KR20030075522A - Liquid Crystal Display Device having aligning mark - Google Patents

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KR20030075522A
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박무열
정성수
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display device having align marks is provided to form a plurality of align marks with different patterns to prevent the alignment miss in a sealant doping unit, thereby reducing the sealant doping reject. CONSTITUTION: In a liquid crystal display device, a substrate(100) is formed with align marks(900,900a) of different patterns at both diagonal sides of dummy area for preventing the misalignment. The align marks are formed on a layer formed with gate electrodes.

Description

얼라인 마크를 구비한 액정표시소자{Liquid Crystal Display Device having aligning mark}Liquid crystal display device having an alignment mark {Liquid Crystal Display Device having aligning mark}

본 발명은 액정표시소자(Liquid Crystal Display : LCD)에 관한 것으로서, 보다 구체적으로, 씨일재 도포공정시 기판을 얼라인하기 위해서 기판상에 형성되는 얼라인 마크에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to an alignment mark formed on a substrate in order to align the substrate in a seal material applying process.

표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판(Flat panel)표시소자, 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.Ultra-thin flat panel display devices with a display screen thickness of only a few centimeters (cm). Among them, liquid crystal display devices have low operating voltages, which consume less power and can be used as portable devices. Applications range from ships to spacecraft to aircraft.

이와 같은 액정표시소자는 도 1a에 도시된 바와 같이 박막트랜지스터와 화소전극이 형성되어 있는 하부기판(1), 차광막, 칼라필터층 및 공통전극이 형성되어 있는 상부기판(3), 및 상기 하부기판(1)과 상부기판(3) 사이에 형성된 액정층(5)을 포함하여 구성되어 있다.As shown in FIG. 1A, the liquid crystal display includes a lower substrate 1 on which a thin film transistor and a pixel electrode are formed, an upper substrate 3 on which a light blocking film, a color filter layer, and a common electrode are formed, and the lower substrate ( It comprises a liquid crystal layer 5 formed between 1) and the upper substrate (3).

또한, 상기 액정층(5)이 바깥으로 새는 것을 방지하고 양 기판(1,3)을 접착시키기 위해서 상기 양 기판(1,3) 사이에는 씨일재(7)가 형성되어 있다.In addition, a seal material 7 is formed between the substrates 1 and 3 to prevent the liquid crystal layer 5 from leaking outward and to bond the substrates 1 and 3 to each other.

이와 같은 씨일재(7)는 액정표시소자의 제조시 하부기판(1) 또는 상부기판(3)상에 도포되게 된다.The seal material 7 is applied onto the lower substrate 1 or the upper substrate 3 in the manufacture of the liquid crystal display device.

도 1b는 씨일재(7)가 하부기판(1)상에 도포된 모습을 보여주는 사시도로서, 하부기판(1) 상에는 서로 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선(2)과 데이터배선(4)이 형성되어 있고, 상기 게이트배선과 데이터배선의 교차점에는 박막트랜지스터(6)가 형성되어 있고, 상기 화소영역에는 화소전극(8)이 형성되어 있다.FIG. 1B is a perspective view illustrating a state in which the seal material 7 is applied on the lower substrate 1. The plurality of gate wirings 2 and the data wirings on the lower substrate 1 cross each other in length and width to define pixel regions. (4) is formed, the thin film transistor 6 is formed at the intersection of the gate wiring and the data wiring, and the pixel electrode 8 is formed in the pixel region.

그리고, 상기 화소영역의 외곽부에 씨일재(7)가 도포되어 있다. 이때, 상기 게이트배선 및 데이터배선의 말단부에 형성된 게이트패드(2a) 및 데이터패드(4a)로 인하여 상기 씨일재(7)는 기판의 중앙부를 중심으로 좌우 대칭으로 도포되지 않고, 패드(2a, 4a)가 형성되지 않은 쪽으로 이동되어 도포되게 된다.The seal member 7 is applied to the outer portion of the pixel region. At this time, due to the gate pad 2a and the data pad 4a formed at the end portions of the gate wiring and the data wiring, the seal member 7 is not symmetrically coated around the center of the substrate, and the pads 2a and 4a do not apply. ) Is moved to the unformed side and applied.

대량 생산시, 상기 씨일재를 기판 상의 정확한 위치에 도포하기 위해서 씨일재 도포공정시 기판의 얼라인 공정을 수행한 후 미리 세팅된 패턴으로 씨일재를 도포하게 된다.In mass production, in order to apply the seal material at the correct position on the substrate, the seal material is applied in a preset pattern after performing an alignment process of the substrate during the seal material applying process.

도 2a는 이와 같이 기판을 얼라인 한 후 씨일재를 도포하는 공정을 설명하기 위한 도면으로서, 씨일재 도포장비에 로딩되는 하부기판(1) 상에는 전술한 게이트배선, 데이터배선, 박막트랜지스터, 화소전극 등의 레이어가 형성되어 있고, 또한 모서리 대각부 양쪽에는 얼라인 마크(9)가 형성되어 있다.FIG. 2A is a view for explaining a process of applying a sealing material after aligning the substrate as described above. The above-described gate wiring, data wiring, thin film transistor, and pixel electrode are provided on the lower substrate 1 loaded on the sealing material applying equipment. The back layer is formed, and the alignment mark 9 is formed in both edge diagonal parts.

다만, 도면에는 최외각 게이트 배선(2)과 게이트 패드(2a) 및 데이터 배선(4)과 데이터 패드(4a)만을 도시하였다.However, only the outermost gate wiring 2 and the gate pad 2a, the data wiring 4 and the data pad 4a are shown in the drawing.

이와 같이 얼라인 마크(9)가 형성되어 있는 하부 기판(1)이 씨일재 도포장비에 로딩되게 되면, 상기 얼라인 마크(9)를 이용하여 하부기판(1)을 씨일재 도포 장비에 얼라인 한 후, 미리 세팅된 패턴으로 씨일재 도포공정이 수행되게 된다.When the lower substrate 1 having the alignment mark 9 formed thereon is loaded on the seal material applying equipment, the lower substrate 1 is aligned to the seal material applying equipment by using the alignment mark 9. After that, the sealing material coating process is performed in a preset pattern.

그러나, 종래에는 하부기판(1) 상의 모서리 대각부 양쪽에 형성된 얼라인 마크(9)가 동일한 패턴으로 형성되어 있었다.In the related art, however, the alignment marks 9 formed on both sides of the corner diagonal portions on the lower substrate 1 are formed in the same pattern.

따라서, 액정표시소자의 제조라인에 따라 기판의 회전공정이 수없이 행해지고 이에 따라 기판이 180°회전되어 씨일재 도포장비에 들어오게 되더라도 양쪽의 얼라인 마크가 동일한 패턴으로 형성되어 있어서 그와 같은 오류를 인식할 수 없었다.Therefore, according to the manufacturing line of the liquid crystal display device, the substrate is rotated many times, and even though the substrate is rotated by 180 ° to enter the seal material applying equipment, the alignment marks on both sides are formed in the same pattern, and such an error is caused. Could not be recognized.

결국, 도 2b에서 알 수 있듯이, 실제로 하부기판(1)이 180°회전되어 들어왔음에도 불구하고 정확히 얼라인 되었다고 인식하여 미리 세팅된 바와 같이 씨일재(7)를 도포하게 됨으로써 불량을 유발하게 되었다.As shown in FIG. 2B, even though the lower substrate 1 is actually rotated 180 °, it is recognized as being correctly aligned, and thus the seal material 7 is applied as previously set, thereby causing a defect. .

이상은 하부기판 상에 씨일재를 도포하는 경우에 대해서만 설명하였으나, 상부기판 상에 씨일재를 도포하는 경우에도 동일한 문제가 발생된다.Although only the case of applying the seal material on the lower substrate described above, the same problem occurs when applying the seal material on the upper substrate.

