JP4183109B2 - プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に関するものであり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成するリブをサンドブラスト加工法により形成する技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス基材にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式とメモリー駆動方式とに分類される。
【０００３】
図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図示のように２枚のガラス基材１，２が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基材２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス基材１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されており、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されている。また、背面板となるガラス基材２の前面側には前記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアドレス電極８が互いに平行に形成されており、これを覆って誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体層１０が設けられている。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体層１０を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっている。
【０００４】
このようなＰＤＰにおける背面板上のリブは、従来はスクリーン印刷による重ね刷りで形成されていたが、最近では精度の点から所謂サンドブラスト法により形成されることが多くなっている。この方法でリブを形成する場合、低融点ガラス粉末、耐火物フィラーなどの無機粉体を主成分又は成分とし、これに適当なバインダー樹脂及び溶剤を添加してなるリブペーストを基材上に塗布して乾燥させることでリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト性の有る感光性樹脂組成物層を設けた後、フォトリソグラフィー法でセル画定用マスクにパターニングし、そのサンドブラスト用マスクの上方の噴射ノズルから研削材を含む混合エアーを噴射することによりリブ材料層の不要部分を除去し、次いで耐サンドブラスト用マスクを除去してから焼成する手順が採られている。そして、その研削材として、ガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 等の無機粉体が使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記したサンドブラスト法によるリブ形成方法では、噴射ノズルから研削材を含むエアーを噴射してリブ材料層をパターニングするが、この場合、研削材が基板に衝突した時に基板上に静電気が発生する。そして、この静電気がリブの品質に影響を与えることがある。特に、基板上の帯電量が多くなると、基板がサンドブラスト装置に近接しすぎると大きな放電を起こし、アドレス電極やリブに欠陥を生じることがある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、サンドブラスト加工時に生じる静電気により欠陥を生じないようにしたＰＤＰのリブ形成方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係るＰＤＰのリブ形成方法は、基板上にリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパターン状に形成した後、マスクの上方から研削材を含む混合エアーを噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層をリブ形状にパターニングする工程を含むＰＤＰのリブ形成方法において、基板に向けて研削材を噴射する噴射ノズルに除電ブラシを取り付け、その除電ブラシを基板に接触させずに基板との距離を調整した上で、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させることにより、基板上に発生する静電気を除電しながらサンドブラスト加工を行うことを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００１０】
図２は本発明で使用するサンドブラスト装置の一例を示す概略構成図である。
【００１１】
図２において、２０は基板加工室を示しており、被加工物である基板Ｇは搬送ローラの如き基板搬送手段２１により基板加工室２０の外から入口２０ａを通って搬入され、加工室内で搬送されながら加工された後、出口２０ｂから外へ搬出されるようになっている。２２は基板加工室２０の中で基板Ｇに向けて研削材を噴射する噴射ノズルであり、図示しない研削材供給手段からエアーと共に研削材が供給管２３を通って供給されるように構成されている。
【００１２】
また、噴射ノズル２２は、基板加工室２０の上部に設けられた噴射ノズル移動手段により基板Ｇの搬送方向に対して直交する方向に往復動するように配置されている。図２に示す例では、基板加工室２０の上面に、噴射ノズル２２の供給管２３が通るためのスリット状開口部２０ｃ，２０ｄが設けられており、供給管２３に取り付けられた台車２４がスリット状開口部２０ｃ，２０ｄの両側に設置されたレール２５の上を移動するようになっている。
【００１３】
噴射ノズル２２は、図３の斜視図にも示すように、その側面に除電ブラシ３０が取り付けられた構造をしている。この場合、噴射ノズル２２におけるノズル孔が並ぶ方向と平行になる状態で取り付けられている。この除電ブラシ３０は導電性のある樹脂製の毛３１を植毛したものが好ましく、市販のものを利用することができる。なお、言うまでもないが、除電ブラシ３０はアースしておく必要がある。そして、除電ブラシ３０と基板Ｇとの間隔を調節できるようにしておくのが望ましい。例えば、噴射ノズル２２に除電ブラシ３０をネジで固定するような場合には、取付位置を移動できるようにしておけばよい。
【００１４】
上記構成のサンドブラスト装置により、基板Ｇ上のリブ形成層をパターニングすると、噴射ノズル２２から噴射された研削材が基板Ｇに当たって静電気が発生しても、基板Ｇ上の電荷が除電ブラシ３０により常時取り除かれる。したがって、大きな放電現象が発生することがない。この場合、除電ブラシ３０を基板Ｇに接触させなくとも、基板Ｇとの距離を調整することで、基板Ｇ上の帯電電荷を除去することができる。逆に、除電ブラシ３０が基板Ｇに接触していると、リブを欠損させるなどの不具合を生じる可能性が高くなる。除電ブラシ３０と基板Ｇとの距離は、両者が接触せずかつ２０ｍｍ以下の範囲で調整するとよい。２０ｍｍを越えるようだと、除電作用をなさなくなる。実際的には５〜１０ｍｍ程度の範囲内で調整するのが好ましい。
