KR20020080920A - 공정가스의 배기장치 - Google Patents
공정가스의 배기장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20020080920A KR20020080920A KR1020010020786A KR20010020786A KR20020080920A KR 20020080920 A KR20020080920 A KR 20020080920A KR 1020010020786 A KR1020010020786 A KR 1020010020786A KR 20010020786 A KR20010020786 A KR 20010020786A KR 20020080920 A KR20020080920 A KR 20020080920A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- exhaust
- gas
- waste gas
- exhaust pipe
- container member
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 30
- 241000269400 Sirenidae Species 0.000 claims description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract description 6
- 210000003097 mucus Anatomy 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000003584 silencer Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
본 발명은 공정가스의 배기장치에 관한 것으로서, 이를 위해 진공펌프(10)의 구동에 의해 챔버내 가스를 흡입하여 상기 진공펌프(10)의 일측에서 상향 연결되는 사이렌스(20)와 배기관(30) 및 스크러버(40)를 통해서 배기덕트로 폐가스를 배출시키게 되는 공정가스의 배기장치에 있어서, 상기 사이렌스(20)와 상기 배기관(30)간 연결부위에는 상기 배기관(30)에서 응결되는 점액의 폐가스가 일정량 수집되도록 용기부재(50)가 구비되는 구성으로 구비하여 폐가스의 응결에 따른 배기라인의 막힘을 미연에 방지할 수가 있도록 하고, 이러한 배기의 안정으로 공정 수행이 안정적으로 수행되면서 반도체의 생산성이 향상되도록 하는데 특징이 있다.
Description
본 발명은 공정가스의 배기장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 배출되는 배기가스의 액화에 따른 배기라인의 막힘을 방지하는 공정가스의 배기장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체를 제조하는 공정에서 CVD나 확산 및 이온 주입 그리고 에칭 공정등에는 다양한 종류의 공정가스가 투입된다.
이러한 공정가스는 각 공정에서 일단 사용되고 나면 도 1에서와 같이 진공펌프(1)에 의해 흡입되어 사이렌스(2)와 배기관(3)을 통해 스크러버(4)로 배출되며, 스크러버(4)에서는 배기되는 폐가스를 안정화시킨 후 덕트를 통해 방출시키게 된다.
다시말해 공정 챔버에 공급되어 웨이퍼 패터닝작업을 마친 폐가스는 일단 진공펌프(1)를 사용하여 공정 챔버로부터 흡입시키게 되는데 이렇게 흡입되는 폐가스는 진공펌프(1)를 통해서 사이렌스(2)와 배기관(3)을 거쳐 스크러버(4)에 공급된다.
사이렌스(2)에서는 진공펌프(1)를 통해 유입되는 폐가스의 배출 소음을 억제시키게 되고, 그 상부에 결합되는 배기관(3)을 통해 스크러버(4)에 유도되어 안정화된 가스가 되게 한 후 덕트를 통해 배출시키게 되는 것이다.
하지만 현재 각 공정을 거쳐 배출되는 폐가스는 사이렌스(2)를 통해 배기관(3)으로 유동하면서 응결되는 사례가 초래된다.
즉 챔버에서의 공정가스는 약 480~540℃ 정도의 가열된 상태였으나 진공펌프(1)와 사이렌스(2)를 지나면서 온도는 점차 낮아지게 되고, 특히 상온의 배기관(3)을 지나면서는 폐가스가 응결되는 현상이 유발된다.
이러한 응결되는 가스가 점차 증가하게 되면 자중에 의해 배기관(3)으로부터 사이렌스(2)로 응결된 가스가 낙하하면서 사이렌스(2)내에 축적되어 폐가스의 유동로가 막히게 되는 폐단이 발생된다.
이렇게 폐가스의 응결에 의해 배기라인이 막히게 되면 더 이상 진공펌프(1)가 구동되지 못하게 되므로 배기가 이루어지지 않게 됨과 동시에 공정 수행 자체가 완전 가동 중지되는 심각한 결과가 초래된다.
공정이 갑자기 중지되면 가공 중이던 웨이퍼는 일단 폐기되면서 전체 공정의 진행이 지연되므로 결국 막대한 경제적 손실을 입게 되고, 또한 막힌 배기라인은 인위적으로 뚫어주어야만 하므로 인력 손실 또한 가중되면서 경제성과 생산성이 대폭 저하되는 문제가 있다.
따라서 본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점들을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 배기라인을 지나면서 응결되는 가스성분을 배기에 간섭을 받지 않으면서 별도로 수집하여 항상 안정된 배기가 이루어질 수 있도록 하는데 있다.
또한 본 발명은 응결가스의 수집량을 항상 외관으로 관찰할 수 있도록 하므로서 교체 시기를 정확히 체크하여 관리가 용이토록 하는데 다른 목적이 있다.
