KR20020047488A

KR20020047488A - 반도체 장치 제조에 이용되는 열 공급 장치

Info

Publication number: KR20020047488A
Application number: KR1020000075942A
Authority: KR
Inventors: 신권호; 이철호
Original assignee: 윤종용; 삼성전자 주식회사
Priority date: 2000-12-13
Filing date: 2000-12-13
Publication date: 2002-06-22

Abstract

반도체 장치 제조에 이용되는 열 공급 장치를 공개한다. 반도체 제조시 필요한 열을 공급하는 본 발명에 따른 열 공급 장치는 공급되는 전압에 상응하는 열을 발생하는 히터, 히터로 열 발생을 위한 전압을 공급하고, 온도 제어 신호에 응답하여 히터로 공급되는 전압의 크기를 제어하는 히터 제어부, 히터에서 발생되는 열을 감지하는 온도 감지기, 온도 감지기에서 검출된 온도가 상한 값을 벗어나면 제1제어 신호를 발생하는 고온 감지부, 온도 감지기에서 검출된 온도가 하한 값을 벗어나면 제2제어 신호를 발생하는 저온 감지부 및 온도 감지기에서 감지된 온도가 적정 온도를 유지하도록 제어하는 온도 제어 신호를 히터 제어부로 발생하고, 고온 감지부로부터 제1신호가 발생되면 히터 제어부의 파워를 오프하도록 온도 제어 신호를 발생하고, 저온 감지부로부터 제2신호가 발생되면 알람 신호를 발생하는 시스템 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하고, 현재의 온도를 고온 감지부(18) 및 저온 감지부(20)에서 지속적으로 모니터링함으로써, 시스템 제어부(16)의 온도 제어 프로그램에 버그가 발생되어 정상적인 온도제어가 이루어지지 않는 경우에, 이상 고온 또는 이상 저온에서 잘못된 공정이 계속적으로 지속되는 것을 방지할 수 있다.

Description

반도체 장치 제조에 이용되는 열 공급 장치{Apparatus for supplying heat using manufacture of semiconductor device}

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 특히, 반도체 장치 제조시 열 공정에 필요한 열을 공급하는 열 공급 장치에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 제조 공정에는 열처리 공정이 많으며, 이러한 열처리 공정을 진행시 열 공급 장치를 이용하여 웨이퍼에 열을 공급한다. 이 때, 정상적인 공정 진행을 위해 정확한 온도 유지는 매우 중요하다.

열 공급 장치는 현재의 온도를 감지하고, 현재의 온도가 공정 진행에 적정한 오도가 유지되도록 지속적으로 온도 제어를 한다. 그리고, 감지된 온도를 화면에 디스플레이하여 작업자가 현재의 온도 상태를 알 수 있도록 한다.

그러나, 온도를 제어하는 온도 제어 프로그램에 버그가 발생되면, 온도 제어가 정상적으로 이루어지지 않으면서 디스플레이 상으로는 정상적인 온도가 디스플레이되는 경우가 발생될 수 있다. 이 때, 실제온도는 계속 올라가거나 또는 계속떨어져 이상 고온 또는 이상 저온 상태가 될 수 있다.

이처럼, 실제 온도가 이상 고온 또는 이상 저온 상태이나 디스플레이 상에 표시되지 않으면 작업자는 현재의 온도가 정상적인 상태라 판단하여 계속적으로 공정을 진행하는 오류를 범하게 된다. 따라서, 디스플레이 상에는 표시되지 않더라도 이상 고온 또는 이상 저온 상태가 되면, 외부로 이를 알려 강제적으로 공정 진행을 멈추도록 하여 더 이상 잘못된 공정 조건하에서 공정이 진행되지 않도록 해야 한다.

