KR20040020869A - 서스펜션 입자의 초음파 사이징을 위한 방법 및 장치 - Google Patents

서스펜션 입자의 초음파 사이징을 위한 방법 및 장치 Download PDF

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KR20040020869A
KR20040020869A KR10-2003-7008075A KR20037008075A KR20040020869A KR 20040020869 A KR20040020869 A KR 20040020869A KR 20037008075 A KR20037008075 A KR 20037008075A KR 20040020869 A KR20040020869 A KR 20040020869A
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데이비드 마크 스코트
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이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
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Abstract

입자크기분포(particle size distribution) 모니터(monitor)에 있어서, 초음파 에너지의 소스로서 적합하고 액체 내 일정 체적 퍼센트(a percent by volume)의 입자를 함유하는 서스펜션(suspension)과 접촉하도록 배치되는 변환기(transducer) -상기 변환기는 상기 서스펜션을 통해 초음파 에너지를 전송하고, 상기 에너지는 주파수성분의 범위를 포함하는 광대역 펄스를 포함함-; 초음파 에너지의 수신기로서 적합하고, 상기 서스펜션을 통과한 상기 광대역 범위의 초음파 에너지를 수신하도록 상기 서스펜션과 접촉하도록 배치되는 변환기; 및 상기 수신기로부터 신호를 수용(accept)하며 상기 서스펜션을 통과시의 상기 광대역 초음파 에너지의 감쇠의 순시 결정을 하기에 적합한 제1 수단을 포함하는 모니터가 개시된다. 동적 조건하에서 서스펜션 내의 입자들의 입자크기분포를 모니터하는 방법에 있어서, 광대역 범위의 주파수 성분을 포함하는 초음파 에너지의 제1 펄스를, 상기 펄스를 감쇠시키는 상기 서스펜션을 통하여 송신하는 단계; 상기 서스펜션을 통과한 감쇠된 펄스를 수신하는 단계; 상기 감쇠된 제1 펄스를 나타내는 제1 신호를 개발(develop)하는 단계; 고속 아날로그/디지털 컨버터로 상기 제1 신호를 디지털화하여 타임 도메인 신호를 형성하는 단계; 각각의 신호에 대하여, 푸리에 변환을 적용하여 상기 타임도메인 신호를 등가의 주파수 도메인 신호 또는 스펙트럼으로 변환하는 단계; 및 상기 스펙트럼을 ㏈단위로 변환하여 상기 감쇠를 주파수의 함수로서 표현하는 단계를 포함하는 방법이 개시된다.

Description

서스펜션 입자의 초음파 사이징을 위한 방법 및 장치 {METHOD AND APPARATUS FOR ULTRASONIC SIZING OF PARTICLES IN SUSPENSIONS}
발명의 배경
본 발명은 공업용 입자(industrial particle)의 입자크기측정(particle size measurement) 분야에 관한 것으로서, 특히, 액체 서스펜션(suspension) 내 입자의 입자크기분포(particle size distribution;PSD)의 온라인 측정에 관한 것이다. 서스펜션은 액체 캐리어(liquid carrier) 또는 매트릭스(matrix)에서의 고체 또는 액체 개별입자를 의미한다. 관심있는 서스펜션의 실시예는 슬러리(slurry;액체 중 고체입자가 약 10% 내지 15% 보다 큰 체적을 차지하는 고농도 서스펜션), 디스퍼젼(dispersion;액체 중 약 10% 내지 15% 이하의 체적을 차지하는 저농도 서스펜션), 및 에멀션(emulsion;액체 중 액체 입자 또는 방울(droplet)) 등이다. 본 발명은 서스펜션과 1 마이크론 이상의 입자크기를 갖는 시스템에서 서브마이크론 크기의 입자들의 PSD 측정에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 다중 위상(multiphase) 시스템에서의 농도 및 응집도(degree of agglomeration)를 결정하는데 사용되는 시스템에 관한 것이다. 본 발명은 에멀션화(emulsification;방울 크기), 균질화(homogeniztion;디스퍼젼의 품질), 분쇄(grinding;입자크기 분포), 금속 침전(precipitation;입자 응집), 및 입자 형성(입자크기 분포)의 온라인 측정 등을 포함하는 여러 산업의 애플리케이션에서 유용한 시스템에 관한 것이다.
서스펜션에서 초음파의 주파수의존 감쇠(attenuation)는 그들 시스템 내의 PSD에 의해 결정되는 것으로 알려져 있다 ("순방향 문제(Forwarding problem"). 다양한 시스템에 대한 초음파의 흡수를 다루기 위해서 여러 이론적 모델이 개발되었다. 특히, Allegra 및 Hawley[Attenuation of Sound in Suspensions and Emulsions: Theory and Experiments.J. Acoust. Soc. Am.51(1972) 1545-1564]은 디스퍼젼과 에멀션에서 초음파의 감쇠를 계산하는 수학적 기틀을 제공한다. 이 Allegra-Hwaley 모델은 매우 일반적이어서, 새로운 모델을 개발할 필요없이 신규 시스템에 대한 흡수(absorption)를 계산할 수 있게 한다. 비록 이 이론이 낮은 체적 농도(20% 이하)에서의 모노디스퍼스(monodisperse)(단일크기) 서스펜션에 대한 것이지만, PSD 밀도함수에 의해 계산된 흡수도를 적분함으로써 폴리디스퍼스(polydisperse) 시스템에 용이하게 확장된다.
Holmes 및 Challis[Ultrasonic Scattering in Concentrated Colloidal Suspensions. A.K.Holmes, R.E.Challis inColloids and SurfacesA:Physicochemical and Engineering Aspects77 (1993) 65-74; 및 A Wide Bandwidth Study of Ultrasound Velocity and Attenuation in Suspensions; Comparison of Theory with Experimental Measurements. A.K.Holems, R.E.Challis, D.J.Wedlock inJ.Colloid Interface Sci.156(1993)261-268]은 최대 45% 체적분율(volume fraction)의 모노디스퍼스 폴리스티렌 서스펜션에서의 흡수도와 위상속도를 측정하였으며, 단일 및 다중 스캐터링 모델[Multiple Scattering of Waves. P.C. Waterman, R.Truell inJ. Math. Phys.2 (1961) 512-540, 및 Wave PropagationThrough an Assembly of Spheres IV: Relations Between Different Multiple Scattering Theories. P.Lloyd, M.V.Berry inProc. Phys.Soc.91 (1967) 678-688]의 예측과 상당히 부합하는 것을 발견하였다. Holmes 및 Challis는 고속 디지타이저(digitizer)와 결합된 광대역 펄스와 푸리에 변환 연산(Fourier Transform operation)을 이용하여 초음파 스펙트럼을 획득한다. 그들은, 오프라인, 쓰루 전송(through-transmission)측정을 위해서 고정 간격의 한쌍의 변환기(transducer)를 이용하고, 기본전송 펄스(primary transmitted pulse)를 제외한 모든 것을 무시한다. 그들은 그들의 장치로 PSD를 측정할 수 있는 능력을 보이지 못했다.
기지의 PSD는 흡수도를 주파수의 함수로 예측하는 데 이용될 수 있기 때문에, 단지 흡수에만 기초하여 PSD를 예측하기 위해 초음파 스펙트럼을 반전(invert)시키는 것이 또한 가능해야 한다("반전 문제"(the Inverse Problem"). 초음파 데이터를 반전시키는 것은, 이 데이터의 변경이 표준 반전방법의 불안정성을 야기시키기 때문에, 그 자체로서 기술이라는 것이 밝혀졌다.
지금까지의 상당수 초음파 작업은 비교적 굵은(coarse) 입자들의 크기(>10마이크론)를 측정하는 것에 관련되어 왔다. 최초의 초음파 기반 기기들 중의 하나는 Armco AutometricsPSM-100[Particle Size and Percent Solids Monitor. C. Cushman, J. Hale, V. Anderson in US Patent 3779070(1973)]이며, 광업에서 분쇄회로(grinding circuit)를 제어하는 데 이용된다. 이는, 협대역(narrowband), 정적(static) 변환기 쌍(각 쌍은 단일 고정주파수에서 동작)과 반경험적인(semi-empirical) 모델을 이용하여 중간크기의 입자(최대 600 마이크론)의 표시를 제공하였다.
Cushman 등의 US 3779070은, 도 37 내지 도 39에서 광석 슬러리(ore slurry) 흐름 통로(flow passage)에 대향하여 배치된 개별 송수신 초음파 변환기 또는 한 측면에 변환기(송수신을 모두함)와 그에 대향하는 초음파 반사기의 배치를 도시한다. 그 변환기는 슬러리에 직접 접촉한다. 평균 입자직경이 40 내지 250 마이크론인 슬러리를 설명한다. 변환기들의 간격은 약 4.0인치(10.2㎝)이다. 그 흐름 통로는 슬러리의 컨테이너(섬프;sump) 또는 슬러리 파이프라인에 직접 위치한다. 1 쌍 또는 2 쌍의 변환기가 이용될 수 있다. 2개의 변환기 쌍이 이용될 때에는, 각각이 교대로 동작하여, 하나가 입자크기를 측정하면 다른 하나는 슬러리의 근본적으로 동일한 체적에서 고체 백분율(percent solid)를 측정한다. 샘플로부터 예측되는 감쇠에 기초하여 2 개의 서로다른 초음파주파수가 이용될 수 있지만, 일단 하나의 주파수가 선택되면 주파수는 일정하게 유지된다. 선택된 주파수들은 약 150 마이크론 이하의 중간크기의 입자크기 분포에 대해 약 0.3 내지 3.0 ㎒ 의 범위내에 있을 수 있다. 한 쌍의 변환기를 이용하는 경우에는(반사기를 이용한 시스템에서), 2개의 변환기는 2개의 서로다른 주파수에서 교대로 동작한다. 그 초음파 입자크기 측정시스템은 실시간으로 결과를 제공하며 광석 분쇄용 회로의 자동회로를 위한 피드백 루프의 일부일 수 있다. 임의의 농도변화가 알려져야 한다는 점과 그 크기분포는 이 방법에 의해 측정되지 않는다는 2개의 주요 제한이 있다.
