JP2009282059A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Takashi Hashiguchi
隆史 橋口
Tetsuya Satake
徹也 佐竹
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semi-transmissive liquid crystal display device in which display quality is improved with high yield, while attaining a wide viewing angle. <P>SOLUTION: The semi-transmissive liquid crystal display device includes a liquid crystal layer 3 which is sealed between a first substrate 30 and a second substrate 40. In a transmissive area T of a pixel electrode 2 extending from a reflective area R, a transparent conductive film 10 composed of an alignment control pattern 11 for controlling alignment of the liquid crystal layer 3 is provided. The alignment control pattern 11 is a root thick line pattern 12 whose width becomes narrower from around a boundary of the reflective area R in the transmissive area T to a peripheral section of the transparent conductive film 10, and it is formed integrally with the transparent conductive film 10 provided in the reflective area R. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に反射モードと透過モードの双方で表示を行う半透過型の液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a transflective liquid crystal display device that performs display in both a reflection mode and a transmission mode.

液晶表示パネルの表示方式は、透過型、反射型、半透過型に大別される。透過型は、バックライトと呼ばれる光源を点灯し、液晶表示パネルを通過した光で表示を行う表示方式である。このため、暗所での視認性は高いが、明所での視認性は低い。一方、反射型は、液晶表示パネルに入射した光を反射させて表示を行う表示方式である。このため、明所での視認性は高いが、暗所での視認性が低い。半透過型は、透過型と反射型の機能を兼ね備えた表示方式であり、周囲の明るさに応じて表示モードを切り替えることにより、視認性の高い表示を常に提供することができる。その優れた表示特性から、半透過型液晶表示装置は、携帯機器や移動体機器等において広く適用されている。   The display methods of the liquid crystal display panel are roughly classified into a transmission type, a reflection type, and a transflective type. The transmissive type is a display method in which a light source called a backlight is turned on and display is performed using light that has passed through a liquid crystal display panel. For this reason, the visibility in a dark place is high, but the visibility in a bright place is low. On the other hand, the reflection type is a display method for performing display by reflecting light incident on the liquid crystal display panel. For this reason, the visibility in a bright place is high, but the visibility in a dark place is low. The transflective type is a display method having both a transmissive type and a reflective type, and a display with high visibility can be always provided by switching the display mode according to the ambient brightness. Due to its excellent display characteristics, transflective liquid crystal display devices are widely applied to portable devices and mobile devices.

半透過型液晶表示装置は、第1の基板と第2の基板との間に液晶層が挟持された構造となっている。第1の基板の内面には、例えばアルミニウム等の金属膜に光透過用の開口部が形成された反射膜が形成されている。   The transflective liquid crystal display device has a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between a first substrate and a second substrate. On the inner surface of the first substrate, a reflective film is formed in which a light transmission opening is formed in a metal film such as aluminum.

反射モードにおいては、第2の基板側(視認側)から入射した外光が液晶層を通過し、さらに第1の基板の内面に配設された反射膜で反射される。そして、その反射光が、再度、液晶層を通過して第2の基板側から出射されることにより、表示に寄与する。一方、透過モードにおいては、第1の基板側(反視認側)から入射したバックライトからの光が、透過膜を通過し、さらに液晶層を通過する。そして、第2の基板側から外部に出射されることにより、表示に寄与する。従って、反射膜が形成された領域が反射領域、反射膜の開口部が形成された領域が透過領域となる。   In the reflection mode, external light incident from the second substrate side (viewing side) passes through the liquid crystal layer and is further reflected by a reflection film disposed on the inner surface of the first substrate. Then, the reflected light again passes through the liquid crystal layer and is emitted from the second substrate side, thereby contributing to display. On the other hand, in the transmissive mode, light from the backlight incident from the first substrate side (anti-viewing side) passes through the transmissive film and further passes through the liquid crystal layer. And it is contributed to a display by being radiate | emitted outside from the 2nd board | substrate side. Therefore, the region where the reflective film is formed becomes the reflective region, and the region where the opening of the reflective film is formed becomes the transmissive region.

従来の半透過型液晶表示装置においては、透過モードにおいて視角が狭いという課題があった。これは、視差が生じないように液晶セルの内面に反射膜を設けている関係で、観察者側に備えた1枚の偏光板だけで反射表示を行わなければならないという制約があり、光学設計の自由度が小さいためである。   The conventional transflective liquid crystal display device has a problem that the viewing angle is narrow in the transmissive mode. This is because the reflective film is provided on the inner surface of the liquid crystal cell so that no parallax occurs, and there is a restriction that the reflective display must be performed with only one polarizing plate provided on the viewer side. This is because the degree of freedom is small.

そこで、特許文献1において、垂直配向液晶を用いる半透過型液晶表示装置が提案された。その特徴は、(1)誘電異方性が負の液晶を基板に対して垂直に配向させ、電圧印加によってこれを倒す「VA(Vertical Alignment)モード」を採用した点、(2)透過領域と反射領域の液晶層厚(セルギャップ)が異なる「マルチギャップ構造」を採用した点、(3)透過領域を正八角形又は円とし、この領域内で液晶が等方的に倒れるように、対向基板上の透過領域の中央に突起を設ける、いわゆる「配向分割構造」を採用した点にある。   Therefore, in Patent Document 1, a transflective liquid crystal display device using a vertically aligned liquid crystal has been proposed. Its features are (1) the adoption of a “VA (Vertical Alignment) mode” in which a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy is aligned perpendicularly to the substrate, and this is defeated by applying a voltage; (3) The transmissive region is a regular octagon or circle, and the counter substrate is tilted isotropically in this region, where the reflective region has a different liquid crystal layer thickness (cell gap). A so-called “alignment division structure” in which a protrusion is provided at the center of the upper transmission region is employed.

特許文献2及び3には、1つの画素領域を幅細の連結部によって繋がっている略四角形状の3つのサブ画素電極に分割し、そのうちの一つを反射領域R、残りの2つを透過領域Tとする構成が開示されている。そして、各サブ画素電極それぞれに、配向制御用突起や、配向制御用開口を設ける構成が開示されている。   In Patent Documents 2 and 3, one pixel region is divided into three substantially rectangular sub-pixel electrodes connected by a narrow connecting portion, one of which is a reflection region R and the other two are transmitted. A configuration as region T is disclosed. And the structure which provides the alignment control protrusion and the alignment control opening in each subpixel electrode is disclosed.

特許文献2においては、液晶の配向を安定させるために、ITO等の透明導電膜からなる画素電極の端辺から複数のスペース(スリット)が形成され、微細なとげのようなパターン構成が開示されている。特許文献3には、画素電極の外周部の最も配向が乱れやすい領域(反射領域と透過領域との境界領域側に位置する4つのコーナー領域)にスリットを設ける構成が開示されている。   In Patent Document 2, in order to stabilize the alignment of the liquid crystal, a plurality of spaces (slits) are formed from the edge of the pixel electrode made of a transparent conductive film such as ITO, and a fine thorn-like pattern configuration is disclosed. ing. Patent Document 3 discloses a configuration in which slits are provided in regions (four corner regions located on the boundary region side between the reflective region and the transmissive region) in which the orientation of the outer periphery of the pixel electrode is most disturbed.

特許文献4には、半透過型液晶表示装置の例ではないが、透過型液晶表示装置の例において、様々な形状の電極スリットを設ける例が開示されている。
特開2002−350853号公報 特開2005−173037号公報 第3−4図、段落番号0020−0022 特開2006−243317号公報 第8−9図、段落番号0051−0068 特開2003−161947号公報
Patent Document 4 discloses an example in which electrode slits of various shapes are provided in an example of a transmissive liquid crystal display device, although it is not an example of a transflective liquid crystal display device.
JP 2002-350853 A Japanese Patent Laid-Open No. 2005-173037 FIG. 3-4, paragraph numbers 0020-0022 Japanese Patent Laid-Open No. 2006-243317, FIG. 8-9, paragraph numbers 0051-0068 JP 2003-161947 A

上記特許文献2〜4のように画素電極にスリットを設ける微細パターン構造を有する画素電極においては、その下層に配設された積層膜が水分や熱によって膨張伸縮することに起因して、本来意図した微細パターンの形状とは異なる形状に変形してしまう場合がある。このような状況となると、液晶の配向不良が生じ、表示品位が低下してしまう。また、膨張伸縮の程度によっては、画素電極の微細パターンが分断され、断線してしまう場合がある。さらに、断線した画素が隣接間の画素同士をショートさせ、点欠陥を発生させる恐れがある。とりわけ、画素電極の下層を有機膜により構成する場合において、微細パターンの変形や断線を解決する技術が切望されていた。   In the pixel electrode having a fine pattern structure in which a slit is provided in the pixel electrode as in the above Patent Documents 2 to 4, the laminated film disposed in the lower layer expands and contracts due to moisture or heat, which is originally intended. In some cases, the fine pattern may be deformed to a shape different from that of the fine pattern. In such a situation, alignment failure of the liquid crystal occurs, and the display quality deteriorates. Further, depending on the degree of expansion and contraction, the fine pattern of the pixel electrode may be divided and disconnected. Further, the disconnected pixel may cause short-circuiting between adjacent pixels, thereby causing a point defect. In particular, in the case where the lower layer of the pixel electrode is formed of an organic film, a technique for solving the deformation and disconnection of a fine pattern has been desired.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、半透過型液晶表示装置において、広視野角化を実現しつつ、表示品位の向上、及び高歩留り化を実現する液晶表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described background, and an object of the present invention is to improve display quality and increase yield while achieving a wide viewing angle in a transflective liquid crystal display device. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device.

本発明に係る第1の態様の液晶表示装置は、背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備える。そして、前記画素電極の前記透過領域には、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設されている。さらに、前記配向制御パターンは、前記透過領域における前記反射領域の境界近傍から前記透明導電膜の周縁部に向けて、幅が狭くなる根元太ラインパターンであり、前記反射領域に配設された前記透明導電膜と一体的に形成されている。   The liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention includes a transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path, and predetermined light that is incident from the display surface side. A reflective region that is reflected so as to pass through the bidirectional optical path, a first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed, and a second substrate disposed opposite to the first substrate. A substrate, and a liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate. The transparent region of the pixel electrode extends from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is formed in the region. It is arranged. Furthermore, the orientation control pattern is a root thick line pattern that decreases in width from the vicinity of the boundary of the reflective region in the transmissive region toward the peripheral edge of the transparent conductive film, and the alignment control pattern is disposed in the reflective region. It is formed integrally with the transparent conductive film.

本発明に係る第2の態様の液晶表示装置は、背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備える。そして、前記画素電極の前記透過領域は、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設されている。さらに、前記配向制御パターンは、前記透過領域の前記透明導電膜にスリット状の開口部を設けることにより形成された前記透明導電膜から構成されるラインパターンであり、前記反射領域に配設された前記透明導電膜と前記配向制御パターンが一体的に形成され、かつ、前記透過領域の前記透明導電膜の外側周縁部近傍において、少なくとも隣接する前記ラインパターン同士が電気的に接続するように接続パターンが形成されている。   The liquid crystal display device according to the second aspect of the present invention includes a transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path, and predetermined light that enters from the display surface side. A reflective region that is reflected so as to pass through the bidirectional optical path, a first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed, and a second substrate disposed opposite to the first substrate. A substrate, and a liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate. The transmissive region of the pixel electrode is a region extending from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is disposed in the region. It is installed. Further, the orientation control pattern is a line pattern composed of the transparent conductive film formed by providing a slit-like opening in the transparent conductive film of the transmissive region, and is disposed in the reflective region. The transparent conductive film and the alignment control pattern are integrally formed, and in the vicinity of the outer peripheral edge of the transparent conductive film in the transmissive region, at least the adjacent line patterns are electrically connected to each other. Is formed.

本発明に係る第3の態様の液晶表示装置は、背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備える。そして、前記画素電極の前記透過領域は、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設されている。さらに、前記配向制御パターンは、前記反射領域の前記透明導電膜と一体的に形成されたラインパターンであり、当該ラインパターンの根元部及びその周辺の直上層には、前記反射領域の画素電極と電気的に接続される導電膜が被覆されている。   A liquid crystal display device according to a third aspect of the present invention includes a transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path, and predetermined light that is incident from the display surface side. A reflective region that is reflected so as to pass through the bidirectional optical path, a first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed, and a second substrate disposed opposite to the first substrate. A substrate, and a liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate. The transmissive region of the pixel electrode is a region extending from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is disposed in the region. It is installed. Further, the alignment control pattern is a line pattern formed integrally with the transparent conductive film in the reflective region, and a pixel electrode in the reflective region is formed on a root portion of the line pattern and a layer immediately above the periphery. A conductive film to be electrically connected is covered.