한편, 종래에는 이상 고온으로 올라가는 경우에 대해서는 전원을 오프하여 강제적으로 온도를 내리도록 하는 조치를 열 공급 장치 내부에서 수행할 수 있다. 그러나, 이상 저온으로 떨어지는 경우에 대해서는 고려를 하지 않아, 적정 온도 이하로 떨어진 상태에서 공정이 계속되는 공정 오류를 범하는 문제가 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 반도체 공정 진행시, 웨이퍼로 공급되는 온도가 이상 고온 또는 이상 저온이 되는 온도 이상 상태를 즉시 감지할 수 있는 열 공급 장치를 제공하는 데 있다.

도 1은 본 발명에 따른 열 공급 장치를 개략적으로 나타내는 블록도이다.

상기 과제를 이루기 위해, 반도체 제조시 필요한 열을 고급하는 본 발명에 따른 열 공급 장치는 공급되는 전압에 상응하는 열을 발생하는 히터, 히터로 열 발생을 위한 전압을 공급하고, 온도 제어 신호에 응답하여 히터로 공급되는 전압의 크기를 제어하는 히터 제어부, 히터에서 발생되는 열을 감지하는 온도 감지기, 온도 감지기에서 검출된 온도가 상한 값을 벗어나면 제1제어 신호를 발생하는 고온 감지부, 온도 감지기에서 검출된 온도가 하한 값을 벗어나면 제2제어 신호를 발생하는 저온 감지부 및 온도 감지기에서 감지된 온도가 적정 온도를 유지하도록 제어하는 온도 제어 신호를 히터 제어부로 발생하고, 고온 감지부로부터 제1신호가 발생되면 히터 제어부의 파워를 오프하도록 온도 제어 신호를 발생하고, 저온 감지부로부터 제2신호가 발생되면 알람 신호를 발생하는 시스템 제어부를 포함한다.

이하, 본 발명에 따른 열 공급 장치를 첨부한 도면들을 참조하여 다음과 같이 설명한다.

도 1은 본 발명에 따른 열 공급 장치를 개략적으로 나타내는 블록도이다. 도 1을 참조하여, 본 발명에 따른 열 공급 장치는 히터(10), 히터 제어부(14), 온도 감지부(12), 시스템 제어부(16), 히터 제어부(14), 고온 감지부(18) 및 저온 감지부(20)를 포함하여 구성된다.

도 1을 참조하여, 히터(10)는 히터 제어부(14)로부터 공급되는 전압에 상응하는 열을 발생한다.

히터 제어부(14)는 히터(10)가 반도체 제조 공정에 필요한 열을 발생할 수 있도록 히터(10)로 전압을 공급한다. 그리고, 히터 제어부(12)는 시스템 제어부(16)로부터 발생되는 온도 제어 신호(CON1)에 응답하여 히터(10)로 공급되는 전압의 크기를 제어하면서 히터(10)에서 발생되는 열을 제어한다. 결국, 시스템 제어부(16)로부터 발생되는 온도 제어 신호(CON1)에 상응하여 히터(10)에서 발생되는 열이 적정 온도를 유지할 수 있도록 제어된다.

온도 감지기(12)는 히터(10)에서 발생되는 열을 감지한다. 일반적으로, 온도 감지기(12)로 써머 커플(thermo couple:T/C)을 이용한다.

시스템 제어부(16)는 온도 감지기(12)에서 감지된 온도가 적정 온도를 유지하도록 제어하는 온도 제어 신호(COM1)를 히터 제어부(14)로 발생한다.

한편, 고온 감지부(18)는 온도 감지기(12)에서 검출된 온도가 상한 값을 벗어나면 제1제어 신호(COM2)를 발생하고, 저온 감지부(20)는 온도 감지기(12)에서 검출된 온도가 하한 값을 벗어나면 제2제어 신호(COM3)를 발생한다. 여기서, 고온 감지부(18) 및 저온 감지부(20)는 시스템 제어부(16)에서 히터(10)의 온도를 제어하는 온도 제어 프로그램에 버그가 발생하여 정상적인 온도제어가 이루어지지 않을 때 현재 진행되는 공정에 인터럽트를 걸어 더 이상 잘못된 공정이 진행되지 않도록 한다.