도 1은 종래의 폐가스 배기라인을 개략적으로 도시한 블록 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 폐가스의 배기라인을 개략적으로 도시한 블록 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 용기부재의 상세 단면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 진공펌프 20 : 사이렌스(silence)
30 : 배기관 40 : 스크러버(scrubber)
50 : 용기부재
이와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 진공펌프의 구동에 의해 챔버내 가스를 흡입하여 상기 진공펌프의 일측에서 상향 연결되는 사이렌스와 배기관및 스크러버를 통해서 배기덕트로 폐가스를 배출시키게 되는 공정가스의 배기장치에 있어서, 상기 사이렌스와 배기관간 연결부위에는 상기 배기관에서 응결되는 점액의 폐가스가 일정량 수집되도록 용기부재가 구비되는 구성이다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에서 진공펌프를 구동시켜 챔버내 폐가스를 흡입하여 사이렌스와 배기관을 통해 스크러버로 유동시킨 후 배기덕트를 통해 배출시키게 되는 배기라인의 구성은 종전과 대동소이하다.
다만 본 발명은 도 2에서와 같이 사이렌스(20)와 배기관(30)의 사이로 별도의 용기부재(50)가 구비되도록 하는 것이다.
이때의 용기부재(50)는 배기관(30)의 내벽면을 타고 낙하하는 응결된 점액의 폐가스를 수거하여 저장하게 되는 부위로서, 용기부재(50)의 하단부에 결합되어 폐가스의 배출 소음을 억제시키게 되는 사이렌스(20)는 하단부가 진공펌프(10)의 일측에서 수직으로 연결되고, 용기부재(50)의 상단부에는 배기관(30)의 일단이 결합되며, 배기관(30)은 타단이 상향 연장되어 폐가스를 안정화시키는 스크러버(40)에 연결된다.
용기부재(50)는 도 3에서와 같이 사이렌스(20)로부터 유도되는 가스를 배기관(30)으로 원활하게 유동 가능토록 하면서 배기관(30)의 내벽면을 타고 낙하하는 점액의 폐가스를 일정량 저장이 가능토록 하는 내관(51)과 외관(52)으로 이루어지는 이중관 구조를 갖도록 하는 것이 보다 바람직하다.
그리고 용기부재(50)는 사이렌스(20)에 종전의 배기관이 결합되는 방식과 같은 클램프 체결로서 긴밀하게 결합되도록 하고, 배기관(30)과는 배기관(30)의 끝단에 결합되는 로크 너트(31)에 각각 체해결이 용이하게 체결되도록 하는 것이 더욱 바람직하다.
한편 용기부재(50)에는 일측면으로 투명창(53)을 구비하여 용기부재(50)의 내부에 채워지는 점액의 폐가스의 저장 용량이 외관으로 체크 가능토록 하는 것이 가장 바람직하다.
이와 같이 구성된 본 발명에 의한 작용과 효과에 대해서 살펴보면 진공펌프(10)에 흡입되는 폐가스는 사이렌스(20)를 거쳐 배기관(30)을 통해 스크러버(40)로 유동하게 되고, 스크러버(40)에서는 종전과 마찬가지로 폐가스를 안정화시켜 배기덕트로 배출시키게 된다.
이때 배기관(30)에서 폐가스의 일부는 응결되면서 점액의 상태로 되어 배기관(30)의 내벽면을 타고 낙하하게 되는데 이렇게 낙하되는 점액의 폐가스는 용기부재(50)의 내관(51)과 외관(52)의 사이에 수집된다.
한편 용기부재(50)에서 내관(51)의 내경을 통해서는 사이렌스(20)로부터 유도되는 폐가스가 배기관(30)을 통해 지속적으로 유동하게 되고, 내관(51)과 외관(52)의 사이로만 응결된 점액의 가스가 점차 채워지게 되는 것이다.
이렇게 용기부재(50)에 채워지는 액화가스의 충전량을 용기부재(50)의 일측면으로 구비한 투명창(53)을 통해 외부에서 손쉽게 체크토록 하므로서 용기부재(50)에 일정 수위 이상 점액의 가스가 채워지게 되면 교체시기로 판단하여용기부재(50) 자체를 사이렌스(20)와 배기관(30)으로부터 분리시켜 교체해준다.
이렇게 폐가스의 배출 라인에서 용기부재(50)에 의해 응결되는 점액의 폐가스가 수집되도록 하면 더 이상 응결되는 폐가스에 의해 배기라인의 막힘이나 폐가스의 배출저항을 방지할 수가 있게 되므로 항상 안정된 배출과 공정 수행의 안정성을 유지시킬 수가 있게 된다.
특히 폐가스의 안정된 배출은 진공펌프(10)의 구동과 공정 수행의 단절을 방지시킬 수가 있도록 하므로서 인력 및 시간적 손실을 최소화할 수가 있게 된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 사이렌스(20)와 배기관(30)의 사이로 간단히 조립 및 분리가 용이하게 용기부재(50)를 구비하므로서 폐가스의 응결에 따른 배기라인의 막힘을 미연에 방지할 수가 있도록 하고, 이러한 배기의 안정으로 공정 수행이 안정적으로 수행되면서 반도체의 생산성이 향상시킬 수가 있게 된다.
