KR20030005208A - 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 포함하는 국소 화장물 - Google Patents

2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 포함하는 국소 화장물 Download PDF

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KR20030005208A
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자콥 피터 레이
윌리암 존콕
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하르만 운트 라이머 게엠베하
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Abstract

창의적인 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그의 염은 매우 우수한 티로시나제 저해제로서 국소 화장제, 특히 화장 또는 피부과 피부 미백제에서의 활성성분이다.

Description

2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 포함하는 국소 화장물 {TOPICAL COSMETIC AGENTS CONTAINING 2-HYDRAZINO-1,3-HETEROAZOLES}
본 발명은 국소 화장 조성물, 특히 화장품 또는 피부과 응용을 위한 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 포함하는 화장품용 또는 피부과용 피부 미백 조성물에 관한 것이다.
피부 미백 활성 성분은 보통 멜라닌 신진대사 또는 이화작용에 의해 간섭받는다. 통상 갈색 내지 검은색인 멜라닌은 피부의 멜라노사이트(melanocyte)에서 형성되어, 케라티노사이트(keratinocyte)로 전이되고, 피부 또는 모발의 착색을 야기한다. 흑갈색의 유멜라닌(eumelanin)는 포유류에서 주로 L-티로신 및 L-DOPA와 같은 히드록시 치환 방향족 아미노산으로부터 주로 생성되고, 황색 내지 적색인 피오멜라닌(pheomelanin)은 황 함유 분자에서 추가로 생성된다(Cosmetics & Toiletries1996, 111(5), 43-51). L-티로신으로부터 출발하여, 구리를 함유하는 핵심 효소인 티로시나제는 L-3,4-디히드록시페닐알라닌(L-DOPA)를 만들고, 그것은 다시 티로시나제에 의해 산화되어 적갈색의 도파퀴논을 거쳐 멜라닌이 된다. 식물, 진균류 및 포유류 세포로부터의 티로시나제를 비교하면, 그 메카니즘 및 기질 특이성은 조사된 모든 티로시나제에서 대등하다는 것을 알 수 있다.
몇가지 이유때문에 멜라민을 형성하는 멜라노사이트가 인간 피부에 고루 분포되지 않는다면, 피부의 주위 부분보다 밝거나 또는 어두운 색소침착 반점(pigmentation spot)이 형성된다. 이러한 문제를 극복하기 위해 색소침착 반점을 적어도 부분적으로 고르게 하는 것을 돕는 피부 미백 조성물이 시장에 나오고 있다. 게다가, 많은 사람들은 그들의 원래의 어두운 피부 색깔을 밝아지게 하고 싶은 욕구를 가지고 있다. 매우 안전하고 효과적인 피부 미백 조성물이 이러한 목적으로 요구된다. 많은 피부 미백 조성물은 강하거나 또는 약한 강도의 티로시나제 저해제를 포함하고 있다.
시판되는 피부 미백 조성물에는 히드로퀴논, 예를 들면 알부틴(arbutin)같은 히드로퀴논 유도체, 비타민 C, 예를 들면 아스코르빌 팔미테이트 같은 아스코르브산 유도체, 코직산 및 예를 들면 코직산 디팔미테이트 같은 코직산 유도체가 특히 사용된다(Cosmetics & Toiletries 1996, 111(5), 43-51).
가장 빈번히 사용되는 피부 미백제 중 하나가 히드로퀴논이다. 그러나, 그 물질은 멜라노사이트에 대한 세포독성효과를 갖고 있고 피부에 상해를 줄 수 있다. 이러한 이유로, 그러한 제제는 예를 들면, 일본 및 남아프리카에서는 더이상 화장 용도로 허용되고 있지 않다. 게다가, 히드로퀴논은 매우 산화민감성이고, 화장 조성물중에서 안정화시키기가 매우 어렵다.
비타민 C 및 아스코르브산 유도체는 피부에 부적절한 작용을 할 뿐이다. 게다가, 그들은 티로시나제 저해제로서 직접 작용하는 것이 아니라, 멜라민 생합성의 유색 중간체를 감소시킨다.
코직산(5-히드록시-2-히드록시메틸-4-피란논)은 티로시나제의 구리원자를 킬레이션하여 그 효소의 촉매 활성을 저해하는 티로시나제 저해제로 시판되는 피부 미백 조성물에서 사용된다. 그 물질은 아스페르질루스(Aspergillus) 배양물에서 주로 형성되고, 오직 소량으로 분리될 수 있다. 게다가, 코직산은 수용액에서 불안정하고, 따라서 대부분 화장 조성물에서 불안정하다(Cosmetics & Toiletries1999, 9, p.27).
본 발명의 목적은 제조가 쉽고 비싸지 않고 효과가 좋은 티로시나제 저해제를 포함하는, 국소 화장 조성물, 특히 화장품용 또는 피부과용 피부 미백 조성물을 찾는 것이다.
본 발명은 따라서 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 국소 화장 조성물을 제공한다.
(여기서, Z는 황원자 또는 산소원자 또는 -NH이고,
X는 질소원자, 또는 Q2로 치환된 탄소원자 C-Q2이고,
Q1및 Q2는 서로 독립적으로 수소원자; 임의적으로 히드록실 또는 알킬옥시 치환된 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬, 알케닐, 1-옥소알킬 또는 1-옥소알케닐기; 6 내지 15개의 탄소원자를 갖는 임의적으로치환된 아릴기; 2 내지 15개의 탄소원자 및 산소원자, 질소원자 또는 황원자로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 갖는 임의적으로 치환된 헤테로시클릴기; 7 내지 16개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴알킬 또는 아릴-1-옥소알킬기; 할로겐 원자; 니트로기; 또는 -COOR5, -OR5, -NR5R6, -SO2OR5, -SO2NR5R6또는 -PO(OR5)(OR6)이거나, 또는
Q1및 Q2가 함께 화학식(II)의 라디칼이고,
X1, X2및 X3는 서로 독립적으로 질소원자 또는 각각 라디칼 R1, R2또는 R3를 갖는 탄소원자이고,
R1,R2,R3및 R4는 서로 독립적으로 수소원자; 임의적으로 히드록실 또는 알킬옥시 치환된 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬, 알케닐, 1-옥소알킬 또는 1-옥소알케닐기; 6 내지 15개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴기; 2 내지 15개의 탄소원자 및 산소원자, 질소원자 또는 황원자로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 갖는 임의적으로 치환된 헤테로시클릴기; 7 내지 16개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴알킬 또는 아릴-1-옥소알킬기; 할로겐 원자; 니트로기; 또는 -COOR5, -OR5, -NR5R6, -SO2OR5, -SO2NR5R6또는 -PO(OR5)(OR6)이고,
R5및 R6는 서로 독립적으로 수소원자, 임의적으로 히드록실 또는 알킬옥시 치환된 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬, 알케닐, 1-옥소알킬 또는 1-옥소알케닐기, 6 내지 15개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴기, 7 내지 16개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴알킬 또는 아릴-1-옥소알킬기이다.)