【００１６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、基板上にリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパターン状に形成した後、マスクの上方から研削材を含む混合エアーを噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層をリブ形状にパターニングする工程を含むＰＤＰのリブ形成方法において、基板に向けて研削材を噴射する噴射ノズルに除電ブラシを取り付け、その除電ブラシを基板に接触させずに基板との距離を調整した上で、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させることにより、基板上に発生する静電気を除電しながらサンドブラスト加工を行うようにしたので、サンドブラスト加工中に大きな放電を起こすことがないことから、アドレス電極やリブに欠陥を生じることなく、リブのパターニングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 プラズマディスプレイパネルの一例をその前面板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
【図２】 本発明で使用するサンドブラスト装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】 図２のサンドブラスト装置における噴射ノズルの拡大斜視図である。
【符号の説明】
１，２ ガラス基材
３ リブ
４ 維持電極
５ バス電極
６ 誘電体層
７ 保護層
８ アドレス電極
９ 誘電体層
１０ 蛍光体層
２０ 基板加工室
２０ａ 入口
２０ｂ 出口
２０ｃ，２０ｄ スリット状開口部
２１ 基板搬送手段
２２ 噴射ノズル
２３ 供給管
２４ 台車
２５ レール
３０ 除電ブラシ
３１ 毛
Ｇ 基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に関するものであり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成するリブをサンドブラスト加工法により形成する技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス基材にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式とメモリー駆動方式とに分類される。
【０００３】
図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図示のように２枚のガラス基材１，２が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基材２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス基材１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されており、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されている。また、背面板となるガラス基材２の前面側には前記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアドレス電極８が互いに平行に形成されており、これを覆って誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体層１０が設けられている。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体層１０を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっている。
【０００４】
このようなＰＤＰにおける背面板上のリブは、従来はスクリーン印刷による重ね刷りで形成されていたが、最近では精度の点から所謂サンドブラスト法により形成されることが多くなっている。この方法でリブを形成する場合、低融点ガラス粉末、耐火物フィラーなどの無機粉体を主成分又は成分とし、これに適当なバインダー樹脂及び溶剤を添加してなるリブペーストを基材上に塗布して乾燥させることでリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト性の有る感光性樹脂組成物層を設けた後、フォトリソグラフィー法でセル画定用マスクにパターニングし、そのサンドブラスト用マスクの上方の噴射ノズルから研削材を含む混合エアーを噴射することによりリブ材料層の不要部分を除去し、次いで耐サンドブラスト用マスクを除去してから焼成する手順が採られている。そして、その研削材として、ガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 等の無機粉体が使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記したサンドブラスト法によるリブ形成方法では、噴射ノズルから研削材を含むエアーを噴射してリブ材料層をパターニングするが、この場合、研削材が基板に衝突した時に基板上に静電気が発生する。そして、この静電気がリブの品質に影響を与えることがある。特に、基板上の帯電量が多くなると、基板がサンドブラスト装置に近接しすぎると大きな放電を起こし、アドレス電極やリブに欠陥を生じることがある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、サンドブラスト加工時に生じる静電気により欠陥を生じないようにしたＰＤＰのリブ形成方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係るＰＤＰのリブ形成方法は、基板上にリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパターン状に形成した後、マスクの上方から研削材を含む混合エアーを噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層をリブ形状にパターニングする工程を含むＰＤＰのリブ形成方法において、基板に向けて研削材を噴射する噴射ノズルに除電ブラシを取り付け、その除電ブラシを基板に接触させずに基板との距離を調整した上で、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させることにより、基板上に発生する静電気を除電しながらサンドブラスト加工を行うことを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
次に、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００１０】
図２は本発明で使用するサンドブラスト装置の一例を示す概略構成図である。
【００１１】
図２において、２０は基板加工室を示しており、被加工物である基板Ｇは搬送ローラの如き基板搬送手段２１により基板加工室２０の外から入口２０ａを通って搬入され、加工室内で搬送されながら加工された後、出口２０ｂから外へ搬出されるようになっている。２２は基板加工室２０の中で基板Ｇに向けて研削材を噴射する噴射ノズルであり、図示しない研削材供給手段からエアーと共に研削材が供給管２３を通って供給されるように構成されている。
【００１２】
また、噴射ノズル２２は、基板加工室２０の上部に設けられた噴射ノズル移動手段により基板Ｇの搬送方向に対して直交する方向に往復動するように配置されている。図２に示す例では、基板加工室２０の上面に、噴射ノズル２２の供給管２３が通るためのスリット状開口部２０ｃ，２０ｄが設けられており、供給管２３に取り付けられた台車２４がスリット状開口部２０ｃ，２０ｄの両側に設置されたレール２５の上を移動するようになっている。