즉, 상부기판 상에 씨일재를 도포하는 경우에도 상부기판의 중앙부를 중심으로 대칭으로 씨일재가 도포되는 것이 아니라, 전술한 바와 같이 하부기판의 패드 영역에 대응하는 영역만큼 이동하여 씨일재를 도포하게 된다.That is, even when the seal material is applied on the upper substrate, the seal material is not symmetrically applied about the center portion of the upper substrate, and as described above, the seal material is moved by an area corresponding to the pad region of the lower substrate to apply the seal material. do.

따라서, 얼라인 마크가 상부기판의 모서리 양쪽에 동일한 패턴으로 형성된경우 전술한 문제점이 발생된다.Therefore, the above-described problem occurs when the alignment mark is formed in the same pattern on both edges of the upper substrate.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판이 씨일재 도포장비에 정확히 얼라인 되도록 하여 기판 상에 씨일재가 정확히 도포될 수 있도록 하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to ensure that the seal material is correctly applied on the substrate so that the substrate is exactly aligned with the seal material coating equipment.

도 1a는 일반적인 액정표시소자의 개괄적 단면도이다.1A is a schematic cross-sectional view of a general liquid crystal display device.

도 1b는 종래의 씨일재가 도포된 하부기판을 보여주는 사시도이다.1B is a perspective view illustrating a lower substrate to which a conventional seal material is applied.

도 2a 및 도 2b는 종래의 얼라인 마크가 구비된 액정표시소자용 기판에 씨일재를 도포할 때 발생되는 씨일재 도포불량을 설명하기 위한 도면으로서, 도 2a는 정상적으로 도포된 경우를 도시한 것이고, 도 2b는 불량으로 도포된 경우를 도시한 것이다.FIG. 2A and FIG. 2B are diagrams for describing a sealing material coating defect generated when applying a sealing material to a liquid crystal display device substrate having a conventional alignment mark, and FIG. 2A illustrates a case where the coating material is normally applied. 2b shows a case where the coating is performed in a bad manner.

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 얼라인 마크가 구비된 액정표시소자용 기판의 사시도이다.3A is a perspective view of a substrate for a liquid crystal display device with an alignment mark according to an embodiment of the present invention.

도 3b는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 얼라인 마크가 구비된 액정표시소자용 기판의 사시도이다.3B is a perspective view of a substrate for a liquid crystal display device having an alignment mark according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 다양한 패턴의 얼라인 마크를 도시한 것이다.4 illustrates alignment marks of various patterns according to the present invention.

도 5a는 본 발명에 따른 얼라인 마크가 구비된 액정표시소자용 하부기판을 도시한 사시도이다.5A is a perspective view illustrating a lower substrate for a liquid crystal display device having an alignment mark according to the present invention.

도 5b는 도 5a의 A-A'라인의 단면도이다.FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 5A.

도 6a는 본 발명에 따른 얼라인 마크가 구비된 액정표시소자용 상부기판을도시한 사시도이다.6A is a perspective view illustrating an upper substrate for an LCD having an alignment mark according to the present invention.

도 6b는 도 6a의 B-B'라인의 단면도이다.FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 6A.

<도면의 주요부에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

2, 300 : 게이트배선 4, 400 : 데이터배선2, 300: Gate wiring 4, 400: Data wiring

6, 600 : 박막트랜지스터 7 : 씨일재6, 600 thin film transistor 7: seal material

8, 800 : 화소전극 9, 900, 900a : 얼라인마크8, 800 pixel electrodes 9, 900, 900a: alignment mark

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 기판; 및 상기 기판 상의 더미 영역에 서로 다른 패턴으로 복수개 형성된 얼라인 마크를 구비한 액정표시소자를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a substrate; And an alignment mark formed in plural in different patterns in the dummy region on the substrate.