본 발명에 따른 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸은 또한 그의 토토머 형태일 수도 있다.
비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬기는 1 내지 18개, 바람직하게는 1 내지 8개, 특히 바람직하게는 1 내지 6개의 탄소원자를 포함할 수 있다. 언급될 수 있는 예는 메틸, 에틸, 1-프로필, 2-프로필, 1-부틸, 2-부틸, tert-부틸, 2-메틸, 2-메틸프로프-1-일, 시클로프로필, 시클로프로필메틸, 2,2-디메틸시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 및 메틸펜틸의 다양한 위치 이성질체이다.
비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알케닐기는 2 내지 18개, 바람직하게는 2 내지 8개, 특히 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소원자를 포함할 수 있다. 언급될 수 있는 예는 에테닐, 1- 또는 2-프로페닐, 1-,2- 또는 3-부테닐, 2-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐, 1,3-부타디엔닐, 1,3-펜타디엔닐, 1,4-펜테닐, 2,4-펜테닐, 펜테닐, 헥센닐 라디칼의 각각의 다양한 직쇄, 시클릭 또는 분지쇄 이성질체이다. 특히 바람직한 것은 에테닐, 1- 또는 2-프로페닐, 1-, 2- 또는 3-부테닐, 2-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐, 3-메틸-1-펜테닐, 3-메틸-2-펜테닐, 3-메틸-3-펜테닐, 시클로펜테닐, 시클로펜타디엔닐, 시클로헥사디엔닐 및 시클로헥센닐이다.
비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 1-옥소알킬기는 1 내지 18개, 바람직하게는 1 내지 8개, 특히 바람직하게는 1 내지 5개의 탄소원자를 포함할 수 있다. 언급될 수 있는 예는 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 2-메틸프로피오닐, 부타노일, 2-메틸부타노일, 3-메틸부타노일, 2,2-디메틸프로피오닐, 시클로프로필카르복실이다.
비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 1-옥소알케닐기는 3 내지 18개, 바람직하게는 3 내지 8개, 특히 바람직하게는 3 내지 5개의 탄소원자를 포함할 수 있다. 언급될 수 있는 예는 프로프-2-에노일, 2-메틸프로프-2-에노일, 2-에틸프로프-2-에노일, E- 또는 Z-2-부테노일, 3-부테노일, E- 또는 Z-2-메틸부트-2-에노일, E- 또는 Z-3-메틸부트-2-에노일, Z- 또는 E-2-펜텐노일, Z- 또는 E-3-펜텐노일이다.
6 내지 15개, 바람직하게는 6 내지 10개의 탄소원자를 갖는 아릴기는 예를 들어 페닐 및 나프틸일 수 있다.
고리에 산소원자, 질소원자 또는 황원자로부터 선택된 하나 이상의 원자 및 2 내지 15개의 탄소원자를 갖는 헤테로시클릴기는 일반적으로 1 내지 3개, 바람직하게는 1 또는 2개의 5원 또는 6원 고리로 구성되어 있다. 헤테로시클릴기는 바람직하게 1 내지 4개, 특히 바람직하게 1 또는 2개의 헤테로원자를 포함한다. 바람직한 것은 푸란, 피롤, 티오펜, 인돌, 이소인돌, 벤조푸란, 이소벤조푸란, 벤조티오펜, 이소벤조티오펜, 피라졸, 이미다졸, 1,3- 또는 1,2-옥사졸, 1,3- 또는 1,2-티아졸, 1,3- 또는 1,2-벤즈이미다졸, 1,3- 또는 1,2-벤즈옥사졸, 1,3- 또는 1,2-벤조티아졸, 피리딘, 피리미딘, 피라진, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-옥사진, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-티아진, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 벤조-1,2-, -1,3- 또는 -1,4-디아진 또는 그의 부분적으로 또는 완전히 포화된 유도체, 예를 들면 테트라히드로푸란, 1,3-디옥솔란, 피롤리딘, 피롤린, 1,3- 또는 1,4-디옥산, 피페리딘, 테트라히드로-2H-피란, 피페라진, 옥시란 또는 아지리딘이다. 특히 바람직한 것은 푸란, 피롤, 인돌, 이미다졸, 1,3-티아졸, 1,3-벤조티아졸, 피리딘, 피리미딘, 퀴놀린, 이소퀴놀린 또는 그의 부분적으로 또는 완전히 포화된 유도체, 예를 들면 테트라히드로푸란, 1,3-디옥솔란, 피롤리딘, 1,3- 또는 1,4-디옥산, 피페리딘, 또는 테트라히드로-2H-피란이다.
아릴알킬기는 6 내지 15개, 바람직하게는 7 내지 8개의 탄소원자로 구성될 수 있고, 예를 들면, 벤질, 2- 또는 1-페닐에틸일 수 있다.
아릴-1-옥소알킬기는 6 내지 15개, 바람직하게는 7 내지 8개의 탄소원자로 구성될 수 있고, 예를 들면, 벤조일, 페닐아세틸일 수 있다.
아릴, 아릴알킬, 아릴-1-옥소알킬 및 헤테로시클릴기의 치환체는 예를 들어, 수소원자, 알킬, 히드록실, 알킬옥시, 티오, 알킬티오, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 니트로, 요오드, 브롬, 불소, 염소, 아지도, 티오시아네이토, 이소티오시아네이토, 시아네이토, 이소시아네이토, 니트릴, 이소니트릴, 포스페이트, 알킬포스페이트, 디알킬포스페이트, 설폰산, 알킬설포네이트, 설폰아미드, 디알킬설폰아미드 또는 알킬설폰아미드 라디칼이다. 특히 바람직한 것은 수소원자, 알킬, 히드록실, 알킬옥시, 아미노, 디알킬아미노, 브롬, 불소, 염소, 니트릴, 설폰산, 설폰아미드 또는 알킬설포네이트 라디칼이다.
본 발명에 따른 2-히드라지노-1,3-벤조헤테로아졸은 바람직하게 화장품용 또는 피부과용 피부 미백제로 사용된다.
바람직한 것은, 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-벤조헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 국소 화장 조성물로 주어졌다.