Riebel 및 Loffler [The Fundamentals of Particle Size Analysis by Ultrasonic Spectrometry.Part. Part. Syst. Charact.6 (1989) 135-143]는 한 쌍의 광대역 변환기에 의해 음향 감쇠 스펙트럼(acoustic attenuation spectrum;2-80㎒)를 획득하여 20 내지 1000마이크론 사이의 범위를 갖는 입자들에 대하여 전체 PSD를 추론한다. 그들의 물리적 모델은 람베르트-비어 법칙(Lambert-Beer law;최대 농도 10%체적)과 인가된 각각의 주파수에서의 입자 크기 의존(size-dependent) 감쇠는 매체를 횡단하는 음성파(sound wave)와 부딪치는 총 입자표면에 비례한다는 가정에 기초한다. 이러한 가정은 단지 단파장 범위에서만 유효한다.
Riebel에게 부여된 US 4706509(1987)는 다수의 입자크기 간격을 샘플링하기 위한 초음파를 이용하여, 바람직하게는 5 개 이상의 입자크기간격을 갖는 입자크기 분포를 결정한다. 다수의 서로다른 개별 초음파 주파수들은, 액체 내 입자의 서스펜션을 통하여 톤 버스트(tone burst)에서 연속적으로 통과하며, 주파수의 개수는 샘플되는 간격의 개수와 동일한 것이 바람직하다. 한 쌍 이상의 초음파 송수신기가 쓰루 전송을 통하여 이용될 수 있고, 또한, 동일한 변환기가 대향하는 반사기로부터 발생하는 에코의 송수신기로서 기능할 수 있다. 복수개의 초음파 송신기가 계속 여기(excite)되면, 서스펜션 인클로줘(enclosure) 벽에 90도 이외의 각에서 흡수경로를 배치시킴으로써 정상파(standing wave)가 회피될 수 있다. 바람직하게는, 여기용으로 선택된 주파수는, 최저주파수에 대응하는 파장이 여기되는 최대 입자의 직경보다 크고 최고주파수에 대응하는 파장이 여기되는 최소입자의 직경보다 작도록 하여야 한다. 따라서, Riebel에 의해 고찰된 주파수 범위는 15마이크론 이상 크기의 입자에 그 방법을 한정시킨다. 시스템의 엄격한(extensive) 측정이 요구되고 입자 형상(particle morphology)의 변화는 새로운 측정을 요구하는 것으로관측되었다.
최근의 작업은 초음파 기반의 측정을 확장하여 서브마이크론 입자크기의 체제(regime)까지 커버하는 것이다. Pendse 및 Sharma [Particle Size Distribution Analysis of Industrial Colloidal Slurries Using Ultrasonic Spectroscopy.Part. Part. Syst. Charact.10(1993) 229-233]은 온라인과 오프라인에서 모두 AcoustoPhor(Pen Kem 8000)으로 명명된 전형적 기기(prototype instrument)에 대하여 보고하였다. 이 시스템에 의하면, 음향 감쇠는 1 내지 100㎒ 사이의 여러 개별 주파수에서 측정된다. 이들 주파수에서, 음성파의 점성 에너지 소멸(viscous energy dissipation)은 서브마이크론의 단단한 입자(rigid particle)에서 현저한 현상이다. 이들 저자는 50%(체적) 만큼 높은 슬러리 농도에서 0.01 내지 100 마이크론의 범위에서 PSD를 결정할 수 있는 것을 청구한다.
Alba에 부여된 US 5121629(1992)는 보다 범용의 Allegra-Hawley 모델(점성, 열적, 및 스캐터링 성분을 포함)을 50%(체적) 까지의 농도를 갖는 슬러리에 대하여 0.01 내지 100 마이크론의 범위에서 PSD를 측정하는 데 오프라인 기기 (Malvern Ultrasizer)에 대한 기준(basis)으로 사용한다. 이 특허에서, Alba는 0.5 내지 100㎒ 범위 내에서 선택된 개별 주파수에서 동작하는 2 개의 광대역 초음파 송수신기를 이용하여 15%이상의 체적 농도와 1 마이크론 이하의 크기에 대한 농도 및 입자크기분포를 판별한다. 그는 서로 다른 실시형태가 펄스 에코(pulse-echo), 톤 버스트 송신/검출, 또는 다수의 변환기와 같은 배치를 이용할 수 있다고 제안한다. 오프라인에서 계산된 감쇠 스펙트럼은 테스트 샘플의 온라인에서 측정된 감쇠 스펙트럼과 비교되어 적합한 루틴에 의해 크기분포와 농도가 신속하게 추정된다. 그는 이 방법이 온라인 동작과 오프라인 동작에 모두 적용될 수 있다고 주장하지만, 그 기기의 바람직한 실시형태는 개시된 개별 주파수에 대한 데이터를 수집하고 처리하는 데 4 내지 5분이 걸린다는 것이 관측되었다. 이 시스템은 급속하게 흐르는 서스펜션 또는 급속한 변화가 진행중인 서프펜션에 대한 인라인(in-line) 측정에 대해서는 부적절하다.
Bertelson에 부여된 US 3802271은 음향 신호를 이용하여 유체내의 입자들, 바람직하게는 공업용 굴뚝에서 방출되는 연소 먼지 입자(combustion dust particle)를 분석한다. 그는 여러 주파수 성분들을 포함하는 비정현 파형(non-sinusoidal waveform)의 복잡한 파 형상(complex wave shape)을 채택함으로써 주파수를 스캔할 필요성을 제거한다. 직접 또는 펄스 생성기를 통하여 스피커를 구동하는 가변 주파수 발진기(variable frequency osillator)에 의해 발생하는 사각파, 구형파, 톱니파의 파형이 고찰된다. 그 장치는 주파수 스캔 또는 단일 비정형 파형을 이용함으로써 유용하게 된다. 입자들을 분석하는 방법은 복수개의 주파수 성분을 갖는 음성파 에너지를 생성하는 단계와 그 입자를 갖거나 갖지 않는 유체를 통하여 이를 전송하는 단계를 포함한다. 입자들 없이 음향 경로(acoustic path)를 제공하기 위해서 유체로부터 입자들을 분리하는 물리적 수단이 필요한 것이 주요한 한계이다.
Sowerby 등에 부여된 US 5831150은 개별 주파수들을 갖는 복수개의 초음파빔을 이용하여 페인트 샘플에서의 TiO2와 같은 서브마이크론 범위에서의 입자크기를 측정한다. 그러나, 고체성분은 2.3%와 같은 낮은 퍼센트에 있다. 본 발명의 일 실시형태는 6 쌍의 압전 변환기(piezoelectric transducer)를 이용하여 특정 주파수의 초음파를 송수신한다. 또한, 보다 적은 개수의 광대역 초음파 변환기가 톤 버스트를 생성하는데 이용될 수 있다. 개시된 모든 실시형태들에서, 그 PSD는 초음파 위상속도로부터 측정된다. 농도를 측정하기 위해 초음파 센서에 대한 입력으로서 사용되는 방사성 농도계기(radioactive density gauge)를 사용하는 것이 한계이다.
상기 기기들은, 그들의 바람직한 실시형태에서의 한 번에 하나의 주파수의 감쇠 스펙트럼을 스웹트 주파수(swept frequency) ("처프(chirp)") 생성기 또는 일련의 톤 버스트를 이용하여 측정한다는 점에서 유사하다. 이러한 접근방식은 실험실에서는 잘 동작하지만, 데이터를 수집하는데 있어서는 상대적으로 느리다. 온라인 애플리케이션에서, 플로우 셀(flow cell) 내의 샘플은 데이터가 수집됨에 따라 변경되며, 그 결과, 서로 다른 시점에 측정된 고주파 성분과 저주파 성분은 동일한 이동 물리 입자(moving physical particle)에 관련되지 않는다. 소위 "펄스"생성기를 이용하는 다른 기기들은 실제 펄스 트레인(pulse train)을 생성하며, 그 펄스 트레인(실질적으로 단일 주파수 또는 협대역의 주파수)은 톤 버스트와 등가이다. 이러한 기기들은 감쇠 스펙트럼을 측정하기 위한 여러 주파수에서 연속적인 톤 버스트를 생성하여야 한다.
종래 기술에 의해 알려진 1-100 ㎒ 범위에서의 주파수선택은, 변환기들 간의 최대 간격에 대한 엄격한 제한을 부과하는 것으로서, 고농도(10-50%)의 서브마이크론 분자의 서스펜션에서는, 최대 갭이 단지 1인치의 일부분(통상, 0.05-0.10인치, 0.13-0.26㎝)일 수 있는 점에서 감쇠가 매우 높다. 작은 변환기 갭은, 이러한 작은 간극(clearance)이 플러그(plug)되는 경향이 있기 때문에 온라인 애플리케이션에서는 적합하지 않다. 미디어 분쇄기(media mills)와 마모기(attritor)와 같은 밀링동작은 고체/액체 슬러리에서의 입자크기를 감소하도록 설계된다. 그 슬러리는 농축되기 쉬우며(20-50% 체적의 고체), 서브마이크론 입자의 경우에는, 간단한 동작후에 플러그됨이 없이 희석되지 않은 서스펜션의 입자크기분포(PSD) 또는 입자크기를 측정할 수 있는 인라인 상업용 기기가 없다.
스펙트럼 데이터를 PSD로 변환시키기 위해서, 대부분의 종래기술은(Alba와 Sowerby는 제외)물리적 모델에 반대되는 현상학적(phemenological) 모델을 이용한다. 따라서, 하나의 프로세스 스트림에서 다른 프로세스 스트림으로의 특정 기기를 스위칭하는 작업은 새로운 측정 커브(calibration curve)가 구현될 것을 요구한다.