本発明に係る第4の態様の液晶表示装置は、背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備える。そして、前記画素電極の前記透過領域は、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設されている。さらに、前記配向制御パターンは、前記反射領域の前記透明導電膜と分断されたラインパターンであり、当該ラインパターンの前記反射領域側の端部及びその周辺の直上層には、前記反射領域の画素電極と電気的に接続される導電膜が被覆されている。   A liquid crystal display device according to a fourth aspect of the present invention includes a transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path, and predetermined light that is incident from the display surface side. A reflective region that is reflected so as to pass through the bidirectional optical path, a first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed, and a second substrate disposed opposite to the first substrate. A substrate, and a liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate. The transmissive region of the pixel electrode is a region extending from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is disposed in the region. It is installed. Furthermore, the orientation control pattern is a line pattern separated from the transparent conductive film in the reflection region, and the pixel in the reflection region is provided at an end of the line pattern on the reflection region side and immediately above the periphery thereof. A conductive film electrically connected to the electrode is covered.

本発明によれば、半透過型液晶表示装置において、広視野角化を実現しつつ、表示品位の向上、及び高歩留り化を実現する液晶表示装置を提供することができるという優れた効果を有する。   According to the present invention, the transflective liquid crystal display device has an excellent effect that it can provide a liquid crystal display device that realizes an improvement in display quality and a high yield while realizing a wide viewing angle. .

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。また、以降の図における各部材のサイズや比率は、説明の便宜上のものであり、これに限定されるものではない。   Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. It goes without saying that other embodiments may also belong to the category of the present invention as long as they match the gist of the present invention. Moreover, the size and ratio of each member in the following drawings are for convenience of explanation, and are not limited to this.

[実施形態1]
本実施形態1に係る半透過型液晶表示装置(以下、「液晶表示装置」と云う)は、画素電極が形成された第1の基板と、第1の基板と対向配置された第2の基板を有する。そして、これら一対の基板間に液晶層が挟持されている。第1の基板は、例えば、薄膜トランジスタ(TFT(Thin Film Transistor))アレイ基板(以下、「TFTアレイ基板」と云う)などの配線基板である。第1の基板には、複数の走査信号線が並行に配設されている。そして、この走査信号線と直交する方向には、複数の表示信号線が並行に、かつ走査信号線と交差するように配設されている。
[Embodiment 1]
The transflective liquid crystal display device according to the first embodiment (hereinafter referred to as “liquid crystal display device”) includes a first substrate on which pixel electrodes are formed, and a second substrate disposed to face the first substrate. Have A liquid crystal layer is sandwiched between the pair of substrates. The first substrate is, for example, a wiring substrate such as a thin film transistor (TFT) array substrate (hereinafter referred to as “TFT array substrate”). A plurality of scanning signal lines are arranged in parallel on the first substrate. In the direction orthogonal to the scanning signal lines, a plurality of display signal lines are arranged in parallel and intersect with the scanning signal lines.

隣接する走査信号線と表示信号線とで囲まれた領域が画素となる。すなわち、第1の基板においては、画素がマトリックス状に配列されている。   A region surrounded by adjacent scanning signal lines and display signal lines is a pixel. That is, on the first substrate, the pixels are arranged in a matrix.

本実施形態1に係る液晶は、誘電率異方性が負の液晶材料を用いている。電圧無印加状態においては、第1の基板、第2の基板に対して垂直に配向する。そして、電圧印加により、垂直配向から傾斜して多軸配向に切り替わる。   The liquid crystal according to the first embodiment uses a liquid crystal material having negative dielectric anisotropy. In the state where no voltage is applied, the alignment is perpendicular to the first substrate and the second substrate. And by voltage application, it inclines from vertical alignment and switches to multiaxial alignment.

図1に、本実施形態1に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板(第1の基板)の1画素分の画素電極の模式的平面図を示す。また、図2に、図1のII−II切断部断面図の位置に相当するTFTアレイ基板の模式的断面図を、図3に、図1の点線Aの領域の画素電極の部分拡大平面図を示す。また、図4に、本実施形態1に係る液晶表示装置の模式的断面図を示す。   FIG. 1 shows a schematic plan view of pixel electrodes for one pixel of a TFT array substrate (first substrate) of the liquid crystal display device according to the first embodiment. 2 is a schematic cross-sectional view of the TFT array substrate corresponding to the position of the cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 1, and FIG. 3 is a partially enlarged plan view of the pixel electrode in the region indicated by the dotted line A in FIG. Indicates. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the first embodiment.

TFTアレイ基板30は、図2に示すように、ガラス基板等の絶縁性基板31、ゲート電極32、補助容量配線33、シリコン窒化膜等からなるゲート絶縁膜34、半導体層35、ソース電極36、ドレイン電極37、層間絶縁膜38、平坦化膜39、透明導電膜10、反射性導電膜20等を備えている。   As shown in FIG. 2, the TFT array substrate 30 includes an insulating substrate 31 such as a glass substrate, a gate electrode 32, an auxiliary capacitance wiring 33, a gate insulating film 34 made of a silicon nitride film, a semiconductor layer 35, a source electrode 36, A drain electrode 37, an interlayer insulating film 38, a planarizing film 39, a transparent conductive film 10, a reflective conductive film 20 and the like are provided.

TFTアレイ基板30の内面に形成された画素電極2には、反射領域Rと透過領域Tがある。反射領域Rは、平面視上、矩形状であり、透過領域Tは、反射領域Rの外側に枠体状に区画される。このような画素電極が各画素に形成されている。画素電極2は、透明導電膜10と反射性導電膜20により構成される。透明導電膜10とドレイン電極37とは、コンタクトホール6を介して接続されている。   The pixel electrode 2 formed on the inner surface of the TFT array substrate 30 has a reflection region R and a transmission region T. The reflection region R has a rectangular shape in plan view, and the transmission region T is partitioned in a frame shape outside the reflection region R. Such a pixel electrode is formed in each pixel. The pixel electrode 2 includes a transparent conductive film 10 and a reflective conductive film 20. The transparent conductive film 10 and the drain electrode 37 are connected via the contact hole 6.

反射領域Rは、視認側である表示面側(対向基板40側)から入射する光を、所定の双方向性光路を経るように反射させる領域である。反射領域Rの表面は、図2に示すように、平坦化膜39に形成された凹凸パターン7によって凹凸形状となっている。本実施形態1に係る反射領域Rは、透明導電膜10と反射性導電膜20の積層構造となっている。   The reflection region R is a region that reflects light incident from the display surface side (opposite substrate 40 side) that is the viewing side so as to pass through a predetermined bidirectional optical path. As shown in FIG. 2, the surface of the reflective region R has an uneven shape due to the uneven pattern 7 formed on the planarizing film 39. The reflective region R according to the first embodiment has a laminated structure of the transparent conductive film 10 and the reflective conductive film 20.

透過領域Tは、反視認側である裏面側(TFTアレイ基板30側)からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るように透過させる領域である。画素電極2の透過領域Tは、反射領域Rから延在された領域にある。そして、透過領域Tに配置される液晶層3の配向を制御するための配向制御パターンからなる透明導電膜10により構成されている。配向制御パターン11は、透過領域Tにおける反射領域Rの境界近傍から、透明導電膜10の周縁部に向けて、幅が狭くなる根元太ラインパターン12であり、配向制御パターン11(根元太ラインパターン12)は、反射領域Rの透明導電膜10と一体的に形成されている。配向制御パターン11により、透過領域Tにおける液晶層3の配向が制御される。   The transmission region T is a region through which light from the back side (TFT array substrate 30 side) that is the non-viewing side is transmitted to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path. The transmissive region T of the pixel electrode 2 is in a region extending from the reflective region R. And it is comprised by the transparent conductive film 10 which consists of an orientation control pattern for controlling the orientation of the liquid crystal layer 3 arrange | positioned in the transmissive area | region T. FIG. The orientation control pattern 11 is a root thick line pattern 12 whose width becomes narrower from the vicinity of the boundary of the reflective region R in the transmissive region T toward the peripheral edge of the transparent conductive film 10, and the orientation control pattern 11 (root thick line pattern). 12) is formed integrally with the transparent conductive film 10 in the reflective region R. The alignment control pattern 11 controls the alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmission region T.

根元太ラインパターン12は、図3に示すように、透明導電膜10の周縁部に近づくにつれて幅W1が狭くなるように形成されている。換言すると、透明導電膜10の周縁部に近づくにつれて、透明導電膜10に形成されたスリット19の幅W2が広くなるように形成されている。また、根元太ラインパターン12の方向は、図1に示すように、1つの画素において、平面視上、放射状になるように形成されている。これにより、電圧印加時に、1つの画素において透過領域Tの液晶を放射状に傾斜させることができる。本実施形態1に係る根元太ラインパターン12は、分岐しない1本の線状パターン12Aと、分岐構造を有する分岐状パターン12Bを備えている。   As shown in FIG. 3, the root thick line pattern 12 is formed so that the width W <b> 1 becomes narrower as it approaches the peripheral edge of the transparent conductive film 10. In other words, the width W <b> 2 of the slit 19 formed in the transparent conductive film 10 is formed so as to approach the peripheral edge of the transparent conductive film 10. Further, as shown in FIG. 1, the direction of the root thick line pattern 12 is formed so as to be radial in one pixel in a plan view. Thereby, at the time of voltage application, the liquid crystal in the transmission region T can be radially inclined in one pixel. The root thick line pattern 12 according to the first embodiment includes one linear pattern 12A that does not branch and a branched pattern 12B that has a branched structure.

TFTアレイ基板30には、図4に示すように、第2の基板たる対向基板40が配置されている。対向基板40は、例えばカラーフィルタ基板であり、視認側に配置される。対向基板40には、絶縁性基板41、カラーフィルタ42、ブラックマトリクス(不図示)、平坦化膜43、対向電極44、配向制御部45、及び配向膜(不図示)等が形成されている。そして、TFTアレイ基板30と対向基板40との間に液晶層3が挟持されている。   On the TFT array substrate 30, as shown in FIG. 4, a counter substrate 40 as a second substrate is arranged. The counter substrate 40 is a color filter substrate, for example, and is disposed on the viewing side. The counter substrate 40 includes an insulating substrate 41, a color filter 42, a black matrix (not shown), a planarization film 43, a counter electrode 44, an alignment control unit 45, an alignment film (not shown), and the like. The liquid crystal layer 3 is sandwiched between the TFT array substrate 30 and the counter substrate 40.

対向基板40に設けられた配向制御部45は、対向電極44の上層に突起状構造体として形成されている(図4参照)。これは、感光性樹脂を用いて、フォトリソグラフィー処理により作製することができる。対向基板40の配向制御部45により、反射領域Rに配置された液晶層3の配向が制御される。すなわち、配向制御部45により、電圧印加に応じて、反射領域Rの液晶分子を垂直配向から多軸配向に切り換えることができる。配向制御部45の形成位置は、反射領域Rの略中心位置とする。   The alignment control unit 45 provided on the counter substrate 40 is formed as a protruding structure on the upper layer of the counter electrode 44 (see FIG. 4). This can be produced by photolithography using a photosensitive resin. The orientation of the liquid crystal layer 3 disposed in the reflective region R is controlled by the orientation control unit 45 of the counter substrate 40. That is, the alignment control unit 45 can switch the liquid crystal molecules in the reflection region R from the vertical alignment to the multiaxial alignment according to voltage application. The formation position of the orientation control unit 45 is set to a substantially central position of the reflection region R.

配向制御部45としては、上述したように電圧印加に応じて、液晶分子を垂直配向から一軸、若しくは多軸配向に切り換えることができれば、その構造は特に限定されない。例えば、配向制御用突起や、配向制御用開口等の公知の構成を対向基板40側に配置することができる。対向基板40側に代えてTFTアレイ基板30側に配設することもできる。また、1つの反射領域Rに対して1つの配向制御部45を形成する態様に限定されるものではなく、反射領域Rの面積や形状に応じて1つの反射領域Rに複数の配向制御部45を配設してもよい。なお、対向基板40の反射領域Rに、透過領域Tと反射領域Rで、液晶層3を通過する光路長をほぼ同じにするために、透明樹脂等からなる液晶層厚調整層を形成してもよい。   The structure of the alignment controller 45 is not particularly limited as long as the liquid crystal molecules can be switched from the vertical alignment to the uniaxial or multiaxial alignment in response to voltage application as described above. For example, a known configuration such as an alignment control protrusion or an alignment control opening can be disposed on the counter substrate 40 side. Instead of the counter substrate 40 side, the TFT array substrate 30 side may be provided. Moreover, it is not limited to the aspect which forms the one orientation control part 45 with respect to one reflection area R, According to the area and shape of the reflection area R, several orientation control part 45 is provided in one reflection area R. May be provided. In addition, a liquid crystal layer thickness adjusting layer made of a transparent resin or the like is formed in the reflective region R of the counter substrate 40 so that the optical path lengths passing through the liquid crystal layer 3 are substantially the same in the transmissive region T and the reflective region R. Also good.

TFTアレイ基板30と、対向基板40との外側の面には、不図示の偏光板や位相差板等が設けられている。また、TFTアレイ基板30の外側である反視認側には、バックライトユニット(不図示)等が配設されている。   On the outer surfaces of the TFT array substrate 30 and the counter substrate 40, a polarizing plate, a retardation plate, etc. (not shown) are provided. A backlight unit (not shown) or the like is disposed on the non-viewing side, which is the outside of the TFT array substrate 30.

液晶は、画素電極2と対向電極44との間の電界によって駆動される。すなわち、基板間の液晶層3の配向方向が変化する。これにより、液晶層3を通過する光の偏光状態が変化する。すなわち、偏光板を通過して直線偏光となった光は液晶層3によって、偏光状態が変化する。具体的には、透過領域Tにおいては、バックライトユニットからの光は、偏光板によって直線偏光になる。そして、この直線偏光が液晶層3を通過することによって、偏光状態が変化する。   The liquid crystal is driven by an electric field between the pixel electrode 2 and the counter electrode 44. That is, the alignment direction of the liquid crystal layer 3 between the substrates changes. As a result, the polarization state of the light passing through the liquid crystal layer 3 changes. That is, the polarization state of light that has been linearly polarized after passing through the polarizing plate is changed by the liquid crystal layer 3. Specifically, in the transmission region T, the light from the backlight unit is linearly polarized by the polarizing plate. The linearly polarized light passes through the liquid crystal layer 3 to change the polarization state.

従って、偏光状態によって、対向基板40側の偏光板を通過する光量が変化する。すなわち、バックライトユニットから液晶表示パネルを通過する透過光のうち、視認側の偏光板を通過する光の光量が変化する。液晶層3の配向方向は、印加される表示電圧によって変化するので、表示電圧を制御することによって、視認側の偏光板を通過する光量を変化させることができる。すなわち、画素毎に表示電圧を変えることによって、所望の画像を表示することができる。   Accordingly, the amount of light passing through the polarizing plate on the counter substrate 40 side varies depending on the polarization state. That is, among the transmitted light that passes through the liquid crystal display panel from the backlight unit, the amount of light that passes through the viewing-side polarizing plate changes. Since the alignment direction of the liquid crystal layer 3 changes depending on the applied display voltage, the amount of light passing through the viewing-side polarizing plate can be changed by controlling the display voltage. That is, a desired image can be displayed by changing the display voltage for each pixel.

次に、本実施形態1に係るTFTアレイ基板30の製造方法について述べる。なお、以下に説明する例は典型的なものであって、本発明の趣旨に合致する限り他の製造方法を採用することができることは言うまでもない。   Next, a manufacturing method of the TFT array substrate 30 according to the first embodiment will be described. Note that the examples described below are typical, and it goes without saying that other manufacturing methods can be adopted as long as they meet the spirit of the present invention.

まず、絶縁性基板31として透明なガラス基板等を洗浄して表面を清浄化する。絶縁性基板31の厚さは任意でよいが、液晶表示装置1の厚さを薄くするために1.1mm厚以下のものが好ましい。絶縁性基板31が薄すぎる場合には各種の成膜やプロセスの熱履歴によって基板の歪みが生じるためにパターニング精度が低下するなどの不具合を生じるので、絶縁性基板31の厚さは使用するプロセスを考慮して選択する必要がある。また、絶縁性基板31がガラスなどの脆性破壊材料からなる場合、基板の端面は面取りを実施しておくことが、端面からのチッピングによる異物の混入を防止する上で好ましい。   First, a transparent glass substrate or the like is cleaned as the insulating substrate 31 to clean the surface. Although the thickness of the insulating substrate 31 may be arbitrary, in order to reduce the thickness of the liquid crystal display device 1, a thickness of 1.1 mm or less is preferable. If the insulating substrate 31 is too thin, the substrate is distorted due to various film formations and thermal histories of processes, which causes a problem such as reduced patterning accuracy. Therefore, the thickness of the insulating substrate 31 depends on the process used. It is necessary to select in consideration of. Further, when the insulating substrate 31 is made of a brittle fracture material such as glass, it is preferable to chamfer the end surface of the substrate in order to prevent foreign matter from being mixed due to chipping from the end surface.

次に、スパッタリングなどの方法でゲート配線(不図示)、ゲート電極32、補助容量配線33等を形成するための金属薄膜を成膜する。当該金属薄膜としては、例えばクロム、モリブデン、タンタル、チタン、アルミニウム、銅やこれらに他の物質を微量に添加した合金などを用いることができ、100nm から500nm程度の膜厚の薄膜を用いることができる。好適な実施例では、200nmの膜厚のアルミニウムが用いられる。   Next, a metal thin film for forming a gate wiring (not shown), the gate electrode 32, the auxiliary capacitance wiring 33, etc. is formed by a method such as sputtering. As the metal thin film, for example, chromium, molybdenum, tantalum, titanium, aluminum, copper, an alloy obtained by adding a small amount of other substances to these, or the like can be used, and a thin film with a thickness of about 100 nm to 500 nm is used. it can. In a preferred embodiment, 200 nm thick aluminum is used.

次に、写真製版法によりレジストを塗膜、露光、現像等のプロセスを経てパターニングし、エッチング処理により上記金属薄膜をパターニングする。これにより、ゲート電極32、ゲート配線(不図示)、補助容量電極(不図示)、補助容量配線33、及びゲート端子(不図示)等が形成される。金属薄膜のエッチングは、パターンエッジがテーパー形状となるようにエッチングすることが、他の配線との段差での短絡を防止する上で好ましい。   Next, the resist is patterned through a process such as coating, exposure, and development by a photoengraving method, and the metal thin film is patterned by an etching process. Thereby, the gate electrode 32, the gate wiring (not shown), the auxiliary capacitance electrode (not shown), the auxiliary capacitance wiring 33, the gate terminal (not shown), and the like are formed. The etching of the metal thin film is preferably performed so that the pattern edge has a tapered shape in order to prevent a short circuit at a step with another wiring.

次に、プラズマCVDによりゲート絶縁膜34、半導体層35(半導体能動膜、オーミックコンタクト膜)を形成するための薄膜を成膜する。ゲート絶縁膜34を構成する薄膜としては、SiNx膜、SiOy膜、SiOzNw膜やこれらの積層膜を用いることができる(なお、x、y、z、wはそれぞれ正数である)。半導体層35のうちの半導体能動膜としては、アモルファスシリコン(a−Si)膜、ポリシリコン(p−Si)膜が用いられる。オーミックコンタクト膜としては、a−Si、又はp−Siにリン(P)を微量にドーピングしたn型a−Si膜、n型p−Si膜が用いられる。   Next, a thin film for forming the gate insulating film 34 and the semiconductor layer 35 (semiconductor active film, ohmic contact film) is formed by plasma CVD. As the thin film constituting the gate insulating film 34, a SiNx film, a SiOy film, a SiOzNw film, or a laminated film thereof can be used (where x, y, z, and w are positive numbers). As the semiconductor active film in the semiconductor layer 35, an amorphous silicon (a-Si) film or a polysilicon (p-Si) film is used. As the ohmic contact film, an n-type a-Si film or an n-type p-Si film obtained by doping a-Si or p-Si with a small amount of phosphorus (P) is used.

次に、写真製版法により半導体層35を少なくともTFT部が形成される部分にパターニングする。ゲート絶縁膜34は、全体に亘って残存する。半導体層35のエッチングは、公知のガス組成(例えば、SF6とO2の混合ガスまたはCF4とO2の混合ガス)でドライエッチングが可能である。 Next, the semiconductor layer 35 is patterned at least in a portion where the TFT portion is formed by photolithography. The gate insulating film 34 remains throughout. The semiconductor layer 35 can be etched by a known gas composition (for example, a mixed gas of SF 6 and O 2 or a mixed gas of CF 4 and O 2 ).

次に、スパッタリングなどの方法でソース電極36及びドレイン電極37を形成するための金属薄膜を成膜する。この金属薄膜としては、例えばクロム、モリブデン、タンタル、チタン、アルミニウム、銅やこれらに他の物質を微量に添加した合金、あるいはこれらの積層膜が用いられる。もちろん、上述の材料を積層形成してもよい。好適な実施例としては、200nmの膜厚を有するクロムを成膜する例を挙げることができる。   Next, a metal thin film for forming the source electrode 36 and the drain electrode 37 is formed by a method such as sputtering. As the metal thin film, for example, chromium, molybdenum, tantalum, titanium, aluminum, copper, an alloy obtained by adding a small amount of other substances to these, or a laminated film thereof is used. Of course, the above-described materials may be laminated. As a preferred embodiment, an example of forming a chromium film having a thickness of 200 nm can be given.

続いて、写真製版法、エッチング法によりこの金属薄膜がソース配線(不図示)、ソース端子(不図示)、ソース電極36及びドレイン電極37を形成するようにパターニングする。ソース電極36は、ソース配線とゲート配線が交差する部分にまで亘って形成される。次に、半導体層35のうちのオーミックコンタクト膜のエッチングを行ない、TFTのチャネル部となる半導体能動膜を露出させる。オーミックコンタクト膜のエッチングは、公知のガス組成(例えば、SF6とO2の混合ガスまたはCF4とO2の混合ガス)でドライエッチングが可能である。これらの工程により、TFTが形成される。 Subsequently, the metal thin film is patterned by photolithography and etching so that a source wiring (not shown), a source terminal (not shown), a source electrode 36 and a drain electrode 37 are formed. The source electrode 36 is formed over a portion where the source wiring and the gate wiring intersect. Next, the ohmic contact film in the semiconductor layer 35 is etched to expose the semiconductor active film that becomes the channel portion of the TFT. The ohmic contact film can be etched by a known gas composition (for example, a mixed gas of SF 6 and O 2 or a mixed gas of CF 4 and O 2 ). Through these steps, a TFT is formed.

次に、プラズマCVD法により層間絶縁膜38を形成するための膜を形成する。その上から平坦化膜39を形成する。層間絶縁膜38を形成するための膜は、ゲート絶縁膜34と同様の材質により形成することができる。好適な実施例では、100nmの膜厚のSiNが用いられる。また、平坦化膜39は、感光性有機膜を好適に用いることができる。例えば、JSR社製PC335又はPC405等のポジ型感光性樹脂組成物を用いることができる。無論、ネガ型の感光性樹脂組成物を用いてもよい。平坦化膜39は、3.0〜4.0μm程度の厚み、望ましくは3.2〜3.9μm程度の厚みで形成される。無論、これ以外の厚みでもよい。   Next, a film for forming the interlayer insulating film 38 is formed by plasma CVD. A planarizing film 39 is formed thereon. A film for forming the interlayer insulating film 38 can be formed of the same material as the gate insulating film 34. In the preferred embodiment, 100 nm thick SiN is used. Further, a photosensitive organic film can be suitably used as the planarizing film 39. For example, a positive photosensitive resin composition such as PC335 or PC405 manufactured by JSR Corporation can be used. Of course, a negative photosensitive resin composition may be used. The planarizing film 39 is formed with a thickness of about 3.0 to 4.0 μm, preferably about 3.2 to 3.9 μm. Of course, other thicknesses may be used.

次いで、写真製版法により平坦化膜39の所望のパターン形状及び平坦化膜39の反射領域Rの表面に凹凸パターン7を得るようにパターン形成する。まず、パターン形成前の平坦化膜39に、光透過領域を有する遮光マスク(フォトマスク)を用いて、均一に低照度で露光を行う。続いて、図2に示すようなコンタクトホール6に対応する部分が開口した遮光マスク(不図示)を用いて、均一に高照度で露光を行う。   Next, a pattern is formed by the photoengraving method so as to obtain the desired pattern shape of the planarizing film 39 and the surface of the reflective region R of the planarizing film 39. First, using a light-shielding mask (photomask) having a light transmission region, the planarizing film 39 before pattern formation is uniformly exposed with low illuminance. Subsequently, exposure is performed uniformly with high illuminance using a light shielding mask (not shown) having an opening corresponding to the contact hole 6 as shown in FIG.