<화학식I>
(여기서, Z는 황원자 또는 산소원자 또는 -NH이고,
X는 질소원자, 또는 Q2로 치환된 탄소원자 C-Q2이고,
Q1및 Q2는 서로 독립적으로 수소원자; 메틸, 트리플루오로메틸, 에틸, tert-부틸, 알릴, 3-메틸부트-2-엔-1-일 또는 아세틸기; 염소 또는 불소원자; 니트로기; -COOR5; -OR5; -NR5R6; -SO2OR5; -SO2NR5R6; -PO(OR5)(OR6); 알킬, 히드록실, 알킬옥시, 아미노, 디알킬아미노, 브롬, 불소, 염소, 니트릴, 설폰산, 설폰아미드 또는 알킬설포네이트 라디칼에 의해 임의적으로 방향족이 치환된 페닐, 피리딜, 피라지닐기; 페닐메틸 또는 벤조일기이거나, 또는
Q1및 Q2가 함께 화학식(II)의 라디칼이고,
<화학식 II>
X1, X2및 X3는 각각 라디칼 R1, R2또는 R3를 갖는 탄소원자이고,
R1,R2,R3및 R4는 서로 독립적으로 수소원자, 메틸, 트리플루오로메틸, 에틸, tert-부틸, 알릴, 3-메틸부트-2-엔-1-일 또는 아세틸기; 페닐, 피리딜, 피라지닐기; 페닐메틸, 4-메틸페닐메틸, 4-메톡시페닐메틸 또는 벤조일기; 염소 또는 불소원자; 니트로기; -COOR5, -OR5, -NR5R6, -SO2OR5, -SO2NR5R6또는 -PO(OR5)(OR6)이고,
R5및 R6는 서로 독립적으로 수소원자; 메틸, 트리플루오로메틸, 에틸, tert-부틸, 알릴, 3-메틸부트-2-엔-1-일, 아세틸, 프로피오닐 또는 피발로일기; 페닐, 피리딜, 피라지닐기; 페닐메틸, 4-메틸페닐메틸, 4-메톡시페닐메틸 또는 벤조일기이다.)
활성 성분으로 2-히드라지노-1,3-벤조티아졸, 5,6-디메톡시-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸, 6-메톡시-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸, 2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-5-설폰산,2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-6-설폰산, 6-tert-부틸-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸, 6-메틸-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸, 2-히드라지노티아졸로[5,4-b]피리딘, 2-히드라지노-1,3-벤족사졸, 2-히드라지노-1H-벤즈이미다졸, 2-히드라지노-5-(4-플루오로페닐)-1,3,4-티아디아졸, 2-히드라지노-4-페닐-1,3-티아졸, 2-히드라지노-4-메틸-1,3-티아졸 염산염을 포함하는 국소 화장 조성물이 특히 바람직하다.
그 일부가 공지된 2-히드라지노-1,3-티아졸은 예를 들어, 문헌[Organic Preparations and Procedures Int.1974, 6(4), 179-182]에 설명된 방법에 따라 2-아미노-1,3-티아졸로부터 제조할 수 있다. 2-아미노-1,3-티아졸은 예를 들어, 그에 대응하는 아닐린 또는 헤테로시클릭 아민으로부터 무기 티오시아네이트염과의 반응 및 뒤이은 N-아릴티오우레아의 산화적 고리 닫힘반응(J. Indian Chem. Soc. 1989, 66, 39-41)에 의해 합성될 수 있다. 본 발명에 따른 2-히드라지노-1,3-옥사졸은 예들 들어 문헌[J. Amer. Chem. Soc. 1953, 75, 712]에 설명된 방법에 따라 합성될 수 있다. 본 발명에 따른 2-히드라지노-1,3-이미다졸의 제조 방법은 예들 들어 독일특허 DE 614,327에 설명되어 있다. 본 발명에 따른 2-히드라지노-1,3-벤조티아졸은 예를 들어 임의적으로 치환된 아닐린으로부터 출발하여 포타슘, 소듐 또는 암모늄 티오시아네이트와 반응시키고, 이어서, 염소-, 브롬- 또는 요오드 매개의 산화적 고리 닫힘과 최종적으로 히드라진 또는 히드라진 수화물과의 반응을 통해 합성할 수 있다.
그 제조 방법은 이하의 반응식에 의해 예시적 예인 2-히드라지노-6-tert-부틸-1,3-벤조티아졸과 관련하여 설명될 수 있다.
놀랍게도, 본 발명자들은 본 발명에 따른 국소 화장 조성물에 존재하는 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸이 특히 효과적인 티로시나제 저해제라는 것을 밝혀냈다. 특히, 본 발명에 따른 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸중 많은 물질이 코직산의 효과와 동등하거나 더 우수한 효과를 가졌다. 신규의 치환되고 벤조-융합된 2-히드라지노-1,3-티아졸 또는 치환된 2-히드라지노-1,3,4-티아디아졸이 특히 적당하다. 그들은 따라서 화장품용 또는 피부과용 피부 미백 조성물의 활성 성분으로 사용될 수 있다.
2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 포함하는 본 발명에 따른 국소 화장 조성물, 특히, 화장품용 또는 피부과용 피부 미백 조성물은 그 자체로 알려진 통상적인 방법에 의해 화학식(I)의 신규한 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그것의 염 하나 이상을 통상적인 조성을 갖는 화장품 또는 피부과 조성물에 포함시킴으로써 제조되고, 피부 미백 작용외에 또한 피부 및(또는) 모발의 치료, 보호, 관리 및 세정하는 작용을 하고, 화장용 화장품중 메이크업 제품으로서 작용할 수 있다.
본 발명에 따른 국소 화장 조성물은 유효량의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸및 임의적인 다른 성분을 포함한다. 조성물의 총 중량을 기준으로 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 0.001중량% 내지 30중량%, 바람직하게는 0.001 내지 20중량%, 특히 0.001중량% 내지 5중량% 포함하고, W/O(water-in-oil), O/W(oil-in-water), W/O/W(water-in-oil-in-wate) 또는 O/W/O(oil-in-water-in-oil) 에멀젼, 마이크로에멀젼, 젤, 예를 들면, 오일, 알콜 또는 실리콘 오일중의 용액, 스틱, 에어로졸, 스프레이 및 또한 다른 폼(foam) 형태일 수 있다. 게다가 통상적인 화장용 보조제 및 첨가제는 조성물 총 중량을 기준으로 5 내지 99.999중량%, 바람직하게는 10 내지 80중량%의 양으로 존재할 수 있다. 게다가, 조성물은 조성물 총 중량을 기준으로 99.999중량%까지, 바람직하게는 5 내지 80중량%의 물을 가질 수 있다.
본 발명에 따른 국소 화장 조성물, 특히 화장품용 및 피부과용 피부 미백 조성물을 제조하기 위해서, 추가의 한 실시태양에서, 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸은 예를 들면 천연 또는 합성 왁스(예를 들면 밀납, 카나우바 왁스, 실리콘 왁스 또는 스테아릴 알콜, 에이코산올(eicosanol), 세틸알콜, 스테아린 또는 파라핀 왁스) 또는 젤라틴으로 만들어진 적절한 매트릭스로 된 캡슐, 나노구 또는 마이크로구, 리포좀(예를 들어, 포스파티딜콜린으로부터 출발)내에 포함될 수 있다.
