KR20020072374A

KR20020072374A - 냉각 트랩을 구비한 반도체 제조 장치

Info

Publication number: KR20020072374A
Application number: KR1020010012251A
Authority: KR
Inventors: 서대만; 김재구; 김종식; 안계홍
Original assignee: 삼성전자 주식회사
Priority date: 2001-03-09
Filing date: 2001-03-09
Publication date: 2002-09-14

Abstract

일련의 공정이 진행되는 프로세스 튜브, 프로세스 튜브와 일단이 연결된 냉각 트랩, 일단이 냉각 트랩의 타단에 연결된 분리 밸브 및 분리 밸브의 타단에 연결된 펌프를 포함하여, 세정 작업을 위한 냉각 트랩의 분리시 펌프의 동작을 오프시키지 않아도 되므로, 펌프 동작의 중단 및 재가동에 따른 공정 불순물의 역류 현상을 방지할 수 있는 기술이 개시된다. 냉각 트랩의 세정 시기의 확인을 용이하게 하기 위해, 냉각 트랩은 투명창을 부착하고 있으며, 또한 냉각 트랩은 프로세스 튜브와 분리 밸브로부터 착탈가능한 구조로 이루어져 있다.

Description

냉각 트랩을 구비한 반도체 제조 장치{Semiconductor manufacturing apparatus having cooling trap}

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 특히 프로세스 튜브 내의 미반응 가스들을 트랩시키기 위한 냉각 트랩에 관한 것이다.

반도체 제조 공정은 높은 청정도를 유지하면서 진행되어야하므로, 반도체 제조 공정에서 미반응하고 남은 불순물들을 프로세스 튜브 또는 챔버 내부로부터 배출한다. 프로세스 튜브로부터 배출된 불순물들은 냉각 트랩에서 부착된후, 냉각 트랩을 세정함으로써, 반응 불순물을 제거하고 있는데, 도 1을 참조로 보다 자세히 살펴본다.

반응 가스들은 가스도입관(14)을 통해 프로세스 튜브(10)의 챔버(12) 내부로 공급된다. 챔버(12)내에는 웨이퍼(도시되지 않음)가 카세트(도시되지 않음)에 적재되어 있다. 한편, 챔버(12) 내에서는 식각 공정 또는 증착 공정과 같은 일련의 제조 공정을 수행하는데, 반응 결과 미반응물을 포함한 불순물이 생성되게 된다. 이러한 불순물들의 이동 방향을 화살표로 표시하였다. 미 반응물은 프로세스 튜브(10)와 연결된 진공관(16a)을 통해 냉각 트랩(20)으로 이송된다. 냉각 트랩(20)의 표면에는 냉각수 공급용 관이 배치되어 있어, 진공관(16a)을 통해 이송된 불순물은 냉각되어 냉각 트랩920)의 내표면에 부착된다.

한편, 펌프(30)는 진공관(16a, 16b)의 내부를 진공 상태로 유지시키기 위한 펌핑 동작을 하며, 냉각 트랩(20)의 일단과 프로세스 튜브(10) 사이에 배치된 진공관(16a)은 진공 실링부(22a)에 의해 밀봉 연결되고, 냉각 트랩(20)의 타단과 펌프(20) 사이에 배치된 진공관(16b)은 다른 진공 실링부(22b)에 의해 밀봉 연결되어 있다.

냉각 트랩(20) 내부 표면에 부착된 불순물은 주기적으로 제거되는데, 그 주기는 반응 물질에 따라 결정된다. 구체적으로, 냉각 트랩(20) 내부 표면에 부착된 불순물을 세정하기 위해서는, 먼저 펌프(30)의 동작을 정지시킨다. 그리고, 진공실링부(22a, 22b)를 들어내어 냉각 트랩(20)을 진공관(16a, 16b)으로부터 분리시킨다. 다음, 냉각 트랩(20) 내부 표면에 부착된 불순물의 양을 점검한 뒤, 세정작업을 실행하고 다시 냉각 트랩(20)과 진공관(16a, 16b)을 연결하던지, 아니면, 세정 작업없이 냉각 트랩(20)을 재조립한다. 따라서, 세정 및 재조립에 소요되는 시간이 많이 소요되고 공수 절감의 장해가 되고 있다.

한편, 펌프(30)가 냉각 트랩(20)의 분리를 위해 일시 정지되고 이후 재조립후에 다시 작동되게 되므로, 펌프(30)의 파워 오프이전에 진공관(16a, 16b)에 남아 있던 불순물들이 재동작시에 프로세스 튜브(10)로 역류할 수 있는 문제가 있다.

