KR200263233Y1 - Apparatus for assembling a quartz oscillator - Google Patents
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Abstract
본 고안에 따른 수정진동자 조립장치는 수정판의 양단에 은액을 도포하기 위한 은액 도포부; 상기 은액 도포부를 중심으로 일측에 위치하며, 적어도 하나 이상의 수정판을 올려놓기 위한 수정판 받침블럭; 상기 은액 도포부를 중심으로 타측에 위치하며, 적어도 하나 이상의 베이스를 올려놓기 위한 베이스 받침블럭; 상기 수정판 받침블럭 및 베이스 받침블럭을 수평운동시키는 제1액추에이터; 상기 수정판 받침블럭의 상측에서 상기 수정판을 진공흡착한 후 수평이송되어 은액 도포부에서 정지하고, 상기 은액 도포부를 통해 수정판에 은액이 도포된 후 다시 베이스 받침블럭의 상측으로 수평이송되어 베이스 받침블럭 상에 위치하는 상기 베이스에 안착시키는 핸드부; 상기 핸드부에 진공흡착력을 제공하기 위한 펌핑부; 상기 핸드부를 이송시키는 제2액추에이터; 및 상기 제1액추에이터와 제2액추에이터를 제어하여 수정판 받침블럭 상의 특정 수정판이 베이스 받침블럭 상의 특정 베이스에 결합되도록 하는 제어부;를 포함한다.The crystal oscillator assembly apparatus according to the present invention is a silver liquid applying portion for applying the silver liquid on both ends of the crystal plate; A correction plate support block positioned on one side of the silver liquid applying unit and for placing at least one or more correction plates; A base support block positioned on the other side with respect to the silver liquid applying part and for placing at least one or more bases; A first actuator for horizontally moving the quartz plate support block and the base support block; After vacuum-adsoring the crystal plate on the upper side of the crystal plate support block, the glass plate is horizontally transferred and stopped at the silver liquid applying unit. A hand part seated on the base positioned at the; A pumping unit for providing a vacuum suction force to the hand unit; A second actuator for transferring the hand part; And a controller configured to control the first actuator and the second actuator so that a specific revision plate on the revision plate support block is coupled to a specific base on the base support block.
Description
본 고안은 수정진동자 조립장치에 관한 것으로서, 특히 수정판(Quartz Plate)에 은액(Silver liquid)을 도포하여 베이스에 안착시키는 공정에 있어서 작업속도와 정밀도를 향상시키기 위한 수정진동자 조립장치에 관한 것이다.The present invention relates to a crystal oscillator assembling apparatus, and more particularly, to a crystal oscillator assembling apparatus for improving working speed and precision in a process of applying a silver liquid to a quartz plate and seating on a base.
수정진동자는 수정(Quartz)의 결정을 특정 방향으로 얇게 절단한 수정판의 양측에 전극이 연결되어 있는 구조의 소자로서, 전극 양단에 교류전압 인가시 그 고유진동수에 공진하는 진동신호를 발생시키게 되는 특성을 가진다.A crystal oscillator is a device in which electrodes are connected to both sides of a quartz plate in which crystals of quartz are thinly cut in a specific direction. A crystal oscillator generates vibration signals that resonate with its natural frequency when an AC voltage is applied to both electrodes. Has
이러한 수정진동자는 통상적으로 수정판의 양단부에 은액(3)을 도포한 후 베이스(1)의 리드(4) 상부에 위치하는 탄성편(2)에 안착시키는 작업을 통해 도 1과 같은 형태로 가공되는 공정을 거치게 된다.Such a crystal oscillator is typically processed into a shape as shown in FIG. 1 by applying a silver solution (3) to both ends of the quartz plate and then rests on the elastic piece (2) located above the lead (4) of the base (1) It goes through the process.