上記露光工程後、現像液を用いて現像を行う。これにより、高照度露光領域の平坦化膜39が完全に除去され、低照度露光部の平坦化膜39は初期の膜厚に対して若干膜減りする。その結果、平坦化膜39の表面に凹凸パターン7が形成せしめられる。この凹凸パターン7は、後述する反射電極の表面に散乱用の凹凸形状として反映される。なお、このように照度を変えることにより平坦化膜39のパターン形状を制御する方法に代えて、二つの異なる平坦化膜を塗布し、順を追って露光、現像を行いパターニングしてもよい。   After the exposure step, development is performed using a developer. Thereby, the flattening film 39 in the high illuminance exposure region is completely removed, and the flattening film 39 in the low illuminance exposure part is slightly reduced with respect to the initial film thickness. As a result, the uneven pattern 7 is formed on the surface of the planarizing film 39. The uneven pattern 7 is reflected as an uneven shape for scattering on the surface of a reflective electrode described later. Instead of the method of controlling the pattern shape of the flattening film 39 by changing the illuminance in this way, two different flattening films may be applied and patterned by performing exposure and development sequentially.

続いて、必要に応じて加熱処理を行う。その後、コンタクトホール6に対応する領域では、エッチング工程により層間絶縁膜38が除去されてドレイン電極37が露出する。   Subsequently, heat treatment is performed as necessary. Thereafter, in the region corresponding to the contact hole 6, the interlayer insulating film 38 is removed by the etching process, and the drain electrode 37 is exposed.

次に、スパッタリングなどの方法で透明導電膜10を成膜する。透明導電膜としては、ITO、SnO2、IZOなどを用いることができる。化学的安定性の点からは、ITOが好ましい。好適な実施例では、透明導電膜は、80nmの膜厚を有するITOが用いられる。 Next, the transparent conductive film 10 is formed by a method such as sputtering. As the transparent conductive film, ITO, SnO 2 , IZO, or the like can be used. ITO is preferable from the viewpoint of chemical stability. In a preferred embodiment, the transparent conductive film is made of ITO having a thickness of 80 nm.

次に、写真製版法により透明導電膜10の所望のパターン形状を得るようにパターン形成する。透明導電膜のエッチングは、使用する材料によって公知のウェットエッチング(例えば、透明導電膜が結晶化ITOからなる場合には塩酸、及び硝酸が混合されてなる水溶液)を用いて行うことができる。透明導電膜10がITOの場合、公知のガス組成(例えば、HI、HBr)でのドライエッチングによるエッチングも可能である。これにより、透明導電膜10のパターンが得られる。透明導電膜10は、コンタクトホール6を介して、ドレイン電極37と電気的に接続される。   Next, a pattern is formed so as to obtain a desired pattern shape of the transparent conductive film 10 by photolithography. Etching of the transparent conductive film can be performed using known wet etching (for example, an aqueous solution in which hydrochloric acid and nitric acid are mixed when the transparent conductive film is made of crystallized ITO) depending on the material used. When the transparent conductive film 10 is ITO, etching by dry etching with a known gas composition (for example, HI, HBr) is also possible. Thereby, the pattern of the transparent conductive film 10 is obtained. The transparent conductive film 10 is electrically connected to the drain electrode 37 through the contact hole 6.

透明導電膜10は、画素電極2を構成する反射領域R及び透過領域Tに亘って一体的に形成する。すなわち、反射領域Rには、全面に亘ってパターンなしの透明導電膜10を配設する。反射領域Rから透過領域Tに亘る透明導電膜10は、一体的に1つのパターンとなっている。透過領域Tには、前述したような根元太ラインパターン12を有するパターンを形成する。透明導電膜10は、単層に限定されず、積層体により構成してもよい。   The transparent conductive film 10 is integrally formed across the reflective region R and the transmissive region T constituting the pixel electrode 2. That is, in the reflection region R, the transparent conductive film 10 without a pattern is disposed over the entire surface. The transparent conductive film 10 extending from the reflective region R to the transmissive region T is integrally formed as one pattern. In the transmissive region T, a pattern having the root thick line pattern 12 as described above is formed. The transparent conductive film 10 is not limited to a single layer, and may be formed of a laminate.

続いて、スパッタリングなどの方法で反射性導電膜20を成膜する。反射性導電膜20としては、例えばアルミニウム等の反射機能を有する金属を用いることができる。膜厚としては、例えば、100nmから500nm程度の膜厚の薄膜を用いることができる。反射性導電膜20は、単層に限定されず積層体により構成してもよい。反射性導電膜20を成膜後、所望のパターン形状を得るようにパターニング形成する。   Subsequently, the reflective conductive film 20 is formed by a method such as sputtering. As the reflective conductive film 20, for example, a metal having a reflection function such as aluminum can be used. As the film thickness, for example, a thin film with a film thickness of about 100 nm to 500 nm can be used. The reflective conductive film 20 is not limited to a single layer and may be formed of a laminated body. After the reflective conductive film 20 is formed, it is patterned to obtain a desired pattern shape.

その後、画素電極上に配向膜(不図示)を塗布し、TFTアレイ基板30が製造される。配向膜としては、垂直配向膜が用いられる。このように製造されたTFTアレイ基板30は、対向基板40とシール材(不図示)によって貼り合せられるとともに、両基板とシール材によって囲まれた領域に液晶が注入される。   Thereafter, an alignment film (not shown) is applied on the pixel electrode, and the TFT array substrate 30 is manufactured. As the alignment film, a vertical alignment film is used. The TFT array substrate 30 manufactured in this way is bonded to the counter substrate 40 by a sealing material (not shown), and liquid crystal is injected into a region surrounded by both substrates and the sealing material.

本実施形態1に係る液晶表示装置においては、負の誘電率異方性を備えた液晶分子を基板面に対して垂直配向させ、電圧の印加によって液晶分子を倒して光変調を行う。反射領域Rにおいては、液晶分子の配向を制御する配向制御部45を配設しているため、垂直配向させた液晶分子を放射状に傾斜させることができる。一方、透過領域Tにおいては、液晶分子の配向を制御する根元太ラインパターン12を、1つの画素内において、放射状に配設しているので、垂直配向させた液晶分子を放射状に傾斜させることができる。このため、広視野角化を実現することができる。   In the liquid crystal display device according to the first embodiment, liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy are vertically aligned with respect to the substrate surface, and light modulation is performed by tilting the liquid crystal molecules by applying a voltage. In the reflection region R, since the alignment control unit 45 that controls the alignment of the liquid crystal molecules is provided, the vertically aligned liquid crystal molecules can be inclined radially. On the other hand, in the transmission region T, the root thick line pattern 12 for controlling the alignment of the liquid crystal molecules is arranged radially in one pixel, so that the vertically aligned liquid crystal molecules can be inclined radially. it can. For this reason, a wide viewing angle can be realized.

また、本実施形態1に係る透過領域Tに形成された根元太ラインパターン12は、透明導電膜10の周縁部に近づくにつれて幅W1が狭くなるように形成されている。換言すると、応力の集中しやすい根元部を太くすることにより、画素電極2の下層に形成された平坦化膜39が、水分や熱などにより膨張伸縮した場合においても、その応力によって根元太ラインパターン12の形状が変形したり、断線したりすることを抑制することができる。このため、液晶層3の配向制御が安定し、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。また、断線による歩留り低下を抑制することができる。   Further, the root thick line pattern 12 formed in the transmission region T according to the first embodiment is formed so that the width W1 becomes narrower as it approaches the peripheral edge of the transparent conductive film 10. In other words, even if the flattened film 39 formed in the lower layer of the pixel electrode 2 expands and contracts due to moisture, heat, or the like by thickening the root portion where stress tends to concentrate, the root thick line pattern is generated by the stress. The shape of 12 can be prevented from being deformed or disconnected. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the alignment control of the liquid crystal layer 3 is stable and the display quality is high. Moreover, the yield fall by disconnection can be suppressed.

また、本実施形態1に係る画素電極2においては、上記特許文献2や3に記載のように、サブ画素電極同士を接続する細幅の連結部を設けていないので、サブピクセル間の反射、透過に属さない無効領域がない。従って、反射領域、透過領域に用いる有効面積を広く取ることができる。このため、高コントラスト化を実現することができる。しかも、細幅の連結部を設けていないので、平坦化膜39の水分や熱などによる膨張伸縮による連結部の変形や断線の問題が生じない。   In addition, in the pixel electrode 2 according to the first embodiment, as described in Patent Documents 2 and 3, since there is no narrow connecting portion that connects the sub-pixel electrodes, the reflection between the sub-pixels, There is no invalid area that does not belong to transparency. Therefore, the effective area used for the reflective region and the transmissive region can be widened. For this reason, high contrast can be realized. In addition, since the narrow connecting portion is not provided, there is no problem of deformation or disconnection of the connecting portion due to expansion / contraction due to moisture or heat of the planarizing film 39.

また、本実施形態1に係る画素電極においては、透過領域Tは、根元太ラインパターン12によって液晶分子の配向制御を行っている。このため、透過領域Tにおいては、配向制御用突起や配向制御用開口等の配向制御部を設ける必要がなく、開口率の向上を図ることができる。すなわち、高輝度化を実現することができる。さらに、本実施形態1に係る画素電極においては、透過領域Tを反射領域Rの外側に枠体状に形成しているので、透過領域Tの配向制御パターン11の強度を高めつつ、透過領域Tの面積を効率よく確保することができる。なお、本発明においては、透過領域Tにおいて対向基板40に配向制御部を設けずに液晶層3の配向制御が可能であり、上述した効果を得ることができるものであるが、対向基板40に配向制御部を設けることを排除するものではない。   In the pixel electrode according to the first embodiment, the transmissive region T controls the alignment of the liquid crystal molecules by the root thick line pattern 12. For this reason, in the transmission region T, it is not necessary to provide an alignment control unit such as an alignment control protrusion or an alignment control opening, and the aperture ratio can be improved. That is, high brightness can be realized. Further, in the pixel electrode according to the first embodiment, since the transmissive region T is formed in a frame shape outside the reflective region R, the strength of the orientation control pattern 11 of the transmissive region T is increased and the transmissive region T is increased. Can be efficiently secured. In the present invention, the alignment of the liquid crystal layer 3 can be controlled without providing the alignment control unit on the counter substrate 40 in the transmission region T, and the above-described effects can be obtained. The provision of the orientation control unit is not excluded.

なお、本実施形態1においては、液晶の配向方向を放射状に傾斜させる例について説明したが、放射状に傾斜させる必要性はなく、1方向、2方向、3方向、4方向等の一軸、若しくは多軸方向に傾斜させる場合にも同様の効果が得られる。また、根元太ラインパターン12の形状は、根元部ほど幅広となっていればよく、上記図1の態様に限定されるものではない。   In the first embodiment, the example in which the alignment direction of the liquid crystal is radially inclined has been described. However, there is no need to radially incline, and there is no need to radially incline, such as one direction, two directions, three directions, four directions, or many others. The same effect can be obtained when tilting in the axial direction. Further, the shape of the root thick line pattern 12 is not limited to the embodiment shown in FIG. 1 as long as the root portion is wider.

また、反射領域Rのパターンは、矩形状のパターンである必要性はなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において多角形、円形、楕円形等の種々の形状とすることができる。また、1つの画素における反射領域Rのパターンは、1つである例について説明したが、複数に分割したパターンとすることもできる。さらに、本実施形態1においては、透過領域Tが、反射領域Rの外側に枠体状に形成されている例について説明したが、これに限定されるものではなく、反射領域Rの少なくとも一方向に延在された領域に透過領域Tが形成されていれば本件発明の効果を得ることができる。   The pattern of the reflection region R is not necessarily a rectangular pattern, and can be various shapes such as a polygon, a circle, and an ellipse without departing from the spirit of the present invention. Further, the example in which the pattern of the reflection region R in one pixel is one has been described, but a pattern divided into a plurality of patterns may be used. Furthermore, in the first embodiment, the example in which the transmission region T is formed in a frame shape outside the reflection region R has been described, but the present invention is not limited to this, and at least one direction of the reflection region R If the transmissive area | region T is formed in the area | region extended in this, the effect of this invention can be acquired.