또한 본 발명은 폐가스의 안정된 배출로 종전과 같이 막힌 배기라인을 인위적으로 뚫어야 하는 수고와 시간적 손실을 생략하게 되므로서 보다 관리의 편의를 제공하게 되는 매우 유용한 효과가 있다.
Claims (4)
- 진공펌프(10)의 구동에 의해 챔버내 가스를 흡입하여 상기 진공펌프(10)의 일측에서 상향 연결되는 사이렌스(20)와 배기관(30) 및 스크러버(40)를 통해서 배기덕트로 폐가스를 배출시키게 되는 공정가스의 배기장치에 있어서,상기 사이렌스(20)와 상기 배기관(30)간 연결부위에는 상기 배기관(30)에서 응결되는 점액의 폐가스가 일정량 수집되도록 용기부재(50)가 구비되는 공정가스의 배기장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 용기부재(50)는 내관(51)과 외관(52)으로 이루어지는 이중관 구조인 공정가스의 배기장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 용기부재(50)는 일측면으로 투명창(53)을 구비하여 내부에 채워지는 점액의 폐가스량을 외부에서 체크할 수 있도록 하는 공정가스의 배기장치,
- 제 1 항에 있어서, 상기 용기부재(50)는 하단부가 상기 사이렌스(20)에 클램프 체결되고, 상단부는 상기 배기관(30)의 끝단에 결합되는 로크 너트(31)에 각각 체해결이 용이하게 체결되는 공정가스의 배기장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020010020786A KR20020080920A (ko) | 2001-04-18 | 2001-04-18 | 공정가스의 배기장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020010020786A KR20020080920A (ko) | 2001-04-18 | 2001-04-18 | 공정가스의 배기장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020080920A true KR20020080920A (ko) | 2002-10-26 |
Family
ID=27701551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020010020786A KR20020080920A (ko) | 2001-04-18 | 2001-04-18 | 공정가스의 배기장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20020080920A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101327906B1 (ko) * | 2013-03-27 | 2013-11-13 | 주식회사 우진아이엔에스 | 반도체 및 lcd 제조설비의 배기덕트용 응집물 제거장치 |
KR20190050324A (ko) * | 2017-11-02 | 2019-05-13 | (주)리드엔지니어링 | 보론 도핑장치의 버블러 |
-
2001
- 2001-04-18 KR KR1020010020786A patent/KR20020080920A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101327906B1 (ko) * | 2013-03-27 | 2013-11-13 | 주식회사 우진아이엔에스 | 반도체 및 lcd 제조설비의 배기덕트용 응집물 제거장치 |
KR20190050324A (ko) * | 2017-11-02 | 2019-05-13 | (주)리드엔지니어링 | 보론 도핑장치의 버블러 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5116163A (en) | Arrangement for driving out volatile impurities from ground water | |
US7399345B2 (en) | Capillary flow restrictor apparatus | |
KR20020080920A (ko) | 공정가스의 배기장치 | |
CA2500771A1 (en) | Method and system for removing fluid from a subterranean zone using an enlarged cavity | |
JP2978339B2 (ja) | 真空ポンプ | |
RU98119718A (ru) | Установка откачки двухфазного эфлюента жидкость/газ | |
US5005376A (en) | Refrigerant injection into oil for sound reduction | |
JPH09225448A (ja) | 放出ストリームから汚染物を抽出する装置及び方法 | |
JPH09264499A (ja) | ガス管内水排出方法 | |
EP0892270B1 (en) | A body fluid analysis system and a method for flushing and single-point calibration | |
JP3812889B2 (ja) | 地下汚染物質の除去方法および除去装置 | |
JPH11520A (ja) | 水分排出装置 | |
US20090007635A1 (en) | Floating Bubble Jar Gas Dryer for Mud Gas Analyzer | |
JPH0628290U (ja) | 水中モータポンプのサクシヨン装置 | |
KR19990030632U (ko) | 분리형 진공챔버의 기밀유지구조 | |
JP2000248607A (ja) | 真空弁ユニット | |
JPS62113900A (ja) | ポンプ吸水槽 | |
JP2001212417A (ja) | ガス流浄化システムおよび方法 | |
US20030066428A1 (en) | Water separator for a gas analyzer | |
KR20110041532A (ko) | 플리넘을 통해 하방으로 흐르는 유체로부터의 방울들의 제거 | |
JP2002303112A (ja) | 高速油回収装置 | |
KR200370020Y1 (ko) | 부항기 | |
JP2005195327A (ja) | ガス分析計の試料前処理装置 | |
JPH11256678A (ja) | 真空弁ユニット | |
SU940397A1 (ru) | Устройство дл ввода токсичных жидкостей в аппарат |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20010418 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PC1203 | Withdrawal of no request for examination | ||
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |