 is formed on the body layer 98 and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 is formed.

透明誘電体層９８は、側面がテーパ状に形成された切頭円錐形状に形成されている。透明誘電体層９８は、光反射表示部分１３０の中央部に形成されており、この透明誘電体層９８が配向制御手段を構成している。   The transparent dielectric layer 98 is formed in a truncated cone shape whose side surfaces are tapered. The transparent dielectric layer 98 is formed at the center of the light reflecting display portion 130, and this transparent dielectric layer 98 constitutes an orientation control means.

（液晶表示装置７０の製造方法）
液晶表示装置７０は、実施形態４と同様にして作製したＣＦ基板４２と、実施形態１と同様にして作製したＴＦＴ基板１１との間に液晶材料を設けて封止して液晶表示パネル７４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて完成させる。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 70)
In the liquid crystal display device 70, a liquid crystal material is provided between the CF substrate 42 manufactured in the same manner as in the fourth embodiment and the TFT substrate 11 manufactured in the same manner as in the first embodiment, and the liquid crystal display panel 74 is sealed. Then, a backlight unit (not shown) or the like is provided to complete the process.

（実施形態８）
（液晶表示装置８０の構成）
図１１に、本実施形態８に係る液晶表示装置８０を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 8)
(Configuration of the liquid crystal display device 80)
FIG. 11 shows a liquid crystal display device 80 according to the eighth embodiment. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置８０は、対向するＴＦＴ基板８１及びＣＦ基板２２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル８４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 80 includes a TFT substrate 81 and a CF substrate 22 facing each other, a liquid crystal display panel 84 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＴＦＴ基板８１は、絶縁性基板１５、絶縁性基板１５の表面に形成された回路要素、絶縁性基板１５上に形成された反射膜１６、反射膜１６を覆うように形成された透明絶縁層１７、透明絶縁層１７上に設けられた画素電極１８、画素電極１８上に形成された不図示の垂直配向膜及び凸部８３で構成されている。   The TFT substrate 81 includes an insulating substrate 15, circuit elements formed on the surface of the insulating substrate 15, a reflective film 16 formed on the insulating substrate 15, and a transparent insulating layer 17 formed so as to cover the reflective film 16. The pixel electrode 18 provided on the transparent insulating layer 17, the vertical alignment film (not shown) formed on the pixel electrode 18, and the convex portion 83.

凸部８３は、画素電極１８上の中央部、即ち、光反射表示部分１３０の中央部に形成されている。凸部８３は、その構成材料は特に限定されず、樹脂製材料、セラミック製又は金属製の材料であってもよい。また、凸部８３は、対向するＣＦ基板２２へ延びるような切頭円錐状に形成されており、その頭頂部とＣＦ基板２２との間に間隙が形成されている。この凸部８３は、平面視においてＣＦ基板２２上に形成された切り欠き部２５と重なる位置に形成されている。凸部８３は、その形状は限定されず、円錐形状、角錐形状又は切頭角錐形状等に形成されていてもよい。   The convex portion 83 is formed at the central portion on the pixel electrode 18, that is, at the central portion of the light reflection display portion 130. The constituent material of the convex portion 83 is not particularly limited, and may be a resin material, a ceramic material, or a metal material. The convex portion 83 is formed in a truncated conical shape extending to the opposing CF substrate 22, and a gap is formed between the top of the head and the CF substrate 22. The projection 83 is formed at a position overlapping the notch 25 formed on the CF substrate 22 in plan view. The shape of the convex portion 83 is not limited, and may be formed in a conical shape, a pyramid shape, a truncated pyramid shape, or the like.

液晶表示装置８０は、切り欠き部２５と凸部８３とが配向の中心に位置しており、これら両方の配向制御手段により配向制御を行っている。   In the liquid crystal display device 80, the cutout portion 25 and the convex portion 83 are positioned at the center of alignment, and the alignment control is performed by both of these alignment control means.

尚、液晶表示装置８０のように、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との両基板上に配向制御手段をそれぞれ形成するものは、上記のようにＴＦＴ基板上に凸部があり、さらにＣＦ基板の対向電極上に切り欠き部があるものに限らない。即ち、ＴＦＴ基板の画素電極上に切り欠き部があり、さらにＣＦ基板上に凸部があるものであってもよい。   Note that, as in the liquid crystal display device 80, the one in which the alignment control means is formed on both the TFT substrate and the CF substrate has the convex portion on the TFT substrate as described above, and further the counter electrode of the CF substrate. It is not restricted to what has a notch part on the top. That is, a notch portion may be provided on the pixel electrode of the TFT substrate, and a convex portion may be provided on the CF substrate.

（液晶表示装置８０の製造方法）
次に、液晶表示装置８０の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 80)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 80 will be described.

（ＣＦ基板２２の製造方法）
実施形態２と同様にしてＣＦ基板２２を作製する。 (Manufacturing method of CF substrate 22)
The CF substrate 22 is produced in the same manner as in the second embodiment.

（ＴＦＴ基板８１の製造工程）
続いて、実施形態１と同様にして、回路要素を設けた絶縁性基板１５上の光反射表示部分１３０となる領域に反射膜１６を形成し、パターン形成を行い、これらの上層に透明絶縁層１７を形成する。次に、ＩＴＯを真空蒸着してさらにパターン形成し、所定の切り欠き部９５を有する画素電極１８を形成する。画素電極１８は表示部分９３となる領域に形成する。次いで、表示部分９３の中央部に凸部８３をパターニングにより形成する。続いて、セル厚を規定するための柱状スペーサを、フォトリソグラフィ工程を経て表示部分９３外の所定位置に複数形成する。 (Manufacturing process of TFT substrate 81)
Subsequently, in the same manner as in the first embodiment, the reflective film 16 is formed on the insulating substrate 15 provided with the circuit elements in the region to be the light reflection display portion 130, the pattern is formed, and the transparent insulating layer is formed on these layers. 17 is formed. Next, ITO is vacuum-deposited and further patterned to form the pixel electrode 18 having a predetermined notch 95. The pixel electrode 18 is formed in a region that becomes the display portion 93. Subsequently, the convex part 83 is formed in the center part of the display part 93 by patterning. Subsequently, a plurality of columnar spacers for defining the cell thickness are formed at predetermined positions outside the display portion 93 through a photolithography process.

（液晶表示パネル８４の形成工程）
次に、実施形態１と同様にして、液晶材料を２枚の基板間に設けて封止した液晶表示パネル８４を形成し、これに不図示のバックライトユニット等を設けて液晶表示装置８０を完成させる。 (Formation process of the liquid crystal display panel 84)
Next, in the same manner as in the first embodiment, a liquid crystal display panel 84 in which a liquid crystal material is provided between two substrates and sealed is formed, and a backlight unit (not shown) or the like is provided on the liquid crystal display panel 84. Finalize.

上記の液晶表示装置１０〜８０は、いずれも、画素電極１８で規定される正方形の表示部分９３の中央部に反射膜１６で規定される正方形の光反射表示部分１３０が設けられている。このため、図２に示すように、光反射表示部分１３０を囲むように光透過表示部分１３１が位置することになる。   In each of the liquid crystal display devices 10 to 80, the square light reflection display portion 130 defined by the reflective film 16 is provided at the center of the square display portion 93 defined by the pixel electrode 18. For this reason, as shown in FIG. 2, the light transmission display portion 131 is positioned so as to surround the light reflection display portion 130.

また、液晶表示装置１０〜８０は、各画素において配向制御を行う凸部１２０，６３，８３や切り欠き部２５，３５，４５，５５が光反射表示部分１３０の中央部に形成されている。このため、中央部の光反射表示部分１３０及びそれを囲む光透過表示部分１３１を合わせた１つの画素において、凸部１２０，６３，８３や切り欠き部２５，３５，４５，５５を画素内の中心として電圧を印加したときに液晶層１３の液晶分子を軸対称配向させることができる。従って、表示装置の高コントラスト化及び広視野角化を実現できる。   Further, in the liquid crystal display devices 10 to 80, convex portions 120, 63, 83 that perform alignment control in each pixel and notches 25, 35, 45, 55 are formed in the central portion of the light reflection display portion 130. Therefore, in one pixel including the central light reflection display portion 130 and the light transmission display portion 131 surrounding it, the convex portions 120, 63, 83 and the notches 25, 35, 45, 55 are included in the pixel. When a voltage is applied as the center, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 13 can be axially symmetrically aligned. Accordingly, it is possible to realize a high contrast and a wide viewing angle of the display device.

尚、光透過表示部分１３１及び光反射表示部分１３０の形状は、それぞれ正方形でなくてもよく、図３又は図４に示すように長方形であってもよい。ただし、この場合、それぞれが相似の関係となるような形状であるのが好ましい。   The shapes of the light transmissive display portion 131 and the light reflective display portion 130 do not have to be square, but may be rectangular as shown in FIG. 3 or FIG. However, in this case, it is preferable that the shapes are similar to each other.

（実施形態９）
（液晶表示装置２００の構成）
図１２は本実施形態９に係る液晶表示装置２００の１つの画素構成の平面図を、図１３は液晶表示装置２００の１つの画素構成の断面図を示す。また、上記実施形態で示したものと同様の部分については同符号を付し、その説明を省略する。 (Embodiment 9)
(Configuration of the liquid crystal display device 200)
12 is a plan view of one pixel configuration of the liquid crystal display device 200 according to the ninth embodiment, and FIG. 13 is a cross-sectional view of one pixel configuration of the liquid crystal display device 200. Further, the same parts as those shown in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

液晶表示装置２００は、対向するＴＦＴ基板２０１及びＣＦ基板２０２、それらの間に設けられた液晶層１３を有する液晶表示パネル２０４、及び、不図示のバックライト等から構成されている。   The liquid crystal display device 200 includes a TFT substrate 201 and a CF substrate 202 facing each other, a liquid crystal display panel 204 having a liquid crystal layer 13 provided therebetween, a backlight (not shown), and the like.

