KR200173948Y1 - 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치 - Google Patents

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    • H01L21/20Deposition of semiconductor materials on a substrate, e.g. epitaxial growth solid phase epitaxy

Abstract

식각챔버 내부에 설치된 상· 하측 전극판 사이의 간격을 일정하게 형성하도록 하는 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치에 관한 것이다.
본 고안은 몸체부의 상측 지지부와 커버판 사이를 지지하는 복수개의 가이드축과, 상기 복수개의 가이드축에 동력을 전달하는 구동모터를 포함하여 구성된 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치에 있어서, 상기 커버판으로부터 상기 몸체부의 각 방향 부위가 승· 하강 위치를 확인할 수 있도록 상기 몸체부의 측벽 소정 위치에 눈금이 형성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 고안에 의하면 공정챔버를 분리하지 않은 상태에서도 상· 하측 전극판 사이의 간격을 용이하게 조절하게 되고, 작업 효율화 및 공정 지연을 방지하게 되며, 공정챔버의 개폐를 억제하게 됨에 따라 구성 부품의 수명을 연장하게 되는 이점이 있다.
또한, 공정 진행 중 상· 하측 전극판의 간격을 항시 확인하게 됨에 따라 상· 하측 전극판의 간격 불균형에 의한 공정 불량을 방지하게 되는 효과가 있다.