【００１３】
噴射ノズル２２は、図３の斜視図にも示すように、その側面に除電ブラシ３０が取り付けられた構造をしている。この場合、噴射ノズル２２におけるノズル孔が並ぶ方向と平行になる状態で取り付けられている。この除電ブラシ３０は導電性のある樹脂製の毛３１を植毛したものが好ましく、市販のものを利用することができる。なお、言うまでもないが、除電ブラシ３０はアースしておく必要がある。そして、除電ブラシ３０と基板Ｇとの間隔を調節できるようにしておくのが望ましい。例えば、噴射ノズル２２に除電ブラシ３０をネジで固定するような場合には、取付位置を移動できるようにしておけばよい。
【００１４】
上記構成のサンドブラスト装置により、基板Ｇ上のリブ形成層をパターニングすると、噴射ノズル２２から噴射された研削材が基板Ｇに当たって静電気が発生しても、基板Ｇ上の電荷が除電ブラシ３０により常時取り除かれる。したがって、大きな放電現象が発生することがない。この場合、除電ブラシ３０を基板Ｇに接触させなくとも、基板Ｇとの距離を調整することで、基板Ｇ上の帯電電荷を除去することができる。逆に、除電ブラシ３０が基板Ｇに接触していると、リブを欠損させるなどの不具合を生じる可能性が高くなる。除電ブラシ３０と基板Ｇとの距離は、両者が接触せずかつ２０ｍｍ以下の範囲で調整するとよい。２０ｍｍを越えるようだと、除電作用をなさなくなる。実際的には５〜１０ｍｍ程度の範囲内で調整するのが好ましい。
【００１６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、基板上にリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパターン状に形成した後、マスクの上方から研削材を含む混合エアーを噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層をリブ形状にパターニングする工程を含むＰＤＰのリブ形成方法において、基板に向けて研削材を噴射する噴射ノズルに除電ブラシを取り付け、その除電ブラシを基板に接触させずに基板との距離を調整した上で、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させることにより、基板上に発生する静電気を除電しながらサンドブラスト加工を行うようにしたので、サンドブラスト加工中に大きな放電を起こすことがないことから、アドレス電極やリブに欠陥を生じることなく、リブのパターニングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 プラズマディスプレイパネルの一例をその前面板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
【図２】 本発明で使用するサンドブラスト装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】 図２のサンドブラスト装置における噴射ノズルの拡大斜視図である。
【符号の説明】
１，２ ガラス基材
３ リブ
４ 維持電極
５ バス電極
６ 誘電体層
７ 保護層
８ アドレス電極
９ 誘電体層
１０ 蛍光体層
２０ 基板加工室
２０ａ 入口
２０ｂ 出口
２０ｃ，２０ｄ スリット状開口部
２１ 基板搬送手段
２２ 噴射ノズル
２３ 供給管
２４ 台車
２５ レール
３０ 除電ブラシ
３１ 毛
Ｇ 基板
Claims (1)
- 基板上にリブ材料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパターン状に形成した後、マスクの上方から研削材を含む混合エアーを噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層をリブ形状にパターニングする工程を含むプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法において、基板に向けて研削材を噴射する噴射ノズルに除電ブラシを取り付け、その除電ブラシを基板に接触させずに基板との距離を調整した上で、噴射ノズルを基板搬送方向に対して直交する方向に往復動させることにより、基板上に発生する静電気を除電しながらサンドブラスト加工を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000217104A JP4183109B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000217104A JP4183109B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002028870A JP2002028870A (ja) | 2002-01-29 |
| JP4183109B2 true JP4183109B2 (ja) | 2008-11-19 |
Family
ID=18712264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000217104A Expired - Fee Related JP4183109B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4183109B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6679747B1 (en) * | 2000-08-11 | 2004-01-20 | Au Optronics Corp. | Conducting carrier of sand blasting device for removing elestrostatic charge generated during sand blasting process |
| KR100501306B1 (ko) * | 2002-04-01 | 2005-07-18 | (주) 휴네텍 | 도광판 제조방법 및 제조장치와 이를 위한 도광판 제조용입자분사장치 |
| CN102737925A (zh) * | 2012-06-29 | 2012-10-17 | 四川虹欧显示器件有限公司 | 一种去除显示屏残存电荷的方法及装置 |
| CN105563345A (zh) * | 2015-12-17 | 2016-05-11 | 东莞丰裕电机有限公司 | 平面滚辊喷砂机 |
| CN111469060A (zh) * | 2020-04-21 | 2020-07-31 | 中船黄埔文冲船舶有限公司 | 一种冲砂装置 |
| CN114193335B (zh) * | 2021-12-21 | 2023-12-22 | 浙江普菲特切削工具有限公司 | 一种金属陶瓷刀片加工工艺 |
-
2000
- 2000-07-18 JP JP2000217104A patent/JP4183109B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002028870A (ja) | 2002-01-29 |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080828 |
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