KR20030069509A - 조명장치가 마련된 반도체 설비의 로드락 챔버 - Google Patents

조명장치가 마련된 반도체 설비의 로드락 챔버 Download PDF

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KR20030069509A
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문성환
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    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Abstract

본 발명은 조명장치가 마련된 반도체 설비용 로드락챔버에 관한 것이다.
반도체 설비의 로드락 챔버에 있어서, 상기 로드락챔버는 그 내부를 조명하도록 로드락챔버의 내부 일측에 설치된 램프와; 상기 램프의 온/오프 동작을 행하도록 상기 로드락챔버의 외부에 설치된 스위치를 포함한다.
상술한 바와 같이 구성함에 따라 로드락챔버의 내부 상태를 외부에서 작업자가 쉽게 확인 할 수 있게 되어 웨이퍼 불량율을 줄임과 아울러 수율을 향상시키는 이점을 갖는다.

Description

조명장치가 마련된 반도체 설비의 로드락 챔버{LOADLOCK CHAMBER HAVING ILLUMINATION APPARATUS OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT}
본 발명은 반도체 설비의 로드락챔버에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상기 로드락챔버의 내부를 조명하는 조명수단을 마련하여 그 내부 확인을 용이하게 하도록 하는 조명장치가 마련된 반도체 설비용 로드락챔버에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조설비는 웨이퍼 공정을 수행하기 위한 복수개의 공정챔버가 구비되고, 이 공정챔버는 고 진공을 유지하므로 웨이퍼는 대기상태에서 로드락챔버를 통해 고 진공 상태의 공정챔버내로 이송되도록 되어 있다.
즉, 로드락챔버의 일측 외부에는 복수개의 엘리베이터가 구비되어있고, 이 엘리베이터에는 다수 매의 웨이퍼가 적재된 카세트가 놓여지게 된다. 따라서, 로드락챔버의 내부를 대기상태로 만들어 엘리베이터로 통하는 입구를 통해 카세트에 적재된 웨이퍼를 로봇이 로드락챔버 내로 이송시킨다. 그 후 엘리베이터와 통하는 도어를 닫고, 로드락챔버 내부를 공정챔버 내의 진공상태와 가깝게 만든 다음 로드락챔버와 공정 챔버의 사이의 도어를 열고 웨이퍼를 공정챔버내로 이송시키게 되고, 이어서 공정챔버 내부의 온도를 공정온도로 상승시켜 웨이퍼에 고정을 수행을 하게 된다.
그러나, 상술한 바와 같은 구성에서 로드락 챔버를 통해 다수의 웨이퍼가 로딩된 카세트를 로딩한 후에는 로드락챔버의 도어를 닫도록 되어 있는데, 이때, 상기 로드락챔버 내부가 너무 어두워 카세트 및 웨이퍼의 상태를 관찰하기가 매우 힘들다는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출 된 것으로서, 본 발명의 목적은 로드락챔버의 내부를 조명하도록 하여 작업자가 로드락챔버 내부의 상태를 확인할 수 있도록 하는 조명장치가 마련된 반도체 설비용 로드락챔버를 제공하는 데 있다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 반도체 설비의 로드락 챔버에 있어서, 상기 로드락챔버는 그 내부를 조명하도록 로드락챔버의 내부 일측에 설치된 램프와; 상기 램프의 온/오프 동작을 행하도록 상기 로드락챔버의 외부에 설치된 스위치를 포함한다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 의한 로드락챔버가 적용된 화학기상증착설비의 구성을 개략적으로 도시한 도면,
도 2는 상기 도 1의 로드락챔버의 구성을 개략적으로 도시한 요부 분리 사시도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 공정챔버5 : 로드락챔버
9 : 트랜스퍼암13 : 얼라이너
15 : 쿨링챔버17 : 도어
21 : 램프23 : 스위치