본 발명에 따른 국소 화장 조성물, 특히 화장품용 및 피부과 피부 미백 조성물은 그러한 제조에서 통상적으로 사용되는 화장용 보조제 및 첨가제, 예를 들면 일광 차단제 (예를 들면, 유기 또는 무기 광 필터 물질, 바람직하게는 마이크로안료), 보존제, 살세균제, 살진균제, 살바이러스제, 냉각제, 식물 추출물, 항염 활성성분, 상처 치료를 가속시키는 물질 (예를 들면, 키틴 또는 키토산 및 그들의 유도체), 필름 형성 물질(예를 들면, 폴리비닐피롤리돈 또는 키토산 또는 그의 유도체), 통상적인 산화방지제, 비타민(예를 들면, 비타민 C 및 유도체, 토코페롤 및 유도체, 비타민 A 및 유도체), 2-히드록시카르복실산(예를 들면, 시트르산, 말산, L-,D- 또는 dl-락트산), 퍼퓸, 소포제, 염료, 착색 작용을 갖는 안료, 증점제(thickner), 계면활성 물질, 유화제, 에몰리언트, 습윤제(humectant) 및(또는) 보습제(예를 들면, 글리세롤 또는 우레아), 지방, 오일, 불포화 지방산 또는 그의 유도체(예를 들면, 리놀레산, α-리놀렌산, γ-리놀렌산 또는 아라키드산 및 각 경우에 있어 그것의 천연 또는 합성 에스테르), 왁스 또는 화장품용 또는 피부과용 조성물의 다른 통상적인 성분, 예를 들면 알콜, 폴리올, 폴리머, 거품 안정제, 전해질, 유기용매, 실리콘 유도체 또는 킬레이팅제(예를 들면, 에틸렌디아민테트라아세트산 및 유도체)를 포함할 수 있다.
각 경우에 사용되는 화장품용 또는 피부과용 보조제 및 첨가제 및 퍼퓸의 양은 문제되는 생성물의 성질에 따라, 당업자에 의해, 단순한 탐구 실험에 의해 쉽게 결정될 수 있다.
사용을 위해서, 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 포함하는 본 발명에 따른 국소 화장 조성물, 특히 화장품용 또는 피부과용 피부 미백 조성물은 화장품에서 통상적으로 사용되는 방법으로 충분한 양으로 피부 및(또는) 모발에 적용된다.
바람직하게는, 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 본 발명에 따른 국소 화장 조성물은 다른 피부 미백 활성 성분을 또한 포함할 수 있다. 특히, 본 발명에 따른 국소 화장 조성물은 또한 하나 이상의 방향족 히드록실 또는 알콕시기를 갖는 벤즈알독심, 코직산, 코직산 유도체, 아스코르브산, 아스코르브산 유도체, 히드로퀴논, 히드로퀴논 유도체, 황 함유 분자(예를 들면, 글루타티온 또는 시스테인) 또는 기타 합성 또는 천연 피부미백 활성성분을 포함할 수 있고, 후자를 식물 추출물(예를 들면, 토코페롤 및 유도체, 알부틴(예를 들면, 월귤나무 추출물로부터의), 알로에신(예를 들면, 알로에 추출물로부터의), 그레이프 프루트 추출물 및 쌀 추출물)의 형태로 사용하는 것도 가능하다.
본 발명에 따른 피부 미백 조성물 중, 본 발명에 따른 국소 화장 조성물중에 존재하는 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸과 일치하지 않는, 예로서 주어진, 상기 언급된 다른 피부 미백 활성성분(하나이상의 화합물)의 양은 조성물의 총 중량을 기준으로 0.001 내지 30중량%, 바람직하게는 0.001 내지 20중량%, 특히 바람직하게는 0.001 내지 5중량%일 수 있다.
일광 차단제 형태이기도 한 국소 화장 조성물, 특히 화장 및 피부과 피부 미백 조성물이 특히 바람직하다. 유효량의 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸에 추가하여, 이러한 것들은 일광 차단제 물질, 바람직하게는 유기 또는 무기 광 필터 물질, 특히 마이크로안료를 또한 포함한다. 본 발명에 따른 표백 조성물은 피부 및 모발에 일광 차단을 제공 하는 UVA 및(또는) UVB 필터 물질 또한 포함할 수 있고, 필터 물질의 총량은 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 30중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10중량%일 수 있다. 사용될 수 있는 UV 필터 물질의 예는 3-벤질리덴캄포르 유도체(예를 들면, 3-(4-메틸벤질리덴)-dl-캄포르), 아미노벤조산 유도체(예를 들면, 2-에틸헥실 4-(N,N-디메틸아미노)벤조에이트 또는 메틸 안트라닐레이트), 4-메톡시 신나메이트(예를 들면, 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트 또는 이소아밀 p-메톡시신나메이트), 벤조페논 (예를 들면, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논), 모노- 또는 폴리설폰화된 UV 필터 [예를 들면, 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산, 설리조벤존(sulisobenzone), 또는 1,4-비스(벤즈이미다졸릴)-벤젠-4,4',6,6'-테트라설폰산 및 3,3'-(1,4-페닐렌디메틸리덴)-비스-(7,7-디메틸-2-옥소-비시클로-[2,2,1]헵탄-1-메탄설폰산) 및 그의 염], 살리실레이트 (예를 들면, 2-에틸헥실 살리실레이트 또는 호모멘틸 살리실레이트), 트리아진 {예를 들면, 2,4-비스-[4-(2-에틸헥실록시)-2-히드록시-페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 비스-(2-에틸헥실) 4,4'-([6-([1,1-디메틸에틸)아미노카르보닐]페닐아미노)-1,3,5-트리아진-2,4-디일]디이미노)-비스벤조에이트, 2-시아노프로펜산 유도체(예를 들면, 2-에틸헥실 2-시아노-3,3-디페닐-2-프로페노에이트), 디벤조일 유도체(예를 들면, 4-tert-부틸-4'-메톡시-디벤조일메탄), 폴리머가 결합된 UV 필터(예를 들면, N-[2-(또는 4)-(2-옥소-3-보닐리덴)메틸]벤질아크릴아미드의 폴리머) 또는 안료 (예를 들면, 이산화티타늄, 이산화지르코늄, 산화철, 이산화실리콘, 산화망간, 산화알루미늄, 산화세륨 또는 산화아연)이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시태양에서, 산화방지제 또는 자유 라디칼 스캐빈저가 또한 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 국소 화장 조성물에 또한 존재할 수 있다. 