また、画素電極2の直下層に配設された積層膜として、平坦化膜の例を挙げたが、これに限定されるものではなく、層間絶縁膜等の他の積層膜の場合にも、本件発明の効果を得ることができる。本発明は、水分や熱により膨張伸縮の生じやすい有機膜等において特に好適に用いることができる。   Further, the example of the planarizing film is given as the laminated film disposed immediately below the pixel electrode 2, but the present invention is not limited to this, and in the case of other laminated films such as an interlayer insulating film, The effects of the present invention can be obtained. The present invention can be particularly suitably used in an organic film or the like that easily expands and contracts due to moisture or heat.

[実施形態2]
次に、上記実施形態に係る液晶表示装置とは異なる一例について説明する。なお、以降の説明において、上記実施形態と同一の要素部材は同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。
[Embodiment 2]
Next, an example different from the liquid crystal display device according to the above embodiment will be described. In the following description, the same elements as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.

本実施形態2に係る液晶表示装置は、画素電極2aの配向制御パターン11a以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態1と同様である。図5に、本実施形態2に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極2aの模式的な部分拡大平面図を示す。   The liquid crystal display device according to the second embodiment has the same basic structure and manufacturing method as those of the first embodiment except for the orientation control pattern 11a of the pixel electrode 2a. FIG. 5 is a schematic partial enlarged plan view of the pixel electrode 2a for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the second embodiment.

透過領域Tは、矩形状に形成された反射領域Rから延在された方向の枠体部に相当する位置に形成されている。そして、透過領域Tに設けられた配向制御パターン11aは、透明導電膜10aにスリット状の開口部を設けることにより形成された透明導電膜10aから構成されるラインパターン13である。このラインパターン13は、反射領域Rに配設された透明導電膜10aと一体的に形成されている。そして、透過領域Tの透明導電膜10aの外側周縁部近傍において、少なくとも隣接するラインパターン13同士が電気的に接続するように接続パターン13Aが形成されている。   The transmission region T is formed at a position corresponding to the frame body portion in the direction extending from the reflection region R formed in a rectangular shape. The alignment control pattern 11a provided in the transmissive region T is a line pattern 13 composed of the transparent conductive film 10a formed by providing slit-like openings in the transparent conductive film 10a. The line pattern 13 is formed integrally with the transparent conductive film 10a disposed in the reflection region R. In the vicinity of the outer peripheral edge of the transparent conductive film 10a in the transmissive region T, a connection pattern 13A is formed so that at least the adjacent line patterns 13 are electrically connected.

本実施形態2に係る接続パターン13Aは、透明導電膜10aにより、その外側周縁部が枠体状になるように形成されている。換言すると、透過領域Tにおける透明導電膜10aに、スリット状の開口パターンであるスリットパターン18を放射状に設けることにより、ラインパターン13と、接続パターン13Aを形成している。これにより、ラインパターン13は、図5に示すように、平面視上、1つの画素電極において、放射状になるように形成され、ラインパターン13の外側端部が接続パターン13Aにより電気的に接続される。これにより、電圧印加時に、1つの画素において透過領域Tの液晶を放射状に傾斜させることができる。反射領域Rにおいては、上記実施形態1と同様に、透明導電膜10aと反射性導電膜20との積層体により構成されている。透過領域Tにおいては、スリットパターン18により液晶層3の配向方位が制御される。   The connection pattern 13A according to the second embodiment is formed by the transparent conductive film 10a so that the outer peripheral edge thereof has a frame shape. In other words, the line pattern 13 and the connection pattern 13A are formed by providing the slit pattern 18 that is a slit-shaped opening pattern radially on the transparent conductive film 10a in the transmission region T. Thereby, as shown in FIG. 5, the line pattern 13 is formed so as to be radial in one pixel electrode in plan view, and the outer end of the line pattern 13 is electrically connected by the connection pattern 13A. The Thereby, at the time of voltage application, the liquid crystal in the transmission region T can be radially inclined in one pixel. In the reflective region R, similarly to the first embodiment, the reflective region R is formed of a laminated body of the transparent conductive film 10a and the reflective conductive film 20. In the transmission region T, the orientation direction of the liquid crystal layer 3 is controlled by the slit pattern 18.

本実施形態2に係るTFTアレイ基板の基本的な製造方法は、下記の点を除き上記実施形態1と同様である。すなわち、透過領域Tの透明導電膜10aにおいて、上記実施形態1の根元太ラインパターン12に代えて、ラインパターン13及び接続パターン13Aが形成されるようにスリットパターン18を形成すればよい。その後、上記実施形態1と同様の方法により、反射性導電膜20を成膜してパターン形成を行う。なお、本実施形態2においては、ラインパターン13と接続パターン13Aを同一レイヤにある透明導電膜10aにより形成する例について説明したが、ラインパターン13を透明導電膜10aにより形成し、ラインパターン13の外側端部に、少なくとも隣接するラインパターン13同士が電気的に接続するように、その上層に接続パターンを配設してもよい。   The basic manufacturing method of the TFT array substrate according to Embodiment 2 is the same as that of Embodiment 1 except for the following points. That is, in the transparent conductive film 10a in the transmission region T, the slit pattern 18 may be formed so that the line pattern 13 and the connection pattern 13A are formed instead of the root thick line pattern 12 of the first embodiment. Thereafter, the reflective conductive film 20 is formed by the same method as in the first embodiment, and pattern formation is performed. In the second embodiment, the example in which the line pattern 13 and the connection pattern 13A are formed by the transparent conductive film 10a in the same layer has been described. However, the line pattern 13 is formed by the transparent conductive film 10a, and the line pattern 13 You may arrange | position a connection pattern in the upper layer so that at least the adjacent line pattern 13 may electrically connect with an outer side edge part.

本実施形態2に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化を実現することができる。また、本実施形態2に係る透過領域Tは、透過導電膜10aの外側周縁部で接続パターンにより連結しているので透過領域Tにおける透明導電膜10aの強度を高めることができる。   In the liquid crystal display device according to the second embodiment, a wide viewing angle and a high contrast can be realized for the same reason as in the first embodiment. Moreover, since the transmissive region T according to the second embodiment is connected by the connection pattern at the outer peripheral edge of the transmissive conductive film 10a, the strength of the transparent conductive film 10a in the transmissive region T can be increased.

従って、画素電極2aの下層に形成された平坦化膜39が、水分や熱などにより膨張伸縮した場合においても、その応力によって透過領域Tの透明導電膜10aの形状が変形したり、断線したりすることを抑制することができる。仮に、ラインパターン13に断線が生じた場合であっても、接続パターン13Aを介して電位を供給することができる。以上により、液晶層3の配向制御が安定し、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。また、断線による歩留り低下を抑制することができる。   Therefore, even when the planarizing film 39 formed under the pixel electrode 2a expands and contracts due to moisture, heat, or the like, the shape of the transparent conductive film 10a in the transmission region T is deformed or disconnected due to the stress. Can be suppressed. Even if the line pattern 13 is disconnected, a potential can be supplied through the connection pattern 13A. As described above, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the alignment control of the liquid crystal layer 3 is stable and the display quality is high. Moreover, the yield fall by disconnection can be suppressed.

本実施形態2に係る配向制御パターンによれば、上記特許文献1に比してラインパターン13の配向方向の設計自由度が増加するというメリットもある。例えば、矩形状の反射領域Rの辺と平行な方向にスリットパターン18を設けることにより、反射領域Rの辺と平行な方向に配向制御パターン11aを設けることも可能である。   The alignment control pattern according to the second embodiment has an advantage that the degree of freedom in design of the alignment direction of the line pattern 13 is increased as compared with the above-mentioned Patent Document 1. For example, it is also possible to provide the orientation control pattern 11a in a direction parallel to the side of the reflection region R by providing the slit pattern 18 in a direction parallel to the side of the rectangular reflection region R.

なお、本実施形態2においては、液晶層3の配向方向を放射状に傾斜させる例について説明したが、放射状に傾斜させる必要性はなく、1方向、2方向、3方向、4方向等の一軸若しくは多軸方向に傾斜させる場合にも同様の効果が得られる。すなわち、配向制御パターンを放射状に配向させる態様に代えて、1方向、2方向、3方向、4方向等に配向させたものを用いてもよい。また、ラインパターン13の形状は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の形状とすることができる。例えば、十字状のパターンや、枝分かれ状パターン等としてもよい。   In the second embodiment, the example in which the alignment direction of the liquid crystal layer 3 is radially inclined has been described. However, there is no need to radially incline, and one axis such as one direction, two directions, three directions, four directions, or the like. The same effect can be obtained when tilting in the multi-axis direction. That is, instead of a mode in which the orientation control pattern is oriented radially, one oriented in one direction, two directions, three directions, four directions, or the like may be used. Further, the shape of the line pattern 13 can be various shapes within a range not departing from the gist of the present invention. For example, a cross-shaped pattern, a branched pattern, or the like may be used.

また、接続パターン13Aを透明導電膜10aにより構成する例について説明したが、これに限定されるものではなく、透明導電膜10aの上層若しくは下層に接続パターン13Aを配設して、ラインパターン13との電気的接続を図ってもよい。   Moreover, although the example which comprises the connection pattern 13A by the transparent conductive film 10a was demonstrated, it is not limited to this, The connection pattern 13A is arrange | positioned in the upper layer or lower layer of the transparent conductive film 10a, and the line pattern 13 and The electrical connection may be achieved.

[実施形態3]
本実施形態3に係る液晶表示装置は、画素電極の配向制御パターン以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態1と同様である。図6に、本実施形態3に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極の模式的な部分拡大平面図を示す。なお、説明の便宜上、反射性導電膜20bは、透明であるかのように図示している。
[Embodiment 3]
The liquid crystal display device according to the third embodiment has the same basic structure and manufacturing method as those of the first embodiment except the pixel electrode alignment control pattern. FIG. 6 is a schematic partial enlarged plan view of the pixel electrode for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the third embodiment. For convenience of explanation, the reflective conductive film 20b is illustrated as if it is transparent.

画素電極2を構成する反射領域Rは、矩形状に構成され、透過領域Tは、反射領域Rの外側に枠体状に区画されている。本実施形態3においては、反射領域Rにおける透過領域Tの境界領域近傍から、透過領域Tの透明導電膜10bの周縁部に向けて、透明導電膜10の全周に亘って放射状に配向制御パターン11bとして一体型ラインパターン14が形成されている。また、反射領域Rと透過領域Tに形成された透明導電膜10bが一体的に1つのパターンとして形成されている。   The reflective region R constituting the pixel electrode 2 is configured in a rectangular shape, and the transmissive region T is partitioned in a frame shape outside the reflective region R. In the third embodiment, the alignment control pattern is radially distributed over the entire circumference of the transparent conductive film 10 from the vicinity of the boundary region of the transmissive region T in the reflective region R toward the peripheral edge of the transparent conductive film 10b in the transmissive region T. An integrated line pattern 14 is formed as 11b. The transparent conductive film 10b formed in the reflective region R and the transmissive region T is integrally formed as one pattern.

上記実施形態1においては、反射領域Rは、全領域において透明導電膜10と反射性導電膜20との積層構造となっていたが、本実施形態3においては、反射性導電膜20の周縁部近傍領域は、透明導電膜10bの一体型ラインパターン14が形成され、透明導電膜10bと反射性導電膜20の積層構造となっていない領域が存在する。本実施形態3に係る一体型ラインパターン14は、その根元部から先端部に向けて同一幅により構成されている。この一体型ラインパターン14が形成された透明導電膜10bにより、透過領域Tの液晶層3の配向が制御される。   In the first embodiment, the reflective region R has a laminated structure of the transparent conductive film 10 and the reflective conductive film 20 in the entire region. However, in the third embodiment, the peripheral portion of the reflective conductive film 20 is used. In the vicinity region, the integrated line pattern 14 of the transparent conductive film 10b is formed, and there is a region where the transparent conductive film 10b and the reflective conductive film 20 are not laminated. The integrated line pattern 14 according to the third embodiment is configured with the same width from the root portion toward the tip portion. The alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmission region T is controlled by the transparent conductive film 10b on which the integrated line pattern 14 is formed.

一体型ラインパターン14は、上記実施形態1に係る根元太ラインパターン12と同様に1つの画素において、平面視上、放射状になるように形成している。これにより、電圧印加時に、1つの画素において透過領域Tの液晶を放射状に傾斜させることができる。   The integrated line pattern 14 is formed to be radial in one pixel as in the root thick line pattern 12 according to the first embodiment. Thereby, at the time of voltage application, the liquid crystal in the transmission region T can be radially inclined in one pixel.

