KR20020014991A - 다중 도메인 및 ｉｐｓ 액정 디스플레이 - Google Patents

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KR20020014991A
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Abstract

본 발명은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드(ridge and fringe field) 방법 중 한 방법을 이용하여 건식 증착된 액정 정렬층을 제조하는 방법을 포함한다. 본 발명은 또한 하부 기판, 제 1 투명 도전층, 상부 기판, 컬러 필터층, 제 2 투명 도전층, 제 1 건식 증착된 액정 정렬층, 상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층과 인접하게 간격을 두고 마주보는 제 2 건식 증착된 액정 정렬층, 스페이서, 액정 재료를 포함하는 다중 도메인의 넓은 시야각의 액정 디스플레이를 제공한다. 각각의 상기 제 1 및 제 2 정렬층은 복수의 픽셀들로 분할되며, 상기 픽셀들은 각각 경계 및 적어도 두 개의 도메인을 가지며, 각각의 다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층들은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드를 포함하는 그룹으로부터 선택된 방법에 의해 얻어진다. 본 발명의 다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이는 동일 평면의 스위칭 모드에서 동작하여 화상의 스티킹(sticking)을 감소시킬수 있다.

Description

다중 도메인 및 ＩＰＳ 액정 디스플레이{MULTI-DOMAIN AND IPS LIQUID-CRYSTAL DISPLAY USING DRY ALIGNMENT}
본 발명은 건식 증착된(dry deposited) 액정 정렬층을 갖는, 다수 도메인의 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이에 관한 것으로서, 특히, 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리 및 리지 및 프린지 필드 방법(ridge and fringe field method) 중 하나에 의해 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법에 관한 것이다.
액정 정렬을 위한 건식층(dry layer)의 사용은 공지되어 있다. 그러나, 건식층 정렬 단독으로는 액정 디스플레이에 대한 넓은 시야각을 제공하지 않는다.
미국 특허 제 6,020,946호는 낮은 에너지 이온 충격을 이용하여 액정 디스플레이에 대한 건식 처리 방법을 개시하고 있으며, 그 내용은 본원 명세서에 참조된다. 그러나, 이 방법에 의해 생성된 액정 디스플레이는 단일 도메인 구조를 가지며 넓은 시야각의 디스플레이를 제공하지 않는다.
미국 특허 제 5,770,826호는 저 에너지의 중성 아르곤 이온빔에 표면을 노출시킴으로서 폴리이미드 표면상에 액정들을 정렬하는 방법을 개시하고 있으며, 그 내용은 본원에 참조된다. 상기 미국 특허 제 6,020,946호에서와 같이, 상기 방법에 의해 생성된 액정 디스플레이는 다중 도메인 구조를 갖지 않고 넓은 시야각의 디스플레이를 제고하지 않는다. 따라서, 본 발명은 다중 도메인의 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이를 제공한다.
본 발명의 목적은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법(ridge and fringe field method) 중 하나에 의해 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 다중 도메인 및 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 다중 도메인 및 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이를 제공하는 개선된 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 다중 도메인 및 넓은 시야각을 갖는 동일 평면 스위칭 모드 액정 디스플레이를 제공하는 개선된 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 다중 도메인 및 넓은 시야각을 갖는 동일 평면 스위칭 모드 액정 디스플레이를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 저비용의 쉽게 처리되는 다중 도메인 및 넓은 시야각을 갖는 동일 평면 스위칭 모드 액정 디스플레이를 제공하는 것이다.
도 1은 2 도메인 TN "트위스트 네마틱(twist nematic)"의 단일 픽셀 구조를 도시한 도면.
도 2는 좌방향의 카이럴리티(chirality) 액정을 갖는 4 도메인(각각의 도메인은 상이한 방향으로 경사짐) TN의 단일 픽셀 구성을 도시한 도면.
도 3은 좌방향의 카이럴리티(chirality) 액정을 갖는 4 도메인(각각의 도메인은 상이한 방향으로 경사짐) TN의 단일 픽셀 구성을 도시한 도면.
도 4는 카이럴리티(chirality)가 없는 액정을 갖는 4 도메인(각각의 도메인은 상이한 방향으로 경사짐) TN의 단일 픽셀 구성을 도시한 도면.
도 5는 카이럴리티(chirality)가 없는 액정을 갖는 4 도메인(각각의 도메인은 상이한 방향으로 경사짐) TN의 단일 픽셀 구성을 도시한 도면.
도 6은 2 도메인 액정 디스플레이에 대해 도메인을 정렬하는 상이한 방법을 도시한 도면.
도 7은 좌방향 트위스트로 UV 처리 방법을 도시한 도면.
도 8a는 리지 및 프린지 필드 방법(ridge and fringe field method)의 일실시예를 도시한 도면.
도 8b는 최상부와 하부 정렬층들 상의 마찰 방향을 나타내는 리지 및 프린지 필드 방법(ridge and fringe field method)의 일실시예를 도시한 도면.
도 9는 콘트라스트 비 외형선(contour)을 기계적인 마스크 방법에 의해 준비된 건식(dry) 증착된 정렬층을 이용하여 제조된 2 도메인 패널에 대한 시야각의 함수로서 도시한 도면.
도 10은 콘트라스트 비 외형선(contour)을 종래의 마찰 폴리이미드 방법(rubbed polyimide method)을 이용하여 제조된 단일 도메인 패널에 대한 시야각의 함수로서 도시한 도면.
도 11a는 동일 평면의 스위칭(in-plane switching)(IPS) 모드의 액정 디스플레이의 개략도.
도 11b는 동일 평면의 스위칭(in-plane switching)(IPS) 모드의 액정 디스플레이에 대한 빗살형 구조의 공통인 픽셀 전극의 개략도.
도 12는 완전히 필드온(field-on) 상태에서 액정 분자 배향을 나타내는 동일 평면의 스위칭(in-plane switching)(IPS) 전극들의 개략도.
도 13은 2 도메인 스위칭(in-plane switching)(IPS) 모드에서 동작하는 액정 디스플레이의 개략도.
도 14a는 불연속적인 기계적인 마스크를 이용한, 이온빔에 의한 충격에 의해 건식 증착된 층의 도메인들의 정렬을 개략적으로 도시한 도면.