본 발명에 따라, 사용될 수 있는 바람직한 산화방지제는 화장품 및(또는) 피부과 응용에 적합하고 통상적인 모든 산화방지제이다. 산화방지제는 아미노산 (예를 들면, 글리신, 히스티딘, 3,4-디히드록시페닐알라닌, 티로신, 트립토판) 및 그의 유도체, 이미다졸 (예를 들면, 우로칸닌산) 및 그의 유도체, 펩티드(D,L-카르노신, D-카르노신, L-카르노신, 안세린) 및 그의 유도체, 카로텐노이드, 카로텐 (예를 들면, β-카로텐, α-카로텐, 리코펜) 및 그의 유도체, 클로로젠산 및 그의 유도체, 리포산 및 그의 유도체, 아우로티오글루코즈, 프로필티오우라실 및 다른 티올 (예를 들면, 티오레독신, 글루타티온, 시스테인, 시스틴, 시스타민 및 글리코실 및 그의 N-아실 유도체 또는 그의 알킬에스테르) 및 그의 염, 디라우릴 티오디프로피온네이트, 디스테아릴 티오디프로피온네이트, 티오디프로피온산 및 그 유도체 및 페놀릭 벤질아민의 페놀산 아미드(예를 들면, 호모바닐산 아미드, 3,4-디히드록시페닐아세트산 아미드, 페룰산 아미드, 시나프산 아미드, 카페산 아미드, 디히드로페룰산 아미드, 디히드로카페산 아미드, 바닐로만델산 아미드 또는 3,4-디히드록시벤질아민의 3,4-디히드록시만델산 아미드, 2,3,4-트리히드록시벤질아민 또는 3,4,5-트리히드록시벤질아민), 카테콜 옥심 또는 카테콜 옥심 에테르 (예를 들면, 3,4-디히드록시벤즈알독심 또는 3,4-디히드록시벤즈알데히드 O-에틸옥심) 및 (금속) 킬레이팅제 (예를 들면, 2-히드록시 지방산, 피트산, 락토페린), 훔산, 담즙산, 담즙 추출물, 빌리루빈, 빌리베르딘, 폴산 및 그 유도체, 우비퀴논 및 우비퀴놀 및 그의 유도체, 비타민 C 및 그의 유도체(예를 들면, 아스코르빌 팔미테이트, 마그네슘 아스코르빌 포스페이트, 아스코르빌 아세테이트), 토코페롤 및 유도체 (예를 들면, 비타민 E 아세테이트), 비타민 A 및 유도체 (예를 들면, 비타민 A 팔미테이트), 루틴산 및 그 유도체, 플라보노이드 (예를 들면, 퀘르세틴, 글루코실루틴) 및 그 유도체, 페놀산 (예를 들면, 갈산, 페룰산) 및 그 유도체 (예를 들면, 프로필 갈레이트, 에틸 갈레이트, 옥틸 갈레이트), 푸르푸릴리덴글루시톨, 부틸히드록시톨루엔, 부틸히드록시안니솔, 우르산 및 그 유도체, 만노스 및 그 유도체, 아연 및 그 유도체 (예를 들면, ZnO, ZnSO4), 셀렌늄 및 그 유도체 (예를 들면, 셀레노메티오닌), 스틸벤 및 그 유도체 (예를 들면, 스틸벤 옥시드, 레스베라트롤) 및 본 발명에 따라 적합한 이러한 상기 활성 성분의 유도체로 구성된 그룹으로부터 이롭게 선택된다.
본 발명에 따른 국소 화장 조성물중의 상기 언급된 산화방지제 (하나 이상의 화합물)의 양은 바람직하게 제제의 총 중량을 기준으로 0.001 내지 30중량%, 특히 바람직하게 0.01 내지 10중량%, 특히 바람직하게 0.01 내지 5중량%이다.
화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 본 발명에 따른 국소 화장 조성물중의 지질상은 이하의 물질 그룹으로 부터 이롭게 선택된다 : 미네랄 오일 (이롭게는 파라핀 오일), 미네랄 왁스, 탄화수소 (이롭게는 스쿠알란 또는 스쿠알렌), 합성 또는 반합성 트리글리세리드 오일(예를 들면, 카프르산 또는 카프릴산의 트리글리세리드), 천연 오일 (예를 들면, 피마자 오일, 올리브 오일, 해바라기 오일, 대두 오일, 땅콩 오일, 평지씨앗 오일, 아몬드 오일, 팜유, 코코낫유, 팜핵유, 보라지오일 등), 천연 에스테르 오일(예를 들면, 호호바 오일), 합성 에스테르오일 (바람직하게는 3 내지 30개의 탄소원자를 갖는 포화 및(또는)불포화, 직쇄 및(또는) 분지쇄 알칸카르복실산과 3 내지 30개의 탄소원자를 갖는 포화 및(또는) 불포화 직쇄 및(또는) 분지쇄 알콜과의 에스테르 및 방향족 카르복실산과 3 내지 30개의 탄소원자를 갖는 포화 및(또는) 불포화, 직쇄 및(또는) 분지쇄 알콜과의 에스테르, 특히 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 스테아레이트, 이소프로필 팔미테이트, 이소프로필 올레에이트, n-부틸 스테아레이트, n-헥실 라우레이트, n-데실 라우레이트, 이소옥틸 스테아레이트, 이소노닐 스테아레이트, 이소노닐 이소노나노에이트, 2-에틸헥실 팔미테이트, 2-에틸헥실 라우레이트, 2-헥실데실 스테아레이트, 2-옥틸데실 팔미테이트, 올레일 올레에이트, 올레일 에루세이트, 에루실 올레에이트, 에루실 에루케이트 및 그러한 에스테르의 합성 또는 천연혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택됨), 지방, 왁스 및 다른 천연 및 합성 지방물질, 바람직하게는 지방알콜과 저탄소수의 알콜 (예를 들면 이소프로판올, 프로필렌 글리콜 또는 글리세롤)과의 에스테르, 또는 지방 알콜과 저탄소수의 알칸산과의 또는 지방산과의 에스테르, 알킬 벤조에이트 (예를 들면, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실 및 n-펜타데실 벤조에이트) 및 시클릭 또는 직쇄형 실리콘 오일 (예를 들면, 디메틸폴리실록산, 디에틸폴리실록산, 디페닐폴리실록산 및 그들의 혼합된 형태).