상기 공정을 위해 종래에는 도 2a에 도시된 바와 같이, 수평축 상에서 동시에 동일방향으로 왕복이송되는 제1핸드(10) 및 제2핸드(11)와, 은액 도포기(8), 수정판 받침패널(6) 및 베이스 받침패널(7)을 포함하여 구성되는 장치가 널리 사용되었다. 여기서, 상기 제1핸드(10)는 수정판(5)을 흡착해서 받침대(9)에 올려놓는 기능을 하며, 제2핸드(11)는 상기 받침대(9)에서 은액 도포기(8)를 통해 은액이 도포된 수정판(5)을 흡착하여 베이스(1)에 조립하는 기능을 수행한다. 아울러, 상기 수정판 받침패널(6)과 베이스 받침패널(7)은 각각 수정판(5)과 베이스(1)를 올려놓기 위한 부재로서, X축 및 Y축으로 이송되어 순차적으로 수정판(5)이 베이스(1)에 안착되도록 한다.For the above process, as shown in FIG. 2A, the first hand 10 and the second hand 11 reciprocating in the same direction at the same time on the horizontal axis, the silver liquid applicator 8 and the quartz plate support panel 6 And a base support panel 7 have been widely used. Here, the first hand 10 serves to adsorb the quartz plate 5 and place it on the pedestal 9, and the second hand 11 is a silver liquid through the silver liquid applicator 8 in the pedestal 9. The coated quartz plate 5 is adsorbed and assembled to the base 1. In addition, the correction plate support panel 6 and the base support panel 7 is a member for placing the correction plate 5 and the base 1, respectively, is transferred to the X-axis and Y-axis so that the correction plate 5 is sequentially Make sure that it is seated in (1).
그러나, 상기와 같은 방식은 부피가 큰 수정판 받침패널(6) 및 베이스 받침패널(7)을 X축과 Y축으로 이송시켜야 하는 점과, 제1핸드(10) 및 제2핸드(11)를 동시에 수평으로 이송시켜야 하는 점에서 작업속도가 느릴 수 밖에 없는 취약점이 있다.However, the above-described method requires the bulky plate support panel 6 and the base support panel 7 to be transferred to the X and Y axes, and the first hand 10 and the second hand 11 to be moved. At the same time, there is a weak point that the work speed must be slow because it must be transported horizontally.
또한, 수정판(5)을 작업대(9)에 올려놓을 때와 제2핸드(11)로 흡착하여 베이스(1)에 결합할 때 각각 정렬(Alignment)작업이 이루어져야 하므로 매우 번거로운 문제가 있다.In addition, when the modification plate 5 is placed on the workbench 9 and the second hand 11 is attached to the base 1 so as to be aligned with each other, alignment work must be performed.
한편, 종래에는 도 2b에 도시된 바와 같이 받침대(9)를 중심으로 좌우에 각각 하나씩 구비되는 은액 도포기(8)가 별개의 액추에이터(Actuator)에 의해 상호 독립적으로 레일(12) 상에서 수평구동이 되며 은액 도포작업을 수행하므로 수정판(5)의 좌우 은액 도포지점이 서로 다르게 되어 제품불량이 발생하는 일이 빈번히 발생하였다.Meanwhile, in the related art, as shown in FIG. 2B, the silver liquid applicator 8, which is provided on the left and right sides of the pedestal 9, is horizontally driven on the rail 12 independently of each other by a separate actuator. Since the silver liquid coating operation is performed, the right and left silver liquid coating points of the correction plate 5 are different from each other, so that product defects frequently occur.
본 고안은 상기와 같은 문제점을 고려하여 창안된 것으로서, 수정판에 대한은액 도포공정과 베이스 안착공정이 단일(Single) 핸드를 통해 이루어지도록 함으로써 작업효율을 높이게 되는 수정진동자 조립장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention was devised in consideration of the above problems, and provides a crystal oscillator assembly device that increases work efficiency by allowing a silver solution coating process and a base seating process on a quartz plate to be made through a single hand. The purpose.
본 고안의 다른 목적은 수정판에 은액을 도포하기 위한 은액도포기가 수정판 양측에서 동시에 슬라이딩(Sliding)되도록 함으로써 은액 도포지점의 오차발생을 방지하게 되는 수정진동자 조립장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a crystal oscillator assembling apparatus that prevents the occurrence of the error of the silver liquid coating point by allowing the silver liquid coating device for applying the silver liquid to the crystal plate at the same time (Sliding) on both sides of the crystal plate.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 고안의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 고안의 상세한 설명과 함께 본 고안의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 고안은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.The following drawings attached to this specification are illustrative of the preferred embodiments of the present invention, and together with the detailed description of the present invention to serve to further understand the technical spirit of the present invention, the present invention is a matter described in such drawings It should not be construed as limited to.