즉, 본 발명은 기판 상에 서로 다른 패턴을 갖는 복수개의 얼라인 마크를 형성함으로써 씨일재 도포장비에서 얼라인 미스가 발생되지 않도록 한 것이다.That is, the present invention forms a plurality of alignment marks having different patterns on the substrate so that alignment misses do not occur in the seal material coating equipment.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시소자용 기판의 사시도이다.3A is a perspective view of a substrate for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 3a에서 알 수 있듯이, 기판(100)상의 더미 영역의 대각부 양쪽에는 서로 다른 패턴의 얼라인 마크(900, 900a)가 형성되어 있다. 여기서 더미 영역은 액정표시소자의 제조공정중 셀절단공정에서 제거되는 영역을 말한다.As can be seen in FIG. 3A, alignment marks 900 and 900a having different patterns are formed on both diagonal portions of the dummy region on the substrate 100. In this case, the dummy region refers to a region removed in the cell cutting process of the liquid crystal display device.

도 3a에는 기판(100)의 좌측 상단과 우측 하단에 각각 얼라인 마크(900, 900a)가 형성되어 있으나, 기판(100)의 좌측 하단과 우측 상단에 얼라인 마크를 형성하는 것도 가능하다.In FIG. 3A, alignment marks 900 and 900a are formed at the upper left and lower right sides of the substrate 100, but alignment marks may be formed at the lower left and upper right sides of the substrate 100.

또한, 상기 얼라인 마크(900)는 얼라인 미스를 방지하기 위해서 기판(100)상의 대각부 양쪽에 서로 다른 패턴이 형성되면 충분하다. 따라서, 도 4에 도시된 바와 같이, +형, ×형, ??형, ??형, ??형, ??형 등 다양한 패턴을 다양하게 조합하여 형성할 수 있다.In addition, the alignment mark 900 is sufficient if different patterns are formed on both sides of the diagonal portion on the substrate 100 to prevent misalignment. Therefore, as shown in FIG. 4, various patterns such as + type, × type, ?? type, ?? type, ?? type, ?? type, and the like may be formed in various combinations.

도 3b는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 액정표시소자용 기판의 사시도이다.3B is a perspective view of a substrate for a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 3b에서 알 수 있듯이, 얼라인 마크(900, 900a)는 기판(100)상의 더미 영역의 모서리 네 영역에 형성되어 있다.As shown in FIG. 3B, the alignment marks 900 and 900a are formed at four corners of the dummy region on the substrate 100.

이때, 도면에는 기판(100)의 상측 양 모서리에 동일한 패턴의 얼라인 마크(900)가 형성되어 있고, 하측 양 모서리에 상측 패턴과 상이한 패턴의 얼라인 마크(900a)가 형성되어 있으나, 기판(100)상의 좌측 양 모서리에 동일한 패턴의 얼라인 마크를 형성하고, 우측 양 모서리에 좌측 패턴과 상이한 얼라인 마크를 형성하는 것도 가능하다.In this case, the alignment marks 900 of the same pattern are formed at both upper corners of the substrate 100, and the alignment marks 900a of the pattern different from the upper pattern are formed at both lower corners of the substrate 100. It is also possible to form alignment marks of the same pattern on both left corners on 100) and to form alignment marks different from the left pattern on both right corners.

또한, 기판(100) 상의 모서리 네 영역에 각각 상이한 패턴의 얼라인 마크를 형성하는 것도 가능하다.In addition, it is also possible to form alignment marks of different patterns on the four corners of the substrate 100.

이와 같은 얼라인 마크(900, 900a)의 패턴은 도 4에 도시된 바와 같이 다양하게 변경하여 형성할 수 있다.The patterns of the alignment marks 900 and 900a may be variously changed as shown in FIG. 4.

이상 설명한 기판 상에 형성된 얼라인 마크는 씨일재 도포장비에서 기판을 정확히 얼라인하기 위한 마크이다. 한편, 씨일재는 제품모델에 따라 액정표시소자의 하부기판에 형성될 수도 있고, 상부기판에 형성될 수도 있다. 따라서, 전술한 얼라인 마크가 형성된 기판은 액정표시소자용 하부기판 또는 상부기판일 수 있다.The alignment mark formed on the substrate described above is a mark for accurately aligning the substrate in the seal material coating equipment. Meanwhile, the seal material may be formed on the lower substrate of the liquid crystal display device or may be formed on the upper substrate according to the product model. Therefore, the substrate on which the aforementioned alignment mark is formed may be a lower substrate or an upper substrate for the liquid crystal display device.