화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 본 발명에 따른 국소 화장 조성물의 수상(aqueous phase)은 임의적으로 이롭게 저탄소수의 알콜 디올 또는 폴리올, 및 그의 에테르, 바람직하게는 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 글리세롤, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노에틸 또는 모노부틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 모노에틸 에테르 또는 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 또는 모노에틸 에테르 및 유사한 생성물 및 저탄소수의 알콜, 예를 들면 에탄올, 이소프로판올, 1,2-프로판디올, 글리세롤, 및 특히, 이산화 규소, 알루미늄 실리케이트, 폴리사카리드 및 그 유도체, 예를 들면, 히알루론산, 크산탄검, 히드록시프로필메틸셀룰로즈로 구성되는 그룹으로부터, 특히 이롭게는 폴리아크릴레이트의 그룹, 특히, 바람직하게는 카보폴(Carbopol)의 그룹으로부터의 폴리아크릴레이트인의 그룹으로부터 이롭게 선택된 것, 각각의 경우 개별적으로 또는 복합적으로, 또는 폴리우레탄의 그룹으로부터 이롭게 선택될 수 있는 증점제를 포함할 수 있다.
실시예 1 : "O/W" 에멀젼
부분 원료물질명(제조자) 화학명 함량(중량%)
A 알라톤(Arlatone) 983 S(등록상표) (ICI) 폴리에틸렌 글리콜과 글리세릴 모노스테아레이트의 에테르 1.2
브리즈(Brij) 76(등록상표) (ICI) 3,6,9,12,15,18,21,24,27,30,33,36-데카옥사옥타테트라콘탄-1-올 1.2
쿠티나(Cutina) MD(등록상표) (헨켈) 글리세릴 모노스테아레이트 3.5
베이실론에올(Baysiloneeol) M10(등록상표) (GE 바이엘) 폴리디메틸실록산 0.8
유탄올(Eutanol) G(등록상표) (헨켈) 옥틸도데칸올 3.0
파라핀 오일 65cp (헨리 람모트) 미네랄 오일 8.0
부분 원료물질명(제조자) 화학명 함량(중량%)
B 증류수 49.6
펜노피프(Phenopip)(등록상표) (니파 래보라토리스) 2-페녹시에탄올 및 메틸 4-히드록시벤조에이트 및 에틸 4-히드록시벤조에이트 및 프로필 4-히드록시벤조에이트 및 부틸 4-히드록시 벤조에이트 0.5
트릴론(Trilon) BD(등록상표) (바스프) 디소듐 EDTA 0.1
1,2-프로필렌 글리콜 2.0
글리세롤 99% 3.0
2-히드라지노-1,3-벤조-티아졸-5-설폰산 0.2
C 증류수 25.0
카보폴 2050(등록상표) (비.에프.굳리히) 가교된 아크릴산/C10-C30-알킬 아크릴레이트 폴리머 0.4
수산화나트륨 수용액 10% 1.2
D 퍼퓸 오일 0.3
A부분을 혼합하고, 80℃까지 가열했다. B부분을 혼합하고 90℃까지 가열하고, 교반하며 A부분에 첨가하였다. C부분의 경우, 카보폴을 조심스럽게 물중에 분산시키고, 수산화나트륨 용액(pH 6.9)로 중화시켰다. C부분을 60℃에서 A부분 및 B부분의 혼합물에 첨가했다. D부분을 상온에서 A,B 및 C부분의 혼합물에 첨가했다.
실시예 2 : UV A/B 광역대보호능을 가진 "W/O" 일광 차단 에멀젼
부분 원료물질명(제조자) 화학명 함량(중량%)
A 디히물스(Dehymuls) PGPH(등록상표) (헨켈) 폴리글리세롤-2-디폴리히드록시-스테아레이트 3.0
모노물스(Monomuls) 90-O 18(등록상표) (헨켈) 글리세릴 올레에이트 1.0
퍼물긴(Permulgin) 2550(등록상표) (코스터 코이넨 홀랜드) 밀납 1.0
미리톨(Myritol) 318(등록상표) (헨켈) 카프릴릭/카프릭 트리글리세리드 6.0
위트콘놀(Witconol) TN(등록상표) (Witco) C12-C15-알킬 벤조에이트 6.0
세티올(Cetiol) SN(등록상표) (헨켈) 세틸 및 스테아릴 이소노나노에이트 5.0
부분 원료물질명(제조자) 화학명 함량(중량%)
A 코페롤(Copherol) 1250(등록상표) (헨켈) 토코페롤 아세테이트 1.0
솔브롤(Solbrol) P(등록상표) (바이엘) 프로필-4-히드록시벤조에이트 0.1
네오 헬리오판(Neo Heliopan)(등록상표) AV (하르만 & 라임머) 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트 4.0
네오 헬리오판(등록상표) E-1000 (하르만 & 라임머) 이소아밀 p-메톡시신나메이트 4.0
네오 헬리오판(등록상표) MBC (하르만 & 라임머) 3-(4-메틸벤질리덴)-dl-캄포르 2.0
네오 헬리오판(등록상표) OS (하르만 & 라임머) 2-에틸헥실 살리실레이트 3.0
옥틸트리아존 1.0
중성 산화아연 (하르만 & 라임머) 7.0
B 증류수 39.8
트릴론BD(등록상표) (바스프) 디소듐 EDTA 0.1
페녹시에탄올 0.7
솔브롤 M (바이엘) 메틸 4-히드록시벤조에이트 0.2
글리세롤 99% 4.0
네오 헬리오판(등록상표) 히드로 (하르만 & 라임머) 15% (나트륨염으로) 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산 10.0
벤조페논-4 0.5
2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-5-설폰산 0.2
C 퍼퓸 오일 0.3
비자볼(Bisabol) 0.1
A부분의 경우, 산화아연을 제외한 모든 물질을 85℃까지 가열하고, 산화아연을 그 혼합물에 조심스럽게 분산시켰다. B부분의 성분을 혼합하고, 85℃까지 가열하고, 교반하며 A부분에 첨가했다. C부분을 A 및 B부분의 혼합물에 첨가하고, 그 혼합물을 분산장비를 사용하여 균질화했다.