종래 기기보다 저가의 시스템에서 보다 고속의 데이터 획득을 할 수 있는 입자크기 분포 및 농도를 획득하는 방법이 요구된다. 산업환경에서 동작하고, 최소의 유지를 요구하고 플러그하기 쉬운 협소한 변환기 갭을 회피하는 강인하고 신뢰성 있는 성능을 갖는 온리인 결과를 획득할 수 있는 시스템이 요구된다. 하나의 프로세스 스트림에서 다른 프로세스 스트림으로 기기를 스위칭하는 것은 단지 적절한 물리상수를 대체한 것을 요구하는 물리적 모델에 기초하여, 초음파 스펙트럼 데이터를 PSD로 변환하는 시스템이 요구된다.
특정 애플리케이션에 대한 침전입자의 생성에서, 침전을 야기하는 환원액(reducing agent)과 결합될 때, 서브배치가 적절한 시점에서 회수하도록 정확한 크기의 입자를 생성하는데 용액의 에이징(aging) 마스터 배치의 변동을 모니터할 필요가 있다. Glicksman에 부여된 미국특허 제 5,389,122호에서는 화학적 에이징 및 침전 공정을 이용하여 세밀하게 분할된, 구형(spherical shaped) 은 입자 (통상, 1 내지 3마이크론)을 준비하는 시스템을 개시한다. 이 마스터에서는, 입자크기가 에이징 공정동안 변하며, 임의의 빼낸(pulled) 샘플들이 여전히 반응성이 있어서 정확한 입자크기가 획득될 수 없었다. 재료(환원제) 등의 첨가를 조절하기 위해 미세하게 분할되는, 구형의 입자크기를 스터된(stirred) 탱크시스템에서 형성하기 위해서, 신속하고 정확하게 입자크기를 예측하고 자동화된 제어시스템과 상호작용하는 단순 프로브를 이용하는 PSD 시스템이 요구된다.
발명의 요약
입자크기분포 모니터는, 초음파 에너지-일정 범위의 주파수 성분을 포함하여 광대역 펄스를 포함- 소스에 적합하고 액체 내 체적 퍼센트(percent by volume)의 입자를 함유하는 서스펜션에 접촉하는 변환기 -서스펜션을 통해 초음파 에너지를 전송-, 초음파 에너지의 수신기로서 적합하고 상기 서스펜션을 통과시의 상기 광대역 범위의 초음파 에너지를 수신하기 위해서 상기 서스펜션에 접촉하도록 배치되는 변환기, 상기 수신기로부터 신호를 승인하고 상기 서스펜션을 통과시의 상기 광대역 초음파 에너지의 감쇠를 순시 결정(instanaeous determination)하기에 적합한 제1 수단을 포함한다.
동적 환경하의 서스펜션 내에서 입자들의 입자크기분포를 모니터링하는 방법은, 펄스를 감쇠시키는 서스펜션을 통하여 광대역 범위의 주파수 성분을 포함하는 초음파 에너지의 제1 펄스를 송신하는 단계; 감쇠된 펄스가 서스펜션을 통과한 후에 이를 수신하는 단계; 그 감쇠된 제1 펄스를 대표하는 제1 신호를 발생(develop)시키는 단계; 제1 신호를 고속 아날로그/디지털 컨버터로 디지털화하여 타임 도메인 신호를 형성시키는 단계; 푸리에 변환을 적용하여 각각의 신호에 대하여 타임 도메인 신호를 등가 주파수 도메인 신호 또는 스펙트럼으로 변환시키는 단계; 및 그 스펙트럼을 주파수 함수로서 감쇠를 표현하기 위해 ㏈로 변환하는 단계를 포함한다.
본 발명은 종래기술의 처프 또는 톤 버스트(주파수 도메인) 방법이 아닌 펄스된(타임 도메인) 기술을 이용하는 초음파 PSD 분석기에 관한 것이다. 본 발명은 한 번의 단기간, 광대역 펄스를 이용하며, 이는 분석되는 서브 마이크론 재료에 대하여 요구되는 전체 주파수 스펙트럼을 획득하기 위해서 충분한 대역을 포함한다. 그 넓은 스펙트럼의 주파수를 포함하는 단일 광대역 펄스는 순간적으로 관심있는 전체 스펙트럼을 획득할 수 있게 한다. 본 발명의 바람직한 실시형태는 고농도의 서브마이크론 입자들을 갖는 슬러리에서 변환기들 간의 큰 갭을 허용하는 보다 긴 음향 경로를 이용하는 저주파에 대한 주파수 범위의 제한을 포함한다.
일 실시형태에서, 장치는 플로우 셀에 탑재된 단일 광대역 초음파 변환기,초음파 반사기, 펄스 생성기, 증폭기, 아날로그/디지털 컨버터 (A/D), 및 컴퓨터로 이루어진다. 광대역 펄스는 그 변환기를 통하여 서스펜션에 런치(lauch)되며, 그 결과 서스펜션을 통해 재전송되는 플로우 셀의 멀리 있는 벽(far wall) 상의 반사기로부터 에코 트레인이 서스펜션의 단위 길이당 주파수 의존 감쇠를 획득하도록 분석된다. 다수의 에코로부터의 정보가 수집된다. 서스펜션의 입자크기분포(PSD)는 적절한 물리적 모델의 애플리케이션을 통하여 이 초음파 스펙트럼으로부터 결정될 수 있다.
다른 실시형태에서, 초음파 변환기는 그 초음파 신호의 한 번 통과된 (once-through) 전송에 대한 수신기에 대향하여 배치된다. 그 송신기와 수신기는 재료 통로(material passage) 또는 컨테이너에 대향하여 탑재될 수 있거나, 송신기와 수신기가 고정거리만큼 떨어져서 배치된 통로 또는 컨테이너의 한쪽에 부착된 프로부에 탑재될 수 있다. 두 실시형태에서, 침전물 생성(sediment build up)과 클로깅(clogging)의 가능성을 최소화하기 위해서 서스펜션 플로우가 통과시의 음향경로 내의 최소갭은 0.25인치(0.64㎝)이상이다.
또한, 본 발명은 침전입자 생성시스템에 대한 제어방법에 관한 것이다. 용액의 마스터 배치는 본 발명의 초음파시스템을 이용하여 모니터되며, 감쇠는 원하는 입자크기분포를 획득하기 위해서 서브 배치(sub-batch)의 침전(precipitation)과 퇴거(withdrawal)를 제어하는 것에 사용된다.
도면의 간단한 설명
도 1은 2개의 변환기를 이용하는 종래기술의 개략도이다.
도 2는 1개의 변환기를 이용하는 본 발명의 바람직한 실시형태의 개략도이다.
도 3a와 도3b는 타임도메인(3a)과 주파수도메인(3b)에서 통상의 펄스형태를 나타내는 그래프이다.
도 4는 단일 입력펄스에 대하여 수신되는 에코 트레인을 나타내는 그래프이다.
도 5a는 넓은 범위에서 주파수와 감쇠의 일반적인 변화를 나타내는 도면이다.
도 5b는 물 속에 2% 체적농도의 서브마이크론 입자의 샘플에 대하여 10 내지 100 ㎒에서 계산된 감쇠를 나타내는 그래프이다.
도 5c는 도 5b와 동일한 샘플의 20% 체적농도에 대하여 10 내지 500 ㎒에서 계산된 감쇠를 나타내는 그래프이다.
도 6은 종래수단을 통하여 측정된 PSD와 본 발명에 의해 측정된 PSD 간의 비교를 나타내는 그래프이다.
도 7은 초음파 에너지에 대한 반사기의 측면도이다.
도 8은 초음파 변환기와 반사기를 탑재하는 입자 서스펜션 프로세스 라인에 대한 스풀 조각(spool piece)의 단면도이다.
도 9는 입자 서스펜션 프로세스 라인에 대한 스풀 조각에서 변환기와 반사기의 프로브형 어셈블리의 단면도이다.
도 10은 입자 서스펜션 프로세스라인 또는 베셀(vessel)상에 적합한플렌지(flange)에 부착되는 변환기 수신기와 변환기 송신기 양자를 모두 포함하는 삽입형 프로브의 측면도이다.
도 11은 입자 크기 분석기에 대한 종래 제어시스템의 블록다이어그램이다.
도 12는 은 침전 프로세스를 나타내는 도면이다.
도 13은 도 12의 프로세스에 적용되는 입자크기 분석기를 나타내는 도면이다.
도 14는 도 13의 프로세스에서 대응 침전 은입자의 크기와 에이징 은용액의 감쇠(시간에 대하여)를 나타내는 도면이다.
도 15는 은입자의 생성시 에이징 프로세스를 도시하는 장기간 감쇠데이터의 플롯이다.
도면의 상세한 설명
도 1은 종래기술에서 흔한 통상의 기기(10)를 개략적으로 도시한다. 측정할 서스펜션은 샘플 셀(20) 내에 배치되며, 그 샘플셀은 초음파 송신 변환기(24)와 초음파 수신 변환기(22)를 포함한다. 통상, 이들 변환기들 중의 하나는 변환기들 간의 가변 갭(26)을 제공하기 위해 이동될 수 있다. 프로그래밍가능한 톤 버스트 생성기(32)는 소정 개수의 주파수에서 일련의 톤 버스트로 송신 변환기(24)를 구동한다. 각각의 톤 버스트로부터 생성되는 초음파 펄스는 서스펜션을 통하여 전파하여 수신 변환기(22)에 도달하며, 그 수신 변환기(22)에서 초음파 펄스는 전기신호로 변환된다. 송신신호의 크기는 튜닝된(tuned) 수신기(36)에 의해 측정된다. 튜닝된 수신기(36)로부터의 신호크기는 컴퓨터(40)에 의해 저장되며, 그 컴퓨터는 시퀀스 내의 다음 톤 버스트를 개시한다. 톤 버스트 시퀀스의 종료시에, 컴퓨터(40)는 주파수함수로서 전송 크기를 획득한다. 이 데이터는, 일단 ㏈ 유닛으로 변환되어, 전송 스펙트럼을 구성한다.