도 14b는 포토레지스트(PR) 마스크를 이용한, 이온빔에 의한 충격에 의해 건식 증착된 층의 도메인들의 정렬을 개략적으로 도시한 도면.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
80 : 하부 편광기 81 : 하부 기판
82 : 제 1 도전층 83 : 제 1 건식 증착된 액정 정렬층
84 : 공통 전극 85 : 픽셀 전극
90 : 상부 편광기 91 : 상부 기판
92 : 컬러 필터층 93 : 제 2 투명 도전층
94 : 제 2 건식 증착된 액정 정렬층
95 : 액정 재료 96 : 스페이서
본 발명의 상기 및 다른 목적은 신규한 다중 도메인 및 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이와, 상기 디스플레이를 제공하는 방법과, 본 발명에 따른 건식 증착된 액정 정렬층을 얻는 방법에 의해 명확해질 것이다.
따라서, 본 발명은 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법을 포함한다. 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법(ridge and fringe field method) 중 하나로부터 선택된다.
본 발명은 다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이를 더 포함한다. 상기 다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이는 다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이는 제 1 표면을 갖는 하부 기판과, 상기 하부 기판의 상기 제 1 표면상에 증착된 제 1 투명 도전층과, 제 2 표면을 갖는 상부 기판과, 상기 상부 기판의 상기 제 2 표면상에 증착된 컬러 필터와, 상기 컬러 필터 상에 증착된 제 2 투명 도전층과, 상기 제 1 투명 도전층 상의 제 1 건식 증착된 액정 정렬층과, 상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층 상의, 상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층과 떨어져서 인접하게 마주보고 있는 제 2 건식 증착된 액정 정렬층과, 상기 제 1 및 제 2 건식 증착된 액정 정렬층 사이의 공간내에 분포된 복수의 균일한 크기의 투명 또는 불투명 스페이서와, 상기 제 1 및 제 2 건식 증착된 액정 정렬층들 사이의 공간에 배치된 액정 재료를 포함한다. 각각의 제 1 정렬층과 제 2 정렬층은 각각 복수의 픽셀들로 분할되며, 이들 픽셀들은 각각 경계 및 적어도 두 개의 도메인을 갖는다. 각각의 상기 다중 도메인, 건식 증착된 액정 정렬층들은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법으로부터 선택된 방법에 의해 얻어진다.
본 발명은 또한 액정 디스플레이를 제조하는 개선된 방법을 포함한다. 상기 방법은 제 1 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 제 2 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 각각 서로 인접하여 마주보는 제 1 및 제 2 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와, 상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함한다. 상기 개선은 제 1 다중 도메인 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 제 2 다중 도메인 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 인접하여 서로 마주보는 상기 제 1 및 제 2 다중 도메인 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와, 상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함한다. 각각의 상기 다중 도메인의 건식 증착된 액정 정렬층은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법 중 하나로부터 선택된 방법에 의해 얻어진다.
본 발명은 또한 제 1 및 제 2 폴리이미드 정렬층을 형성하는 단계를 포함하는 동일한 평면(in-plane)의 스위칭 모드 액정 디스플레이 -상기 제 1 층 및 제 2 층은 각각 벨벳으로 감싼 기계적인 롤로 마찰됨- 를 제조하는 종래 방법에 대해 개선된 방법을 포함한다. 상기 개선은 제 1 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 제 2 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 서로 인접하며 마주보는 제 1 및 제 2 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와, 상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함하고, 각각의 상기 건식 증착된 액정 정렬층은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법을 포함하는 그룹으로부터 선택된 방법으로 얻어진다.
본 발명은 또한 넓은 시야각의 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이로서, 하부 편광기와, 하부 기판과, 상부 편광기와, 상부 기판과, 상기 상부 기판의 표면상에 증착된 컬러 필터층과, 동작시, 상기 액정 재료의 분자들이 스위치되어 상기 기판 평면 내에서 회전하도록 상기 하부 기판의 평면에 평행한 전기장을 생성하기 위한, 상기 하부 기판 평면에 배치된 복수의 공통 전극 및 상기 공통 전극과 스태거링(staggering) 관계로 배치되어 빗살형 구조를 형성하는 복수의 픽셀 전극과, 상기 하부 기판 및 상기 빗살형 전극들 상의 제 1 건식 증착된 액정 정렬층과, 상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층(83)에 인접하게 마주보며 간격을 두고 위치한, 상기 컬러 필터층 상의 제 2 건식 증착된 액정 정렬층과, 상기 공간 내에 분포된 복수의 균일한 크기의 투명 또는 반투명 스페이서와, 상기 정렬층들 사이의 공간에 배치된 액정 재료를 포함하는 넓은 시야각의 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이를 포함한다.
본 발명은 단순하고, 비용 효율적이며 쉽게 제조되는 넓은 시야각의 액정 디스플레이를 제공한다.
본 발명은 액정 정렬층으로서 건식층을 사용하는 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이와 관련된다.
본 발명에 따른 넓은 시야각의 액정 디스플레이는 다음 방법들 중 한 방법에 의해 건식 증착된 액정 정렬을 준비하는 방법을 포함한다.
(1) 기계적인 마스크 방법,
(2) 포토레지스트 방법,
(3) UV 처리 방법,
(4) 리지 및 프린지 필드 방법.
상기 방법들은 각각 하나 이상의 이온빔 처리 단계를 이용한다. 예를 드면, 리지 및 프린지 필드 방법은 이온빔 처리 단계를 포함한다. 이와 유사하게 UV 처리 방법은 이온빔 처리 및 UV 처리 단계를 포함한다.
기계적인 마스크 방법은 기판 상에 투명한 건식 증착된 정렬층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와, 건식 증착된 층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 건식 증착된 층을 마스크로 마스킹하는 단계와, 상기 마스크를 통하여 이온빔으로 상기 건식 증착된 층을 선택적으로 충격을 가하는 단계를 포함하는 단계를 포함한다.