이하에서는 얼라인마크가 액정표시소자용 하부기판에 형성된 경우와 상부기판에 형성된 경우를 나누어 설명하기로 한다.Hereinafter, the case in which the alignment mark is formed on the lower substrate for the liquid crystal display device and the case on the upper substrate will be described.

도 5a는 얼라인 마크가 액정표시소자용 하부기판에 형성된 경우를 도시한 사시도이다.5A is a perspective view illustrating a case in which an alignment mark is formed on a lower substrate for a liquid crystal display device.

도 5a와 같이, 하부기판(200)상에는 서로 종횡으로 교차되어 화소영역을 정의하는 복수개의 게이트배선(300) 및 데이터배선(400)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 게이트배선(300)과 데이터배선(400)의 교차점에는 게이트전극, 게이트절연막, 반도체층, 소스/드레인전극을 포함하는 박막트랜지스터(600)가 형성되어 있고, 상기 화소영역에는 화소전극(800)이 형성되어 있다.As shown in FIG. 5A, a plurality of gate wirings 300 and data wirings 400 are formed on the lower substrate 200 to cross each other in a vertical direction to define a pixel area. A thin film transistor 600 including a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, and a source / drain electrode is formed at the intersection of the gate wiring 300 and the data wiring 400, and the pixel electrode ( 800 is formed.

상기 반도체층 위에는 오믹콘택층이 추가로 형성될 수 있고, 또한, IPS모드의 경우는 공통전극이 하부기판(200) 상에 형성될 수 있다.An ohmic contact layer may be further formed on the semiconductor layer, and in the case of IPS mode, a common electrode may be formed on the lower substrate 200.

그리고, 상기 하부기판(200)의 더미영역의 대각부 양쪽에는 서로 다른 패턴의 얼라인 마크(900, 900a)가 형성되어 있다. 상기 얼라인 마크는 전술한 바와 다양한 형태로 변경 형성될 수 있다.In addition, alignment marks 900 and 900a having different patterns are formed on both sides of the diagonal portion of the lower substrate 200. The alignment mark may be changed and formed in various forms as described above.

이와 같은 얼라인 마크(900, 900a)는 상기 게이트배선(300) 및 게이트 전극을 형성할 때 패터닝하여 형성되게 된다.The alignment marks 900 and 900a may be formed by patterning the gate lines 300 and the gate electrode when the alignment marks 900 and 900a are formed.

따라서, 도 5b(도 5b는 도 5a의 A-A'라인의 단면도)에서 알 수 있듯이, 상기 얼라인 마크(900, 900a)는 상기 게이트 전극(610)과 동일층에 형성되게 된다.Therefore, as shown in FIG. 5B (FIG. 5B is a cross-sectional view along the line A-A 'of FIG. 5A), the alignment marks 900 and 900a are formed on the same layer as the gate electrode 610. FIG.

도 5b에서 설명되지 않은 도면부호 620은 게이트절연막이고, 630은 반도체층이고, 640은 소스전극이고, 650은 드레인전극이며, 660은 보호막이다.Reference numeral 620 not described in FIG. 5B is a gate insulating film, 630 is a semiconductor layer, 640 is a source electrode, 650 is a drain electrode, and 660 is a protective film.

도 6a는 얼라인 마크가 액정표시소자용 상부기판에 형성된 경우를 도시한 사시도이다.6A is a perspective view illustrating a case in which an alignment mark is formed on an upper substrate for a liquid crystal display device.

도 6a와 같이, 상부기판(300)상에는 상기 게이트배선, 데이터배선, 및 박막트랜지스터 형성영역으로 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광층(500)(도면의 빗금영역)이 형성되어 있고, 상기 차광층(500) 위에 컬러필터층(700)이 형성되어 있다. 또한, 도시하지는 않았으나, 상기 컬러필터층(700) 위에 오버코트층 및/또는 공통전극이 형성될 수 있다.As shown in FIG. 6A, a light shielding layer 500 (hatched region in the drawing) is formed on the upper substrate 300 to block light leakage into the gate wiring, data wiring, and thin film transistor forming regions. The color filter layer 700 is formed on the layer 500. Although not shown, an overcoat layer and / or a common electrode may be formed on the color filter layer 700.