관측된 전송신호는 변환기의 진성(intrinsic) 주파수응답에 기인하는 기여분(contribution)을 포함한다. 또한, 음향 불연속점에서 초음파의 반사에 기인한 변환기/서스펜션 인터페이스에서의 삽입 손실이 있다. 따라서, 진성 기기반응(intrinsic instrument response)은 서스펜션의 감쇠를 측정하기 위해서 측정된 감쇠로부터 감산되어야 한다. 기계적 부하효과(mechanical loading effect;서스펜션의 밀도에 의존)는 그 변환기의 진성반응을 변경시킬 수 있다. 진성반응의 정확한 결정은 감쇠측정의 정확성에 명백하게 영향을 미친다.
도 1에 나타낸 종래기술은 스펙트럼이 2개의 변환기 간격에서 측정되어 시스템 성분변화를 정정하며, 이 때, 쓰루 전송(through-transmission) 방법을 사용하여 변환기가 이용될 수도 있다 . 서스펜션의 감쇠를 얻기 위해서는, "먼(far)" 간격의 전송스펙트럼과 "가까운(near)" 간격의 전송스펙트럼(㏈ 단위) 간의 차이가 그 멀고 가까운 간격들 사이의 음향 경로길이에서의 변화에 의해 나누어진다. 이 기술은 변환기 부하와 진성반응의 변화를 설명하지만, 이동형 변환기를 요구하며, 느리다. 서스펜션이 주로 이용되는 고주파에서 고농도의 입자를 포함할 때에는, 신호크기가 동일한 경우, 변환기들 사이에 서스펜션이 흐르는 간격 또는 갭이 높은 감쇠를 카운터(counter)하도록 감소되어야 한다. 이는 입자들의 갭 클로깅(gap clogging) 문제를 제공한다.
종래기술에 대한 향상은 본 발명의 다음과 같은 중요 특성를 제공한다.
(1) 단일 광대역 펄스의 사용 (타임 도메인 신호획득)
(2) 변환기 사이의 넒은 갭의 사용과 그 변환기 사이에 보다 긴 음향 경로를 허용하는 주파수 범위의 제한
(3) 초음파 신호를 향상시키는 플로우 셀의 설계; 및
(4) 기기의 동적범위를 향상시키는 신호 컨디셔닝(conditioning;로그 증폭(logarithmic amplification) 등)의 이용
본 발명을 실시하는 2개의 기본 시스템이 PSD모니터와 동작방법에 대하여 고찰된다. 제1시스템에서, 서스펜션은 밀링 공정에서 주로 다루는 15%이상의 고농도 고체입자(고밀도의 서스펜션 또는 슬러리)를 포함하며, 바람직하게는 농도가 25%이상이지만, 일부 경우에서는, 10%이상의 농도가 본 발명의 목적을 위해 고농도로서 간주될 수 있다. 비교적 낮은 중심주파수(5㎒ 이하)에서 동작하는 광대역 초음파 송신 변환기는 통로(즉 서스펜션을 운송하는 파이프에 설치된 플로우 셀)의 한 편에 탑재되고 광대역 초음파 수신 변환기는 그 통로에 대향하여 탑재되거나, 단일 송수신 변환기가 통로의 한 편에 있고, 반사기가 그에 대향하여 탑재된다. 그 플로우 셀은 연속적인 밀링 애플리케이션에 대하여 밀링의 출구에, 또는 배치 밀링 애플리케이션(batch milling application)에 대한 재순환 파이프(recirculation pipe) 내에 탑재될 수 있다. 농도가 15%이상인 상황에서, 약 70%까지의 농도를 취급하는 데 있어서, Alba에 부여된 '629참조에서 개시된 바와 같이, 경험적 모델이 적용될 수 있다. 참조를 위해서, 밀폐된(close packed) 단일크기의 구형입자에 대해서 최대 체적농도는 약 50%이다. 바람직하게는, 광대역 펄스는 서스펜션의 10%이상의 체적을 차지하는 입자를 포함한 서스펜션의 감쇠를 결정하는데 있어서, 100㎑에서 5㎒까지의 중심주파수를 갖는다.
고체 입자에 대하여 체적농도가 15% 이하인 경우의(또는, 많은 에멀션의 경우, 50%까지의 농도) 제2 시스템에서, Allegra-Hawley 모델(또는 다수의 스캐터링에 대하여 변형된 유사한 접근)이 PSD와 입자(또는 방울)농도를 결정하는데 이용될 수 있다. 그 서스펜션은 매우 낮은 농도의 서브마이크론 입자(입자가 약 1%이하의 체적인 디스퍼젼)를 포함할 수 있다. 높은 중심주파수(예를 들면, 25㎒ 이상)에서 송수신하는데 있어서 서로에 대하여 대향하여 이격된 2개의 광대역 초음파 변환기는 프로세스 베슬(process vessel;스터된 탱크(stirred tank) 등) 내에 삽입될 수 있으며, 그 변환기는 또한 프로세스 파이핑에서 탑재되므로 플로우 셀에 탑재될 수도 있다. 그 변환기는 서로 대향하여 탑재되어 디스퍼젼을 통해 음향 경로에 의해 초음파적으로 결합된다. 또한, 단일 광대역 변환기는 초음파 펄스를 송수신하기 위해 반사기에 대향하여 탑재될 수 있다. Allegra-Hawley 모델 또는 경험적 모델(샘플의 오프라인 측정에서 생성되는 측정 사다리(measurement ladder)와 같이)이 PSD와 농도를 추론하는 데 이용될 수 있으며, 감쇠 데이터 그 자체가 관심있는 프로세스 파라미터와 직접 상관될 수 있다. 바람직하게는, 광대역 펄스는 15%이하의 체적을 차지하는 입자들로 구성된 서스펜션에서 감쇠를 결정하기 위해서 5 ㎒에서 50 ㎒까지의 중심주파수를 갖는다.
두 시스템의 바람직한 실시형태에서, 광대역 초음파 펄스는 변환기에 의해생성되어 수신된다. 디지타이저(digitizer;아날로그/디지털 컨버터)는 타임 도메인 신호를 캡쳐하는 데 이용된다. 이 신호는 푸리에 변환 또는 그 알고리즘 구현들 중의 하나 (패스트 푸리에 변환 FFT 또는 디지털 푸리에변환 DFT)에 의해 주파수 도메인으로 변환된다. 송신된 초음파 스펙트럼은 감쇠스펙트럼으로 변환되며, 그 감쇠스펙트럼은 PSD와 농도를 결정하는 데 이용된다. 서스펜션 농도에 대한 사전지식은, 배치 성분의 지식 또는 농도계 측정으로 부터 획득되며 PSD결정에 도움을 준다.
본 발명의 바람직한 일 실시형태는 단일 변환기를 이용하여 광대역 초음파펄스를 서스펜션에 런치(launch)하여 그 결과의 에코 트레인을 수신한다. "광대역"이라는 용어는 펄스가 넓은 범위의 주파수(예를 들면, 슬러리와 같은 진한 서스펜션에 대해서는 200-800㎑, 침전프로세스에서와 같은 서브마이크론 입자의 묽은 서스펜션에 대해서는 15-80㎒)를 커버하는 주파수 성분을 포함하는 것을 의미한다. 도 2는 본 발명의 바람직한 실시형태(50)를 개략적으로 나타낸다. 플로우 셀(55)은 측정되는 서스펜션이 흐르는 파이프부, 초음파 변환기(62), 및 초음파 반사기(64)로 이루어진다. 이 반사기(64)는 플로우 셀(55)의 먼 벽일 수 있지만, 바람직한 실시형태에서, 반사기는 그 반사기 자체 내부의 반향(reverberation)을 최소화하고 반사(reflection)을 최대화하도록 설계되는 초음파 반사기이다. 그 반사기(64)는 단지 전면 반사가 되돌아 오도록 설계되어야 하며, 그렇지 않으면, 후면반사가 초음파 신호를 간섭할 것이다. 이러한 이유로 인해서, 통상, 파이프의 대향면은 반사기로서 이용되지 않는다. 바람직한 실시형태에서, 반사기(64)는 그전면이 플로우 셀(55)의 내면(inside surface)과 같은 높이(flush)가 되도록 탑재된다. 시스템 클록(80)은 트리거 신호를 송신 변환기(62)를 구동하는 펄서회로(82)에 제공하는 회로이다. 그 펄서(82)는 단기간의 단일 광대역 전기펄스를 생성한다. 통상, 전기 펄스는 10㎱의 기간과 5-300볼트 사이의 크기를 가진다. 변환기(62)는 이 전기신호를 일정 범위의 주파수성분을 포함하는 광대역 초음파 에너지로 변환하며, 그 에너지는 셀을 통해 흐르는 서스펜션에 런치된다. 초음파 펄스는 서스펜션을 통하여 전파되고, 반사기(64)를 바운스 오프하며, 변환기(62)에 복귀하며, 변환기가 수신기로서 현재 동작함에 따라 그 변환기에서 에너지의 일부가 전기신호로 변환된다. 초음파가 진행함에 따라, 농도, 입자크기분포, 및 서스펜션의 조성(composition)에 따라서 초음파가 감쇠된다. 그 에너지의 나머지는, 변환기(62)의 표면으로부터 반사기(64)로의 초음파로서 진행을 계속하여, 보다 많은 에너지가 전기신호로 변환되는 변환기(62)로 복귀한다. 초음파 펄스의 각각의 왕복(round trip)은 또다른 에코를 수신신호에 더해져서, 총신호가 원래의 단일 펄스의 많은 에코들로 이루어진다. 이 신호는 에코들의 스펙트럼 컨텐츠를 보존하기 위해서 충분한 대역을 갖는 광대역 전치증폭기(84)에 의해 증폭된다. 그 전치증폭기(84)는 신호의 동적범위를 압축하는 로그 증폭기(즉, 로그 이동함수를 갖는 증폭기)를 포함하는 것이 바람직하다. 그 증폭신호는 가변 감쇠기(85)에 의해 더 컨디션되고 고속 아날로그/디지털(A/D) 컨버터(86)에 의해 디지털화되며, 그 고속 아날로그/디지털(A/D) 컨버터(86)는 시스템 클록(80)에 의해 트리거된다. A/D 컨버터(86)로부터 디지털화된 신호는 컴퓨터(90)에 의해 판독되며, 그 컴퓨터는 타임도메인 신호를 주파수 도메인(초음파 스펙트럼)으로 변환시킨다. 컴퓨터(90)는 사용된 신호를 시스템 클록(80)으로서 제공할 수 있다. 또한, 컴퓨터는 유체 시스템(fluid system)의 진성 반응(intrinsic response)에 대한 정보를 저장하며(통상, 물 내의 초음파신호의 감쇠) 이를 수집된 신호로부터 감산하여 정규화된 데이터를 획득한다. 또한, 컴퓨터는 입자크기의 서로다른 분포에 대하여 특성데이터를 저장하며 정규화된 데이터와 저장된 PSD 데이터를 비교하여 실제 입자크기분포를 기술하는데 가장 적합한 것을 결정한다.