바람직하게는, 상기 제 1 도메인 영역들은 마스크되지 않고, 전체 층에 이온빔으로 충격을 가하여 전 영역에서 원하는 정렬을 얻는다. 그 다음에, 제 1 도메인 영역들을 마스크하고 제 2 도메인 영역들의 마스크를 제거한 다음, 전체 층에 이온빔으로 충격을 가하여 제 2 도메인 영역에서 원하는 정렬을 얻으며, 제 2 도메인 영역에서의 정렬 방향은 제 2 도메인 영역 내의 정렬의 방향과 상이하다. 바람직하게는, 상기 마스크는 금속으로 만들어진 기계적인 마스크이다.
바람직하게는, 상기 기판은 유리이다. 바람직하게는 상기 도전성 투명층은 인듐 주석 산화물(ITO)이며, 그 위에 건식 증착된 재료는 특히, 가시 스펙트럼에서 광학적으로 투명한 층을 형성할 수 있는 재료이다.
건식 증착에 사용하기에 적합한 재료의 예로는 수소화(hydrogenated) 다이아몬드형 카본(DLC), 비정질 수소화 실리콘, 실리콘 카바이드(SiC), 실리콘 다이옥사이드(SIO2), 유리, 실리콘 니트라이드(Si3N4), 알루미나(Al2O3), 세륨(IV) 옥사이드(CeO2), 주석 옥사이드(SnO2), 아연 티타네이트(ZnTiO2) 및 기타 적절한 건식 재료들이 있다. 이들 재료들은 종래의 폴리이미드 필름에 의해 노출된 특성과 유사한 특성을 최소로 갖는 정렬층을 형성하는데 사용될 수 있다.
본 발명에 따르면, 기판상의 정렬층은 다이아몬드형 카본과 같은 적절한 재료를 이용하여 건식 증착 기술에 의해 증착된다.
이들 재료들의 건식 증착은 전술한 미국특허 제 6,020,946호에 개시된 것과 같은 공지된 방법에 의해 수행된다. 예를 들면, 건식 처리된 정렬층은 플라즈마 화학 기상 증착(PECVD)과 같은 건식 처리 기술을 이용하여 기판 상의 도전성 투명층에 증착된다.
본 발명에 사용된 바람직한 공정에 따라 증착된 수소화 다이아몬드형 카본 정렬층은 비정질이며, 열적으로 안정하고, 전기 절연성이며 광학적으로 투명한 것을 특징으로한다. 또한, PECVD에 의해 하이드로카본/헬륨 기체로부터 증착된 그러한 정렬층은 일반적으로 다이아몬드 필름과 관련된 유전체의 세기와 유사한 유전체의 세기를 갖는다. 예를 들면, 건식 증착된 층은 10 MV/cm에 가까운 유전체의 세기를 가질 수도 있다.
이온빔 정렬은 미국 특허 제 6,020,946호에 개시되어 있는 바와 같이 공지된 절차에 의해 수행된다.
일반적으로 알고 있듯이, 정렬층은 액정의 방향을 배향하는 역할을 한다. 즉, 액정 셀이 형성될 때, 액정 분자들은 정렬층들의 원자 구조에 의해 제공된 방향을 따라서 정렬된다. 따라서, 수평의 단일 방향 또는 다수 방향의 방법과 같은 원하는 방향 또는 배향으로 정렬층의 원자 구조를 흩어지게 한 후 정렬하기 위해 정렬층에서 이온을 방사하는데 이온빔이 사용될 수 있다.
일실시예에서, 국부 영역을 선택적으로 정렬하여 정렬 도메인들을 제조하는데 정렬층으로 에칭된 특징을 갖는 마스크가 사용될 수 있다. 따라서, 이들은 다중 도메인 디스플레이를 제조하는데 사용될 수 있으며, 상기 다중도메인 디스플레이는 아주 우수한 시각 속성을 갖는다. 다수 방향 정렬을 위하여, 다중도메인 디바이스로 되는 방식으로 다수 방향이 선택된다.
정렬층의 배향 또는 방향은 예를 들어, 적절한 입사각 θ, 이온 추출을 위한 이온빔 소스에 인가된 전압 및 노출 시간을 선택함으로서 조정될 수 있다. 정렬층은 통상적인 다이아몬드형 카본 정렬층에 대해 약 5초 내지 2분 동안 정렬 이온 방사에 노출되는 것이 바람직하다.
따라서, 건식 처리된 정렬층은 원자 빔, 즉, 이온빔 충격에 의해 조사되어, 액정 분자들을 배향시키기 위해 적어도 하나의 원하는 방향으로 정렬층의 원자 구조를 정렬한다.
이온빔의 소스는 아르곤, 질소, 산소 또는 기타 기체 또는 기체들의 혼합물일 수 있다.
기계적인 마스크 방법의 다양한 실시예들은 도 1 내지 5에 도시되어 있다.
도 1에는, 2 도메인 TN(twist nematic)의 단일 픽셀 구조가 도시되어 있다. 굵은 실선은 도메인 #1 및 도메인 #2를 갖는 제 1 건식 증착층, 즉, 하부 건식 증착층 상의 픽셀 경계를 나타낸다. 점선은 #1 및 도메인 #2를 갖는 제 1 건식 증착층, 즉, 하부 건식 증착층 상의 도메인 경계를 나타낸다.
이온빔은 기판과 직교하는 방향으로부터 건식 증착된 층에 충격을 가한다. 점선 화살표는 이온 충격 벡터의 하부 건식 증착층의 평면상으로의 투사를 나타내며, 이것은 이온빔 소스로부터 건식 증착된 층을 가리키는 이온빔 충격의 방향에 의해 형성된다. 적절한 입사각, 에너지 및 시간으로 이온빔이 충격을 가하면, 결정 재료에 대해 양호한 정렬 및 적절한 사전경사각을 얻을 수 있다.
액정의 사전경사 방향은 폴리이미드 필름이 사용되는 경우 폴리이미드 필름에 대한 기계적인 마찰의 마찰 처리 방향을 따른다. 건식 층에 대해 이온빔 처리를 하지 않으면, 상기 사전경사 방향은 마찰 처리 방향과 반대가 된다.
도 1에서, 두 개의 도메인으로 분할되는 픽셀을 볼 수 있다. 하부 건식 증착층 상의 각각의 도메인 내의 이온 충격 방향은 상이하다.
