KR20020041680A - 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의격벽형성장치 및 그 방법 - Google Patents

아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의격벽형성장치 및 그 방법 Download PDF

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KR20020041680A
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract

본 발명은 아이스(ICE)를 이용하여 플라즈마 디스플레이 장치를 구성하는 하부글라스의 격벽재 페이스트를 연마하도록 된 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치 및 그 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명에 따른 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치는, 유전체막이 형성된 하부글라스에 도포된 격벽재 페이스트를 소정 연마처리장치를 통해 연마처리하여 격벽을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치에 있어서, 상기 연마처리장치는 압축공기를 저장 공급하기 위한 압축공기공급기와, 소정 크기의 아이스를 생성하기 위한 아이스생성장치, 상기 아이스생성장치로부터 인도되는 아이스를 분사하기 위한 아이스 노즐 및, 상기 압축공기공급기와 상기 아이스생성장치 및 상기 아이스 노즐에 결합되어, 상기 압축공기공급기로부터 발생되는 부압에 의해 상기 아이스생성장치로부터 생성된 아이스가 상기 아이스 노즐로 인도되도록 소정 경로를 제공하는 파이프를 구비하여 구성된 것을 특징으로 한다.

Description

아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치 및 그 방법{Apparatus and method for making a barrier-rib of PDP using ice }
본 발명은 평판 디스플레이패널에 관한 것으로, 특히 아이스(ICE)를 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 하부글라스의 격벽재 페이스트를 연마하도록 된 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치 및 그 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 표시장치는 인간과 전자장치의 정보교환을 위한 중요한 인터페이스로서, 정보화사회의 발전으로 인해 인간이 접할 수 있는 정보의 양이 방대해짐에 따라 이를 이용한 정보화기기의 다양화가 요구되었고, 이러한 정보화기기의 표시장치에 관한 특성이 중요시되게 되었다.
이에, 현재에는 대형제작이 가능하고 수명이 CRT(Cathode-Ray Tube)에 비해 두배 이상으로 길며, 구조가 간단하여 제작이 쉬운 플라즈마 디스플레이 패널에 대한 연구가 활발히 진행되고 있으며, 이는 현재까지 표시장치의 주류를 이루던 CRT를 대체할 차세대 디스플레이로서 가장 각광받고 있다.
한편, 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정은 크게 상부글라스와 하부글라스에 소정의 전극 및 유전체막, 격벽 등의 소성공정을 수행하는 전공정과, 전공정이 완료된 상부글라스와 하부글라스를 봉착시키고 소정의 가스를 배기 및 주입시켜 하나의 패널을 형성하는 후공정으로 나뉘어지게 된다.
도1은 일반적인 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 상호 대향하고 있는 상부 글라스와(11)과 하부 글라스(12) 각각의 대향면에 스트라이프 형상의 제 1전극(13a)과, 제 2전극(13b)이 형성되어 있다. 그리고, 상부 글라스(11)의 내측면에서 유전층(14)과 보호층(15)이 순차적으로 적층되어 있다. 하부 글라스(12)에는 유전층(16)의 상면 위에 격벽(17)이 형성되게 되며, 이 격벽(17) 사이의 공간이 셀(19)이 되고, 셀(19) 내에는 아르곤과 같은 불활성 가스로 채워지게 된다. 또한, 각각의 셀(19)의 바닥면 즉, 격벽(17) 사이 영역에는 형광체(18)가 형성되어 구성되게 된다.
여기서, 상기 격벽(17)은 상부 글라스(11) 및 하부 글라스(12) 사이의 방전 거리를 유지함과 더불어, 인접한 셀(19)간의 전기적, 광학적 상호혼신(crosstalk)을 방지하기 위한 것으로, 통상 인쇄법, 샌드 블라스트법, 첨가법 및 금형법등에 의해 형성되게 된다.