本実施形態3に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化を実現することができる。また、本実施形態3に係る一体型ラインパターン14は、反射領域Rにおける透過領域Tとの境界部近傍から、透過領域Tの周縁部に向けて形成しているので、一体型ラインパターン14の強度を高めることができる。すなわち、応力の集中しやすい一体型ラインパターン14の根元部に反射性導電膜20を重畳することにより、応力による段切れを回避することができる。   In the liquid crystal display device according to the third embodiment, wide viewing angle and high contrast can be realized for the same reason as in the first embodiment. In addition, the integrated line pattern 14 according to the third embodiment is formed from the vicinity of the boundary portion with the transmission region T in the reflection region R toward the peripheral portion of the transmission region T. Strength can be increased. In other words, the reflective conductive film 20 is superimposed on the root of the integrated line pattern 14 where stress is likely to concentrate, thereby avoiding disconnection due to stress.

従って、画素電極2の下層に形成された平坦化膜39が、水分や熱などにより膨張伸縮した場合に、一体型ラインパターン14の形状が変形したり、断線したりすることを抑制することができる。仮に、一体型ラインパターン14の応力の集中しやすい根元部において断線が生じた場合であっても、その直上層に反射性導電膜20が形成されているので、言った板がラインパターン14に電位を供給することができる。以上により、液晶層3の配向制御が安定し、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。また、断線による歩留り低下を抑制することができる。   Therefore, it is possible to prevent the shape of the integrated line pattern 14 from being deformed or disconnected when the planarizing film 39 formed under the pixel electrode 2 expands and contracts due to moisture, heat, or the like. it can. Even if the disconnection occurs at the root portion where the stress is likely to concentrate in the integrated line pattern 14, the reflective conductive film 20 is formed immediately above the line pattern 14. A potential can be supplied. As described above, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the alignment control of the liquid crystal layer 3 is stable and the display quality is high. Moreover, the yield fall by disconnection can be suppressed.

なお、本実施形態3においては、液晶層3の配向方向を放射状に傾斜させる例について説明したが、放射状に傾斜させる必要性はなく、1方向、2方向、3方向、4方向等の一軸、若しくは多軸方向に傾斜させる場合にも同様の効果が得られる。すなわち、配向制御パターンを放射状に配向させる態様に代えて、1方向、2方向、3方向、4方向等に配向させたものを用いてもよい。また、一体型ラインパターン14の形状は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の形状とすることができる。   In the third embodiment, the example in which the alignment direction of the liquid crystal layer 3 is radially inclined has been described. However, there is no need to radially incline, and one axis such as one direction, two directions, three directions, four directions, Alternatively, the same effect can be obtained when tilting in the multi-axis direction. That is, instead of a mode in which the orientation control pattern is oriented radially, one oriented in one direction, two directions, three directions, four directions, or the like may be used. Further, the shape of the integrated line pattern 14 can be various shapes without departing from the spirit of the present invention.

また、一体型ラインパターン14の根元領域に積層する膜として、反射性導電膜20を用いる例について説明したが、応力の集中しやすい一体型ラインパターン14の根元部に導電膜が重畳するように構成されていればよく、上記例に限定されるものではない。例えば、透明導電膜10bにより構成される一体型ラインパターン14の根元部から反射領域Rの画素電極2まで延在する導電膜を、透明導電膜10bの上層若しくは下層に積層することにより、一体型ラインパターン14と反射領域Rの画素電極2とを電気的に接続してもよい。   Further, the example in which the reflective conductive film 20 is used as the film laminated on the root region of the integrated line pattern 14 has been described. However, the conductive film is superimposed on the root portion of the integrated line pattern 14 where stress is easily concentrated. What is necessary is just to be comprised, and it is not limited to the said example. For example, the conductive film extending from the root portion of the integrated line pattern 14 constituted by the transparent conductive film 10b to the pixel electrode 2 in the reflective region R is laminated on the upper layer or the lower layer of the transparent conductive film 10b, thereby forming the integrated type. The line pattern 14 and the pixel electrode 2 in the reflection region R may be electrically connected.

[実施形態4]
本実施形態4に係る液晶表示装置は、画素電極の配向制御パターン以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態1と同様である。図7(a)に、本実施形態4に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極の模式的な部分拡大平面図を、図7(b)に、同TFTアレイ基板の模式的断面図を示す。なお、説明の便宜上、反射性導電膜20cは、透明であるかのように図示している。
[Embodiment 4]
The liquid crystal display device according to the fourth embodiment has the same basic structure and manufacturing method as those of the first embodiment except for the alignment control pattern of the pixel electrodes. FIG. 7A is a schematic partial enlarged plan view of a pixel electrode for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment, and FIG. 7B is a schematic diagram of the TFT array substrate. A cross-sectional view is shown. For convenience of explanation, the reflective conductive film 20c is illustrated as if it were transparent.

画素電極2cを構成する反射領域Rは、矩形状に構成され、透過領域Tは、反射領域Rの外側に枠体状に区画されている。本実施形態4においては、反射領域Rにおける透過領域Tの境界領域近傍から、透過領域Tの透明導電膜10cの周縁部に向けて、透明導電膜10cの全周に亘って放射状に配向制御パターン11cとして分割型ラインパターン15が形成されている。   The reflective region R constituting the pixel electrode 2c is configured in a rectangular shape, and the transmissive region T is partitioned in a frame shape outside the reflective region R. In the fourth embodiment, the alignment control pattern radially extends from the vicinity of the boundary region of the transmissive region T in the reflective region R toward the peripheral edge of the transparent conductive film 10c in the transmissive region T over the entire circumference of the transparent conductive film 10c. A divided line pattern 15 is formed as 11c.

本実施形態4に係る透明導電膜10cは、上記実施形態1と異なり、反射領域Rと透過領域Tに形成された透明導電膜10cが一体的に1つのパターンとして形成されていない。すなわち、本実施形態4に係る透明導電膜10cは、反射領域Rにおいて、反射性導電膜20cの周縁部を除く領域に形成された反射領域パターン16と、反射性導電膜20cの周縁部から、透過領域Tの周縁部に向けて配設された分割型ラインパターン15とにより構成されている(図7(a)、(b)参照)。   In the transparent conductive film 10c according to the fourth embodiment, unlike the first embodiment, the transparent conductive film 10c formed in the reflective region R and the transmissive region T is not integrally formed as one pattern. That is, in the reflective region R, the transparent conductive film 10c according to the fourth embodiment includes the reflective region pattern 16 formed in the region excluding the peripheral portion of the reflective conductive film 20c and the peripheral portion of the reflective conductive film 20c. It is comprised by the division | segmentation type | mold line pattern 15 arrange | positioned toward the peripheral part of the permeation | transmission area | region T (refer Fig.7 (a), (b)).

上記実施形態4においては、反射性導電膜20cの周縁部近傍領域は、透明導電膜10cの分割型ラインパターン15が形成され、透明導電膜10cと反射性導電膜20cの積層構造となっていない領域が存在する。そして、分割型ラインパターン15と反射領域パターン16とは、分断されている。この分割型ラインパターン15からなる透明導電膜10cにより、透過領域Tの液晶層3の配向が制御される。   In Embodiment 4 described above, the divided line pattern 15 of the transparent conductive film 10c is formed in the vicinity of the peripheral portion of the reflective conductive film 20c, and the laminated structure of the transparent conductive film 10c and the reflective conductive film 20c is not formed. An area exists. The divided line pattern 15 and the reflection region pattern 16 are divided. The alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmissive region T is controlled by the transparent conductive film 10 c formed of the divided line pattern 15.

分割型ラインパターン15は、上記実施形態1に係る根元太ラインパターン12と同様に1つの画素において、平面視上、放射状になるように形成している。これにより、電圧印加時に、1つの画素において透過領域Tの液晶層3を放射状に傾斜させることができる。   The divided line pattern 15 is formed to be radial in one pixel as in the root thick line pattern 12 according to the first embodiment. Thereby, the liquid crystal layer 3 in the transmissive region T can be radially inclined in one pixel when a voltage is applied.

本実施形態4に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化を実現することができる。また、本実施形態4に係る透明導電膜10cは、分割型ラインパターン15と反射領域パターン16とに分割している。これにより、応力の集中しやすい領域を事前に分割している。そして、反射性導電膜20cにより反射領域パターン16と分割型ラインパターン15を電気的に接続させる構造としている。従って、画素電極2cの下層に形成された平坦化膜39が、水分や熱などにより膨張伸縮した場合に、分割型ラインパターン15の形状が変形したり、断線したりすることを抑制することができる。以上により、液晶層3の配向制御が安定し、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。また、断線による歩留り低下を抑制することができる。   In the liquid crystal display device according to the fourth embodiment, wide viewing angle and high contrast can be realized for the same reason as in the first embodiment. Further, the transparent conductive film 10 c according to the fourth embodiment is divided into a divided line pattern 15 and a reflective region pattern 16. Thereby, the area where stress is likely to concentrate is divided in advance. The reflective region pattern 16 and the divided line pattern 15 are electrically connected by the reflective conductive film 20c. Therefore, it is possible to prevent the shape of the divided line pattern 15 from being deformed or disconnected when the planarizing film 39 formed under the pixel electrode 2c expands and contracts due to moisture, heat, or the like. it can. As described above, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the alignment control of the liquid crystal layer 3 is stable and the display quality is high. Moreover, the yield fall by disconnection can be suppressed.

なお、本実施形態4においては、液晶層3の配向方向を放射状に傾斜させる例について説明したが、放射状に傾斜させる必要性はなく、1方向、2方向、3方向、4方向等の一軸、若しくは多軸方向に傾斜させる場合にも同様の効果が得られる。すなわち、配向制御パターンを放射状に配向させる態様に代えて、1方向、2方向、3方向、4方向等に配向させたものを用いてもよい。また、分割型ラインパターン15の形状は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の形状とすることができる。また、分割型ラインパターン15及び反射領域パターン16を、反射性導電膜20cを介して電気的に接続する例について説明したが、これに限定されるものではなく、他の導電膜により分割型ラインパターン15と反射領域パターン16の電気的接続を実現してもよい。   In the fourth embodiment, the example in which the alignment direction of the liquid crystal layer 3 is radially inclined has been described. However, there is no need to radially incline, and one axis such as one direction, two directions, three directions, four directions, Alternatively, the same effect can be obtained when tilting in the multi-axis direction. That is, instead of a mode in which the orientation control pattern is oriented radially, one oriented in one direction, two directions, three directions, four directions, or the like may be used. Moreover, the shape of the division | segmentation type line pattern 15 can be made into various shapes in the range which does not deviate from the meaning of this invention. Further, the example in which the divided line pattern 15 and the reflective region pattern 16 are electrically connected through the reflective conductive film 20c has been described, but the present invention is not limited to this, and the divided line pattern is formed by another conductive film. The electrical connection between the pattern 15 and the reflective area pattern 16 may be realized.

[実施形態5]
本実施形態5に係る液晶表示装置は、画素電極の配向制御パターン以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態1と同様である。図8に、本実施形態5に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極の模式的な部分拡大平面図を示す。なお、説明の便宜上、反射性導電膜20dは、透明であるかのように図示している。
[Embodiment 5]
In the liquid crystal display device according to the fifth embodiment, the basic structure and manufacturing method other than the pixel electrode alignment control pattern are the same as those in the first embodiment. FIG. 8 is a schematic partial enlarged plan view of the pixel electrode for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment. For convenience of explanation, the reflective conductive film 20d is illustrated as if it is transparent.

画素電極2dを構成する反射領域Rは、矩形状に構成され、透過領域Tは、反射領域Rの外側に形成されている。本実施形態5においては、反射領域Rにおける透過領域Tの境界領域近傍から、透過領域Tの透明導電膜10dの周縁部に向けて、透明導電膜10dの全周に亘って放射状に配向制御パターン11dとして段差型ラインパターン17が形成されている。また、反射領域Rと透過領域Tに形成された透明導電膜10dが一体的に1つのパターンとして形成されている。   The reflection region R constituting the pixel electrode 2d is configured in a rectangular shape, and the transmission region T is formed outside the reflection region R. In the fifth embodiment, the alignment control pattern is radially distributed over the entire circumference of the transparent conductive film 10d from the vicinity of the boundary area of the transmissive area T in the reflective area R toward the peripheral edge of the transparent conductive film 10d in the transmissive area T. A stepped line pattern 17 is formed as 11d. Further, the transparent conductive film 10d formed in the reflective region R and the transmissive region T is integrally formed as one pattern.