도 14a에서, 하나 이상의 개구(12A)를 갖는 불연속의 기계적인 마스크(12)는 이온빔 소스(10)와 건식 증착층(14) 사이에 위치한다. 상기 기계적인 마스크는 건식 증착층(14) 위에 직접 접촉하여 위치될 수도 있고, 떨어져서 위치할 수도 있다. e시된 실시예에서, 기계적인 마스크는 건식 증착층(14)으로부터 떨어져서 위치한다. 상기 건식 증착층은 이온빔 소스(10)로부터의 충격에 의해 정렬된다. 이온빔 충격의 방향은 화살표로 표시되어 있다.
도 14b는 하나 이상의 개구(16A)를 갖고 있으며, 건식 증착층(14) 위에 바로 위치한 포토레지스트(PR)층(16)을 도시한 것이다. 상기 건식 증착층은 이온빔 소스(10)로부터의 충격에 의해 정렬된다. 화살표는 이온빔 충격 방향을 나타낸다.
도 1에서 픽셀의 한 영역이 충격을 받으면, 다른 영역들은 기계적인 마스크(도 14a) 또는 포토레지스트 마스크(도 14b)와 같은 마스크에 의해 덮힌다. 그러나, 첫 번째 충격은 마스크를 이용하거나 이용하지 않고 행해질 수 있다. 왜냐하면, 마스크가 이용되지 않으면, 두 번째 충격의 방향이 첫 번째 충격 방향과 중복되기 때문이다.
도 1에서 실선은 제 2 건식 증착층, 즉, 최상부 건식 증착층 상의 픽셀 경계를 나타낸다. 점선은 제 2 건식 증착층(최상부 건식 증착층) 상의 도메인 영역을 나타낸다. 실선 화살표는 이온빔 충격 벡터를 제 2 (최상부) 건식 증착층 평면에 타사한 것을 나타낸다. 점선 화살표는 이온빔 충격 벡터를 제 1 (하부) 건식 증착층 평면에 투사한 것을 나타낸다.
제 2 (최상부) 건식 증착층 상의 각 도메인 내의 이온 충격 방향은 또한 상이하다. 하부 및 최상부 건식 증착층 상의 이온빔 처리를 이용하면, 2 도메인 TN 패널은 상기 패널이 좌선성(left-handed) 카이럴리티 액정으로 채워진 후 형성된다.
만약 우선성(right-handed) 카이럴리티 액정이 사용되면, 이온 빔 충격 방향도 변경된다.
도 2 내지 5는 4 도메인 TN에 대한 단일 픽셀 구성을 도시한 것이다. 라인 및 화살표에 대한 약속 사항은 도 1과 동일하다. 도 2 내지 5에서의 기본적인 개념은, 픽섹이 두 개의 도메인이 아니라 네 개의 도메인으로 분할된다는 것을 제외하면, 도 1과 동일하다.
도 2 및 3에서, 좌선성(left-handed) 카이럴리티 액정이 사용되며, 따라서 네 개의 도메인 모두가 좌측으로 꼬이며, 각각의 도메인은 상이한 방향으로 경사진다.
도 4 및 5에서, 카이럴리티 액정은 사용되지 않는다. 각각의 도메인에 대한 정렬 방향의 정렬 때문에, 두 도메인은 좌측으로 꼬이고 다른 두 개의 도메인은 우측으로 꼬인다.
도 2 및 3에서, 각각의 건식 증착된 층은 네 개의 이온 빔 처리를 요구한다. 도 4 및 5에서, 각각의 건식 증착층은 단지 두 개의 이온빔 처리만 요구한다. 따라서, 제 1 이온빔 처리에 대하여 기계적인 마스크는 필요치 않다. 그러나, 제 2이온빔 처리가 제 1 이온빔 처리와 중복하기 때문에, 제 1 이온빔 처리 외의 다른 이온빔 처리에 대해 기계적 마스크가 필요하다.
도 6은 2 도메인 액정 디스플레이에 대해 도메인들을 정렬하는 상이한 방법을 도시한 것이다. 좌측에서 우측으로, 디자인 (a), (b), (c)는 각 픽셀 내에 단일 도메인을 갖는 픽셀들에 인접한 두 개의 도메인의 정렬을 도시하고 있다. 맨 우측의 실시예 6d는 픽셀 내의 두 개의 도메인의 정렬을 도시하고 있다.
도 9는 콘트라스트 비 형상을 본 발명의 기게적인 마스크 방법에 의해 준비된 건식 증착된 정렬층을 이용하여 제조된 두 개의 도메인 패널에 대한 시각의 함수로서 나타낸 것이다. 도 10은 콘트라스트 비 형상을 종래의 마찰된 폴리이미드 방법을 이용하여 제조된 단일 도메인 패널에 대한 시야각의 함수로서 나타낸 것이다. 이것은, 본 발명에 따른 2 도메인의 액정 디스플레이가 단일 도메인 액정 디스플레이보다 더 넓고 보다 대칭적인 시야각을 갖고 있음을 증명한다.
포토레지스트 방법은 기판 상에 도전층 상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와, 상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 분할하는 단계와, 마스크없이 제 1 이온빔으로 상기 건식 증착층에 충격을 가하는 단계와, 제 2 도메인 영역을 오픈한 채로 마스크로 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역을 덮는 단계와, 제 2 이온빔으로 상기 제 2 도메인 영역에 충격을 가하는 단계와, 상기 마스크를 제거하는 단계를 포함한다.
포토레지스트 방법은 필요한 경우 상기 덮는 단계와 제거 단계를 반복하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
바람직하게는, 상기 분할하는 단계는 마스크로 제 1 도메인만 덮는 단계를 포함하고, 상기 덮는 단계는 상기 포토레지스트의 층을 인가하는 단계를 포함한다.
기계적인 마스크가 포토레지스트층으로 대체되는 것을 제외하면, 포토레지스트 방법의 다양한 실시예들은 기계적인 마스크 방법의 실시예들과 유사하다.
상기 기판 상의 정렬 층들은 다이아몬드형 카본, 실리콘 다이옥사이드 또는 기타 적절한 건식 재료들과 같은 건식 정렬 재료로 우선 증착된다. 그 다음에 이들은 이온빔 충격으로 처리된다. 전술한 바와 같이, 이온빔 소스는 아르곤, 질소, 산소 또는 다른 기체 또는 기체들의 혼합물일 수 있다.