따라서, 본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는, 프로세스 튜브 및 펌프 동작에 영향을 주지 않고 불순물 세정 작업을 간편하게 할 수 있는 냉각 트랩을 포함하는 반도체 제조 장치를 제공하는 것이다.

도 1은 종래 기술에 때른 냉각 트랩이 포함된 반도체 제조 장치를 나타내는 도면이다.

도 2는 본 발명에 따른 냉각 트랩을 나타내는 도면이다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제를 달성하기 위한 반도체 제조 장치는 일련의 공정이 진행되는 프로세스 튜브, 프로세스 튜브와 일단이 연결된 냉각 트랩, 일단이 냉각 트랩의 타단에 연결된 분리 밸브 및 분리 밸브의 타단에 연결된 펌프를 포함한다. 냉각 트랩의 세정 시기의 확인을 용이하게 하기 위해, 냉각 트랩은 투명창을 부착하고 있다. 또한, 냉각 트랩은 프로세스 튜브와 분리 밸브로부터 착탈가능한 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.

이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명을 상세히 설명한다.

도 2에서, 투명창(54)이 냉각 트랩(50)에 부착되어 있다. 냉각 트랩(50)의 외부 표면에는 냉각수가 흐르는 관이 배치되어 있으며, 냉각수도입관(60a) 및 냉각수배출관(60b)가 돌출되어 있다. 냉각 트랩의 일단에는 분리 밸브(58)가 연결되어 있다. 분리 밸브(58)와 펌프(도시되지 않음) 사이에 배치된 진공관(52b)은 진공 실링부(56a)에 의해 밀봉 연결되고 냉각 트랩(50)의 타단은 프로세스 튜브(도시되지 않음)를 연결하는 진공관(52a)과 진공 실링부(56b)에 의해 밀봉 연결되어 있다.한편 냉각 트랩(54)은 분리 밸브(58) 및 진공관(52a)에 탁찰 가능한 서랍식 구조로 이루어져 있어, 화살표로 표시된 방향 즉 앞 뒤 방향으로 냉각 트랩(50)을 이동시킬 수 있다.

프로세스 튜브를 통한 공정 시간이 일정 기간 경과된 뒤, 공정 실행자는 냉각 트랩(50)에 내장된 투명창(54)을 통해 냉각 트랩(50)의 내부 표면에 공정 불순물이 어느정도 부착되었는지 확인할 수 있다. 확인 결과, 냉각 트랩(50)을 세정할 필요성이 발견되면 먼저 분리 밸브(58)을 동작하여 냉각 트랩과 펌프에 연결된 진공관(52b)을 분리시킨다. 이때, 펌프의 동작은 정지되지 않으므로, 진공관(52b)의 진공 상태는 계속 유지된다. 이후에 냉각 트랩(50)을 분리 밸브(58) 및 진공관(52a)으로부터 분리시키고 불순물 제거 작업을 수행한다. 따라서, 반응 불순물의 제거 작업이 필요한 경우에만 냉각 트랩(50)을 분해하므로, 반도체 제조 공정의 불필요한 지연을 막을 수 있다. 더구나, 분리 밸브(58)에 의해 냉각 트랩(50)의 분리시 펌프의 전원을 오프시키지 않으므로, 진공관(52b)의 진공 상태변화에 따른 프로세스 튜브로의 불순물 역류 현상 등을 막을 수 있다.

또한, 냉각 트랩(50)의 분리 및 재조립을 용이하게 하기 위해, 냉각 트랩(50)은 서랍식 구조를 가질 수 있다. 즉, 도 2의 냉각 트랩(50)의 점선으로 표시한 부분이 분리 밸브(58) 및 진공관(52a)로부터 착탈 가능한 구조를 가진다.

본 발명은, 냉각 트랩에 투명창을 부착하여 불순물의 적재 상태를 용이하게 확인할 수 있으며, 분리밸브를 장착하여 불순물의 세정 작업을 위한 냉각 트랩의분리시 펌프의 동작을 오프시키지 않아도 되며, 냉각 트랩이 서랍형 구조를 갖도록 하여 냉각 트랩의 분리 및 재조립이 용이하게 하여, 결과적으로, 반도체 제조 공정에 소요되는 시간을 절약하고 공수 절감의 효과가 있다.

Claims

일련의 공정이 진행되는 프로세스 튜브,

상기 프로세스 튜브와 일단이 연결된 냉각 트랩,

일단이 상기 냉각 트랩의 타단에 연결된 분리 밸브 및

상기 분리 밸브의 타단에 연결된 펌프를 포함하는 반도체 제조 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 냉각 트랩은 투명창을 부착하고 있는 반도체 제조 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 냉각 트랩은 상기 프로세스 튜브와 상기 분리 밸브로부터 착탈가능한 구조로 이루어진 반도체 제조 장치.