초음파 전파 파라미터(음속 및 감쇠 등)는 산업 공정에서 다양하게 변형할 수 있기 때문에. 그 기기는 이들 변화에 부합할 수 있어야 한다. 컴퓨터는 감쇠기(85)를 제어하여 A/D 컨버터(90)의 전압범위를 초가하지 않고 컨버터(86)에 대한 신호입력을 최대화함으로써, 컨버터(86)의 유효 동적범위를 확장한다. 컴퓨터(90)는 감쇠기(85)를 조절하고, 디지타이저(86)을 제어하며, 에코에 대응하는 디지털화된 신호의 정정부위를 선택하는 (즉 "게이트하는") 프로그램 명령을 실행한다. 통상, 그 게이트는 변환기 자체 내부의 반향을 제외하기 위해서 10 마이크로초 이하이다. 온도는 음성이 서스펜션을 통하여 전파하는 속도를 결정하기 때문에, 서스펜션 온도의 사소한 변화조차 게이트 밖에 놓인 포인트에 에코 타이밍을 변경할 것이다. 따라서, 컴퓨터 소프트웨어는 에코의 위치 변화를 추적하여 선택된 펄스 에코상에 중심이 유지되도록 게이트 위치를 갱신한다.
도 3a는 펄서에 의해 발생되는 타임도메인 펄스를 나타낸다. 임의의 타임도메인 신호는 푸리에 변환을 통하여 그 주파수성분으로 분해될 수 있음은 잘 알려진수학적 결과이다. 그 결과 스펙트럼 대역은 대응 타임도메인 펄스 기간에 반비례한다. 따라서, 이러한 입력펄스의 주파수성분이 도 3b에 도시된다. 도 3b에서, 주파수는 1㎒ 내지 70㎒의 범위를 가지며, 이 범위 중심에서 약 35㎒의 중심주파수를 갖는다. 중심주파수는 최대 신호크기를 갖는 주파수, 25㎒에서 정확하게 정렬할지 않을 수 있지만, 통상 이에 근접한다. 본 발명의 실시에서, 광대역 주파수의 범위는 중심 주파수와 중심주파수의 25% 내지 70%의 합 및 차, 그리고 바람직하게는 50% 내지 60%의 합과 차에 의해 정의된다. 이 펄스는 플로우 셀을 통해 진행하여 도 4 에 도시된 에코 트레인을 형성하는 다수개의 에코를 생성한다. 소프트웨어를 이용하여, 컨버터(86)에 의해 제공되는 디지털화된 신호는 적절한 에코를 선택하도록 게이트된 후, 푸리에 변형(FFT 알고리즘으로서 구현됨)이 각각의 개별 에코에 대하여 타임 도메인 신호를 등가의 주파수 도메인 신호(또는 스펙트럼)으로 변환하는 데 사용된다.
도 4의 제1 에코는 도 2의 플로우 셀의 직경의 2 배를 가로질러 진행하고, 제2 에코는 직경의 4배를 진행하며, 그 이후의 에코는 그에 따른 보다 먼 거리를 진행한다. 되돌아 오는 에코를 분석하면 그들은 다음과 같은 양에 의해 감쇠되는 것을 알 수 있다.
제1 에코의 감쇠=2I+R+2A
제2 에코의 감쇠=2I+3R=4A
여기서, I=삽입손실(㏈), R=반사계수(㏈)이고, A는 플로우 셀의 직경과 동일한 경로길이에 대한 서스펜션에서의 흡수도(㏈)이다. 상기 항 각각은 주파수 함수이다.따라서, 제1에코의 스펙트럼에서 제2 에코의 스펙트럼을 감산하는 것은 차(difference) 신호
차=2(R+A)
를 산출한다. R항은 관심양 A에 비해 작으며, 또한, R항은 시간에 대하여 천천히 변한다. 따라서, 차 신호는 총 흡수도와 작은 오프셋의 합을 나타낸다. 이 차 스펙트럼을 2d로 나누면, 여기서 "d"는 플로우 셀의 직경, 주파수 의존 감쇠계수 α(f)를 산출한다. 따라서, 단일 에코 트레인은 변환기의 이동없이 다수의 음향 경로길이에 대응하는 초음파 펄스의 스펙트럼 컨텐츠에 대한 정보를 제공한다. 이 기술은 2개의 서로다른 음향 경로에서의 신호를 비교함으로써 센서의 임의의 열화를 검색할 수 있게 한다.
이 "다중에코 분광(Multiple-Echo Spectroscopy)"기술은, 제1 경로길이에 대하여 진행하는 제1 펄스의 제1 에코를 검출하여 그 제1 에코의 스펙트럼을 결정하는 단계, 제2 경로길이에 대하여 진행하는 제1펄스의 제2 에코를 검출하여 그 제2에코의 스펙트럼을 결정하는 단계, 및 시스템 변동에 독립적인 감쇠를 획득하기 위해서, 상기 제1 에코스펙트럼과 제2 에코스펙트럼 간의 차를 결정하여 그 차를 상기 제1경로와 제2경로의 차로 나누는 단계에 의해 달성된다.
또한, 도 2와 같은 반사기와 결합 송수신기 시스템은, 도 1과 같은 반사기가 없고 송신기와 수신기가 별도인(열화정보를 수집하기 위해서 그들 중 하나가 이동해야만 함)에 비해, 필요한 초음파 스펙트럼을 수집하는 데 저가의 시스템이다.
상술한 기술은 초음파가 플로우 셀의 수배의 직경과 동일한 거리에 걸쳐 전파할 수 있도록 충분히 낮은 총 감쇠에 의존한다. 종래기술은 고주파의 선택(약 50㎒이상)을 선호하며, 그 고주파에서는 감쇠가 서브마이크론입자의 고농축 서스펜션, 즉, 슬러리에 대하여 매우 강하다. 도 5a는 감쇠상수(㏈/in)의 질적 기술(qualitative description), 즉 저주파범위(87)가 고주파 범위(89)에 비해 확장된 스케일로 도시되는 넓은 범위의 주파수에 대하여 여러 입자크기(0.20-0.28m)에 대한 감쇠를 도시한다.
도 5b는, 경험적 모델에 의해 확인된 Allegra-Hawley 모델에서 계산된 바와 같이, 약 2% 농도에서 고주파수 체제(regime;89)에서의 여러 입자 크기(0.20-0.28 ㎛)에 대한 감쇠를 도시한다. 도1에 도시된 갭(26)들은, 저농도(도 5b에 나타낸 바와 같은 2% 농도)에서도 감쇠손실이 너무 높아서 (250-450 ㏈/in), 실용적인 초음파 에너지 레벨에서의 1인치 이하(2.54㎝ 이하)일 수 있다. 이러한 갭은 서스펜션이 갭을 신속하게 클로그(clog)하는 온라인 애플리케이션에서는 부적합하다. 또한, 다수의 에코는 이러한 작은 갭을 갖는 시스템에서 분별될 수 없다. 도 5b에서 서로 다른 입자크기의 차는 주파수가 증가함에 따라 보다 명확해지는 것을 주목해야 한다. 따라서, 종래 기술에 의해 증명된 바와 같이, 자연경사(natural inclination)는 보다 고주파수를 향해 이동하는 것이다. 이러한 주파수 체계의 선택은, 입자가 고농도, 특히 서브 마이크론 입자일 때, 큰 갭, 바람직하게는 최소 약 0.25인치(0.64㎝)를 갖는 본 발명에 부합하지 않는다.
고농도의 입자, 특히 서브마이크론의 입자인 경우에는, 주파수 범위의 보다 나은 선택은 50㎒ 이하여며, 바람직하게는 1㎒ 이하이다. 도 5c는 약 20%의 농도에서 100-500㎑ 범위로 계산된 감쇠(㏈/in)를 나타낸다. 보다 고농도(도 5c에서는 20%)임에도 불구하고, 감쇠는 2차수(two orders)의 크기보다 작다. 따라서, 전파거리는 다중 에코 분광(Multiple Echo Spectroscopy)이 사용할 수 있을 만큼 충분히 길 수 있다. 500㎑에서는, 도 5c에서의 감쇠곡선이 도 5b의 100㎒에서 만큼 많은 상대 편차(relative difference)를 도시한다. 따라서, 큰 갭(최소 0.25인치, 0.64㎝)을 이용한 민감도의 손실은 이 주파수 체계에서는 예상되지 않는다.
종래 기술은 다수의 주파수 fj에서 (예를 들면, Allegra-Hawley 모델을 이용) 흡수계수 αij와 미지의 서스펜션의 흡수 스펙트럼 Aj를 결정함으로써, 각각의 크기 i에서의 입자농도 ci에 대하여 PSD를 다음 선형식(즉, 반전;inverting)을 단순히 해결함으로써 가능하다는 것을 교시한다.