제 1 도메인 영역은 포토레지스트층으로 덮이고 제 2 도메인 영역들은 덮히지 않은채로 유지된다. 이것은 종래의 포토리소그래픽 공정에 의해 쉽게 수행될 수 있다. 상기 증착된 층들은 그 다음에 제 2 이온빔 처리를 받는다. 그 다음에, 포토레지스트층이 제거된다. 즉, 벗겨진다. 상기 공정은 필요하다면 반복되어 원하는 도메인을 생성한다. 그 다음에, 두 개의 대응하는 건식 증착된 정렬층들이 함께 조립되고, 액정이 셀에 채워져서 건식 정렬 층들을 갖는 다중 도메인 액정 디스플레이 패널을 형성한다.
UV 처리 방법은 기판 상의 도전층상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와, 상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 분할하는 단계와, 상기 제 1 및 제 2 도메인 영역을 UV 광에 선택적으로 노출시키는 단계와, 상기 제 1 및 제 2 도메인 영역을 단일 방향으로 이온빔으로 충격을 가하여 UV 광에 노출되지 않은 도메인 영역에 UV 광에 노출된 영역과 상이한 사전경사진 각을 형성하는 단계를 포함한다.
좌선성(left-handed) 트위스트를 이용하여 예시된 UV 처리 방법의 일실시예는 도 7에 도시되어 있다. 라인 및 화살표에 대한 규정은 도 1에서 사용한 것들과 동일하다.
기판에 대한 도전층들은 먼저 정렬을 위해 건식 증착된 층으로 피복된다. 상기 건식 증착층들은 그 다음에 광자 또는 기계적인 마스크를 이용하여 UV 광에 노출되어 UV로 구별된 영역이 UV 광에 노출된다. 상기 영역들은 그 다음에 이온빔 충격으로 처리된다. 전체 건식 증착된 층은 단일 방향으로 이온빔에 의해 충격을 받으며, 이온빔 처리에는 마스크가 필요치 않다. UV 광에 노출된 영역들은 UV 광으로 처리되지 않은 영역과 상이한 사전경사각을 갖기 때문에, UV 처리 및 이온빔 처리를 조합하면 2 도메인 TN(twist nematic)을 생성할 수 있다. 그 다음에 상부 및 하부층은 조립되어 셀을 한정하며, 상기 셀은 좌선성 트위스트 액정으로 채워진다.
이온빔 충격 및 UV 광 노출의 순서는 바뀔 수도 있다. 따라서, 제 1 및 제 2 도메인 영역 중 한 영역은 단일 방향으로 이온빔과 선택적으로 충돌하며, 따라서, 제 1 및 제 2 도메인 영역들은 UV 광에 노출되어 충격을 받지 않은 도메인 영역 내에서 이온빔으로 충격을 받은 영역과 상이한 사전경사각을 생성한다.
적절한 UV 파장의 범위는 약 180 nm 내지 320 nm이며, 적절한 노출시간은 약 2초 내지 30 분이다.
리지 및 프린지 필드 방법은 표면을 갖는 상부 기판을 제공하는 단계와, 상기 상부 기판 상에 컬러 필터를 제공하는 단계와, 상기 컬러 필터 상에 증착된 투명한 도전층을 제공하는 단계와, 상기 컬러 필터측상의 투명한 도전층 상에 폴리머 리지를 구축하는 단계와, 상기 투명한 도전층의 표면상에 건식 증착된 정렬층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와, 상기 건식 증착된 층을 낮은 사전경사각을 형성하는 조건하에서 이온빔과 충돌시키는 단계를 포함한다.
리지 및 프린지 필드 방법의 일실시예는 도 8a에 도시되어 있다. 도 8b는 상부 및 하부 정렬층에 대한 경사를 나타내는 리지 및 프린지 필드 방법의 일실시예를 도시한다.
둘 이상의 영역을 규정하는 폴리머 벽인 폴리머 리지(PR)는 컬러 필터측상에 인듈 주석 산화물(ITO) 또는 그 등가물과 같은 투명 도전층의 상부에 구축된다.
리지의 폭은 약 2㎛ 내지 15㎛ 가 바람직하다. 리지의 높이는 셀 갭의 약 1/3 내지 2/3이 바람직하다. 리지의 경사는 약 20°내지 80°가 바람직하다.
하부층은 폴리머 리지 또는 컬러 필터를 갖고 있지 않지만, 인듐 주석 산화물(ITO) 또는 이에 상당하는 물질과 같은 투명한 도전층을 갖는다. 그 다음에 건식 증착된 정렬층은 낮은 경사각을 생성하는 조건하에서 이온빔과 충돌한다.
충돌 방향은 도 8b에 도시되어 있다. 각각의 건식 증착된 정렬층은 단일 이온빔 처리만 받는다.
그 다음에 상부 및 하부 층들은 조립되어 셀을 규정하며, 상기 셀은 좌선성 트위스트 액정으로 채워진다. 이것은 건식 정렬층을 갖는 두 개의 도메인을 갖는 TN을 형성한다.
본 발명은 또한 다중 도메인의 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이를 포함한다.
본 실시예에서, 전술한 바와 같이, 다중도메인의 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이는 하부 기판, 제 1 투명 도전층, 상부 기판, 컬러 필터, 제 2 투명 도전층, 제 1 건식 증착된 액정 정렬층, 상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층에 인접하게 마주하는 제 2 건식 증착된 액정 정렬층을 포함하고, 그 사이에 분포된 균일한 크기의 투명 또는 불투명 스페이서와, 건식 증착된 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 포함한다. 제 1 정렬층과 제 2 정렬층은 각각 복수의 픽셀들로 분할되고 이들 픽셀들은 각각 경계 및 적어도 두 개의 도메인을 갖는다. 각각의 다중 도메인, 건식 증착된 액정 정렬층은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리 및 리지 및 프린지 필드 방법 중 하나에 의해 얻어진다.