상기 인쇄법, 감광성재료법, 금형법등은 격벽 형성에 있어서 까다롭고, 낮은 저수율로 인하여 대량생산 적용에 한계가 있는 반면, 공정시간이 짧아지는 장점이 있지만 현 기술에 있어서는 적용이 곤란한 실정이다.
그리고, 상기 샌드 블라스트법은 재현성과 수율이 높기는 하지만, 고가의 연마재를 사용하기 때문에 고비용 및 고소음, 유해분진 발생등의 비환경친화적인 문제가 있게 된다.
도2는 상기 샌드 블라스트법을 통한 격벽 형성용 연마장치(30)의 구성을 나타낸 도면이다.
즉, 연마장치(30)는 격벽을 형성하기 위한 유전체층 및 격벽재 페이스트가 도포된 하부글라스(40)가 체임버(34)내의 이동테이블(35)에 안착되고, 파이프(P)를 통해 압축공기공급기(31)에 의해 발생되는 부압으로 연마재공급기(32)에 저장된 연마재가 체임버(34)내의 노즐(NOZZLE : 36)로 인도되게 된다.
이때, 상기 연마재는 SiO2, Al2O3,CaCO3등으로 구성되는 고가의 소비재로서, 약 25μm크기로 노즐(36)을 통해 하부글라스(40)의 격벽 패턴영역 외영역을 따라 분사되게 된다.
즉, 상기 이동테이블(35)은 도3에 도시된 바와 같이 하부글라스(40)의 격벽 패턴영역 외영역을 따라 "S"자 형상으로 이동하게 되며, 이에 따라 연마재에 의해 하부글라스(40)의 격벽 패턴영역 외영역이 연마처리되게 된다.
이때, 연마재에 의한 격벽재페이스트의 연마처리중에는 소정의 분진이 발생하게 되며, 이 분진을 소거하기 위한 집진기(33)를 통한 분진소거공정이 수행되게 된다.
여기서, 상기 집진기(33)는 체임버(34)로부터 흡입되는 분진성분, 즉 연마재성분과 격벽재 페이스트성분을 분리하여 연마재성분은 연마재공급기(32)로 공급하게 된다.
즉, 집진기(33)를 통해 고가 소비재인 연마재를 재활용하는 것이다.
그러나, 집진기(33)를 통한 연마재의 회수율은 약 80∼90%인 바, 계속하여고가 소비재인 연마재를 보충해주어야 한다. 이로 인해 플라즈마 디스플레이 패널의 가격 경쟁력을 약화시키게 되는 문제가 발생하게 된다.
또한, 집진기(33)를 사용하여 분진소거공정을 수행한다 하더라도 하부글라스(40)에 형성된 격벽과 격벽사이에 연마재 성분이 잔존하게 되는 경우가 있게 된다.
그런데, 하부글라스(40)에 형성된 격벽사이에 잔존하는 연마재는 이후의 분진소거공정시에도 제거가 되지 않아 플라즈마 디스플레이 패널의 완성시까지 그대로 존재하게 된다.
이는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동에 따른 가스방전시 방전떨림을 일으켜 플라즈마 디스플레이 패널의 화면특성을 저하시키게 되는 원인이 되게 된다.
이에, 최근에는 연마재를 통해 격벽재 페이스트 연마공정을 수행하고, 이후 집진기(33)를 통한 분진소거공정을 수행한 후, 격벽 사이의 잔존 연마재 소거를 위한 별도의 클리닝(Cleaing)공정을 수행하고 있다.
그러나, 상기한 클리닝공정은 플라즈마 디스플레이 패널의 화면특성을 최적상태로 유지한다는 장점이 있는 반면, 이로 인해 플라즈마 디스플레이 패널의 공정시간이 길어져 생산성을 저하시키게 되는 문제를 유발하게 된다.
이에, 본 발명은 상기한 사정을 감안하여 창출된 것으로, 아이스(ICE)를 이용하여 하부글라스에 도포된 격벽재 페이스트를 연마하도록 함으로써, 소비재인 연마재 비용을 절감시킴과 더불어, 격벽 형성공정 후의 고온 소성공정에 의해 격벽페이스트 연마공정시 잔존하는 연마재를 자동으로 소멸시켜 별도의 클리닝공정을 거치지 않도록 함으로써, 저비용, 고화질의 플라즈마 디스플레이 패널을 생산할 수 있도록 된 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치 및 그 방법을 제공함에 그 기술적 목적이 있다.
도1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도2는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성을 위한 연마장치 구성을 나타낸 도면.
도3은 도2에 도시된 연마장치의 이동테이블(35)이동 경로를 나타낸 도면.
도4는 본 발명에 따른 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성공정을 설명하기 위한 도면.
도5는 본 발명에 따른 아이스를 이용한 격벽형성장치의 구성을 나타낸 도면.
도6은 도5에 도시된 아이스생성장치(52)의 내부구성을 기능적으로 분리하여 나타낸 도면.
***** 도면의 주요부분에 대한 간단한 설명 *****
51 : 압축공기공급기, 52 : 아이스생성장치,
53 : 아이스 노즐, 54 : 분진 흡입기,
55 : 이동테이블, 40 : 격벽 형성용 하부글라스,
P1,P2 : 파이프, CH : 체임버,