과거 경험은, 서브마이크론 입자에 대한 감쇠 스펙트럼에서 거의 정보가 없기 때문에, 선형식의 반전이 매우 부적합하고 2 또는 3개의 0이 아닌 크기 클래스를 산출한다는 것을 보여준다. 측정된 스펙트럼에서 입자 크기 정보를 발췌하는 유일하게 강인한 방법은 PSD를 매개변수화(parameterize)하는 것이다. 간단한 실시예는 PSD 함수에 대한 로그-노말 분포의 가정이다. Allegra-Hawley 감쇠를 로그노말 분포에 대하여 적분함으로써, 자유 매개변수의 수가 농도, 평균크기 및 분포폭, 3 개로 감소된다. 이들 양은 초음파 스펙트럼에 매개변수화된 모델을 적합(fit)시킴으로써발췌될 수 있다. 이 접근 방식의 결과의 실시예가 도 6에 도시된다. 주어진 샘플에서, 본 발명의 모니터로부터의 결과는 입자의 누적크기분포(cumulative size distribution)를 나타내는 실선(97)에 의해 표시된다. 원(99)과 같은 원으로 도시된 데이터 곡선은, 통상 Brookhaven x레이 디스크 원심분리기에 의해 분석된 동일 샘플의 결과를 나타낸다. 모니터에 의해 획득된 결과는 Brookhaven 기기의 결과와 우호적으로(favorably) 비교된다.
반사기는 외부(extraneous) 에코가 변환기에 의해 수신되게 하는 반향을 억제하도록 설계되어야 한다. 단순 금속판(또는 파이프의 대향 벽)은 주로 분석하기 힘든 혼란스런(confusing) 에코 트레인을 부여할 것이다. 예를 들면, 물/스틸 경계에서의 전력 반사계수는 약 88%이다. 따라서, 초음파 에너지의 약 12%는 스틸에 진입하며, 그 반사기의 먼쪽 벽에서 이 에너지의 대부분 (88%)이 반사된다. 반사기 두께를 스틸에서의 음속으로 나눈 값의 2배와 동일한 반향시간 후에, 이 내부 에너지의 약 12%가 후면 반사로서 나타난다. 반사기에 트랩된 음향 에너지는 에너지가 발산할 때까지 일정한 간격으로 계속 방출된다. 반사기의 재료와 지오메트리(geometry) 및 변환기와 반사기간의 간격에 의존하여, 이들 후면 에코는 원하는 전면 반사와 대략 동일한 시간에서 변환기에 도달하는데, 가짜(spurious) 신호는 초음파를 왜곡시키기에 충분히 강한 원하는 신호 세기보다 약 18㏈ 아래의 강도(intensity)를 갖는다. 왜곡파의 푸리에 변형은, 서스펜션 자체의 주파수 의존감쇠를 관측되었던 바대로 정확히 캡쳐하지 않는 스펙트럼을 양산할 것이다.
반사기에 의해 생성되는 반향을 감소시키는 다수의 방법들이 있다. 그 중하나의 방법은 후면 상에 임피던스 정합층 또는 음향 흡수기를 배치하는 것이다. 도 7에 다른 접근 방식이 도시되지만, 이 실시예는 단지 반향문제에 대한 유일한 해결책이 아님을 인식하여야 한다. 도 7은 316 스테인리스 스틸 원형바 스톡으로 제조된 반사기의 측면부를 나타낸다. 직경(100)은 약 1.5인치(3.81㎝)이며, 일단(one end)은 30°각도로 밀링되고, 양단(both end) 모두 부드러운 마감제로 다듬어진다(sanded). 초음파 빔은 도면의 오른쪽 반사기에 수직으로 입사하며, 음성의 88%가 반사되고, 12%는 반사기에 진입한다. 반사기의 후면에 도달할 때, 내부 음성빔은 표면의 경사로 인한 각도로 반사된다. 이러한 2차 빔이 전면에 도달할 때, 전면 인터페이스에 약 60°각도에서 입사한다. 스넬의 법칙에 의해, 이러한 음성 빔이 굴절되며, 서스펜션으로 수직에서 약 10°로 진입한다. 이 지연되고 굴절된 빔의 중심부는 반사기로부터 약 2인치(5.1㎝) 만큼에 있는 변환기에 미싱한다(miss). 또한, 변환기의 민감도 패턴(500㎑와 1인치(2.54㎝)의 변환기를 가정)의 메인로브(main lobe)는 8.4°까지만 확장하기 때문에, 변환기에 의해 관측되는 유일한 에코는 전면 반사에 기인한 에코들이다.
반사기에 대하여 변환기의 적절한 정렬(alignment)이 없으면, 위상 소멸효과(phase cancellation effect)가 고주파(20㎒이상)에서 수신된 신호를 왜곡할 것이다. 도 8에 도시된 변환기(102)는 구형 베어링(106);짐벌(gimbal)과 스위벌;swivel)을 모두 제공)에서 보어(bore;104) 내에 탑재된다. 변환기는 초음파 에너지의 펄스에 대하여 송신기로서 동작하며, 그 후, 반사 신호에 대한 수신기로서 동작한다. 베어링(106)은 오링(o-ring;108)으로 플로우 셀에 밀봉된다. 이 오링은 변환기와 나머지 시스템 간에 전기적 음향적 격리의 일부 대책을 제공한다. 음향 잡음의 기계적 소스가 저주파 범위에 있기 때문에, 여기서의 주요 관심사는 변환기에 결합하는 전단 변형파 (shear wave)(모드 변환(mode conversion)에 의해 생성)이다. 변환기(102)와 그의 마운팅(mounting)은 기존 파이프 라인에 볼트결합(bolt)하는 스풀 피스(110)(spool piece)의 일부이며, 장치의 주요부(integral part)가 될 것이다. 반사기(112)는, 도 7에 참조되어 설명된 바와 같이, 변환기에 대향하는 스풀 피스에 배치될 것이다.
도 8의 배치에 대한 대안은 도 9에 도시된 삽입형 프로브(114)이다. 그 프로브는 변환기(102)와 반사기(112) 모두를 포함하며, 볼 밸브(116)의 보어를 통해 기존 처리 스트림으로 삽입될 수 있다. 이 프로브의 매력은 처리가 진행중인 동안 삽입되고 제거될 수 있는 것이다. dl 변환기는 도 8의 실시형태와 같은 송신기와 수신기로서 모두 동작한다.
도 10에 도시된 또다른 배치는 삽입가는 프로브(118)가 초음파 변환기 송신기(120)와 초음파 변환기 수신기(122)를 모두 포함한다. 그 프로브는 점섬으로 도시된 파이프(126) 또는 처리 베셀내의 플렌지 적합(124)에 부착된다. 송신기(120)와 수신기(122)는 서스펜션을 분석하여 클로그되지 않을 만큼 충분히 큰 갭 또는 센싱 체적(128)에 의해 분리된다. 수신 초음파신호는 증폭되어 200㎒대역 광섬유 링크를 통해 컴퓨터(130)에 상주하는 감쇠기와 디지타이저에 전달된다. 또한, 이는 도 8과 도9의 배치에 대한 컴퓨터 접속의 바람직한 방법이다.
주파수 의존 감쇠의 측정을 입자크기분포(PSD)로 변환하기 위해서, 감쇠와입자 크기 사이의 관계를 부여하는 물리적 모델이 요구된다. Allegra-Hawley 모델은 디스퍼젼과 에멀션에 모두 유효하기 때문에 이를 채용하는 것이 유용하다. 이 모델은 주파수와 입자 직경의 함수로서 예상 감쇠를 계산하는 데 사용된다. 미리 계산된(precalculated) 값의 결과 행렬(resulting matrix)은 컴퓨터에 저장된다. 측정이 행해지면, 적합 루틴은 Allegra-Hawley 행렬이 적분되는 PSD를 정의하는 로그노말 파라미터(중앙 값, 스프레드, 및 농도)의 최적 추정치를 결정하기 위해 이용되기 때문에, 결과적인 예상감쇠는 관측된 감쇠와 일치한다. 도 11에 도시된 간략화된 흐름도는 도 2 시스템의 운용 방법의 일 실시예이다. 이는 Allegra-Hawley 모델의 이용을 포함하며, 그 경우, 수용(aqueous) 서스펜션을 묽게하는 데 약 15%이하의 체적 고체농도, 에멀션에 대해서는 약 50%이하의 체적 액체농도로 제한된다. 보다 고농도에서, 하나의 해결책은, Allegra-Hawley를 이용하기 위한 적절한 레벨까지 서스벨션을 묽게하는 자동화된 샘플링 시스템으로 서스펜션을 다루는 것이다. Allegra-Hawley 행렬은, 우선 입자크기분포의 범위에 대하여 오프라인으로 계산되며 그 결과가 컴퓨터(90)에 추후 사용을 위해 저장된다. 초음파 변환기(62)는 펄서(82)에 의해 트리거되며, 그 반사신호는 로그 단계(logarithmic stage;85)를 갖는 증폭기(84)에 의해 수집, 전치증폭되고, 고속 A/D 컴버터(86)로 디지털화된다. 그 디지털화된 신호는 전송 스펙트럼(㏈ 대 주파수)으로 변환되는 제1 반사(A)와 제2 반사(B)를 배치하기 위해 분석된다. 감쇠는 '감쇠=(A-B)/거리'라는 공식에 의해 결정되며, 여기서 거리는 송신기에서 수신기까지 신호의 경로길이이며, 도 2의 반사기 시스템의 경우에는 변환기 면(송신기로서 동작)으로부터 반사기 면까지 그리고 다시 변환기 면으로(수신기로서 동작)의 거리이다. 이러한 처리는 원하지 않는 변환기 출력 변동의 효과를 제거한다. 신호 대 잡음비를 높이기 위해서는, 이 사이클이 약 50번 반복되어 그 50번의 감쇠 스펙트럼이 평균된다. 측정된 평균신호는 예상 감쇠(PSD의 추정치와 저장된 Allegra-Hawley 행렬에 기초)에 비교되어 양호한 적합인지 결정한다. 그 적합이 충분히 양호하지 않으면, 양호한 적합이 획득될 때까지, 추정된 PSD가 조절되고 감쇠와의 비교가 행해진다. 결정된 입자크기분포는 중간크기, 스프레드, 및 농도를 나타내는 출력으로서 표시된다. 측정된 감쇠는 최적의 추정감쇠에 대해 플롯된다.