ＴＦＴ基板２０１は、絶縁性基板１５、絶縁性基板１５の表面に形成された回路要素、絶縁性基板１５上に形成された反射膜１６、反射膜１６を覆うように形成された透明絶縁層１７、透明絶縁層１７上に設けられた画素電極１８、画素電極１８上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The TFT substrate 201 includes an insulating substrate 15, circuit elements formed on the surface of the insulating substrate 15, a reflective film 16 formed on the insulating substrate 15, and a transparent insulating layer 17 formed so as to cover the reflective film 16. The pixel electrode 18 provided on the transparent insulating layer 17, and a vertical alignment film (not shown) formed on the pixel electrode 18.

ＴＦＴ基板２０１には、薄膜トランジスタ８９が形成されており、そのゲート電極は走査配線９０に、ドレイン電極は信号配線９１に、またソース配線は画素電極１８に接続されている。ＴＦＴ基板２０１は、各画素電極１８内に蓄積容量を設けている。蓄積容量は、画素電極１８と参照電極配線９２で構成されている。   A thin film transistor 89 is formed on the TFT substrate 201, the gate electrode thereof is connected to the scanning wiring 90, the drain electrode is connected to the signal wiring 91, and the source wiring is connected to the pixel electrode 18. The TFT substrate 201 has a storage capacitor in each pixel electrode 18. The storage capacitor is composed of the pixel electrode 18 and the reference electrode wiring 92.

反射膜１６は、絶縁性基板１５上に、平面視で中央に正方形状の切り欠きが形成された正方形状に形成されている。反射膜１６によって表示部分９３内の光反射表示部分２１０が規定される。従って、本実施形態の場合、光反射表示部分２１０は平面視で中央に正方形状の切り欠きが形成された正方形状になる。反射膜１６は、凹凸形状に形成された樹脂層上にＡｌ層等が蒸着されることで、その表面が凹凸状に形成されている。   The reflective film 16 is formed on the insulating substrate 15 in a square shape with a square notch formed in the center in plan view. The light reflection display portion 210 in the display portion 93 is defined by the reflection film 16. Therefore, in the case of the present embodiment, the light reflection display portion 210 has a square shape with a square notch formed in the center in plan view. The reflective film 16 has an uneven surface formed by depositing an Al layer or the like on a resin layer formed in an uneven shape.

ＣＦ基板２０２は、ガラス等で形成された絶縁性基板９６、絶縁性基板９６上に形成されたＣＦ層９７、ＣＦ層９７上に形成された透明誘電体層９８、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成された対向電極９９、対向電極９９上に形成された凸部１２０（配向制御手段）及び対向電極９９及び凸部１２０上に形成された不図示の垂直配向膜で構成されている。   The CF substrate 202 includes an insulating substrate 96 made of glass or the like, a CF layer 97 formed on the insulating substrate 96, a transparent dielectric layer 98 formed on the CF layer 97, a CF layer 97, and a transparent dielectric. A counter electrode 99 formed on the body layer 98, a convex portion 120 (alignment control means) formed on the counter electrode 99, and a vertical alignment film (not shown) formed on the counter electrode 99 and the convex portion 120. Has been.

透明誘電体層９８は、ＣＦ基板１２の光反射表示部分２１０に形成されている。透明誘電体層９８は、ＴＦＴ基板１１上の反射膜１６と同形状且つ直上に形成されている。即ち、光反射表示部分２１０を平面視した際に透明誘電体層９８と反射膜１６とが同一に重なって見えるような位置に形成されている。透明誘電体層９８は、所定の厚さをもって切頭四角錐状に形成されている。透明誘電体層９８に対応する液晶層１３の厚さは、液晶層１３の厚さａの略半分程度であるのが好ましい。   The transparent dielectric layer 98 is formed on the light reflection display portion 210 of the CF substrate 12. The transparent dielectric layer 98 is formed in the same shape and directly above the reflective film 16 on the TFT substrate 11. That is, the transparent dielectric layer 98 and the reflective film 16 are formed so as to appear to overlap each other when the light reflective display portion 210 is viewed in plan. The transparent dielectric layer 98 is formed in a truncated quadrangular pyramid shape with a predetermined thickness. The thickness of the liquid crystal layer 13 corresponding to the transparent dielectric layer 98 is preferably about half of the thickness a of the liquid crystal layer 13.

対向電極９９は、ＣＦ層９７上及び透明誘電体層９８上にそれぞれ形成されている。対向電極９９は、ＩＴＯ等を用いて形成されており、透明電極を構成している。   The counter electrode 99 is formed on the CF layer 97 and the transparent dielectric layer 98, respectively. The counter electrode 99 is formed using ITO or the like, and constitutes a transparent electrode.

光透過表示部分２１１は、光反射表示部分２１０の中央に形成された正方形状の切り欠きに位置している。   The light transmission display portion 211 is located in a square cutout formed in the center of the light reflection display portion 210.

凸部１２０は、対向電極９９上で、且つ、光透過表示部分２１１の中央部に形成されている。   The convex portion 120 is formed on the counter electrode 99 and at the center of the light transmission display portion 211.

（液晶表示装置２００の製造方法）
次に、液晶表示装置２００の製造方法について説明する。 (Manufacturing method of the liquid crystal display device 200)
Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 200 will be described.

（ＣＦ基板２０２の製造方法）
まず、実施形態１と同様にして、色層１２２まで形成し、次に、色層１２２上の光反射表示部分２１０となる領域に透明誘電体層９８を形成する。 (Manufacturing method of CF substrate 202)
First, in the same manner as in the first embodiment, the layers up to the color layer 122 are formed, and then the transparent dielectric layer 98 is formed in the region to be the light reflection display portion 210 on the color layer 122.

次いで、色層１２２、ブラックマトリクス１２１及び透明誘電体層９８上にＩＴＯを蒸着し、対向電極９９を形成する。   Next, ITO is deposited on the color layer 122, the black matrix 121, and the transparent dielectric layer 98 to form the counter electrode 99.

次に、凸部１２０を光透過表示部分２１１の中央部に位置するように対向電極９９上に形成する。凸部１２０は、フォトリソグラフィ法により形成する。   Next, the convex portion 120 is formed on the counter electrode 99 so as to be positioned at the central portion of the light transmission display portion 211. The convex portion 120 is formed by a photolithography method.

次いで、対向電極９９上に垂直配向膜を形成する。   Next, a vertical alignment film is formed on the counter electrode 99.

以上の工程により、ＣＦ基板２０２が完成する。   The CF substrate 202 is completed through the above steps.

（ＴＦＴ基板２０１の製造工程）
続いて、実施形態１と同様の方法により薄膜トランジスタ８９まで形成する。さらに、光反射表示部分２１０となる領域に反射膜１６を形成し、パターン形成を行い、これらの上層に透明絶縁層１７を形成する。次に、画素電極１８を形成する。続いて、実施形態１と同様の方法によりセル厚を規定するための柱状スペーサ（不図示）を表示部分９３外の所定位置に複数形成してＴＦＴ基板２０１を完成させる。 (Manufacturing process of TFT substrate 201)
Subsequently, up to the thin film transistor 89 is formed by the same method as in the first embodiment. Further, the reflective film 16 is formed in a region to be the light reflection display portion 210, pattern formation is performed, and the transparent insulating layer 17 is formed on these layers. Next, the pixel electrode 18 is formed. Subsequently, a plurality of columnar spacers (not shown) for defining the cell thickness are formed at predetermined positions outside the display portion 93 by the same method as in the first embodiment, thereby completing the TFT substrate 201.

続いて上述のように作製したＣＦ基板２０２及びＴＦＴ基板２０１を用いて液晶表示装置２００を完成させる。   Subsequently, the liquid crystal display device 200 is completed using the CF substrate 202 and the TFT substrate 201 manufactured as described above.

また、液晶表示装置２００は、光透過表示部分２１１が正方形状に形成されているが、これに限らず、例えば、図１４の液晶表示装置３００のように光透過表示部分２１１が円形状に形成されていてもよい。さらに、図１５の液晶表示装置４００のように、光反射表示部分２１０の外形が六角形であると共に、光反射表示部分２１０の中央部の光透過表示部分２１１の外形が円形に形成されていてもよい。   Further, in the liquid crystal display device 200, the light transmissive display portion 211 is formed in a square shape. However, the present invention is not limited to this, and for example, the light transmissive display portion 211 is formed in a circular shape like the liquid crystal display device 300 in FIG. May be. Further, as in the liquid crystal display device 400 of FIG. 15, the light reflective display portion 210 has a hexagonal outer shape, and the light transmissive display portion 211 at the center of the light reflective display portion 210 has a circular shape. Also good.

また、上述の実施形態１〜９において、光反射表示部分及び光透過表示部分のうち、一方が他方の中央部に形成されていたが、これに限られない。また、凸部や切り欠き部の位置も光反射表示部分或いは光透過表示部分の中央部に形成されていなくてもよい。   Moreover, in above-mentioned Embodiment 1-9, although one was formed in the other center part among the light reflection display parts and the light transmission display parts, it is not restricted to this. Further, the positions of the convex portions and the cutout portions may not be formed in the central portion of the light reflection display portion or the light transmission display portion.

さらに、上述の実施形態１〜９において、ＣＦ基板及びＴＦＴ基板の絶縁性基板は、それぞれその厚さは特に限定されず、ＴＦＴ基板のほうが薄く形成されていてもよく、また、同じ厚さに形成されていてもよい。   Furthermore, in the above-described first to ninth embodiments, the thicknesses of the insulating substrates of the CF substrate and the TFT substrate are not particularly limited, and the TFT substrate may be formed thinner, and the same thickness may be used. It may be formed.

（作用効果）
次に、作用効果について説明する。 (Function and effect)
Next, operational effects will be described.