Description

반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치
본 고안은 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 식각챔버 내부에 설치된 상· 하측 전극판 사이의 간격을 일정하게 유지하도록 하는 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치에 관한 것이다.
통상적으로 웨이퍼는 사진, 확산, 식각, 화학기상증착 및 금속배선 등의 공정이 반복 수행됨에 따라 반도체장치로 제작되고, 이들 공정중 빈번히 이루어지는 공정 중의 하나가 식각 공정이다.
이러한 식각 공정은 밀폐된 챔버 내부의 상· 하측 전극판 사이에 공정을 수행하기 위한 웨이퍼를 위치시키고, 챔버 내부를 고진공 상태로 형성한 후 반응에 필요한 가스를 투입하게 된다.
상기와 같이 투입된 가스는 상· 하측 전극판 사이에 R.F. (radio frequency) 파워가 인가됨에 따라 플라즈마 상태로 형성되어 웨이퍼의 불필요한 부위를 제거하게 된다.
이러한 공정을 올바르게 수행하기 위한 조건 중 하나는 공급된 가스를 플라즈마 상태로 형성하는 상· 하측 전극판 사이의 간극을 일정하게 유지시키는 것이다.
따라서, 상· 하측 전극판 사이의 간격을 일정하게 유지시키기 위한 전극판 간극조절장치가 필요시 되고 있으며, 이러한 전극판 간극조절장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
식각챔버(10)는 도1에 도시된 바와 같이 용기 형상으로 내측 중심 부위에 하측 전극판(12)이 형성된 본체(14)와, 이 본체(14)의 상측 부위에 기밀이 유지되도록 개폐 가능하게 설치되는 커버판(16)과 이 커버판(16)의 중심 부위를 관통하여 승· 하강 가능하게 설치되고 하측 부위에 상기 하측 전극판(12)에 대향하는 상측 전극판(18)이 형성된 몸체부(20) 및 이 몸체부(20)와 커버판(16) 사이에 설치되어 커버판(16)을 기준으로 몸체부(20)를 승· 하강시켜 상측 전극판(18)을 하측 전극판(12) 표면으로부터 일정 간격을 이루도록 조절하는 간극조절장치(22)를 포함한 구성으로 이루어진다.
한편, 상술한 간극조절장치(22)는 몸체부(20)의 상측에 형성된 지지부(21)와 커버판(16) 사이에 회전 가능하도록 수직하게 지지되어 설치되는 복수개의 가이드축(26)과, 이들 가이드축(26) 중 어느 하나에 연결되어 가이드축(26)에 회전력을 제공하는 구동모터(24)와, 상기 복수개의 가이드축 상단에 형성된 스프로킷휠(도시 안됨)에 연결되고 구동모터(24)의 회전력을 각 가이드축(26)에 동일하게 전달하도록 설치되는 체인(28)을 포함하여 이루어진다.
그리고, 상술한 가이드축(26)의 하측 단부에는 스크류가 형성되어 있으며, 이렇게 형성된 스크류는 복수개의 가이드축(26)이 구동모터(24)와 체인(28)에 의해 동시에 회전하게 됨에 따라 커버판(16)과 나사 결합으로 소정 간격 승· 하강함과 동시에 몸체부(20) 또한 커버판(16)을 기준으로 평형 상태를 유지하며 승· 하강 운동을 하게 된다.
따라서, 구동모터(24)의 동력 전달을 통해 몸체부(20)를 승· 하강시킴으로써 몸체부(20) 하측 부위에 형성된 상측 전극판(18)을 하측 전극판(12)의 표면으로부터 상측 소정 높이에 위치되도록 조절하게 되며, 또 균일한 간격을 이루도록 높이 조절이 요구되는 부위의 가이드축(26)을 조절하도록 함으로써 상· 하측 전극판의 간격을 조절하게 된다.
그러나, 상· 하측 전극판 사이의 간격을 조절하기 위해서는 식각 공정을 중단하고, 식각챔버 내부를 개방하여 대기 상태로 형성한 상태에서 작업이 이루어지게 됨에 정기적인 부품 교체 작업 등의 설비복원시 상· 하측 전극판의 간격을 조절하게 되고, 이렇게 조절된 상태로 다음 공정챔버의 분리 할 때까지 사용하게 된다.
따라서, 공정 진행 중 상· 하측 전극판의 간격 불균형에 의해 불량이 발생될 경우 공정챔버를 분리하여 조절해야 하는 번거로움과, 공정이 지연되는 문제가 있었다.
또한, 상술한 바와 같이 공정챔버의 분리에 따른 내부의 구성 부품이 각종 반응물에 의하여 오염됨에 따라 새것으로 교체해야 하는 비경제적인 문제가 있었다.
본 고안의 목적은 공정챔버를 분리하지 않은 상태에서도 상· 하측 전극판 사이의 간격을 용이하게 조절하도록 함으로써 번거로움과, 공정 지연을 방지하며, 구성 부품의 수명을 연장하게 되며, 공정 진행 중 상· 하측 전극판의 간격을 항시 확인하게 됨에 따라 상· 하측 전극판의 간격 불균형에 의한 공정 불량을 방지하도록 하는 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치를 제공함에 있다.
도1은 종래의 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치의 설치 관계를 개략적으로 나타낸 정면도이다.
도2는 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치의 설치 관계를 개략적으로 나타낸 정면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10, 30: 식각챔버 12: 하측 전극판
14: 본체 16, 36: 커버판
18: 상측 전극판 20, 32: 몸체부
21: 지지부 22, 42: 간극조절장치
24: 구동모터 26: 가이드축