바람직하게는, 상기 이온빔은 아르곤, 질소, 산소 및 이들의 혼합물을 포함하는 어느 하나의 소스로부터 제공된다.
일실시예에서, 각각의 픽셀은 제 1 도메인 및 제 2 도메인을 가지며, 제 1 도메인 및 제 2 도메인은 상이한 이온 충격 방향을 갖는다.
바람직하게는, 액정 재료는 좌선성 카이럴리티를 갖는 액정, 우선성 카이럴리티를 갖는 액정 및 카이럴리티를 갖지 않는 액정으로부터 선택된다.
바람직하게는, 상기 투명 도전층은 인듐 주석 산화물을 포함한다.
본 발명에 따른 액정 디스플레이를 제조하는 개선된 방법은 제 1 다중 도메인 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 제 2 다중 도메인 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 각각 서로 인접하여 마주보는 제 1 및 제 2 다중 도메인 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와, 상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함한다.
전술한 바와 같이, 각각의 다중 도메인, 건식 증착된 액정층은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법들 중에서 하나에 의해 얻어진다.
본 발명은 또한 동일한 평면(in-plane)의 스위칭 모드 액정 디스플레이를 제조하는 개선된 방법을 포함한다. 일반적으로, 상기 타입의 디스플레이에서, 제 1 및 제 2 폴리이미드 정렬층이 형성된다. 그 다음에, 상기 층들은 벨벳으로 감싼 기계적인 롤로 마찰된다. 본 발명은 제 1 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 제 2 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 인접하며 서로 마주보는 제 1 및 제 2 다중 도메인 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와, 상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함한다. 본 발명의 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이를 제공하는 개선된 방법에서 제 1 및 제 2 건식 증착된 정렬층은 또한 다중 도메인 건식 증착된 정렬층일 수 있다.
도 11a에는 넓은 시야각을 갖는 동일 평면의 스위칭(IPS) 모드 액정 디스플레이가 도시되어 있다.
상기 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이는 하부 편광기(80), 하부 기판(81), 제 1 투명(또는 불투명) 도전층(82), 상부 편광기(90), 상부 기판(91), 컬러 필터층(92), 제 2 투명 도전층(93), 하부 기판 평면에 배치된 복수의 공통전극(84) 및 상기 공통 전극과 스태거링(staggering) 관계로 배치되어 빗살형 구조를 형성하는 복수의 픽셀 전극(85), 제 1 건식 증착된 액정 정렬층(83), 상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층(83)에 인접하게 마주보며 간격을 두고 있는 제 2 건식 증착된 액정 정렬층(94), 상기 공간 내에 분포된 복수의 균일한 크기의 투명 또는 반투명 스페이서(96), 상기 정렬층들 사이의 공간에 배치된 액정 재료(95)를 포함한다. 상기 스페이서는 진주 또는 기둥형일 수 있다.
바람직하게는, 건식 증착된 액정 정렬은 건식 증착된 층을 전극들의 평면에 대해 약 10 내지 20°의 방향으로 이온빔 처리하여 얻어진다.
도 11b에서, 상기 공통 전극 및 픽셀 전극(111, 112)은 각각 동일 평면의 스위칭(IPS) 모드 액정 디스플레이에 대해 빗살형 구조로 구성되어 있다.
한쪽 단부의 각각의 공통 전극(111)은 저장 캐패시터(110)와 교통한다. 각각의 픽셀 전극(112)은 한쪽 단부는 저장 캐패시터(110)와 통하고 다른 단부는 박막 트랜지스터(114)와 통한다. 상기 박막 트랜지스터(114)는 데이터 버스 라인(113) 및 게이트 버스 라인(115)과 교통하며, 관련 픽셀을 턴온 및 턴오프하기 위해 선택적으로 활성화된다.
공통 전극 및 픽셀 전극의 전술한 구성은 하부 기판의 평면에 수직인 전기장을 생성하며, 동작시 액정 재료의 분자들이 스위치되어 기판 평면에 평행한 전기장에 의해 상기 평면내에서 회전한다.
도 12는 공통 전극(111), 픽셀 전극(112), 박막 트랜지스터(114), 데이터 버스 라인(113) 및 게이트 버스 라인(115)을 갖는 동일 평면의 스위칭(IPS) 전극을개략적으로 도시한 것이다. 로드(120)는 완전히 필드온 상태인 액정 분자 배향을 도시한 것이다.
도 13은 두 개의 도메인을 갖는 동일 평면의 스위칭(IPS) 모드에서 동작하는 액정 디스플레이의 개략도로서, 상기 액정 디스플레이는 공통 전극(111), 픽셀 전극(112), 박막 트랜지스터(114), 데이터 버스 라인(113) 및 게이트 버스 라인(115)을 갖는다. 로드(130)는 완전히 필드온 상태인 액정 분자 배향을 도시한 것이다.
따라서, 본 발명은 단순하고 비용 효과적이며, 쉽게 처리된 넓은 시야각의 액정 디스플레이를 제공한다.
본 발명에 따른 상기 다중 도메인의 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이는 아주 넓은 고 콘트라스트, 저 파워 시각 디스플레이 애플리케이션에서 이용된다.
이온 빔 소스의 출력을 선택적으로 마스킹하는 것에 관해 논의하였지만, 일부 실시예에서는, 도메인들을 형성하기 위해 원하는 영역에 이온빔을 직접 사용하는데 직접 기록하는 기술이 이용될 수 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예들을 특별히 참조하여 기술하였다. 본 발명의 변형들 및 수정이 본 발명의 정신 및 범주를 벗어나지 않고 당업자에 의해 안출될 수 있음에 유의하라. 따라서, 본 발명은 첨부한 청구범위 내의 모든 대안들, 변형들 및 수정들을 포함한다.
본 발명에 따르면, 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법(ridge and fringe field method) 중 하나에 의해 건식 증착된 액정 정렬층을 제공할 수 있으며, 또한 다중 도메인 및 넓은 시야각을 갖는 액정 디스플레이를 제공할 수 있다.