本実施形態に係る液晶表示装置１０〜４００は、互いに対向するように設けられたＴＦＴ基板１１，４１，５１，６１，８１，２０１及びＣＦ基板１２，２２，３２，４２，２０２と、それらの間に挟持された液晶層１３を有し、液晶層１３は、負の誘電異方性を有する液晶材料で形成されており、電圧無印加状態において、液晶材料の液晶分子は、ＴＦＴ基板１１，４１，５１，６１，８１，２０１及びＣＦ基板１２，２２，３２，４２，２０２に概ね垂直に配向し、液晶表示パネル１４〜２０４の表示領域が複数の画素で構成された液晶表示装置であって、複数の画素のそれぞれは、表示面側からの光を反射して表示を行う光反射表示部分１３０，２１０と、背面側からの光を透過して表示を行う光透過表示部分１３１，２１１と、を有すると共に、光反射表示部分及び光透過表示部分のいずれか一方が他方を囲むように設けられ、液晶層１３に電圧を印加したときに液晶層１３の液晶分子を軸対称配向させる配向制御手段（凸部１２０，６３，８３又は／及び切り欠き部２５，３５，４５，５５）が画素の中央部に設けられていることを特徴とする。   The liquid crystal display devices 10 to 400 according to the present embodiment include TFT substrates 11, 41, 51, 61, 81, 201 and CF substrates 12, 22, 32, 42, 202 provided so as to face each other, and those The liquid crystal layer 13 is formed of a liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy, and the liquid crystal molecules of the liquid crystal material are the TFT substrate 11, 41, 51, 61, 81, 201 and a CF substrate 12, 22, 32, 42, 202, and a liquid crystal display device in which the display area of the liquid crystal display panels 14 to 204 is composed of a plurality of pixels. Each of the plurality of pixels includes light-reflecting display portions 130 and 210 that perform display by reflecting light from the display surface side, and light-transmissive display portions 131 and 211 that perform display by transmitting light from the back side. And have In addition, one of the light reflective display portion and the light transmissive display portion is provided so as to surround the other, and an alignment control means for axially symmetric aligning the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 13 when a voltage is applied to the liquid crystal layer 13 ( Protrusions 120, 63, 83 or / and notches 25, 35, 45, 55) are provided in the center of the pixel.

このような構成によれば、液晶表示パネル１４〜２０４の複数の画素のそれぞれが、光反射表示部分１３０，２１０とそれを囲むように設けられた光透過表示部分１３１，２１１とを有しているため、画素電極１８に開口部を設けるためのくびれ部が存在しない。従って、画素電極１８が細く形成された領域がないためその部分で生じていた断切れが発生せず、表示品位の低下を回避することができる。   According to such a configuration, each of the plurality of pixels of the liquid crystal display panels 14 to 204 includes the light reflection display portions 130 and 210 and the light transmission display portions 131 and 211 provided so as to surround the light reflection display portions 130 and 210. Therefore, there is no constriction for providing an opening in the pixel electrode 18. Therefore, since there is no region in which the pixel electrode 18 is formed thinly, the disconnection that has occurred in that portion does not occur, and the deterioration of display quality can be avoided.

また、画素電極１８にくびれ部を設けて開口部を形成する必要がなく表示領域内に表示に寄与しない無効領域が発生しない。従って、開口率の減少を回避することができる。   In addition, it is not necessary to provide a constricted portion in the pixel electrode 18 to form an opening, and an invalid region that does not contribute to display does not occur in the display region. Therefore, a decrease in the aperture ratio can be avoided.

さらに、表示領域内に画素電極１８が存在しない無効領域がないため、下地配線の電位による影響を受けることがなく、表示異常が発生しない。   Furthermore, since there is no invalid area in which the pixel electrode 18 does not exist in the display area, the display area is not affected by the potential of the base wiring, and display abnormality does not occur.

また、本実施形態に係る液晶表示装置１０〜８０は、光透過表示部分１３１が光反射表示部分１３０を囲むように設けられており、光反射表示部分１３０が光透過表示部分１３１の中央部に形成されていることを特徴とする。   Further, in the liquid crystal display devices 10 to 80 according to the present embodiment, the light transmission display portion 131 is provided so as to surround the light reflection display portion 130, and the light reflection display portion 130 is provided at the center of the light transmission display portion 131. It is formed.

このような構成によれば、光反射表示部分１３０が光透過表示部分１３１の中央部に形成されているため、配向制御手段から放射状に液晶分子を配向させる際に画素全体にバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since the light reflective display portion 130 is formed at the center of the light transmissive display portion 131, when the liquid crystal molecules are aligned radially from the alignment control means, the liquid crystal molecules are balanced across the entire pixel. Can be oriented. Therefore, the display quality becomes better.

さらに、本実施形態に係る液晶表示装置２００〜４００は、光反射表示部分２１１が光透過表示部分２１０を囲むように設けられており、光透過表示部分２１１が光反射表示部分２１０の中央部に形成されていることを特徴とする。   Further, in the liquid crystal display devices 200 to 400 according to the present embodiment, the light reflection display portion 211 is provided so as to surround the light transmission display portion 210, and the light transmission display portion 211 is provided at the center of the light reflection display portion 210. It is formed.

このような構成によれば、光透過表示部分２１１が光反射表示部分２１０の中央部に形成されているため、上述のように、配向制御手段から放射状に液晶分子を配向させる際に画素全体にバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since the light transmissive display portion 211 is formed in the central portion of the light reflective display portion 210, as described above, when the liquid crystal molecules are aligned radially from the alignment control means, Liquid crystal molecules can be aligned with a good balance. Therefore, the display quality becomes better.