도 1은 베이스 상에 수정판이 안착되는 수정진동자의 모습을 보여주는 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view showing the state of the crystal oscillator is seated on the base plate.
도 2a는 수정판에 은액이 도포되도록 이송한 후 베이스에 안착하기 위한 종래 조립장치의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.Figure 2a is a view schematically showing the configuration of a conventional assembly device for seating on the base after transferring so that the silver solution is applied to the quartz plate.
도 2b는 수정판의 양단에 은액을 도포하기 위한 종래의 은액도포기를 간략히 보여주는 도면이다.Figure 2b is a simplified view showing a conventional silver liquid coating machine for applying the silver liquid on both ends of the quartz plate.
도 3은 본 고안에 있어서 수정판을 흡착하여 베이스 측으로 이송하기 위한 부분의 일 실시예를 개략적으로 도시하는 도면이다.3 is a view schematically showing an embodiment of a portion for adsorbing the quartz plate to the base side in the present invention.
도 4는 본 고안에 있어서 도 3의 핸드부를 통해 이송된 수정판의 양단에 은액을 도포하기 위한 부분의 일 실시예를 도시하는 도면이다.Figure 4 is a view showing an embodiment of a portion for applying the silver liquid to both ends of the quartz plate transferred through the hand portion of Figure 3 in the present invention.
도 5는 도 3의 핸드부를 통해 수정판의 정렬이 이루어지는 원리를 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 5 is a view schematically illustrating a principle of alignment of the correction plate through the hand part of FIG. 3.
<도면의 주요 참조부호에 대한 설명><Description of main reference numerals in the drawings>
1: 베이스 5: 수정판 13: 핸드부1: Base 5: Revision 13: Hand Part
14: 제1액추에이터 14a: 이송레일 15: 제2액추에이터14: 1st actuator 14a: transfer rail 15: 2nd actuator
16: 수정판 받침블럭 17: 베이스 받침블럭 18: 제3액추에이터16: Modification base block 17: Base base block 18: 3rd actuator
23: 펌핑부23: pumping part
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 고안에 따른 수정진동자 조립장치는, 수정판의 양단에 은액을 도포하기 위한 은액 도포부; 상기 은액 도포부를 중심으로 일측에 위치하며, 적어도 하나 이상의 수정판을 올려놓기 위한 수정판 받침블럭; 상기 은액 도포부를 중심으로 타측에 위치하며, 적어도 하나 이상의 베이스를 올려놓기 위한 베이스 받침블럭; 상기 수정판 받침블럭 및 베이스 받침블럭을 수평운동시키는 제1액추에이터; 상기 수정판 받침블럭의 상측에서 상기 수정판을 진공흡착한 후 수평이송되어 은액 도포부에서 정지하고, 상기 은액 도포부를 통해 수정판에 은액이 도포된 후 다시 베이스 받침블럭의 상측으로 수평이송되어 베이스 받침블럭 상에 위치하는 상기 베이스에 안착시키는 핸드부; 상기 핸드부에 진공흡착력을 제공하기 위한 펌핑부; 상기 핸드부를 이송시키는 제2액추에이터; 및 상기 제1액추에이터와 제2액추에이터를 제어하여 수정판 받침블럭 상의 특정 수정판이 베이스 받침블럭 상의 특정 베이스에 결합되도록 하는 제어부;를 포함한다.In order to achieve the above object, the crystal oscillator assembly apparatus according to the present invention, a silver liquid applying unit for applying the silver liquid on both ends of the crystal plate; A correction plate support block positioned on one side of the silver liquid applying unit and for placing at least one or more correction plates; A base support block positioned on the other side with respect to the silver liquid applying part and for placing at least one or more bases; A first actuator for horizontally moving the quartz plate support block and the base support block; After vacuum-adsoring the crystal plate on the upper side of the crystal plate support block, the glass plate is horizontally transferred and stopped at the silver liquid applying unit. A hand part seated on the base positioned at the; A pumping unit for providing a vacuum suction force to the hand unit; A second actuator for transferring the hand part; And a controller configured to control the first actuator and the second actuator so that a specific revision plate on the revision plate support block is coupled to a specific base on the base support block.