Claims (33)

  1. 다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법으로서,
    기계적인 마스크 방법, 포토레지스트 방법, UV 처리 방법, 리지 및 프린지 필드(ridge and fringe field) 방법을 포함하는 그룹으로부터 선택되는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기계적인 마스크 방법은
    기판 상의 투명 도전층 상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착시키는 단계와,
    상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 영역 및 제 2 영역으로 마스크로 마스킹하는 단계와,
    상기 마스크를 통해 이온빔으로 상기 건식 증착된 층에 선택적으로 충격을 가하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 재료는 수소화(hydrogenated) 다이아몬드형 카본, 비정질 수소화 실리콘, 실리콘 카바이드(silicon carbide)(SiC), 실리콘 다이옥사이드(silicon dioxide)(SIO2), 유리, 실리콘 니트라이드(Si3N4), 알루미나(Al2O3), 세륨(IV) 옥사이드(CeO2), 주석 옥사이드(SnO2), 아연 티타네이트(ZnTiO2) 및 이들의 조합으로 구성된 그룹으로부터 선택되는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 포토레지스트 방법은
    기판 상의 투명 도전층 상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와,
    상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 분할하는 단계와,
    제 1 이온빔으로 상기 건식 증착층에 충격을 가하는 단계와,
    상기 제 2 도메인 영역을 오픈한 채로 마스크로 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역을 덮는 단계와,
    제 2 이온빔으로 상기 제 2 도메인 영역에 충격을 가하는 단계와,
    상기 마스크를 제거하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 분할 단계는 상기 제 1 도메인 영역만 마스크로 덮는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 덮는 단계는 포토레지스트 층을 인가하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 UV 처리 방법은
    기판 상의 투명 도전층상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와,
    상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 분할하는 단계와,
    상기 제 1 및 제 2 도메인 영역을 UV 광에 선택적으로 노출시키는 단계와,
    상기 제 1 및 제 2 도메인 영역을 단일 방향으로 이온빔으로 충격을 가하여 UV 광에 노출되지 않은 도메인 영역에 UV 광에 노출된 영역과 상이한 사전경사진 각을 형성하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 리지 및 프린지 필드 방법은
    표면을 갖는 상부 기판을 제공하는 단계와,
    상기 상부 기판 상에 컬러 필터를 제공하는 단계와,
    상기 컬러 필터 상에 증착된 투명한 도전층을 제공하는 단계와,
    상기 컬러 필터측상의 투명한 도전층 상에 폴리머 리지를 구축하는 단계와,
    상기 투명한 도전층의 표면 및 상기 리지 상에 건식 증착된 정렬층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와,
    상기 건식 증착된 층을 낮은 사전경사각을 형성하는 조건하에서 이온빔과 충돌시키는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 건식 증착된 액정 정렬층을 제공하는 방법.
  9. 다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이로서,
    제 1 표면을 갖는 하부 기판과,
    상기 하부 기판의 상기 제 1 표면 상에 증착된 제 1 투명 도전층과,
    제 2 표면을 갖는 상부 기판과,
    상기 상부 기판의 상기 제 2 표면 상에 증착된 컬러 필터와,
    상기 컬러 필터 상에 증착된 제 2 투명 도전층과,
    상기 제 1 투명 도전층 상의 제 1 건식 증착된 액정 정렬층과,
    상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층 상의, 상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층과 떨어져서 인접하게 마주보고 있는 제 2 건식 증착된 액정 정렬층과,
    상기 제 1 및 제 2 건식 증착된 액정 정렬층 사이의 공간내에 분포된 복수의 균일한 크기의 투명 또는 불투명 스페이서와,
    상기 제 1 및 제 2 건식 증착된 액정 정렬층들 사이의 공간에 배치된 액정 재료를 포함하고,
    각각의 제 1 정렬층과 제 2 정렬층은 각각 복수의 픽셀들로 분할되며, 이들 픽셀들은 각각 경계 및 적어도 두 개의 도메인을 가지며,
    각각의 상기 다중 도메인, 건식 증착된 액정 정렬층들은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법을 포함하는 그룹으로부터 선택된 방법에 의해 얻어지는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 및 상기 제 2 건식 증착된 액정 정렬층의 상기 도메인들은 기계적인 마스크 방법에 의해 얻어지는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 기계적인 마스크 방법은
    기판 상에 투명 건식 증착된 정렬층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와,
    상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 영역 및 제 2 영역으로 마스크로 마스킹하는 단계와,
    상기 마스크를 통해 이온빔으로 상기 건식 증착된 층에 선택적으로 충격을 가하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 재료는 수소화(hydrogenated) 다이아몬드형 카본, 비정질 수소화 실리콘, 실리콘 카바이드(silicon carbide)(SiC), 실리콘 다이옥사이드(silicon dioxide)(SIO2), 유리, 실리콘 니트라이드(Si3N4), 알루미나(Al2O3), 세륨(IV) 옥사이드(CeO2), 주석 옥사이드(SnO2), 아연 티타네이트(ZnTiO2) 및 이들의 조합으로 구성된 그룹으로부터 선택되는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 이온빔은 아르곤, 질소, 산소 및 이들의 혼합물을 포함하는 그룹으로부터 선택된 이온빔의 소스로부터 제공되는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  14. 제 9 항에 있어서,
    상기 픽셀들은 각각 제 1 도메인 및 제 2 도메인을 갖는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 도메인 및 제 2 도메인은 상이한 이온 충격 방향을 갖는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 하부 및 상기 상부 기판 상의 상기 제 1 및 상기 제 2 건식 증착층은 충격을 받는(bombarded)
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  17. 제 9 항에 있어서,
    상기 액정 재료는 좌선성 카이럴리티(left-handed chirality)를 갖는 액정과, 우선성 카이럴리티(right-handed chirality)를 갖는 액정과, 카이럴리티를 갖지 않는 액정으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  18. 제 9 항에 있어서, 상기 제 1 및 상기 제 2 건식 증착된 액정 정렬층의 상기 도메인은 포토레지스트 방법에 의해 얻어지는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 픽셀들은 각각 제 1 도메인 및 제 2 도메인을 갖는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 포토레지스트 방법은