また、本実施形態に係る液晶表示装置１０〜２００は、光反射表示部分１３０，２１０の外形と光透過表示部分１３１，２１１の外形とが相似であることを特徴とする。   Further, the liquid crystal display devices 10 to 200 according to the present embodiment are characterized in that the outer shapes of the light reflective display portions 130 and 210 and the outer shapes of the light transmissive display portions 131 and 211 are similar.

このような構成によれば、光反射表示部分１３０，２１０の外形と光透過表示部分１３１，２１１の外形とが相似であるため、配向制御手段（凸部１２０，６３，８３又は／及び切り欠き部２５，３５，４５，５５）から放射状に液晶分子を配向させる際に画素全体にバランス良く行うことができ、表示品位が向上する。   According to such a configuration, the outer shape of the light reflective display portions 130 and 210 and the outer shape of the light transmissive display portions 131 and 211 are similar to each other, and therefore the orientation control means (the convex portions 120, 63, 83 or / and the cutouts). When the liquid crystal molecules are aligned radially from the portions 25, 35, 45, 55), the entire pixel can be well-balanced, and the display quality is improved.

さらに、本実施形態に係る液晶表示装置１０〜２００は、光反射表示部分１３０，２１０及び光透過表示部分１３１，２１１がいずれも外形が正方形であることを特徴とする。   Furthermore, the liquid crystal display devices 10 to 200 according to the present embodiment are characterized in that the light reflection display portions 130 and 210 and the light transmission display portions 131 and 211 are all square in shape.

このような構成によれば、光反射表示部分１３０，２１０及び光透過表示部分１３１，２１１がいずれも外形が正方形であるため、光反射表示部分１３０，２１０の中心から光透過表示部分１３１，２１１の端までバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since the light reflection display portions 130 and 210 and the light transmission display portions 131 and 211 are both square in shape, the light transmission display portions 131 and 211 from the center of the light reflection display portions 130 and 210. The liquid crystal molecules can be aligned in a well-balanced manner up to the end. Therefore, the display quality becomes better.

また、本発明に係る液晶表示装置４００は、光反射表示部分２１０の外形が六角形であると共に、光透過表示部分２１１の外形が円形であることを特徴とする。   Further, the liquid crystal display device 400 according to the present invention is characterized in that the light reflective display portion 210 has a hexagonal outer shape and the light transmissive display portion 211 has a circular shape.

このような構成によれば、光反射表示部分２１０の外形が六角形であると共に、光透過表示部分２１１の外形が円形であるため、光反射表示部分２１０の端から光透過表示部分２１１の中心までバランス良く液晶分子を配向させることができる。従って、表示品位がより良好となる。   According to such a configuration, since the outer shape of the light reflective display portion 210 is hexagonal and the outer shape of the light transmissive display portion 211 is circular, the center of the light transmissive display portion 211 is from the end of the light reflective display portion 210. Liquid crystal molecules can be aligned in a well-balanced manner. Therefore, the display quality becomes better.

さらに、本実施形態に係る液晶表示装置１０〜８０は、配向制御手段（凸部１２０，６３，８３又は／及び切り欠き部２５，３５，４５，５５）が光反射表示部分１３０の中央部に形成されていることを特徴とする。   Furthermore, in the liquid crystal display devices 10 to 80 according to the present embodiment, the orientation control means (the convex portions 120, 63, 83 or / and the cutout portions 25, 35, 45, 55) is provided at the center of the light reflecting display portion 130. It is formed.

このような構成によれば、配向制御手段（凸部１２０，６３，８３又は／及び切り欠き部２５，３５，４５，５５）が光反射表示部分１３０の中央部に形成されているため、表示部分９３の中心部を配向の中心として全体に亘りバランス良く放射状に液晶分子を配向させることができ、表示品位が向上する。   According to such a configuration, since the orientation control means (the convex portions 120, 63, 83 or / and the cutout portions 25, 35, 45, 55) is formed in the central portion of the light reflection display portion 130, the display Liquid crystal molecules can be aligned radially in a well-balanced manner with the center of the portion 93 as the center of alignment, and the display quality is improved.

また、本実施形態に係る液晶表示装置１０，６０，８０は、配向制御手段がＴＦＴ基板又はＣＦ基板上に形成された凸部１２０，６３，８３であることを特徴とする。   Further, the liquid crystal display devices 10, 60, 80 according to the present embodiment are characterized in that the alignment control means is convex portions 120, 63, 83 formed on a TFT substrate or a CF substrate.

このような構成によれば、通常のパターン処理等によって凸部１２０，６３，８３を形成すればよく、既存の設備を用いて容易に配向制御手段を形成することができる。   According to such a configuration, the convex portions 120, 63, 83 may be formed by ordinary pattern processing or the like, and the orientation control means can be easily formed using existing equipment.

さらに、本実施形態に係る液晶表示装置２０，３０，４０，５０，８０は、配向制御手段がＴＦＴ基板又はＣＦ基板上に形成された切り欠き部２５，３５，４５，５５であってもよい。   Further, in the liquid crystal display device 20, 30, 40, 50, 80 according to the present embodiment, the orientation control means may be the notches 25, 35, 45, 55 formed on the TFT substrate or the CF substrate. .