28: 체인 34: 눈금
38: 지지대 40: 바늘
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안은 몸체부의 상측 지지부와 커버판 사이를 지지하는 복수개의 가이드축과, 상기 복수개의 가이드축에 동력을 전달하는 구동모터를 포함하여 구성된 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치에 있어서, 상기 커버판으로부터 상기 몸체부의 각 방향 부위가 승· 하강 위치를 확인할 수 있도록 상기 몸체부의 측벽 소정 위치에 눈금이 형성됨을 특징으로 한다.
또한, 상기 눈금은 상기 복수개 가이드축에 각각 대향하는 위치의 상기 몸체부 측벽에 형성함이 바람직하다.
그리고, 상기 몸체부 측벽에 형성된 상기 눈금 각각에 대하여 근접하는 상기 커버판상에 지지대를 설치하고, 상기 지지대에 바늘을 수평하게 설치하여 상기 바늘의 끝단부가 상기 눈금을 지시하도록 하여 상기 눈금의 위치를 확인하기 용이하도록 함이 바람직하다.
이하, 본 고안에 따른 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치에 대하여 도2를 참조하여 설명하기로 한다.
도2는 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치의 설치 관계를 개략적으로 나타낸 정면도로서, 종래와 동일한 부분에 대하여 동일한 부호를 부여하고, 그에 따른 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도2에 도시된 바와 같이 식각공정을 수행하기 위한 식각챔버(30)는 하측 전극판(12)이 형성된 본체(14)와, 이 본체(14)의 상측 부위에 기밀 상태를 유지하도록 개폐 가능하게 설치되는 커버판(16)과, 이 커버판(16)의 중심 부위에 관통 삽입되어 승· 하강 가능하게 설치되며 하측 부위에 상측 전극판(18)이 형성된 몸체부(32) 및 이 몸체부(32)의 지지부(21)와 상기 커버판 사이에 설치되어 몸체부(32)의 승· 하강 운동을 조절하도록 하는 간극조절장치(42)를 포함한 구성으로 이루어진다.
한편, 상술한 간극조절장치(42)는 몸체부(32)의 상측에 형성된 지지부(21)와 커버판(16) 사이에 수직하게 지지되어 회전 가능하게 설치되는 복수개의 가이드축(26)과, 이들 가이드축(26) 중 어느 하나에 연결되어 가이드축(26)에 회전력을 제공하는 구동모터(24)와, 상기 복수개의 가이드축 상단에 형성된 스프로킷휠(도시 안됨)에 연결되고 구동모터(24)의 회전력을 각 가이드축(26)에 동일하게 전달하도록 설치되는 체인(28)과, 상기 가이드축(26)에 대향하는 몸체부(32) 측벽에 형성되는 눈금(34) 및 이 눈금(34)에 근접하는 커버판(16) 상측 부위에 돌출 형성되는 지지대(38)의 일측 부위에 수평하게 설치되는 바늘(40)을 포함한 구성으로 이루어진다.
한편, 상술한 바와 같이 지지대(38)에 수평하게 설치되는 바늘(40)의 끝단부는 눈금(34)을 지시하도록 되어 있다.
따라서, 구동모터(24)와 가이드축(26)의 구동에 의해 커버판(16)을 중심으로 승· 하강 운동을 하게 되는 몸체부(32)는 측벽에 형성된 눈금(34)과 이 눈금(34)을 지시하는 바늘에 의해 몸체부의 균형 상태 및 커버판에 삽입된 깊이 정도를 확인하게 되며, 이를 통해 상측 전극판을 하측 전극판의 표면으로부터 일정 간격으로 위치시키게 된다.
따라서, 본 고안에 의하면 공정챔버를 분리하지 않은 상태에서도 상· 하측 전극판 사이의 간격을 용이하게 조절하게 되고, 작업 효율화 및 공정 지연을 방지하게 되며, 공정챔버의 개폐를 억제하게 됨에 따라 구성 부품의 수명을 연장하게 되는 이점이 있다.
또한, 공정 진행 중 상· 하측 전극판의 간격을 항시 확인하게 됨에 따라 상· 하측 전극판의 간격 불균형에 의한 공정 불량을 방지하게 되는 효과가 있다.
이상에서 본 고안은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 고안의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 실용신안등록청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (3)

  1. 몸체부의 상측 지지부와 커버판 사이를 지지하는 복수개의 가이드축과, 상기 복수개의 가이드축에 동력을 전달하는 구동모터를 포함하여 구성된 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치에 있어서,
    상기 커버판으로부터 상기 몸체부의 각 방향 부위가 승· 하강 위치를 확인할 수 있도록 상기 몸체부의 측벽 소정 위치에 눈금이 형성됨을 특징으로 하는 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 눈금은 상기 복수개 가이드축에 각각 대향하는 위치에 형성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 몸체부 측벽에 형성된 상기 눈금 각각에 대하여 근접하는 상기 커버판상에 끝단부가 상기 눈금을 지시하는 바늘과, 상기 바늘을 수평하게 지지하는 지지대가 부가 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 식각챔버의 전극판 간극조절장치.
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