도 11의 흐름도는 반사를 검색하는 단계를 제거함으로써 (전송 시스템 이용) 도 10의 송신기/수신기 배치 또는 도 1의 종래기술의 배치와 유사한 것을 적응시키기 위해서 조절될 수 있다. 변환기 드리프트(transducer drift)는 하나의 변환기를 이동시키거나 2개의 다른 경로길이로부터의 신호를 비교하는 것과 같은 몇몇 다른 수단에 의해 정정될 수 있다. 변환기에 있어서는 변환기 상의 입자의 신속한 구축(build up)과 안정성은 관심사항이 아니므로, 트리프트에 대한 정정 루틴은 필요하지 않을 수 있다. 또한, 흐름도는 Allegra-Hawley 계산을 경험적 모델로 대체함으로써 20%이상의 입자농도를 갖는 슬러리에 적용하기 변형될 수 있다. 이러한 경험적 추정단계는 알바에 부여된 '629 참조문헌에서 발견된다. 본 발명의 시스템은 입자크기분포가 서브마이크론 입자를 포함하며, 서스펜션이 20% 이상의 체적을 차지하는 입자일 때 특히 유용하다. 이러한 경우, 저주파 초음파 광대역 신호가 채용될 것이다.
입자크기 측정시스템의 하나의 애플리케이션은, CaCO3와 같은 재료가 의도된 용도에 대하여 세밀한 입자로 파쉐되는 밀링 공정이다. 밀링 모니터(milling monitor)의 경우, 도 2와 도 11을 참조하면,
-2인치(5.1㎝) 내부 직경과 초음파 반사기에 대향하여 탑재된 광대역 변환기를 갖는 플로우 셀을 제조하여 그들 간의 물리적 갭이 2인치(5.1㎝)(4인치(10.2㎝)의 음향 경로길이를 부여)가 되도록 하는 단계;
-약 500㎑의 중심주파수와 200㎑에서 800㎑에 이르는 주파수범위에서 광대역 초음파 펄스를 생성하여 이를 서스펜션에 주입하는 단계;
-서스펜션을 통과한 약 500㎑의 중심주파수와 200㎑에서 800㎑에 이르는 주파수범위에서 감쇠된 광대역 초음파 펄스를 수신하는 단계;
-그 수신된 감쇠신호를 감쇠 로그 증폭기 단계로 전치증폭하는 단계;
-디지타이저에 의해 10㎒ 샘플링 레이트로 전치증폭되는 신호를 디지털화하는 단계;
-변환기 평판(facplate) 내에 발생하는 "링잉(ringing)"을 제거하기 위해 디지털화된 신호를 게이팅(gating)하는 단계;
-그 신호에 푸리에 변형(예를 들면, FFT)을 적용하는 단계;
-전치처리되는 신호를 얻기 위해서 물에 대한 베이스라인 신호를 빼는 단계;
-정규화된 감쇠(㏈/in)를 결정하기 위해서 전치처리된 신호를 음향 경로길이로 나누는 단계;
-로그 노말 크기분포를 가정하는 단계;
-추정된 로그노말 파라미터(중간값, 분포폭, 농도)를 이용하여 가정된 PSD를 계산하는 단계;
-계산된 PSD에 기초하여 예측 초음파감쇠를 계산하기 위해서 Allegra-Hawley 모델(또는 다른 이론적 또는 경험적 모델)을 이용하는 단계;
-그 예측 초음파 감쇠의 적합을 관측된 정규화 감쇠와 비교하는 단계. 최적의 적합이 획득될 때까지 로그노말 파라미터의 추정치를 조절하여 반복
-로그노말 파라미터의 최종 추정치에 기초하여 PSD를 추정
유사한 애플리케이션에서는 2인치(5.1㎝) 직경의 플로우 셀(2인치(5.1㎝) 갭)에 탑재된 2개의 변환기(전송모드를 통함)를 이용하여 TiO2의 밀링이 포함된다. 신뢰성있는 이론적 모델이 없을 경우(매우 높은 농도에서의 경우 등), 이 방법은 정규화된 감쇠신호와 그 프로세스 재료에 대하여 다수의 입자크기분호에 대응하는 경험적 감쇠 데이터를 비교함으로써 PSD의 상대적 변화를 측정하기에 적합할 수 있다. 이 방법은 로그 노말 모델 외에도 다른 PSD 모델에 적용될 수 있다는 것이 더 고찰될 수 있다.
입자크기 측정시스템의 다른 애플리케이션은, 입자크기가 변하고 입자들이 15% 이하의 체적을 차지하고 서브마이크로인 묽은 서스펜션, 즉 디스퍼젼에 대한 것이다. 이러한 경우, 고주파 광대역 초음파 신호가 채택된다. 이러한 애플리케이션의 하나가 은 침전 시스템(silver precipitation system)을 나타내는 도 12에 기술된다. 그 시스템은 마스터 배치 용액 탱크(master batch solution tank;150), 서브 배치 웨이 탱크(sub-batch weigh tank;151), 제2 용액탱크(154), 서브배치 침전탱크(sub-batch precipitation tank;152), 필터 및 세척 장치(153), 오프라인 크기측정 장치(155), 및 입자대 파스트(paste) 프로세싱 라인(156)을 포함한다. 은용액의 마스터 배치는 은 질화물와 같은 금속염 용액으로부터 준비되며, 이에 MEA(모노에탄올아민)가 추가되어 에이징과 입자 성장이 발생하는 단계 150에서 용액 A를 형성시킨다. 에이징 프로세스가 원하는 크기의 입자들이 생성될 수 있는 지점에 도달할 때, 은을 침전시키기 위해서 서브배치내에 용액 A를 제거하는 것이 바람직하다. 그 서브 배치는 저울로 달아 분배되고(weigh out) 탱크(152)에 수집되어, 제2 용액탱크(154)에서 용액 B가 추가되어, 환원제의 주어진 양은 감소되고 은 입자 침전된 후, 그 은입자는 필터, 세척되며, 냉동건조되어 파스트와 같은 원하는 최종 물품을 제공하는 공정에서 추후 사용된다. 이 공정의 추가적인 세부사항은 Glicksman에 부여된 '122 참조문헌에서 발견되며, 여기서 참조한다. 종래에는, 원하는 은 입자크기를 달성하기 위해 언제 서브배치를 제거하여야 하는 지를 정확하게 알지 못하였다. 종래에는, 약 16시간의 에이징 기간이 필요한 것으로 인식되었다. 또한, 어떻게 마스터 배치 입자 크기가 다수의 서브 배치가 제거되는 시간 동안에도 계속 변경되는 지를 인식하지 못하였다. 마스터 배치 에이징 입자는 공정 초기에 크기가 변하고 임의의 회수된 샘플(withdrawn sample)은 여전히 반응성이 있어서 정확한 입자크기가 제거된 샘플로부터 획득할 수 없었다. 마스터 배치탱크(150)에서, 본 발명의 입자크기 센싱 시스템을 적용함으로써, 에이징 입자의 감쇠신호와 최종 은 입자크기 간의 관계가 발견되었다.
도 13은 스터된 탱크(stirred tank;150)의 저면 근처에 배치된 도 10의 프로브(118)을 도시한다. 탱크(150) 내의 용액 A의 에이징으로 인한 초음파 감쇠의 변화를 연구하는 실험이 행해졌으며, 이를 탱크(152)로부터 획득된 원하는 은입자 크기에 관련시킨다. 감쇠는 은 질화물 용액에 MEA의 첨가로 개시하여 계속 측정된다. 백그라운드 판독이 탈이온화된 물을 이용하여 취해진다. 프로브는 약 3/4인치(1.9㎝)의 변환기 갭(128;도 10)을 가지고 50㎒에서 동작한다. 또한, 그 프로브는 약 1-3/4인치(4.4.㎝)의 변환기 갭을 가지고 30㎒에서 동작하는 것으로 알려져 있다. 주기적으로, 샘플은 탱크(150)로부터 회수되어 일정 농도의 용액 B와 결합되어 침전에 의해 은입자를 생성시킨다. 이들 은 입자는 추후 SEM을 통해 촬상되며 그 결과 이미지는 은입자 크기를 결정하기 위해 분석된다. 20개의 입자에 대한 입자직경의 표준편차와 평균이 결정하기 위해 이미지들이 NIH이미지 소프트웨어를 이용하여 분석된다.
도 14에서는 감쇠와 크기 데이터가 비교된다. 용액 A에서의 에이징 입자(작은 점으로 도시)의 감쇠가 상승(rise)하고 침전된 은입자의 입자크기의 증가에 대응(평균입자크기를 표현하는 채워진 원(filled circle)과 샘플내의 20개의 입자들의 입자크기 범위를 표현하는 선을 도시)하는 것이 명백하다. 감쇠 스케일은 도면의 좌측에 있으며, 입자크기 스케일은 도면의 우측에 있다. 에이징 시간(즉, 샘플이 회수되어 침전될 때)은 수평축 상에 도시된다. 입자크기의 정상(plateau)이 도달할 때까지 감쇠와 입자 크기는 증가하고 약 180분의 에이징에서 감쇠가 감소한다.