このような構成によれば、通常のパターン処理等によって切り欠き部２５，３５，４５，５５を形成すればよく、既存の設備を用いて容易に配向制御手段を形成することができる。   According to such a configuration, the cutout portions 25, 35, 45, and 55 may be formed by normal pattern processing or the like, and the orientation control means can be easily formed using existing equipment.

また、本実施形態に係る液晶表示装置２０，４０，８０は、複数の画素のそれぞれがＴＦＴ基板の画素電極１８及びＣＦ基板の対向電極９９を有し、切り欠き部２５，４５が画素電極１８又は対向電極９９に形成されていてもよい。   In the liquid crystal display devices 20, 40, and 80 according to the present embodiment, each of the plurality of pixels has the pixel electrode 18 of the TFT substrate and the counter electrode 99 of the CF substrate, and the notches 25 and 45 have the pixel electrode 18. Alternatively, the counter electrode 99 may be formed.

このような構成によれば、画素電極１８のパターン処理の際に同時に配向制御手段（切り欠き部２５，４５）を形成することができる。従って、製造コスト及び製造効率が良好となる。   According to such a configuration, the orientation control means (notches 25 and 45) can be formed simultaneously with the pattern processing of the pixel electrode 18. Therefore, manufacturing cost and manufacturing efficiency are improved.

以上説明したように、本発明は、液晶表示装置について有用である。   As described above, the present invention is useful for a liquid crystal display device.

本実施形態１に係る液晶表示装置１０の１つの画素構成の断面図である。2 is a cross-sectional view of one pixel configuration of the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment. FIG. 本実施形態１〜８に係る液晶表示装置１０〜８０の１つの画素構成の平面図である。It is a top view of one pixel composition of liquid crystal display devices 10-80 concerning Embodiments 1-8. 表示部分９３が横長長方形状である液晶表示装置１０〜８０の１つの画素構成の平面図である。It is a top view of one pixel structure of the liquid crystal display devices 10-80 whose display part 93 is horizontally long rectangular shape. 表示部分９３が縦長長方形状である液晶表示装置１０〜８０の１つの画素構成の平面図である。It is a top view of one pixel structure of the liquid crystal display devices 10-80 whose display part 93 is a vertically long rectangular shape. 本実施形態２に係る液晶表示装置２０の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display device 20 which concerns on this Embodiment 2. FIG. 本実施形態３に係る液晶表示装置３０の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display device 30 which concerns on this Embodiment 3. FIG. 本実施形態４に係る液晶表示装置４０の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display device 40 which concerns on this Embodiment 4. 本実施形態５に係る液晶表示装置５０の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display device 50 which concerns on this Embodiment 5. 本実施形態６に係る液晶表示装置６０の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display device 60 which concerns on this Embodiment 6. FIG. 本実施形態７に係る液晶表示装置７０の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display device 70 concerning this Embodiment 7. 本実施形態８に係る液晶表示装置８０の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display device 80 which concerns on this Embodiment 8. 本実施形態９に係る液晶表示装置２００の１つの画素構成の平面図である。It is a top view of one pixel structure of the liquid crystal display device 200 concerning this Embodiment 9. FIG. 本実施形態９に係る液晶表示装置２００〜４００の１つの画素構成の断面図である。It is sectional drawing of one pixel structure of the liquid crystal display devices 200-400 which concern on this Embodiment 9. 本実施形態１０に係る液晶表示装置３００の１つの画素構成の平面図である。It is a top view of one pixel structure of the liquid crystal display device 300 which concerns on this Embodiment 10. FIG. 本実施形態１１に係る液晶表示装置４００の１つの画素構成の平面図である。22 is a plan view of one pixel configuration of a liquid crystal display device 400 according to Embodiment 11. FIG. 従来の垂直配向モードを構成する半透過型の液晶表示装置の画素構造１００の概略図である。It is the schematic of the pixel structure 100 of the transflective liquid crystal display device which comprises the conventional vertical alignment mode. 従来の垂直配向モードを構成する半透過型の液晶表示装置に対する下地配線１０４の影響を表す概略図である。It is the schematic showing the influence of the base wiring 104 with respect to the transflective liquid crystal display device which comprises the conventional vertical alignment mode. 本発明に係る液晶表示装置の表示部分の構造１１０の概略図である。It is the schematic of the structure 110 of the display part of the liquid crystal display device which concerns on this invention. 本発明に係る液晶表示装置に対する下地配線１１４の影響を表す概略図である。It is the schematic showing the influence of the base wiring 114 with respect to the liquid crystal display device which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１０，２０，３０，４０，５０，６０，７０，８０，２００，３００，４００ 液晶表示装置
１１，４１，５１，６１，８１，２０１ ＴＦＴ基板
１２，２２，３２，４２，２０２ ＣＦ基板
１３ 液晶層
１４，２４，３４，４４，５４，６４，７４，８４，２０４ 液晶表示パネル
１５，９６ 絶縁性基板
１６ 反射膜
１７ 透明絶縁層
１８ 画素電極
５６ 透明絶縁層
６３，８３，１２０ 凸部
２５，３５，４５，５５ 切り欠き部
９３ 表示部分
９７ ＣＦ層
９８ 透明誘電体層
９９ 対向電極
１３０，２１０ 光反射表示部分
１３１，２１１ 光透過表示部分 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 200, 300, 400 Liquid crystal display device
11, 41, 51, 61, 81, 201 TFT substrate
12, 22, 32, 42, 202 CF substrate
13 Liquid crystal layer
14, 24, 34, 44, 54, 64, 74, 84, 204 Liquid crystal display panel
15,96 Insulating substrate
16 Reflective film
17 Transparent insulation layer
18 pixel electrode
56 Transparent insulation layer
63, 83, 120 Convex
25, 35, 45, 55 Notch part 93 Display part
97 CF layer
98 Transparent dielectric layer
99 Counter electrode
130,210 Light reflection display part
131, 211 Light transmission display part