실시예 3 : UV A/B 광역대보호능을 가진 "O/W" 일광 차단 에멀젼
부분 원료물질명(제조자) 화학명 함량(중량%)
A 알라셀(Arlacel) 165(등록상표) (ICI) 글리세릴 스테아레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 100 스테아레이트 3.0
에멀진(Emulgin) B2(등록상표) (헨켈) 세테아레스-20 1.0
란네트(Lanette) O(등록상표) (헨켈) 세틸 및 스테아릴 알콜 1.15
미리톨 318(등록상표) (헨켈) 카프릴릭/카프릭 트리글리세리드 5.0
세티올 SN(등록상표) (헨켈) 세틸 및 스테아릴 이소노나노에이트 4.0
아빌(Abil)(등록상표) (골드슈미트) 폴리디메틸실록산 1.0
벤톤(Bentone) 겔 MIO(등록상표) (레옥스) 미네랄 오일 및 쿼터늄-18 헥토리트 및 프로필렌 카르보네이트 3.0
쿠티나 CBS(등록상표) (헨켈) 글리세릴 스테아레이트 및 세틸알콜 및 스테아릴 알콜 및 세틸 팔미테이트 및 코코글리세리드 2.0
네오 헬리오판(등록상표) 303 (하르만 & 라임머) 2-에틸헥실 2-시아노-3,3-디페닐-2-프로페노에이트 7.0
네오 헬리오판(등록상표) BB (하르만 & 라임머) 2-히드록시-4-메톡시벤조페논 1.0
네오 헬리오판(등록상표) MA (하르만 & 라임머) 멘틸 안드란닐레이트 3.0
2-에틸헥실-N,N-디메틸-4-아미노-벤조에이트 3.0
미세 이산화티타늄 5.0
B 증류수 55.65
트릴론 BD(등록상표) (바스프) 디소듐 EDTA 0.1
비검 울트라(Veegum ultra)(등록상표) (반더빌트) 마그네슘 알루미늄 설페이트 1.0
나트로졸(Natrosol) 250 HHR (아쿠아론) 히드록시메틸셀룰로우즈 0.3
글리세롤 3.0
펜노피프(등록상표) (니파 래보라토리스) 2-페녹시에탄올 및 메틸 4-히드록시벤조에이트 및 에틸 4-히드록시벤조에이트 및 프로필 4-히드록시벤조에이트 및 부틸 4-히드록시 벤조에이트 0.3
2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-5-설폰산 0.2
C 퍼퓸 오일 0.3
A부분의 경우, 이산화티타늄을 제외한 모든 물질을 혼합하고, 85℃까지 가열했다; 이산화티타늄을 이 혼합물에 조심스럽게 분산시켰다. B부분의 경우, 비검 및 나트로졸을 제외한 모든 물질을 혼합하고, 90℃까지 가열하고, 나트로졸 및 비검을 그 혼합물에 분산시켰고, 이것을 교반시키며 A부분에 첨가했다. C부분을 A 및 B부분의 혼합물에 첨가하고, 그 혼합물을 분산장비를 사용하여 균질화했다.
실시예 4 : UV A/B 광역대보호능을 가진 "O/W" 일광 차단 에멀젼
부분 원료물질명(제조자) 화학명 함량(중량%)
A 크로다포스(Crodaphos) MCA(등록상표) (크로다) 세틸 포스페이트 1.50
쿠티나 MD(등록상표) (헨켈) 글리세릴 스테아레이트 2.0
라네트 16(등록상표) (헨켈) 세틸 알콜 1.2
미리톨 318(등록상표) (헨켈) 카프릴릭/카프릭 트리글리세리드 5.0
세티올 SN(등록상표) (헨켈) 세틸 및 스테아릴 이소노나노에이트 5.0
코페롤 1250(등록상표) (헨켈) 토코페롤 아세테이트 0.5
솔브롤 P(등록상표) (바이엘) 프로필-4-히드록시벤조에이트 0.1
아빌 100(등록상표) (골드슈미트) 폴리디메틸실록산 0.3
트릴론 BD(등록상표) (바스프) 디소듐 EDTA 0.1
네오 헬리오판(등록상표) HMS (하르만 & 라임머) 3,3,5-트리메틸시클로헥실살리실레이트 5.0
네오 헬리오판(등록상표) 357(하르만 & 라임머) 부틸메톡시디벤조일메탄 2.0
B 증류수 47.6
1,3-부틸렌 글리콜 3.0
솔브롤 M(등록상표) (바이엘) 메틸 4-히드록시벤조에이트 0.2
페녹시에탄올 0.7
카보폴 ETD 2050(등록상표) (비.에프.굳리히) 아크릴산/C10-C30-알킬-아크릴레이트 코폴리머 0.2
켈트롤(Keltrol) T(등록상표) (칼곤) 크산탄검 0.2
네오 헬리오판(Neo Heliopan)(등록상표) AP (하르만 & 라임머) 2,2-(1,4-페닐렌)비스(1H-벤즈이미다졸-4,6-디설폰산) 및 디소듐염 22
2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-5-설폰산 0.2
C 수산화나트륨 수용액, 10% 2.8
D 퍼퓸 오일 0.3
비자볼올 0.1
A부분을 85℃까지 가열했다. 카보폴 및 켈트롤을 차가운 상태에서 나머지 성분에 분산시키고, 그 혼합물을 85℃까지 가열하고 A부분에 첨가했다. C부분을 80℃에서 A 및 B 부분의 혼합물에 즉시 첨가하고, 분산장비를 사용하여 5분동안 균질화했다. D부분을 마지막으로 상온에서 첨가하고, 그 혼합물을 분산장비를 사용하여 균질화했다.
비교예
예시 화합물의 티로시나제 저해 활성을 아래와 같이 코직산의 그것과 비교했다.
진균류에서 추출한 티로시나제 효소를 시그마-알드리치로부터 얻었다. 그 티로시나제(2000 units/mg)을 포스페이트 완충액(pH 6.8, 0.067mol/l)에 120units/ml의 농도가 되도록 녹이고, 각각의 경우 이 티로시나제 용액 100㎕를 폴리스티렌으로 만들어진 미량측정판의 구멍에 넣었다. 포스페이트 완충액(pH 6.8, 0.067mol/l) 25㎕ 및 단계적으로 희석된 예시 화합물 또는 코직산 75㎕를 첨가했다. 이렇게 하여 얻어진 혼합물을 10분간 37℃에서 인큐베이트했다. 포스페이트 완충액(pH 6.8, 0.067mol/l)을 시험 화합물을 희석하기 위해 사용했다. 사용된 대조군은 포스페이트 완충액(pH 6.8, 0.067mol/l)이다.
포스페이트 완충액(pH 6.8, 0.067mol/l)중의 0.03%농도의 기질 L-DOPA 용액 100㎕를 첨가하고, 그 흡광도(A)를 37℃에서 3분간 인큐베이션 후에, 광도측정계로 475nm에서 측정하였다. 실시예 1 내지 11의 화합물 또는 코직산의 존재하의 잔류 티로시나제 활성을 아래의 수학식에 따라 계산하였다.
잔류 티로시나제 활성(%) = (A시험화합물/A대조군) x 100
일련의 시험 화합물 희석액에서의 잔류 티로시나제 활성으로부터 각 시험 화합물의 IC50을 계산했다. 이는 티로시나제가 50% 저해되었을 때의 시험화합물의 농도를 말한다.