上記実施形態1においては、反射領域Rが透明導電膜10と反射性導電膜20が全領域において積層構造となっていたが、本実施形態5においては、反射性導電膜20dの周縁部近傍領域は、透明導電膜10dの段差型ラインパターン17が形成され、透明導電膜10dと反射性導電膜20dとの積層構造となっていない領域が存在する。本実施形態5に係る段差型ラインパターン17は、その根元部のパターン幅が、その根元部近傍以外の領域のパターン幅よりも狭くなっている。この段差型ラインパターン17が形成された透明導電膜10dにより、透過領域Tの液晶層3の配向が制御される。   In the first embodiment, the reflective region R has the laminated structure of the transparent conductive film 10 and the reflective conductive film 20 in the entire region. However, in the fifth embodiment, the vicinity of the peripheral portion of the reflective conductive film 20d. The step type line pattern 17 of the transparent conductive film 10d is formed, and there is a region where the transparent conductive film 10d and the reflective conductive film 20d are not laminated. In the step-type line pattern 17 according to the fifth embodiment, the pattern width of the root portion is narrower than the pattern width of the region other than the vicinity of the root portion. The alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmissive region T is controlled by the transparent conductive film 10d on which the step type line pattern 17 is formed.

段差型ラインパターン17は、上記実施形態1に係る根元太ラインパターン12と同様に1つの画素において、平面視上、放射状になるように形成している。これにより、電圧印加時に、1つの画素において透過領域Tの液晶が放射状に傾斜する。   The stepped line pattern 17 is formed so as to be radial in one pixel as in the root thick line pattern 12 according to the first embodiment. Thereby, the liquid crystal in the transmissive region T is inclined radially in one pixel when a voltage is applied.

本実施形態5に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化を実現することができる。また、本実施形態5に係る透明導電膜10dからなる配向制御パターン(段差型ラインパターン17)は、根元部近傍のパターン幅W3を、根元部近傍以外のパターン幅W4に比して狭くし、かつ段差型ラインパターン17の根元部を反射性導電膜20dにより被覆している。   In the liquid crystal display device according to the fifth embodiment, wide viewing angle and high contrast can be realized for the same reason as in the first embodiment. Further, the alignment control pattern (step type line pattern 17) made of the transparent conductive film 10d according to the fifth embodiment narrows the pattern width W3 in the vicinity of the root portion compared to the pattern width W4 in the vicinity of the root portion, In addition, the base of the stepped line pattern 17 is covered with a reflective conductive film 20d.

本実施形態5においては、応力の集中しやすい段差型ラインパターン17の根元部の幅を敢えて狭くし、断線しやすい個所を故意に形成している。これにより、他の箇所の断線発生を抑制することが可能となる。当該部位において断線した場合、被膜している反射性導電膜20dにより当該断線箇所の電気的接続を維持することができる。従って、液晶層3の配向制御が安定し、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。また、断線による歩留り低下を抑制することができる。   In the fifth embodiment, the width of the root portion of the step-type line pattern 17 where stress is likely to concentrate is deliberately narrowed, and a portion that is easily disconnected is intentionally formed. Thereby, it becomes possible to suppress the occurrence of disconnection at other locations. When the disconnection occurs at the portion, the electrical connection of the disconnection portion can be maintained by the reflective conductive film 20d that is coated. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the alignment control of the liquid crystal layer 3 is stable and the display quality is high. Moreover, the yield fall by disconnection can be suppressed.

上述したように、段差型ラインパターン17の根元部が変形、断線した場合であっても、反射性導電膜20dにより透過領域の段差型ラインパターン17に電位を供給することができる。従って、画素電極2の下層に形成された平坦化膜39が、水分や熱などにより膨張伸縮した場合に、透過領域Tの液晶層3の配向性が低下することを防止することができる。以上により、液晶層3の配向制御が安定し、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。また、断線による歩留り低下を抑制することができる。   As described above, even when the base portion of the stepped line pattern 17 is deformed or disconnected, a potential can be supplied to the stepped line pattern 17 in the transmissive region by the reflective conductive film 20d. Accordingly, it is possible to prevent the orientation of the liquid crystal layer 3 in the transmissive region T from being lowered when the planarizing film 39 formed under the pixel electrode 2 expands and contracts due to moisture, heat, or the like. As described above, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the alignment control of the liquid crystal layer 3 is stable and the display quality is high. Moreover, the yield fall by disconnection can be suppressed.

なお、本実施形態5においては、液晶層3の配向方向を放射状に傾斜させる例について説明したが、放射状に傾斜させる必要性はなく、1方向、2方向、3方向、4方向等の一軸、若しくは多軸方向に傾斜させる場合にも同様の効果が得られる。すなわち、配向制御パターンを放射状に配向させる態様に代えて、1方向、2方向、3方向、4方向等に配向させたものを用いてもよい。   In the fifth embodiment, the example in which the alignment direction of the liquid crystal layer 3 is radially inclined has been described. However, there is no need to radially incline, and one axis such as one direction, two directions, three directions, four directions, Alternatively, the same effect can be obtained when tilting in the multi-axis direction. That is, instead of a mode in which the orientation control pattern is oriented radially, one oriented in one direction, two directions, three directions, four directions, or the like may be used.

また、段差型ラインパターン17の形状は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の形状とすることができる。また、段差型ラインパターン17を、反射性導電膜20dを介して電気的に接続する例について説明したが、これに限定されるものではなく、他の導電膜により段差型ラインパターン17の根元部と反射領域Rの反射性導電膜20d若しくは透明導電膜10dとを電気的に接続させてもよい。   Further, the shape of the step-type line pattern 17 can be various shapes without departing from the spirit of the present invention. In addition, the example in which the stepped line pattern 17 is electrically connected via the reflective conductive film 20d has been described, but the present invention is not limited to this, and the root portion of the stepped line pattern 17 is formed by another conductive film. And the reflective conductive film 20d or the transparent conductive film 10d in the reflective region R may be electrically connected.

[実施形態6]
本実施形態6に係る液晶表示装置は、画素電極2eの配向制御パターン11以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態1と同様である。図9に、本実施形態6に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極の模式的な部分拡大平面図を示す。
[Embodiment 6]
The liquid crystal display device according to the sixth embodiment has the same basic structure and manufacturing method as those of the first embodiment except for the alignment control pattern 11 of the pixel electrode 2e. FIG. 9 is a schematic partial enlarged plan view of the pixel electrode for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the sixth embodiment.

画素電極2eを構成する反射領域Rは、矩形状に構成されており、透明導電膜10eと反射性導電膜20eの積層構造からなる。透過領域Tは、反射領域Rの図9中の上下2方向にのみ延在された領域に形成されている。透過領域Tにおいては、上記実施形態1と同様に、根元太ラインパターン12が形成されている。根元太ラインパターン12を形成する透明導電膜10eと、反射領域Rの透明導電膜10eは、上記実施形態1と同様に一体的に1つのパターンとして形成されている。根元太ラインパターン12が形成された透明導電膜10eにより、透過領域Tの液晶層3の配向が制御される。   The reflection region R constituting the pixel electrode 2e is formed in a rectangular shape and has a laminated structure of a transparent conductive film 10e and a reflective conductive film 20e. The transmissive region T is formed in a region extending only in the two vertical directions in FIG. 9 of the reflective region R. In the transmissive region T, a root thick line pattern 12 is formed as in the first embodiment. The transparent conductive film 10e forming the root thick line pattern 12 and the transparent conductive film 10e in the reflective region R are integrally formed as one pattern as in the first embodiment. The alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmission region T is controlled by the transparent conductive film 10e on which the root thick line pattern 12 is formed.

本実施形態6に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化、表示品位の向上、及び高歩留まり化を実現することができる。   In the liquid crystal display device according to the sixth embodiment, a wide viewing angle, a high contrast, an improvement in display quality, and a high yield can be realized for the same reason as in the first embodiment.

[実施形態7]
本実施形態7に係る液晶表示装置は、画素電極の配向制御パターン以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態6と同様である。図10に、本実施形態7に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極の模式的な部分拡大平面図を示す。画素電極2fを構成する反射領域Rは、矩形状に構成されており、透明導電膜10fと反射性導電膜20fの積層構造からなる。透過領域Tは、反射領域Rの図10中の上下2方向にのみ延在された領域に形成されている。透過領域Tにおいては、上記実施形態6と同様に、根元太ラインパターン12fが形成されている。
[Embodiment 7]
In the liquid crystal display device according to the seventh embodiment, the basic structure and manufacturing method other than the pixel electrode alignment control pattern are the same as those in the sixth embodiment. FIG. 10 is a schematic partial enlarged plan view of the pixel electrode for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the seventh embodiment. The reflection region R constituting the pixel electrode 2f is formed in a rectangular shape and has a laminated structure of a transparent conductive film 10f and a reflective conductive film 20f. The transmissive region T is formed in a region that extends only in two vertical directions in FIG. In the transmissive region T, a root thick line pattern 12f is formed as in the sixth embodiment.

本実施形態7に係る根元太ラインパターン12fは、根元部から先端部方向に向かうにつれて、短軸方向の幅が狭くなるように形成され、かつ、その先端部が尖った形状となっている。また、根元太ラインパターン12fは、図10に示すように1方向に配設されている。根元太ラインパターン12fを形成する透明導電膜10fと、反射領域Rの透明導電膜10fは、上記実施形態6と同様に一体的に1つのパターンとして形成されている。根元太ラインパターン12fが形成された透明導電膜10fにより、透過領域Tの液晶層3の配向が制御される。   The base thick line pattern 12f according to the seventh embodiment is formed such that the width in the minor axis direction becomes narrower from the root portion toward the tip portion, and the tip portion has a sharp shape. Further, the root thick line pattern 12f is arranged in one direction as shown in FIG. The transparent conductive film 10f forming the root thick line pattern 12f and the transparent conductive film 10f in the reflective region R are integrally formed as one pattern as in the sixth embodiment. The alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmission region T is controlled by the transparent conductive film 10f in which the root thick line pattern 12f is formed.

本実施形態7に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化、表示品位の向上、及び高歩留まり化を実現することができる。   In the liquid crystal display device according to the seventh embodiment, a wide viewing angle, a high contrast, an improvement in display quality, and a high yield can be realized for the same reason as in the first embodiment.

[実施形態8]
本実施形態8に係る液晶表示装置は、画素電極の配向制御パターン以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態7と同様である。図11に、本実施形態8に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極の模式的な部分拡大平面図を示す。画素電極2gを構成する反射領域Rは、矩形状に構成されており、透明導電膜10gと反射性導電膜20gの積層構造からなる。透過領域Tは、反射領域Rの図11中の上下2方向にのみ延在された領域に形成されている。透過領域Tにおいては、上記実施形態8と同様に、根元太ラインパターン12gが形成されている。
[Embodiment 8]
The liquid crystal display device according to the eighth embodiment has the same basic structure and manufacturing method as those of the seventh embodiment except the pixel electrode alignment control pattern. FIG. 11 is a schematic partial enlarged plan view of the pixel electrode for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the eighth embodiment. The reflection region R constituting the pixel electrode 2g is formed in a rectangular shape and has a laminated structure of a transparent conductive film 10g and a reflective conductive film 20g. The transmissive region T is formed in a region extending only in the two vertical directions in FIG. 11 of the reflective region R. In the transmissive region T, a root thick line pattern 12g is formed as in the eighth embodiment.

本実施形態8に係る根元太ラインパターン12gは、上記実施形態7と同様に、根元部から先端部方向に向かうにつれて、短軸方向の幅が狭くなるように形成され、かつ、その先端部が尖った形状となっている。一方、上記実施形態7と異なり、本実施形態8に係る根元太ラインパターン12gは、図11に示すように2方向に配設されている。根元太ラインパターン12gを形成する透明導電膜10gと、反射領域Rの透明導電膜10gは、上記実施形態7と同様に一体的に1つのパターンとして形成されている。根元太ラインパターン12gが形成された透明導電膜10gにより、透過領域Tの液晶層3の配向が制御される。   The root thick line pattern 12g according to the eighth embodiment is formed so that the width in the minor axis direction becomes narrower as it goes from the root portion toward the tip portion, as in the seventh embodiment. It has a sharp shape. On the other hand, unlike the seventh embodiment, the root thick line pattern 12g according to the eighth embodiment is arranged in two directions as shown in FIG. The transparent conductive film 10g forming the root thick line pattern 12g and the transparent conductive film 10g in the reflective region R are integrally formed as one pattern as in the seventh embodiment. The alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmission region T is controlled by the transparent conductive film 10g in which the root thick line pattern 12g is formed.