바람직하게, 상기 핸드부는 펌핑부로부터 진공흡착력을 제공받아 수정판을진공흡착하는 진공핀; 상기 진공핀의 단부에 흡착된 수정판을 정렬시키기 위한 정렬핀; 및 상기 정렬핀을 구동하기 위한 제3액추에이터;를 포함한다.Preferably, the hand portion is provided with a vacuum suction force from the pumping unit vacuum pin for vacuum suction the quartz plate; An alignment pin for aligning the quartz plate adsorbed to an end of the vacuum pin; And a third actuator for driving the alignment pin.
상기 은액 도포부는, 상기 수정판 받침블럭에서 특정 수정판을 흡착한 상태로 이송되어 은액도포를 위해 정지된 핸드부를 중심으로 양측에서 각각 슬라이딩하며 수평운동하게 되는 두 개의 은액 도포기; 상기 은액도포기를 구동하기 위해 승강운동하게 되는 실린더블럭; 및 상기 실린더블럭의 승강운동에 연동하여 상기 은액 도포기가 상기 핸드부에 대해서 동시에 슬라이딩 운동하여 전진 및 후퇴하도록 그 양단이 각각 실린더블럭과 은액 도포기에 가동결합되는 커넥팅로드;를 포함하는 것이 바람직하다.The silver liquid applicator includes: two silver liquid applicators which are transported in a state in which a specific crystal plate is adsorbed by the crystal plate support block and horizontally slides on both sides with respect to a hand part which is stopped for silver liquid application; A cylinder block which is moved up and down to drive the silver liquid spreader; And a connecting rod having both ends movable coupled to the cylinder block and the silver liquid applicator so that the silver liquid applicator simultaneously slides with respect to the hand part to move forward and backward in association with the lifting motion of the cylinder block.
상기와 같은 본 고안에 의하면 은액 도포작업시의 정확도를 높일 수 있으며, 단일 핸드를 사용하므로 종래에 비해 수정판 이송속도를 향상시킬 수 있다.According to the present invention as described above it is possible to increase the accuracy during the silver liquid coating operation, it is possible to improve the transfer rate of the correction plate compared to the conventional one because it uses a single hand.
이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
먼저, 도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 수정진동자 조립장치에 있어서 수정판을 흡착하여 베이스 측으로 이송하기 위한 부분의 구성을 도시하는 도면이다. 도면에 도시된 바와 같이, 본 고안의 장치는 적어도 하나 이상의 수정판(5)을 올려놓기 위한 수정판 받침블럭(16)과; 적어도 하나 이상의 베이스(1)를 올려놓기 위한 베이스 받침블럭(17)과; 상기 수정판 받침블럭(16)에서 특정 수정판(5)을 흡착한 후 베이스 받침블럭(17) 측으로 수평이송되는 핸드부(13)를 포함한다.First, Figure 3 is a view showing the configuration of the portion for transporting the crystal plate to the base side in the crystal oscillator assembly apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. As shown in the figure, the apparatus of the present invention includes a revision plate support block 16 for placing at least one revision plate 5; A base support block 17 on which at least one base 1 is placed; The hand plate 13 is horizontally transferred to the base support block 17 after the specific plate 5 is adsorbed by the crystal plate support block 16.
상기 수정판 받침블럭(16) 및 베이스 받침블럭(17)은 제1액추에이터(14)를 통해 구동되어 이송레일(14a) 상에서 이송된다. 이때, 이송방향은 이송레일(14a)의 길이방향이 되며, 상기 핸드부(13)는 제2액추에이터(15)를 통해 구동되어 수평방향으로 이송되므로 모든 위치의 수정판(5) 혹은 베이스(1)에 상기 핸드부(13)의 액세스(Access)가 가능하게 된다. 이때, 본 고안에는 특정 베이스(1)에 특정 수정판(5)이 안착되도록 상기 제1액추에이터(14) 및 제2액추에이터(15)를 제어하기 위한 프로그램이 탑재되는 제어부(미도시)가 더 포함될 수 있다.The revision plate support block 16 and the base support block 17 are driven through the first actuator 14 and are transported on the transfer rail 14a. At this time, the conveying direction becomes the longitudinal direction of the conveying rail 14a, and the hand portion 13 is driven through the second actuator 15 to be conveyed in the horizontal direction, so that the correction plate 5 or the base 1 of all positions is provided. The hand part 13 can be accessed. In this case, the present invention may further include a controller (not shown) in which a program for controlling the first actuator 14 and the second actuator 15 is mounted so that the specific modification plate 5 is seated on the specific base 1. have.