Claims (10)

互いに対向するように設けられた第１基板及び第２基板と、該第１基板と該第２基板との間に挟持された液晶層を有し、
上記液晶層は、負の誘電異方性を有する液晶材料で形成されており、電圧無印加状態において、該液晶材料の液晶分子は、上記第１基板及び第２基板に概ね垂直に配向し、液晶表示パネルの表示領域が複数の画素で構成された液晶表示装置であって、
上記複数の画素のそれぞれは、表示面側からの光を反射して表示を行う光反射表示部分と、背面側からの光を透過して表示を行う光透過表示部分と、を有すると共に、
上記光反射表示部分及び上記光透過表示部分のいずれか一方が他方を囲むように設けられ、
上記液晶層に電圧を印加したときに該液晶層の液晶分子を軸対称配向させる配向制御手段が上記画素の中央部に設けられている液晶表示装置。 A first substrate and a second substrate provided so as to face each other, and a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate,
The liquid crystal layer is formed of a liquid crystal material having negative dielectric anisotropy, and in a state where no voltage is applied, the liquid crystal molecules of the liquid crystal material are aligned substantially perpendicularly to the first substrate and the second substrate, A liquid crystal display device in which a display area of a liquid crystal display panel is composed of a plurality of pixels,
Each of the plurality of pixels includes a light reflection display portion that performs display by reflecting light from the display surface side, and a light transmission display portion that performs display by transmitting light from the back side.
Either one of the light reflection display portion and the light transmission display portion is provided so as to surround the other,
A liquid crystal display device in which an alignment control means for axisymmetrically aligning liquid crystal molecules of the liquid crystal layer when a voltage is applied to the liquid crystal layer is provided at the center of the pixel. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
上記光透過表示部分が上記光反射表示部分を囲むように設けられており、
上記光反射表示部分は、上記光透過表示部分の中央部に形成されている液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1,
The light transmissive display part is provided so as to surround the light reflective display part,
The light reflection display portion is a liquid crystal display device formed at a central portion of the light transmission display portion. 請求項１に記載された液晶表示装置において
上記光反射表示部分が上記光透過表示部分を囲むように設けられており、
上記光透過表示部分は、上記光反射表示部分の中央部に形成されている液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the light reflection display portion is provided so as to surround the light transmission display portion.
The light transmissive display portion is a liquid crystal display device formed at a central portion of the light reflective display portion. 請求項１乃至３のいずれかに記載された液晶表示装置において、
上記光反射表示部分の外形と上記光透過表示部分の外形とが相似である液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 3,
A liquid crystal display device in which an outer shape of the light reflection display portion is similar to an outer shape of the light transmission display portion. 請求項４に記載された液晶表示装置において、
上記光反射表示部分及び上記光透過表示部分は、いずれも外形が正方形である液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 4,
The light reflection display portion and the light transmission display portion are both liquid crystal display devices having a square outer shape. 請求項３に記載された液晶表示装置において、
上記光反射表示部分の外形が六角形であると共に、上記光透過表示部分の外形が円形である液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 3,
A liquid crystal display device in which an outer shape of the light reflection display portion is a hexagon and an outer shape of the light transmission display portion is a circle. 請求項１乃至６のいずれかに記載された液晶表示装置において、
上記配向制御手段は、上記光反射表示部分の中央部に形成されている液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 6,
The alignment control means is a liquid crystal display device formed at the center of the light reflection display portion. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
上記配向制御手段は、上記第１基板又は上記第２基板に形成された凸部である液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the orientation control means is a convex portion formed on the first substrate or the second substrate. 請求項１に記載された液晶表示装置において、
上記配向制御手段は、上記第１基板又は上記第２基板に形成された切り欠き部である液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the orientation control means is a notch formed in the first substrate or the second substrate. 請求項９に記載された液晶表示装置において、
上記複数の画素のそれぞれは、上記第１基板の第１電極及び上記第２基板の第２電極を有し、
上記切り欠き部は、上記第１電極又は上記第２電極に形成されている液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 9,
Each of the plurality of pixels has a first electrode of the first substrate and a second electrode of the second substrate,
The notch is a liquid crystal display device formed in the first electrode or the second electrode.
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