I : 아이스.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 1관점에 따른 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성방법은, 유전체막이 형성된 하부글라스에 도포된 격벽재 페이스트를 소정 연마처리장치를 통해 연마처리하여 격벽을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성방법에 있어서, 격벽재 페이스트와 이 격벽재 페이스트 표면에 드라이필름레지스트가 격벽 형성로를 따라 라미네이팅되어 있는 하부글라스에 상기 연마처리장치를 통해 아이스를 분사하여 격벽 패턴영역 외영역에 위치하는 격벽재 페이스트를 연마하는 연마처리하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 2관점에 따른 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치는, 유전체막이 형성된 하부글라스에 도포된 격벽재 페이스트를 소정 연마처리장치를 통해 연마처리하여 격벽을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치에 있어서, 상기 연마처리장치는 압축공기를 저장 공급하기 위한 압축공기공급기와, 소정 크기의 아이스를 생성하기 위한 아이스생성장치, 상기 아이스생성장치로부터 인도되는 아이스를 분사하기 위한 아이스 노즐 및, 상기 압축공기공급기와 상기 아이스생성장치 및 상기 아이스 노즐에 결합되어, 상기 압축공기공급기로부터 발생되는 부압에 의해 상기 아이스생성장치로부터 생성된 아이스가 상기 아이스 노즐로 인도되도록 소정 경로를 제공하는 파이프를 구비하여 구성된 것을 특징으로 한다.
즉, 상기한 바에 의하면, 고가의 연마재를 사용하지 않고 아이스를 이용하여 격벽을 형성하도록 함으로써, 플라즈마 디스플레이 패널의 가격경쟁력을 향상시킴과 더불어, 격벽형성시 잔류하게 되는 아이스성분이 격벽형성공정 이후에 수행되는 고온 소성공정에 의해 자연 소멸하게 됨으로써, 별도의 클리너공정을 거치지 않고서도 안정된 특성을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 생성할 수 있게 된다.
이어, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 설명한다.
도4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성공정을 설명하기 위한 도면이다.
도4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 격벽형성고정은 유전체막(42)이 형성된 하부글라스(41)에 150∼200μm높이의 격벽재 페이스트(43)를 형성하여 건조시킨다(A).
그리고, 격벽재 페이스트(43) 표면에 드라이 필름 레지스트(DFR : 44)를 라미네이트한다(B).
이후, 상기 드라이 필름 레지스터(44)의 표면에 감광성 수지성분(45)을 패턴화하고, 노광 및 형상공정을 수행하게 된다(C,D).
그리고, 도4의 D단계와 같이, 격벽재 페이스트(43)의 표면에 소정 패턴형상의 드라이 필름 레지스터(44)가 형성된 상태에서 도5에 도시된 바와 같은 아이스노즐을 이용한 격벽재 페이스트(42) 연마공정을 수행하게 된다(E).
이때, 아이스 노즐는 드라이 필름 레지스터(44)가 도포되지 않은 격벽 패턴영역 외영역을 따라 아이스를 분사함으로써, 격벽 패턴영역 외영역의 격벽재 페이스트(42)를 연마하게 된다.
한편, 상기 격벽재 페이스트(42)의 연마공정이 끝나게 되면, 소정의 분진소거동작을 수행함과 더불어 격벽재 페이스트(42) 표면에 남아있는 드라이 필름 레지스트(44)를 제거하는 공정을 수행하게 된다(F).
그리고, 상술한 바와 같은 격벽 공정이 종료된 후에는 상부글라스(도시되지 않음)와 하부글라스를 결합시키는 후공정을 수행하게 되며, 이때 수행하는 후공정시에는 고온의 소성공정, 예컨대 상부글라스와 하부글라스의 결합시키기 위한 후릿글라스 소성공정등이 포함되게 된다.
한편, 도5는 도4에 도시된 격벽형성공정을 수행하기 위한 본 발명에 따른 아이스를 이용한 격벽형성장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 아이스를 이용한 격벽형성장치는, 소정의 압축공기공급기(51)와, 아이스생성장치(52)가 파이프(P1)를 통해 아이스 노즐(53)과 결합되어 구성된다.
또한, 체임버(CH)는 파이프(P2)를 통해 분진흡입기(54)와 결합되어 구성된다.
이때, 상기 아이스 노즐(53)는 체임버(CH) 내부에 위치하되, 하부글라스(56)의 격벽 패턴영역 외영역에 대향되도록 위치 구성되게 된다.
즉, 이동테이블(54)의 좌우 이동에 따라 하부글라스(56)의 격벽 패턴영역 외영역에 상기 아이스 노즐(53)로부터 분사되는 아이스가 분사되어 격벽재 페이스트가 연마되도록 구성되게 된다.