핸드부(13)에는 수정판(5)을 흡착하기 위한 진공핀(13a)과, 상기 흡착된 수정판(5)을 정렬하도록 제3액추에이터(18)를 통해 구동되는 정렬핀(13b)과, 상기 정렬핀(13b)과 일체가 되어 직접적으로 상기 수정판(5)과 접촉하게 되는 정렬부(13c)가 포함된다.The hand portion 13 has a vacuum pin 13a for sucking the quartz plate 5, an alignment pin 13b driven through a third actuator 18 to align the sucked quartz plate 5, and the alignment. An alignment portion 13c which is integral with the pin 13b and comes into direct contact with the quartz plate 5 is included.
상기 진공핀(13a)은 그 내부에 중공이 형성되어 있는 부재로서 도관(23a)을 통해 펌핑부(23)에 연결된다. 따라서, 상기 펌핑부(23)가 구동되어 외부로부터 공기를 흡입하게 되면 진공핀(13a)의 공기 유입구, 즉 단부에 수정판(5)의 흡착이 이루어지게 된다.The vacuum pin 13a is a member having a hollow formed therein and is connected to the pumping part 23 through a conduit 23a. Therefore, when the pumping unit 23 is driven to suck air from the outside, the suction plate 5 is adsorbed to the air inlet, that is, the end of the vacuum pin 13a.
정렬핀(13b)은 바람직하게, 진공핀(13a)의 양측에 각각 하나씩 구비되어 제3액추에이터(18)를 통해 집게방식으로 구동됨으로써 상기 진공핀(13a)의 단부에 흡착된 수정판(5)의 위치를 일정한 방향으로 정렬하게 된다.The alignment pins 13b are preferably provided at both sides of the vacuum pins 13a and driven by a forceps method through the third actuator 18, so that the alignment plates 13b are adsorbed at the ends of the vacuum pins 13a. Align the position in a certain direction.
상기와 같이 구성되는 핸드부(13)는 수정판 받침블럭(16)에서 특정 수정판(5)을 흡착한 후 베이스 받침블럭(17) 측으로 이송하는 도중에 은액 도포작업을 위해 정지하게 된다.The hand part 13 configured as described above is stopped for the silver liquid coating operation during the transfer of the specific modification plate 5 from the correction plate support block 16 to the base support block 17.
이때, 정지된 핸드부(13)에 흡착되어 있는 수정판(5)에 은액을 도포하기 위한 은액도포부는 바람직하게 도 4와 같이 구성된다. 도면을 참조하면, 본 고안에 따른 은액도포부는 핸드부(13)를 중심으로 양측에서 수평으로 슬라이딩하게 되는 두 개의 은액도포기(22)와; 그 승강운동시 상기 은액도포기(22)를 수평으로 슬라이딩 운동시키기 위한 실린더블럭(20)을 포함한다.At this time, the silver liquid coating portion for applying the silver liquid to the quartz plate 5 adsorbed to the stationary hand portion 13 is preferably configured as shown in FIG. Referring to the drawings, the silver liquid coating unit according to the present invention and two silver liquid coating machine 22 which is slid horizontally on both sides with respect to the hand portion 13; And a cylinder block 20 for sliding the silver liquid spreader 22 horizontally during the lifting movement.
은액도포기(22)는 액상의 은(Silver)을 수정판(5)의 양단에 주입하기 위한 부분으로서 수정진동자 제조공정에 사용되는 통상의 은액주입장치가 채용가능하다. 원활한 슬라이딩 이송운동을 위해 상기 은액도포기(22)의 하단에는 수평레일(19)이 구비된다.The silver liquid spreader 22 is a portion for injecting liquid silver into both ends of the crystal plate 5, and a conventional silver liquid injection device used in the crystal oscillator manufacturing process can be employed. A horizontal rail 19 is provided at the lower end of the silver liquid applicator 22 for a smooth sliding conveyance movement.