시험 화합물 CAS 번호 IC50/μM
코직산 501-30-4 22
2-히드라지노-1,3-벤조티아졸 615-21-4 14
5,6-디메톡시-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸 - 3.2
6-메톡시-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸 20174-70-3 2.7
2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-5-설폰산 143269-94-7 13
6-tert-부틸-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸 - 14
6-메틸-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸 20174-69-0 13
2-히드라지노-1,3-벤즈옥사졸 15062-88-1 15
2-히드라지노-1H-벤즈이미다졸 15108-18-6 70
2-히드라지노-5-(4-플루오로페닐)-1,3,4-티아디아졸 - 12
2-히드라지노-4-페닐-1,3-티아졸 34176-52-8 5

Claims (12)

  1. 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 국소 화장 조성물.
    <화학식 I>
    (여기서, Z는 황원자 또는 산소원자 또는 -NH이고,
    X는 질소원자, 또는 Q2로 치환된 탄소원자 C-Q2이고,
    Q1및 Q2는 서로 독립적으로 수소원자;
    임의적으로 히드록실 또는 알킬옥시 치환된 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬, 알케닐, 1-옥소알킬 또는 1-옥소알케닐기;
    6 내지 15개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴기;
    2 내지 15개의 탄소원자 및 산소원자, 질소원자 또는 황원자로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 갖는 임의적으로 치환된 헤테로시클릴기;
    7 내지 16개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴알킬 또는 아릴-1-옥소알킬기;
    할로겐 원자; 니트로기; 또는
    -COOR5, -OR5, -NR5R6, -SO2OR5, -SO2NR5R6또는 -PO(OR5)(OR6)이거나,
    또는 Q1및 Q2가 함께 화학식(II)의 라디칼이고,
    <화학식 II>
    X1, X2및 X3는 서로 독립적으로 질소원자 또는 각각 라디칼 R1, R2또는 R3를 갖는 탄소원자이고,
    R1,R2,R3및 R4는 서로 독립적으로 수소원자;
    임의적으로 히드록실 또는 알킬옥시 치환된 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬, 알케닐, 1-옥소알킬 또는 1-옥소알케닐기;
    6 내지 15개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴기;
    2 내지 15개의 탄소원자 및 산소원자, 질소원자 또는 황원자로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 갖는 임의적으로 치환된 헤테로시클릴기;
    7 내지 16개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴알킬 또는 아릴-1-옥소알킬기;
    할로겐 원자; 니트로기; 또는
    -COOR5, -OR5, -NR5R6, -SO2OR5, -SO2NR5R6또는 -PO(OR5)(OR6)이고,
    R5및 R6는 서로 독립적으로 수소원자, 임의적으로 히드록실 또는 알킬옥시 치환된 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 비분지쇄, 분지쇄 또는 시클릭 알킬, 알케닐, 1-옥소알킬 또는 1-옥소알케닐기,
    6 내지 15개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴기,
    7 내지 16개의 탄소원자를 갖는 임의적으로 치환된 아릴알킬 또는 아릴-1-옥소알킬기이다.)
  2. 화학식(I)의 2-히드라지노-1,3-벤조헤테로아졸 또는 그의 염을 포함하는 국소 화장 조성물.
    <화학식I>
    (여기서, Z는 황원자 또는 산소원자 또는 -NH이고,
    X는 질소원자, 또는 Q2로 치환된 탄소원자 C-Q2이고,
    Q1및 Q2는 서로 독립적으로 수소원자; 메틸, 트리플루오로메틸, 에틸, tert-부틸, 알릴, 3-메틸부트-2-엔-1-일 또는 아세틸기; 염소 또는 불소원자; 니트로기; -COOR5, -OR5, -NR5R6, -SO2OR5, -SO2NR5R6, -PO(OR5)(OR6)기; 알킬, 히드록실, 알킬옥시, 아미노, 디알킬아미노, 브롬, 불소, 염소, 니트릴, 설폰산, 설폰아미드 또는 알킬설포네이트 라디칼에 의해 임의적으로 방향족이 치환된 페닐, 피리딜, 피라지닐기; 페닐메틸 또는 벤조일기이거나, 또는
    Q1및 Q2가 함께 화학식(II)의 라디칼이고,
    <화학식 II>
    X1, X2및 X3는 각각 라디칼 R1, R2또는 R3를 갖는 탄소원자이고,
    R1,R2,R3및 R4는 서로 독립적으로 수소원자, 메틸, 트리플루오로메틸, 에틸, tert-부틸, 알릴, 3-메틸부트-2-엔-1-일 또는 아세틸기; 페닐, 피리딜, 피라지닐기; 페닐메틸, 4-메틸페닐메틸, 4-메톡시페닐메틸 또는 벤조일기; 염소 또는 불소원자; 니트로기; -COOR5, -OR5, -NR5R6, -SO2OR5, -SO2NR5R6또는 -PO(OR5)(OR6)이고,
    R5및 R6는 서로 독립적으로 수소원자; 메틸, 트리플루오로메틸, 에틸, tert-부틸, 알릴, 3-메틸부트-2-엔-1-일, 아세틸, 프로피오닐 또는 피발로일기; 페닐, 피리딜 피라지닐기; 페닐메틸, 4-메틸페닐메틸, 4-메톡시페닐메틸 또는 벤조일기이다.)
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    2-히드라지노-1,3-벤조티아졸,
    5,6-디메톡시-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸,
    6-메톡시-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸,
    2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-5-설폰산,
    2-히드라지노-1,3-벤조티아졸-6-설폰산,
    6-tert-부틸-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸,
    6-메틸-2-히드라지노-1,3-벤조티아졸,
    2-히드라지노티아졸로[5,4-b]피리딘,
    2-히드라지노-1,3-벤족사졸,
    2-히드라지노-1H-벤즈이미다졸,
    2-히드라지노-5-(4-플루오로페닐)-1,3,4-티아디아졸,
    2-히드라지노-4-페닐-1,3-티아졸 또는
    2-히드라지노-4-메틸-1,3-티아졸 염산염을 포함하는 국소 화장 조성물, 특히 화장품용 또는 피부과용 피부 미백 조성물.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물의 총 중량을 기준으로 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸을 0.001중량% 내지 30중량% 포함하는 국소 화장 조성물.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 화장품 제제에서의 용도.
  6. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 피부과용 제제에서의 용도.
  7. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 화장품용 또는 피부과용 피부 미백 조성물에서의 용도.
  8. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 일광 차단제에서의 용도.
  9. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 모발 관리 제품에서의 용도.
  10. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 피부노화방지 제품에서의 용도.
  11. 다른 피부 미백 활성 성분 또는 활성 성분 혼합물과 조합된, 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 국소 화장 조성물, 특히 화장품용 또는 피부과용 피부미백조성물에서의 용도.
  12. 산화방지제 또는 자유 라디칼 스캐빈징 활성 성분 또는 활성 성분 혼합물과조합된, 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에서 청구된 2-히드라지노-1,3-헤테로아졸의 국소 화장 조성물, 특히 화장품용 또는 피부과용 피부미백조성물에서 용도.
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