한편, 상기 분진흡입기(54)는 상기 아이스 노즐(53)을 통해 분사되는 아이스(I)를 통해 연마되는 격벽재 페이스트의 분진성분을 파이프(P2)를 통해 흡입함으로써, 하부글라스(56)의 상태를 정화하는 기능을 수행하게 된다.
또한, 도5에서 아이스생성장치(52)는 도6에 도시된 바와 같이, 물(H2O)이 저장되어 있는 물탱크(521)와, 이 물탱크(521)로부터 인가되는 물을 이용하여 아이스를 생성하기 위한 아이스생성부(522) 및, 이 아이스생성부(522)에서 생성되는 아이스의 크기를 조절 제어하기 위한 크기조절부(523)를 구비하여 구성되게 된다.
이때, 상기 크기조절부(523)는 아이스생성부(522)에서 생성되는 아이스의 크기를 7∼42μm사이로 조절가능하도록 구성되게 된다.
이어, 상기한 구성으로 된 장치의 동작을 설명한다.
우선, 유전체막(42)이 형성된 하부글라스(41)에 격벽재 페이스트(43)를 도포하고, 이 격벽재 페이스트(43)의 표면에 드라이 필름 레지스트(44)를 라미네이팅한 후, 감광성수지(45)를 통한 노광 및 형상공정에 따라 도4의 D단계와 같은 상태의 격벽 형성 하부글라스(40)가 체임버(CH) 내부의 이동테이블(55)에 위치된 상태에서, 운용자는 해당 공정상태, 예컨대 격벽 형성 하부글라스(40)의 크기등에 따라 아이스생성장치(52)의 크기조절부(523)를 이용하여 연마재로서의 아이스(I)의 크기를 선택하게 된다.
그리고, 아이스생성장치(52)의 아이스생성부(522)는 크기조절부(523)에 의해 선택된 크기정보에 대응되도록 소정 크기를 갖는 아이스(I)를 생성하게 된다.
이어, 상기 아이스생성부(522)에 생성된 소정 크기의 아이스(I)는 압축공기공급기(51)의 부압으로 파이프(P1)를 통해 아이스 노즐(53)로 인도되게 된다.
그리고, 아이스 노즐(53)는 파이프(P1)를 통해 인가되는 아이스(I)를 압축공기에 의한 압력으로 분사하게 된다.
이때, 체임버(CH)내부의 이동테이블(55)은 격벽 패턴영역 외영역을 따라 좌우 이동하게 되며, 이동테이블(54)은 격벽 패턴영역 외영역의 위치에서 소정 시간, 즉 아이스 노즐(53)로부터 배출되는 아이스(I)에 의해 격벽 패턴영역 외영역의 격벽재 페이스트가 연마 완료되는 시간동안 정지되고, 이후 해당 시간이 경과하게 되면 다음 격벽 패턴영역 외영역에 아이스(I)가 분사되도록 이동하게 된다.
이후, 하부글라스(56)의 격벽 형성공정이 완료되면, 아이스(I)에 의한 격벽 재 페이스트 연마공정에 따른 분진이 발생하게 되는 바, 분진흡입기(54)를 구동제어하여 체임버(CH)내의 분진을 흡입하게 된다.
이때, 분진흡입기(54)로 흡입된 분진성분은 아이스, 즉 물성분과 격벽재 페이스트성분이 되게 된다.
이후, 격벽형성이 완료되면, 상부글라스와 하부글라스를 후릿글라스를 통해 결합시키고, 상부글라스와 하부글라스간에 형성되는 셀공간으로 소정 방전가스를 삽입하는 등의 플라즈마 디스플레이 패널의 후공정과정을 수행하게 된다.
이때, 상기 상부글라스와 하부글라스의 결합을 위해서는 고온의 상태, 예컨대 250℃이상의 온도에서 소성공정을 수행하게 되는 바, 이 고온 소성공정에 의해 격벽형성시 잔류하는 아이스(I)는 증발되게 된다.
즉, 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성에 따른 연마재, 즉 아이스의 잔류성분이 격벽형성 이후 수행되는 소성공정에 의해 자동으로 소멸되게 된다.
따라서, 종래 SiO2등의 성분으로 구성되는 고가 연마재를 이용할 때의 클리닝작업을 별도로 수행할 필요가 없게 됨은 물론, 소모재로서의 연마재로 저가의 물로 대체함으로써, 연마재 구입에 따른 생산원가가 절감되게 된다.
또한, 이는 결과적으로 플라즈마 디스플레이 패널의 공정시간을 단축시킴과 더불어, 이에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 공정비를 감소시키게 되는 효과가 있게 되며, 잔류 연마재성분의 자연 소멸로 인해 고화질의 플라즈마 디스플레이 패널을 생성할 수 있게 된다.
또한, 격벽형성시의 조건에 따라 연마재인 아이스의 크기를 조절하도록 함으로써, 적응적인 플라즈마 디스플레이 패널의 생성을 유도할 수 있게 된다.
한편, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 다양하게 변형 실시하는 것이 가능하다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 고가의 연마재를 사용하지 않고 아이스를 이용하여 격벽을 형성하도록 함으로써, 플라즈마 디스플레이 패널의 가격경쟁력을 향상시킴과 더불어, 격벽형성시 잔류하게 되는 아이스성분이 격벽형성공정 이후에 수행되는 고온 소성공정에 의해 자연 소멸하게 됨으로써, 클리너공정을 거치지 않고서도 안정된 특성을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 생성할 수 있게 된다.