구체적으로, 도 1에는 도시되지는 않았지만 시스템 제어부(16)에는 모니터가 연결되어 현재의 온도 상태를 모니터에 표시한다. 이 때, 시스템 제어부(16)에서 히터(10)의 온도를 제어하는 온도 제어 프로그램에 버그가 발생하면, 온도 제어가 정상적으로 이루어지지 않고 있지만 모니터 상에는 정상적인 온도 상태인 것으로 표시할 수 있다. 이런 경우, 히터(10)의 온도는 계속 올라가거나 또는 계속 내려가게 되지만 모니터 상에서는 이러한 상태가 표시되지 않아, 이상 고온 또는 이상 저온에서 잘못된 공정이 진행되게 된다.

이러한 공정 오류를 방지하기 위해, 고온 감지부(18)는 히터(10)의 온도가 계속 올라가 이상 고온인 소정의 상한 값에 도달하면 제1제어 신호(COM2)를 시스템제어부(16)로 발생한다. 또한, 저온 감지부(20)는 히터(10)의 온도가 계속 내려가 이상 저온인 소정의 하한 값에 도달하면 제2제어 신호(COM3)를 시스템 제어부(16)로 발생한다.

시스템 제어부(16)는 고온 감지부(18)로부터 제1제어 신호(COM2)가 발생되면 히터 제어부(14)로 공급되는 전원을 오프시켜 히터(10)로 전원이 공급되는 것을 차단하고, 알람을 발생한다. 또한, 시스템 제어부(16)는 저온 감지부(20)로부터 제2제어 신호(COM3)가 발생되면 알람을 발생한다. 이처럼, 시스템 제어부(16)가 전원을 오프시키고 알람을 발생함으로써, 잘못된 공정 조건에서 공정이 계속되는 공정 오류를 방지할 수 있다.

결과적으로, 현재의 온도를 고온 감지부(18) 및 저온 감지부(20)에서 지속적으로 모니터링함으로써, 시스템 제어부(16)의 온도 제어 프로그램에 버그가 발생되어 정상적인 온도제어가 이루어지지 않는 경우에, 이상 고온 또는 이상 저온에서 잘못된 공정이 계속적으로 지속되는 것을 방지할 수 있다.

이상 도면과 명세서에서 최적 실시예들이 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 열 공급 장치에 따르면 현재의 온도를 고온 감지부(18) 및 저온 감지부(20)에서 지속적으로 모니터링함으로써, 시스템 제어부(16)의 온도 제어 프로그램에 버그가 발생되어 정상적인 온도제어가 이루어지지 않는 경우에, 이상 고온 또는 이상 저온에서 잘못된 공정이 계속적으로 지속되는 것을 방지할 수 있다.

Claims

반도체 제조시 필요한 열 공급 장치에 있어서,

공급되는 전압에 상응하는 열을 발생하는 히터;

상기 히터로 열 발생을 위한 전압을 공급하고, 온도 제어 신호에 응답하여 상기 히터로 공급되는 전압의 크기를 제어하는 히터 제어부;

상기 히터에서 발생되는 열을 감지하는 온도 감지기;

상기 온도 감지기에서 검출된 온도가 상한 값을 벗어나면 제1제어 신호를 발생하는 고온 감지부;

상기 온도 감지기에서 검출된 온도가 하한 값을 벗어나면 제2제어 신호를 발생하는 저온 감지부; 및

상기 온도 감지기에서 감지된 온도가 상기 적정 온도를 유지하도록 제어하는 상기 온도 제어 신호를 상기 히터 제어부로 발생하고, 상기 고온 감지부로부터 상기 제1신호가 발생되면 상기 히터 제어부의 파워를 오프하도록 상기 온도 제어 신호를 발생하고, 상기 저온 감지부로부터 상기 제2신호가 발생되면 알람 신호를 발생하는 시스템 제어부를 포함하는 것을 특징으로 반도체 장치 제조에 이용되는 열 공급 장치.