그 테스트는 입자크기 분석시스템이 용액 A의 에이징 프로세스를 모니터할수 있고, 감쇠와 최종 은입자 크기와는 예측가능한 관계가 있다는 것을 나타낸다. 입자크기는 용액 B의 조성을 변경함으로써 조절될 수 있다는 것이 알려져 있다. 종래에는, 이러한 조절은, 하나의 서브배치가 용액 B가 처리되어 장치(155)에서 입자크기가 측정될 때 까지 입자크기가 알려져 있지 않기 때문에, 단지 시행착오에 의해서만 행해질 수 있었다. 따라서, 조절이 다음 서브배치 상에서 행해질 수 있었다. 그럼에도 불구하고, 이러한 조절은, 하나의 서브배치에서 다음 서브배치까지의 에이징 공정이 입자크기를 변경할 수 있기 때문에, 오프될 수 있다. 종종 서브배치는 원하지 않은 입자크기 변동에 대한 보상을 위해서 혼합되어야 하며, 이는 제조공정에 비용과 시간을 증가시킨다. 모니터를 이용하여 에이징 입자크기의 변동을 앎으로써, 서브배치가 마스터 배치로부터 제거되는 것과 관계없이, 용액 B의 조성이 은입자의 입자크기가 비교서 일정하게 유지될 수 있도록 보다 확실하게 결정될 수 있다.
이들 A용액의 측정은 은 입자 플랜트에서 실시간 인라인으로 행해질 수 있다. 도 15는, 단지 약 3시간 후에 초기 에이징 공정이 종료되어, 다수의 서브배치의 캠페인(campaign)이 이전에 필요하다고 고려된 16시간 대신 3시간 후에 개시될 수 있다는 것을 도시한다. 이러한 발견은 플랜트에서의 생산성을 20% 증가시킬 수 있는 단축된 에이징 사이클에 대한 기반을 제공한다. 마스터 배치가 오래되어(age) 감쇠가 도 15에 나타낸 바와 같이 천천히 감소함에 따라, PSD 모니터는 용액 B의 농도를 조절하는데 사용되어 예상가능하고, 일정하게, 서로다른 서브배치로부터 은입자크기를 획득할 수 있도록 특정 서브배치가 증가된다. 또한,각각의 마스터는 다른 마스터 배치와 약간 상이할 수 있으므로, 마스터 배치 마다 에이징 입자크기를 모니터링 함으로써 보상이 행해질 수 있다. 본 발명은, 금, 팔라디움(paladium), 플라타늄 등의 입자를 얻기 위해서 금속염 용액(metal salt solution)으로부터 금속 입자를 침전시키는 공정과 같이, 용액으로부터 입자를 침전시키는 다른 침정 공정에 유용하게 적용될 수 있다.

Claims (20)

  1. 입자크기분포(particle size distribution) 모니터(monitor)에 있어서,
    초음파 에너지의 소스로서 적합하고 액체 내 일정 체적 퍼센트(a percent by volume)의 입자를 함유하는 서스펜션(suspension)과 접촉하도록 배치되는 변환기(transducer) -상기 변환기는 상기 서스펜션을 통해 초음파 에너지를 전송하고, 상기 에너지는 주파수성분의 범위를 포함하는 광대역 펄스를 포함함-;
    초음파 에너지의 수신기로서 적합하고, 상기 서스펜션을 통과한 상기 광대역 범위의 초음파 에너지를 수신하도록 상기 서스펜션과 접촉하도록 배치되는 변환기; 및
    상기 수신기로부터 신호를 수용(accept)하며 상기 서스펜션을 통과시의 상기 광대역 초음파 에너지의 감쇠의 순시 결정을 하기에 적합한 제1 수단을 포함하는 모니터.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 서스펜션의 총 입자크기분포를 나타내는 출력을 개발(develop)하기에 적합한 제2 수단을 더 포함하는 모니터.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 수단은 상기 신호에 대한 로그 전치증폭기(logarithmicpreamplifier)를 포함하는 모니터.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 수단은 상기 신호에 대한 A/D 디지타이저(digitizer), 상기 디지털화된 신호에 대한 FFT 분석기, 및 상기 측정된 감쇠를 나타내는 FFT 데이터의 크기를 획득하기 위한 수단을 포함하며,
    상기 제2 수단은 추정된 PSD를 결정하는 수단, 및 상기 측정된 감쇠와 상기 추정된 PSD를 비교하여 적합도(goodness of the fit)를 결정하는 수단을 포함하는 모니터.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제1 수단은 상기 수신기로부터의 신호가 상기 A/D 디지타이저에 의해 처리되기 전에 상기 수신기로부터의 신호를 압축하는 로그 전치증폭기를 더 포함하는 모니터.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 제1 수단은 상기 수신기로부터의 신호가 상기 A/D 디지타이저에 의해 처리되기 전에 상기 수신기로부터의 신호의 추가적 감쇠를 제어하는 수단을 더 포함하는 모니터.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 초음파 에너지의 소스는, 10% 이상의 체적을 차지하는 입자들을 함유하는 서스펜션에서의 감쇠를 결정하기 위해, 100㎑ 내지 5㎒의 범위의 중심주파수를 갖는 모니터.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 초음파 에너지의 소스는, 15% 이상의 체적을 차지하는 입자들을 함유하는 서스펜션에서의 감쇠를 결정하기 위해, 5㎒ 내지 50㎒의 범위의 중심주파수를 갖는 모니터.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 에너지 빔을 송신하는 상기 변환기와 상기 에너지 빔을 수신하는 상기 변환기는 동일한 변환기이고, 상기 모니터는 상기 변환기에 대향하여 상기 서스펜션 내에 배치되는 반사기를 더 포함하며,
    상기 변환기는 상기 반사기로부터 다수의 에너지 에코(echo)를 수신하고 상기 다수의 에코내의 정보로부터 정정된 감쇠치(corrected attenuation value)를 결정하기에 적합한 모니터.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 서스펜션을 통과시의 상기 초음파 에너지의 감쇠의 순시결정을 행하기에 적합한 상기 제1 수단은, 상기 변환기로부터 원격(remotely) 배치되고 광섬유 케이블에 의해 상기 변환기에 접속되는 컴퓨터인 모니터.
  11. 동적 조건하에서 서스펜션 내의 입자들의 입자크기분포를 모니터하는 방법에 있어서,
    광대역 범위의 주파수 성분을 포함하는 초음파 에너지의 제1 펄스를, 상기 펄스를 감쇠시키는 상기 서스펜션을 통하여 송신하는 단계;
    상기 서스펜션을 통과한 감쇠된 펄스를 수신하는 단계;
    상기 감쇠된 제1 펄스를 나타내는 제1 신호를 개발(develop)하는 단계;
    고속 아날로그/디지털 컨버터로 상기 제1 신호를 디지털화하여 타임 도메인 신호를 형성하는 단계;
    각각의 신호에 대하여, 푸리에 변환을 적용하여 상기 타임도메인 신호를 등가의 주파수 도메인 신호 또는 스펙트럼으로 변환하는 단계; 및
    상기 스펙트럼을 ㏈단위로 변환하여 상기 감쇠를 주파수의 함수로서 표현하는 단계를 포함하는 방법.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 감쇠를 개발하여 상기 서스펜션의 상기 총 입자크기분포를 결정하는 단계와 상기 결정을 출력으로서 제공하는 단계를 더 포함하는 방법.
  13. 제11 항에 있어서,
    상기 서스펜션을 통하여 상기 광대역 범위의 주파수 성분을 포함하는 초음파 에너지의 제1 펄스를 송신하는 상기 단계는, 서브마이크론 입자를 함유하는 서스펜션을 통하여 상기 에너지를 전송하는 단계를 포함하는 방법.
  14. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 펄스를 반사기로 반사하는 단계;
    제1 경로길이(path length)를 통해 진행한 상기 제1 펄스의 제1 에코를 검출하여 상기 제1 에코의 스펙트럼을 결정하는 단계;
    제2 경로길이를 통해 진행한 상기 제1 펄스의 제2 에코를 검출하여 상기 제2 에코의 스펙트럼을 결정하는 단계; 및
    상기 제1 에코 스펙트럼과 상기 제2 에코 스펙트럼의 차를 결정하고, 상기 차를 상기 제1 경로길이와 상기 제2 경로길이의 차로 나누어서 시스템 변동에 대해 정정된 감쇠를 획득하는 단계를 더 포함하는 방법.
  15. 제11 항에 있어서,
    상기 서스펜션을 통하여 광대역 범위의 주파수 성분을 포함하는 초음파 에너지의 제1 펄스를 송신하는 상기 단계는, 입자가 10% 이상의 체적을 차지하는 서스펜션을 통하여 전송하는 단계를 포함하며, 상기 광대역의 상기 제1 펄스는 5㎒ 이하의 중심주파수를 갖는 방법.
  16. 제11 항에 있어서,
    상기 서스펜션을 통하여 광대역 범위의 주파수 성분을 포함하는 초음파 에너지의 제1 펄스를 전송하는 상기 단계는, 입자가 10% 이하의 체적을 차지하는 서스펜션을 통하여 전송하는 단계를 포함하며, 상기 광대역의 상기 제1 펄스는 5㎒ 이상의 중심주파수를 갖는 방법.
  17. 제11 항에 있어서,
    상기 송신과 수신은 0.25인치(0.64㎝) 보다 큰 길이를 갖는 음향 경로(acoustic path)를 따라서 발생하는 방법.
  18. 입자크기 모니터링을 이용하여 입자들을 침전시키는 프로세스를 제어하는 방법에 있어서,
    상기 제11 항의 방법을 반복적용하여 가변 입자크기를 갖는 용액의 마스터 배치(master batch)를 통과시의 초음파 펄스의 감쇠에 대하여 데이터를 연속 수집하는 단계;
    상기 입자크기가 소정의 감쇠치에 도달할 때 신호를 생성하는 단계;
    상기 신호가 생성된 후에 용액의 서브 배치(sub-batch)를 회수하는(withdrawing) 단계;
    상기 회수시에, 상기 측정된 감쇠 신호에 기초하여 상기 회수된 서브 배치에추가할 제2 용액의 농도를 미리 결정하는 단계; 및
    상기 미리 결정된 농도의 제2 용액을 상기 서브 배치에 추가하여 입자를 침전시키는 단계를 포함하는 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 마스터 배치는 금속염 용액이고, 상기 침전되는 입자는 금속 입자인 방법.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 금속염 용액은 은염 용액(silver salt solution)이며, 상기 침전되는 입자는 은 입자인 방법.
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