그리고, 상기 상부기판(300)의 더미영역의 대각부 양쪽에는 서로 다른 패턴의 얼라인 마크(900, 900a)가 형성되어 있다. 상기 얼라인 마크는 전술한 바와 다양한 형태로 변경 형성될 수 있다.In addition, alignment marks 900 and 900a of different patterns are formed on both sides of the diagonal portion of the upper substrate 300. The alignment mark may be changed and formed in various forms as described above.

이와 같은 얼라인 마크(900, 900a)는 차광층(500)을 형성할 때 패턴닝하여 형성되게 된다.Such alignment marks 900 and 900a may be formed by patterning the light blocking layer 500.

따라서, 도 6b(도 6b는 도 6a의 B-B라인의 단면도)에서 알 수 있듯이, 상기 얼라인 마크(900, 900a)는 상기 차광층(500)과 동일층에 형성되게 된다.Therefore, as shown in FIG. 6B (FIG. 6B is a cross-sectional view of the B-B line of FIG. 6A), the alignment marks 900 and 900a are formed on the same layer as the light blocking layer 500.

이상 설명한 본 발명에 따른 얼라인 마크는 씨일재를 정확히 도포하기 위해 액정표시소자용 기판에 형성되는 것이므로, 얼라인 마크가 형성된 본 발명에 따른 액정표시소자용 기판 상에는 씨일재가 도포되게 된다. 또한, 상기 씨일재가 도포된 기판 및 그와 대향하는 기판은 그 사이에 액정이 개입되어 하나의 액정표시소자를 구성하게 된다.Since the alignment mark according to the present invention described above is formed on the liquid crystal display element substrate in order to accurately apply the seal material, the seal material is applied onto the liquid crystal display element substrate according to the present invention in which the alignment mark is formed. In addition, the substrate to which the seal material is applied and the substrate facing the seal material form a single liquid crystal display device with a liquid crystal interposed therebetween.

이상, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 설명하였으나, 본 발명은 상기실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 범위내에서 변경 실시될 수 있을 것이다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, It can be changed and implemented within the range which is obvious to a person skilled in the art to which this invention belongs. .

상기 구성에 의한 본 발명에 따른 액정표시소자는 기판 상에 서로 다른 패턴을 갖는 복수개의 얼라인 마크를 형성함으로써 씨일재 도포장비에서 얼라인 미스가 발생되지 않아 씨일재 도포 불량률이 감소되게 된다.In the liquid crystal display device according to the present invention having the above configuration, by forming a plurality of alignment marks having different patterns on the substrate, alignment miss is not generated in the seal material coating equipment, thereby reducing the seal material coating failure rate.

Claims (7)

기판; 및Board; And 상기 기판 상의 더미 영역에 서로 다른 패턴으로 복수개 형성된 얼라인 마크를 구비한 액정표시소자.And a plurality of alignment marks formed in a plurality of patterns in a dummy area on the substrate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 얼라인 마크는 상기 기판 상의 대각부 양쪽에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The alignment mark is formed on both sides of the diagonal portion on the substrate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 얼라인 마크는 상기 기판 상의 모서리 네 영역에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the alignment mark is formed at four corners of the substrate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판 상에 게이트전극, 게이트절연막, 반도체층, 오믹콘택층, 소스/드레인 전극으로 이루어진 박막트랜지스터, 및 화소전극이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a thin film transistor comprising a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, an ohmic contact layer, a source / drain electrode, and a pixel electrode on the substrate. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 얼라인 마크는 상기 게이트전극과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And the alignment mark is formed on the same layer as the gate electrode. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판 상에 차광층 및 컬러필터층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.A light shielding layer and a color filter layer are formed on the substrate. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 얼라인 마크는 상기 차광층과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The alignment mark is formed on the same layer as the light blocking layer.
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