    기판 상의 투명 도전층 상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와,
    상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 분할하는 단계와,
    제 1 이온빔으로 상기 건식 증착층에 충격을 가하는 단계와,
    상기 제 2 도메인 영역을 오픈한 채로 마스크로 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역을 덮는 단계와,
    제 2 이온빔으로 상기 제 2 도메인 영역에 충격을 가하는 단계와,
    상기 마스크를 제거하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  21. 제 20 항에 있어서,
    필요한 경우 상기 단계들을 반복하는 단계를 더 포함하는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  22. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 건식 증착된 액정 정렬층의 상기 도메인들은 상기 UV 처리 방법에 의해 얻어지는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  23. 제 22 항에 있어서,
    각각의 상기 픽셀들은 제 1 도메인 및 제 2 도메인을 갖는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  24. 제 22 항에 있어서,
    상기 UV 처리 방법은
    기판 상의 투명 도전층상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착하는단계와,
    상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 분할하는 단계와,
    상기 제 1 및 제 2 도메인 영역을 UV 광에 선택적으로 노출시키는 단계와,
    상기 제 1 및 제 2 도메인 영역을 단일 방향으로 이온빔으로 충격을 가하여 UV 광에 노출되지 않은 도메인 영역에 UV 광에 노출된 영역과 상이한 사전경사진 각을 형성하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  25. 제 22 항에 있어서,
    기판 상의 투명 도전층상에 건식 증착층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와,
    상기 건식 증착층을 상기 건식 증착층의 제 1 도메인 영역과 제 2 도메인 영역으로 분할하는 단계와,
    상기 제 1 및 제 2 도메인 영역 중 한 영역을 선택적으로 단일 방향으로 이온빔으로 충격을 가하는 단계와,
    상기 제 1 및 제 2 도메인 영역을 UV 광에 선택적으로 노출시켜, 상기 충격을 받지 않은 도메인 영역에 이온빔으로 충격을 가한 영역과 상이한 사전경사진 각을 형성하는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  26. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 및 상기 제 2 건식 증착된 액정 정렬층의 상기 도메인들은 상기 리지 및 프린지 필드 방법에 의해 얻어지는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  27. 제 26 항에 있어서,
    상기 리지 및 프린지 필드 방법은
    상기 컬러 필터측상의 투명한 도전층 상에 폴리머 리지를 구축하는 단계와,
    상기 투명한 도전층의 표면 및 상기 리지 상에 건식 증착된 정렬층을 형성하기 위한 재료를 증착하는 단계와,
    상기 건식 증착된 층을 낮은 사전경사각을 형성하는 조건하에서 이온빔과 충돌시키는 단계를 포함하는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 투명 도전층은 인듐 주석 산화물을 포함하는
    다중 도메인을 갖는 넓은 시야각의 액정 디스플레이.
  29. 제 1 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 제 2 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와, 각각 서로 인접하여 마주보는 제 1 및 제 2 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와, 상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함하는 액정 디스플레이를 제조하는 개선된 방법으로서,
    제 1 다중 도메인 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와,
    제 2 다중 도메인 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와,
    인접하여 서로 마주보는 상기 제 1 및 제 2 다중 도메인 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와,
    상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함하고,
    각각의 상기 다중 도메인의 건식 증착된 액정 정렬층은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법을 포함하는 그룹으로부터 선택된 방법으로 얻어지는
    액정 디스플레이를 제조하는 개선된 방법.
  30. 제 1 및 제 2 폴리이미드 정렬층을 형성하는 단계를 포함하는 유형의 동일한평면(in-plane)의 스위칭 모드 액정 디스플레이 -상기 제 1 층 및 제 2 층은 각각 벨벳으로 감싼 기계적인 롤로 마찰됨- 를 제조하는 개선된 방법으로서,
    제 1 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와,
    제 2 건식 증착된 정렬층을 형성하는 단계와,
    서로 인접하며 마주보는 제 1 및 제 2 건식 증착된 정렬층의 간격을 두는 단계와,
    상기 정렬층들 사이의 공간에 액정 재료를 채우는 단계를 포함하고,
    각각의 상기 건식 증착된 액정 정렬층은 기계적인 마스크, 포토레지스트, UV 처리, 리지 및 프린지 필드 방법을 포함하는 그룹으로부터 선택된 방법으로 얻어지는
    동일한 평면(in-plane)의 스위칭 모드 액정 디스플레이를 제조하는 개선된 방법.
  31. 넓은 시야각의 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이로서,
    하부 편광기와,
    하부 기판과,
    상부 편광기와,
    상부 기판과,
    상기 상부 기판의 표면상에 증착된 컬러 필터층과,
    동작시, 상기 액정 재료의 분자들이 전환되어 상기 기판 표면에 평행한 방향으로 상기 수직 전기장에 의해 회전하도록 상기 하부 기판의 평면에 평행한 전기장을 생성하기 위한, 상기 하부 기판 평면에 배치된 복수의 공통 전극 및 상기 공통 전극과 스태거링(staggering) 관계로 배치되어 빗살형 구조를 형성하는 복수의 픽셀 전극과,
    상기 하부 기판 및 상기 빗살형 전극들 상의 제 1 건식 증착된 액정 정렬층과,
    상기 제 1 건식 증착된 액정 정렬층(83)에 인접하게 마주보며 간격을 두고 위치한, 상기 컬러 필터층 상의 제 2 건식 증착된 액정 정렬층과,
    상기 공간 내에 분포된 복수의 균일한 크기의 투명 또는 반투명 스페이서와,
    상기 정렬층들 사이의 공간에 배치된 액정 재료를 포함하는
    넓은 시야각의 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이.
  32. 제 31 항에 있어서,
    각각의 상기 건식 증착된 액정 정렬층을 얻는 방법은
    건식 증착된 층을 상기 전극들의 평면과 약 10 내지 20°를 이루는 방향으로 이온빔 처리하는 단계를 포함하는
    넓은 시야각의 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이.
  33. 제 31 항에 있어서,
    한 단부 상의 각각의 상기 공통 전극은 저장 캐패시터와 교통하며, 각각의 상기 픽셀 전극들은 한 단부에서 상기 저장 캐패시터와 교통하며, 다른 단부에서 박막 트랜지스터와 교통하며, 상기 박막 트랜지스터는 데이터 버스 라인 및 게이트 버스 라인과 교통하는
    넓은 시야각의 동일 평면의 스위칭 모드 액정 디스플레이.
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