이하 첨부된 도면 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시 예에 의한 구성 및 작용에 대해서 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 의한 로드락챔버가 적용된 낱장타입의 화학기상증착장비의 구성을 개략적으로 도시한 도면으로서, 도면에 도시된 바와 같이 웨이퍼에 공정을 수행하기 위한 복수개의 공정챔버(1)가 구비되어 있고, 이 공정챔버(1)는 고진공을 유지하므로 웨이퍼는 대기상태에서 로드락챔버(5)를 통해 고진공상태의 공정챔버(1)내로 이송되도록 되어 있다.
상기 공정챔버(1) 및 로드락챔버(5)가 배치된 중앙부에는 각 챔버로부터 웨이퍼를 로딩/언로딩시키는 트랜스퍼암(9)이 설치되며, 상기 트랜스퍼암(9)이 설치된 부분 역시 챔버(11)를 이루어 진공상태를 유지하도록 구성된다.
상기 로드락챔버(5)의 일측에는 상기 로드락챔버(5)를 통해 공급되는 웨이퍼의 플랫존부를 얼라인먼트하여 상기 공정챔버(1)로 공급되는 웨이퍼의 위치를 정확하게 하는 얼라이너(13)가 설치되고, 상기 로드락챔버(5)의 일측에는 상기 공정챔버(1)를 통해 고온의 분위기에서 소정의 공정과정을 마친 웨이퍼를 냉각시키는 냉각챔버(15)가 설치된다.
상기 로드락챔버(5)는 도 2에 도시된 바와 같이 그 일측에 다수매의 웨이퍼를 수납시킨 카세트(미도시)가 공급되도록 개구(5a)가 마련되고, 그 개구(5a)에는 도어(17)가 설치되고, 상기 도어(17)의 내부에는 상기 로드락챔버(5)의 내부를 확인할 수 있는 뷰포트(19a)가 마련된 뷰포트도어(19)가 설치된다.
또한, 상기 로드락챔버(5)의 내부에는 전원이 공급됨에 따라 상기 로드락챔버(5)의 내부를 조명하는 램프(21)가 설치되고, 상기 로드락챔버(5)의 외부에는 상기 램프(21)의 전원을 온/오프하는 스위치(23)가 마련된다.
상기 램프(21)의 위치는 상기 웨이퍼의 이송상태를 잘 표시할 수 있도록 트랜스퍼암(9)이 인입되어 이송되어지는 위치에 설치함이 가장 바람직 할 것이다.
상술한 바와 같이 로드락챔버(5)의 내부에 램프(21)를 설치함에 따라 작업자가 도어(17)가 닫혀진 상태에서도 쉽게 내부를 확인할 수 있게 되어 웨이퍼 불량률을 줄일 수 있게 된다.
즉, 로드락챔버(5)는 미 처리된 웨이퍼를 트랜스퍼암(9)에 의해 공정챔버(1)로 공급하고, 또한, 공정챔버(1)를 통해 처리된 웨이퍼가 다시 로딩되는 곳으로서, 트랜스퍼암(9)의 인출·입동작이 가장 빈번히 행해지는 곳이다.
따라서, 웨이퍼 브로큰 등의 이유로 인한 대량 웨이퍼 불량 발생률이 가장 큰 부분이다.
이러한 점을 고려할 때 램프(21)에 의해 로드락챔버(5) 내부를 조명할 수 있도록 구현함에 따라 작업자가 그 로드락챔버(5)의 내부를 쉽게 관찰 할 수 있게 되어 웨이퍼 이송상태를 보다 쉽게 관찰 가능하게 되는 것이다.
상술한 바와 같이 본 발명은 로드락챔버의 내부에 램프를 설치하여 상기 로드락챔버의 내부 상태를 외부에서 작업자가 쉽게 확인 할 수 있게 되어 웨이퍼 불량율을 줄임과 아울러 수율을 향상시키는 이점을 갖는다.
이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.

Claims (1)

  1. 반도체 설비의 로드락 챔버에 있어서,
    상기 로드락챔버는 그 내부를 조명하도록 로드락챔버의 내부 일측에 설치된 램프와;
    상기 램프의 온/오프 동작을 행하도록 상기 로드락챔버의 외부에 설치된 스위치를 포함하는 것을 특징으로 하는 조명장치가 마련된 반도체 설비용 로드락챔버.
KR1020020009317A 2002-02-21 2002-02-21 조명장치가 마련된 반도체 설비의 로드락 챔버 KR20030069509A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101484774B1 (ko) * 2013-03-04 2015-01-21 김영삼 폴리카보네이트에 일체로 형성된 엘이디를 이용하여 챔버 내부의 시인성을 향상시킨 반도체 공정 챔버용 클리어 리드

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