本実施形態8に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化、表示品位の向上、及び高歩留まり化を実現することができる。   In the liquid crystal display device according to the eighth embodiment, a wide viewing angle, a high contrast, an improvement in display quality, and a high yield can be realized for the same reason as in the first embodiment.

[実施形態9]
本実施形態9に係る液晶表示装置は、画素電極の配向制御パターン以外の基本的な構造及び製造方法は、上記実施形態6と同様である。図12に、本実施形態9に係る液晶表示装置のTFTアレイ基板の1画素分の画素電極の模式的な部分拡大平面図を示す。画素電極2hを構成する反射領域Rは、矩形状に構成されており、透明導電膜10hと反射性導電膜20hの積層構造からなる。透過領域Tは、反射領域Rの図12中の上方向、及び右方向の2方向にのみ延在された領域に形成されている。2方向における反射領域Rからの延在領域である透過領域Tは、連続して一体的なパターンとして形成され、かつ、配向制御パターンが透過領域Tを構成する透明導電膜10hの全体に亘って設けられている。
[Embodiment 9]
The liquid crystal display device according to the ninth embodiment has the same basic structure and manufacturing method as those of the sixth embodiment except for the alignment control pattern of the pixel electrodes. FIG. 12 is a schematic partial enlarged plan view of the pixel electrode for one pixel of the TFT array substrate of the liquid crystal display device according to the ninth embodiment. The reflection region R constituting the pixel electrode 2h is formed in a rectangular shape and has a laminated structure of a transparent conductive film 10h and a reflective conductive film 20h. The transmissive region T is formed in a region extending only in two directions of the reflective region R in the upward direction and the right direction in FIG. The transmissive region T that is an extended region from the reflective region R in two directions is continuously formed as an integral pattern, and the orientation control pattern extends over the entire transparent conductive film 10h constituting the transmissive region T. Is provided.

本実施形態9に係る配向制御パターンは、上記実施形態1と同様の根元太ラインパターン12が形成されている。また、根元太ラインパターン12を形成する透明導電膜10eと、反射領域Rの透明導電膜10eは、上記実施形態1と同様に一体的に1つのパターンとして形成されている。根元太ラインパターン12が形成された透明導電膜10eにより、透過領域Tの液晶層3の配向が制御される。   In the orientation control pattern according to the ninth embodiment, a root thick line pattern 12 similar to that of the first embodiment is formed. Further, the transparent conductive film 10e forming the root thick line pattern 12 and the transparent conductive film 10e in the reflective region R are integrally formed as one pattern as in the first embodiment. The alignment of the liquid crystal layer 3 in the transmission region T is controlled by the transparent conductive film 10e on which the root thick line pattern 12 is formed.

本実施形態9に係る液晶表示装置においては、上記実施形態1と同様の理由により広視野角化、高コントラスト化、表示品位の向上、及び高歩留まり化を実現することができる。   In the liquid crystal display device according to the ninth embodiment, a wide viewing angle, a high contrast, an improvement in display quality, and a high yield can be realized for the same reason as in the first embodiment.

上記実施形態1〜9は一例であって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変形が可能である。なお、上記実施形態1〜9の態様を相互に組み合わせてもよいことは言うまでもない。   The above-described first to ninth embodiments are examples, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. In addition, it cannot be overemphasized that the aspect of the said Embodiments 1-9 may be mutually combined.

実施形態1に係る画素電極の模式的平面図。3 is a schematic plan view of a pixel electrode according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係るTFTアレイ基板の模式的断面図。1 is a schematic cross-sectional view of a TFT array substrate according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係る画素電極の部分拡大平面図。2 is a partially enlarged plan view of a pixel electrode according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係る液晶表示装置の模式的断面図。1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施形態2に係る画素電極の模式的平面図。6 is a schematic plan view of a pixel electrode according to Embodiment 2. FIG. 実施形態3に係る画素電極の模式的平面図。FIG. 5 is a schematic plan view of a pixel electrode according to Embodiment 3. (a)は、実施形態4に係る画素電極の模式的平面図であり、(b)は、実施形態4に係るTFTアレイ基板の模式的断面図。(A) is a schematic plan view of the pixel electrode according to the fourth embodiment, and (b) is a schematic cross-sectional view of the TFT array substrate according to the fourth embodiment. 実施形態5に係る画素電極の模式的平面図。6 is a schematic plan view of a pixel electrode according to Embodiment 5. FIG. 実施形態6に係る画素電極の模式的平面図。10 is a schematic plan view of a pixel electrode according to Embodiment 6. FIG. 実施形態7に係る画素電極の模式的平面図。10 is a schematic plan view of a pixel electrode according to Embodiment 7. FIG. 実施形態8に係る画素電極の模式的平面図。FIG. 10 is a schematic plan view of a pixel electrode according to an eighth embodiment. 実施形態9に係る画素電極の模式的平面図。10 is a schematic plan view of a pixel electrode according to Embodiment 9. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 液晶表示装置
2 画素電極
3 液晶層
6 コンタクトホール
7 凹凸パターン
10 透明導電膜
11 配向制御パターン
12 根元太ラインパターン
13 ラインパターン
13A 接続パターン
14 一体型ラインパターン
15 被覆型ラインパターン
16 反射領域パターン
17 段差型ラインパターン
18 スリットパターン
19 スリット
20 反射性導電膜
30 TFTアレイ基板
31 絶縁性基板
32 ゲート電極
33 補助容量配線
34 ゲート絶縁膜
35 半導体層
36 ソース電極
37 ドレイン電極
38 層間絶縁膜
39 平坦化膜
40 対向基板
41 絶縁性基板
42 カラーフィルタ
43 対向側平坦化膜
44 対向電極
45 配向制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal display device 2 Pixel electrode 3 Liquid crystal layer 6 Contact hole 7 Concavity and convexity pattern 10 Transparent conductive film 11 Orientation control pattern 12 Root thick line pattern 13 Line pattern 13A Connection pattern 14 Integrated line pattern 15 Covering line pattern 16 Reflection area pattern 17 Step type line pattern 18 Slit pattern 19 Slit 20 Reflective conductive film 30 TFT array substrate 31 Insulating substrate 32 Gate electrode 33 Auxiliary capacitance wiring 34 Gate insulating film 35 Semiconductor layer 36 Source electrode 37 Drain electrode 38 Interlayer insulating film 39 Flattening film 40 counter substrate 41 insulating substrate 42 color filter 43 counter side planarization film 44 counter electrode 45 orientation controller

Claims (10)

背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、
前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、
透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、
前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備え、
前記画素電極の前記透過領域は、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設され、
前記配向制御パターンは、前記透過領域における前記反射領域の境界近傍から前記透明導電膜の周縁部に向けて、幅が狭くなる根元太ラインパターンであり、
前記反射領域に配設された前記透明導電膜と前記配向制御パターンが一体的に形成されている液晶表示装置。
A transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path;
A reflection region for reflecting light incident from the display surface side so as to pass through a predetermined bidirectional optical path;
A first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed;
A second substrate disposed opposite to the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate,
The transmissive region of the pixel electrode is a region extending from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is disposed in the region. ,
The orientation control pattern is a root thick line pattern whose width becomes narrower from the vicinity of the boundary of the reflective region in the transmissive region toward the periphery of the transparent conductive film,
A liquid crystal display device in which the transparent conductive film disposed in the reflective region and the alignment control pattern are integrally formed.
背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、
前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、
透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、
前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備え、
前記画素電極の前記透過領域は、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設され、
前記配向制御パターンは、前記透過領域の前記透明導電膜にスリット状の開口部を設けることにより形成された前記透明導電膜から構成されるラインパターンであり、
前記反射領域に配設された前記透明導電膜と前記配向制御パターンが一体的に形成され、かつ、前記透過領域の前記透明導電膜の外側周縁部近傍において、少なくとも隣接する前記ラインパターン同士が電気的に接続するように接続パターンが形成されている液晶表示装置。
A transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path;
A reflection region for reflecting light incident from the display surface side so as to pass through a predetermined bidirectional optical path;
A first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed;
A second substrate disposed opposite to the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate,
The transmissive region of the pixel electrode is a region extending from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is disposed in the region. ,
The alignment control pattern is a line pattern composed of the transparent conductive film formed by providing slit-like openings in the transparent conductive film in the transmissive region,
The transparent conductive film disposed in the reflective region and the orientation control pattern are integrally formed, and at least adjacent line patterns are electrically connected to each other in the vicinity of the outer peripheral edge of the transparent conductive film in the transmissive region. A liquid crystal display device in which a connection pattern is formed so as to be connected.
背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、
前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、
透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、
前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備え、
前記画素電極の前記透過領域は、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設され、
前記配向制御パターンは、前記反射領域の前記透明導電膜と一体的に形成されたラインパターンであり、
当該ラインパターンの根元部及びその周辺の直上層には、前記反射領域の画素電極と電気的に接続される導電膜が被覆されている液晶表示装置。
A transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path;
A reflection region for reflecting light incident from the display surface side so as to pass through a predetermined bidirectional optical path;
A first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed;
A second substrate disposed opposite to the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate,
The transmissive region of the pixel electrode is a region extending from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is disposed in the region. ,
The alignment control pattern is a line pattern formed integrally with the transparent conductive film in the reflective region,
The liquid crystal display device, wherein a conductive layer electrically connected to the pixel electrode in the reflective region is coated on a root portion of the line pattern and a layer immediately above the periphery thereof.
前記ラインパターンの根元部近傍のパターン幅が、当該根元部近傍以外の領域のパターン幅よりも狭いことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 3, wherein a pattern width in the vicinity of the root portion of the line pattern is narrower than a pattern width in a region other than the vicinity of the root portion. 背面側からの光を表示面側へ所定の単一方向性光路を経るよう透過させる透過領域と、
前記表示面側から入射する光を所定の双方向性光路を経るように反射させる反射領域と、
透明導電膜と反射性導電膜を備える画素電極が形成された第1の基板と、
前記第1の基板と対向配置される第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板の間に封止された液晶層と、を備え、
前記画素電極の前記透過領域は、前記反射領域から延在された領域であって、当該領域には、前記液晶層の配向を制御するための配向制御パターンからなる前記透明導電膜が配設され、
前記配向制御パターンは、前記反射領域の前記透明導電膜と分断されたラインパターンであり、
当該ラインパターンの前記反射領域側の端部及びその周辺の直上層には、前記反射領域の画素電極と電気的に接続される導電膜が被覆されている液晶表示装置。
A transmission region that transmits light from the back side to the display surface side through a predetermined unidirectional optical path;
A reflection region for reflecting light incident from the display surface side so as to pass through a predetermined bidirectional optical path;
A first substrate on which a pixel electrode including a transparent conductive film and a reflective conductive film is formed;
A second substrate disposed opposite to the first substrate;
A liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate,
The transmissive region of the pixel electrode is a region extending from the reflective region, and the transparent conductive film having an alignment control pattern for controlling the alignment of the liquid crystal layer is disposed in the region. ,
The orientation control pattern is a line pattern separated from the transparent conductive film in the reflective region,
A liquid crystal display device in which a conductive film electrically connected to a pixel electrode in the reflection region is coated on an end portion on the reflection region side of the line pattern and a layer immediately above the periphery thereof.
前記導電膜が、前記反射領域の前記反射性導電膜により構成されていることを特徴とする請求項3、4又は5に記載の液晶表示装置。   6. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the conductive film is constituted by the reflective conductive film in the reflective region. 前記透明導電膜の直下層が、有機膜により構成された平坦化膜であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the immediately lower layer of the transparent conductive film is a planarizing film made of an organic film. 前記画素電極それぞれにおいて、前記配向制御パターンは、平面視上、放射状に形成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。   8. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein in each of the pixel electrodes, the alignment control pattern is formed radially in a plan view. 前記反射領域は、略矩形状であり、
前記透過領域は、前記反射領域の隣接する少なくとも2辺に延在され、前記配向制御パターンが、前記透過領域を構成する前記透明導電膜の全体に亘って設けられていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
The reflective region is substantially rectangular,
The transmissive region extends to at least two adjacent sides of the reflective region, and the orientation control pattern is provided over the entire transparent conductive film constituting the transmissive region. Item 9. The liquid crystal display device according to any one of items 1 to 8.
前記透過領域は、前記反射領域の外側に枠体状に区画され、
前記配向制御パターンが、前記透過領域を構成する前記透明導電膜の全周に亘って設けられていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
The transmission region is partitioned in a frame shape outside the reflection region,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the alignment control pattern is provided over the entire circumference of the transparent conductive film constituting the transmissive region.
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