Claims (5)

  1. 유전체막이 형성된 하부글라스에 도포된 격벽재 페이스트를 소정 연마처리장치를 통해 연마처리하여 격벽을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성방법에 있어서,
    격벽재 페이스트와 이 격벽재 페이스트 표면에 드라이필름레지스트가 격벽 형성로를 따라 라미네이팅되어 있는 하부글라스에 상기 연마처리장치를 통해 아이스를 분사하여 격벽 패턴영역 외영역에 위치하는 격벽재 페이스트를 연마하는 연마처리하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 연마처리단계는 연마처리장치로부터 분사되는 아이스의 크기를 조절하는 아이스크기조절단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성방법.
  3. 유전체막이 형성된 하부글라스에 도포된 격벽재 페이스트를 소정 연마처리장치를 통해 연마처리하여 격벽을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치에 있어서,
    상기 연마처리장치는 압축공기를 저장 공급하기 위한 압축공기공급기와,
    소정 크기의 아이스를 생성하기 위한 아이스생성장치,
    상기 아이스생성장치로부터 인도되는 아이스를 분사하기 위한 아이스 노즐 및,
    상기 압축공기공급기와 상기 아이스생성장치 및 상기 아이스 노즐에 결합되어, 상기 압축공기공급기로부터 발생되는 부압에 의해 상기 아이스생성장치로부터 생성된 아이스가 상기 아이스 노즐로 인도되도록 소정 경로를 제공하는 파이프를 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 아이스생성장치는 물이 저장되어 있는 물탱크와,
    상기 물탱크로부터 인가되는 물을 소정 크기의 아이스상태로 변화시키기 위한 아이스생성부 및,
    상기 아이스생성부에서 생성되는 아이스의 크기를 조절하기 위한 크기조절부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 연마장치는 연마처리공정을 수행하는 체임버 내부에 관통된 파이프와, 이 파이프의 타단에 결합되어 파이프로부터 인가되는 체임버 내부의 분진성분을 흡입하기 위한 분진흡입수단을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성장치.
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KR1020000071359A KR20020041680A (ko) 2000-11-28 2000-11-28 아이스를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의격벽형성장치 및 그 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100452742B1 (ko) * 2002-04-04 2004-10-12 엘지전자 주식회사 수용액의 후막 식각에 의한 플라즈마 디스플레이 소자의격벽 제조방법 및 그것의 후막 조성물

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KR100452742B1 (ko) * 2002-04-04 2004-10-12 엘지전자 주식회사 수용액의 후막 식각에 의한 플라즈마 디스플레이 소자의격벽 제조방법 및 그것의 후막 조성물

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