실린더블럭(20)은 두 개의 커넥팅로드(Connecting rod)(21)를 통해 상기 각각의 은액도포기(22)와 결합된다. 이때, 상기 커넥팅로드(21)의 양단부는 각각 은액도포기(22) 및 실린더블럭(20)과 가동결합된다. 아울러, 상기 실린더블럭(20)은 은액도포를 위해 정지한 핸드부(13)와 동일 수직축 상에서 상하로 승강운동을 하게 된다.The cylinder block 20 is coupled to each of the silver liquid applicator 22 through two connecting rods 21. At this time, both ends of the connecting rod 21 is movable coupled with the silver liquid spreader 22 and the cylinder block 20, respectively. In addition, the cylinder block 20 moves up and down on the same vertical axis as the hand part 13 stopped for the silver liquid application.
따라서, 실린더블럭(20)이 외부로부터 구동력을 전달받아 상하로 승강운동을 하게 되면, 이와 연동하여 핸드부(13) 양측에 위치하는 각각의 은액도포기(22)가 동시에 상기 핸드부(13)에 대하여 수평레일(19) 상에서 왕복운동을 하게 된다.Therefore, when the cylinder block 20 receives the driving force from the outside and moves up and down, the silver liquid applicator 22 positioned on both sides of the hand part 13 simultaneously with the hand part 13 simultaneously moves the hand part 13. It is to reciprocate on the horizontal rail 19 with respect to.
그러면, 상기와 같은 구성요소를 포함하는 본 고안에 따른 수정진동자 조립장치의 동작예를 설명하기로 한다.Then, an operation example of the crystal oscillator assembly according to the present invention including the above components will be described.
먼저, 이용자가 핸드부(13), 수정판 받침블럭(16), 베이스 받침블럭(17) 등의 이송범위나 횟수 등 초기값을 설정한 후 동작시키면, 수정판 받침블럭(16)과 베이스 받침블럭(17)이 제1액추에이터(14)를 통해 구동되어 이송레일(14a)을 따라 설정위치로 이송된다. 아울러, 핸드부(13)가 제2액추에이터(15)를 통해 구동되어 수정판 받침블럭(16) 상측으로 이송된 후 진공핀(13a)을 이용해 특정 수정판(5)을 진공흡착한다.First, when the user sets an initial value such as the transfer range or the number of times of the hand portion 13, the modified plate support block 16, the base support block 17, and the like, the operation of the modified plate support block 16 and the base support block ( 17) is driven through the first actuator 14 to be conveyed to the set position along the conveyance rail 14a. In addition, the hand unit 13 is driven through the second actuator 15 is transferred to the upper side of the correction plate support block 16 and then vacuum-absorbs the specific correction plate 5 using the vacuum pin (13a).
다음, 상기 핸드부(13)는 수정판(5)을 진공흡착한 상태에서 정렬부(13c)가 구비되어 있는 정렬핀(13b)을 이용해 수정판(5)의 위치를 정렬한다. 즉, 제3액추에이터(18)를 통해 정렬핀(13b)이 집게방식으로 구동이 되면, 도 5에 개략적으로 도시된 바와 같이 양측의 정렬부(13c)가 진공핀(13a) 측으로 이동하며 수정판(5)의 위치를 정렬하며 고정시키게 된다. 여기서, 도 5는 진공핀(13a)에 흡착되어 있는 수정판(5)이 정렬되는 모습을 위에서 바라본 도면에 해당한다.Next, the hand portion 13 aligns the position of the correction plate 5 using the alignment pin 13b having the alignment portion 13c in the state in which the correction plate 5 is vacuum-adsorbed. That is, when the alignment pin 13b is driven by the forceps through the third actuator 18, as shown in FIG. 5, the alignment parts 13c of both sides move toward the vacuum pin 13a and the quartz plate ( 5) Align and fix the position. Here, FIG. 5 corresponds to the view seen from above that the quartz crystal plate 5 adsorbed on the vacuum pin 13a is aligned.
상기 핸드부(13)는 제2액추에이터(15)를 통해 이송되어 수정판 받침블럭(16)과 베이스 받침블럭(17) 사이의 일 지점에서 은액 도포작업을 위해 정지한다.The hand part 13 is transported through the second actuator 15 and stopped for the silver liquid applying operation at a point between the correction plate support block 16 and the base support block 17.
이때, 실린더블럭(20)이 구동되어 원위치에 대하여 하강하고, 이에 연동하여 커넥팅로드(21)와 가동결합된 핸드부(13) 양측의 은액도포기(22)가 핸드부(13) 측으로 슬라이딩하며 전진하여 수정편(5)의 양측에 근접하게 된다.At this time, the cylinder block 20 is driven to descend to the original position, and in conjunction with this, the liquid-liquid spreader 22 on both sides of the hand part 13 which is movable coupled with the connecting rod 21 slides toward the hand part 13 side. It moves forward and approaches both sides of the crystal piece 5.
상기 은액도포기(22)를 통해 수정편(5)의 양단부에 은액이 도포된 후에는 다시 실린더블럭(20)이 상승하여 각각의 은액도포기(22)가 핸드부(13) 반대방향으로 후퇴이송되고, 이와 더불어 핸드부(13)가 베이스 받침블럭(17) 상측으로 이송되어특정 베이스(1)의 상부에 수정판(5)을 안착시킨다. 이때, 도전성을 가지는 은액은 베이스(1)의 탄성편(3)과 수정판(5)을 전기적, 기계적으로 결합시키는 역할을 하게 된다.After silver liquid is applied to both ends of the crystal piece 5 through the silver liquid spreader 22, the cylinder block 20 is raised again, so that each silver liquid spreader 22 retreats in the direction opposite to the hand portion 13. In addition, the hand part 13 is transferred to the upper side of the base support block 17, and seats the quartz plate 5 on the upper part of the specific base 1. At this time, the conductive silver liquid serves to electrically and mechanically couple the elastic piece 3 and the quartz plate 5 of the base 1.
상기와 같은 본 고안에 의하면 핸드부(13)의 이송속도를 높일 수 있으며, 정확한 은액 도포작업이 이루어지게 된다.According to the present invention as described above it is possible to increase the transfer speed of the hand portion 13, the precise silver liquid coating operation is made.
이상, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조로 설명하였다. 여기서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 고안의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 고안의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.In the above, preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings. Here, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only one of the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical ideas of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.
본 고안에 따르면 하나의 핸드를 통해 수정판의 흡착, 이송 및 베이스 안착공정이 이루어지므로 종래기술에 비해 작업속도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, since the adsorption, transport and base mounting process of the quartz plate is made through one hand, there is an effect of improving the working speed compared to the prior art.
또한, 본 고안은 핸드에서 수정판을 흡착한 상태에서 은액을 도포하게 되므로 수정판의 정렬상태를 그대로 유지하며 베이스에 안착할 수 있는 장점이 있다.In addition, the present invention is to apply the silver solution in the state in which the crystal plate is adsorbed in the hand has the advantage that can be seated on the base while maintaining the alignment state of the crystal plate.
한편, 본 고안에 의하면 실린더블럭을 통해 동시에 두 개의 은액도포기가 핸드를 중심으로 이송운동을 하게 되므로 수정판 양단부의 은액 도포지점이 서로 다르게 되는 불량발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.On the other hand, according to the present invention, since the two silver liquid applicator at the same time through the cylinder block to move the movement around the hand there is an effect that can prevent the occurrence of defects different from the silver liquid coating point of the both ends of the correction plate.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2020010035279U KR200263233Y1 (en) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | Apparatus for assembling a quartz oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2020010035279U KR200263233Y1 (en) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | Apparatus for assembling a quartz oscillator |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR200263233Y1 true KR200263233Y1 (en) | 2002-02-04 |
Family
ID=73055006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2020010035279U KR200263233Y1 (en) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | Apparatus for assembling a quartz oscillator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200263233Y1 (en) |
-
2001
- 2001-11-16 KR KR2020010035279U patent/KR200263233Y1/en not_active IP Right Cessation
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