KR20010099801A - 공진 격자 필터를 사용하는 광학 멀티플렉서/디멀티플렉서 - Google Patents

공진 격자 필터를 사용하는 광학 멀티플렉서/디멀티플렉서 Download PDF

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에릭 비. 그랜
엘. 커티스 맥시
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조지 엘. 크래그
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Abstract

파장 분할 멀티플렉서/디멀티플렉서(WDM)는 다수의 협대역 영차(zeroth order) 공진 격자 필터(10a-10e)를 구비하여 매우 근접한 채널 간격을 갖는 다중 파장들을 멀티플렉싱 또는 디멀티플렉싱 시킨다. 일 실시예에서, 다수의 필터(10a-10e)는 1개의 블럭(20)에서 평행하며 다수의 이산 주파수 채널에 대한 신호들을 반사하도록 진행축에 일정 각도로 어셈블되어 있다. 상기 블럭 공간 물질(21)은 유체 또는 고체이다. 다른 실시예에서, 공진 격자 필터(10f-10g)의 각도 방향은 다수의 이산 주파수 채널에 대하여 반사된 신호들을 제공하도록 약간씩 수정되어 있다. 채널간의 혼선은 각 신호를 3번 반사시킴으로서 감소될 수 있다. 각 필터들은 바이너리 구조 또는 사인파 격자(16)이며 박막 기술을 사용하여 만들어진다.

Description

공진 격자 필터를 사용하는 광학 멀티플렉서/디멀티플렉서{OPTICAL MULTIPLEXER/DEMULTIPLEXER USING RESONANT GRATING FILTERS}
본 발명은 미국 에너지성에 의해 수여된 계약 번호 제 DE-AC05-96OR22464 호에 따라 정부 지원으로 만들어졌다. 미 정부가 본 발명의 일정한 권리를 갖는다.
파장 분할 멀티플렉싱(WDM)은 단일 파이버 광학 시스템을 통하여 전송될 수 있는 채널 수 및 정보량을 증가시키도록 광(light)을 서로 다른 주파수의 광학 웨이브로 분리시키는 기술이다. 단일 채널의 대역폭 또는 주파수 응답은 레이저 소스 및 검파기에 따라 제한된다. 따라서, 통신 시스템의 총 대역폭을 증가시키기 위해서, 부가의 파장 채널이 사용된다. 화이버 광학 시스템의 실제 대역폭(대략 30㎓)은 광학 화이버의 흡수 및 분산에 의해 제한된다. 가능한 이 대역폭의 많은 부분을 이용하기 위해서, 각 파장 채널은 조밀한 간격으로 설정된다. 예를 들면, 약 1550nm에서 0.8nm의 채널 간격은 대략 50Ghz인 0.4nm의 단일 채널 대역폭에 부합한다.
톰린슨(Tomlinson, III)의 미국 특허 제 4,111,824 호는 화이버 광학 시스템과 멀티플렉싱/디멀티플렉싱 기능을 수행하는 회절 격자를 설명한다. 와그너(Wagner)의 미국 특허 제 4,474,424 호는 서로 다른 각도에서 광을 반사시키기 위해 단일 디바이스에 집적된 몇 개의 간섭 필터들의 사용을 기술한다. 이 디바이스는 톰린슨 특허의 채널 간격 및 대역폭을 개선시키기 위한 것이다.
스코베이(Scobey)의 미국 특허 제 5,583,683 호는 광의 단일 파장만을 통과시키고 다른 파장들을 반사시키는 공진 간섭 필터들의 사용을 기술한다. 광은 고체 블럭 필터 요소 내에서 전후로 반사되다가, 서로 다른 포인트에서 몇 개의 다른 파장들의 빔인 광을 배포하기 위해 배출된다.
미즈라히(Mizrahi)의 미국 특허 제 5,457,760 호는 광학 필터에서 소정의 파장 통과대역을 생성시키도록 브래그(Bragg) 격자 형태의 광학 필터링 요소들의 사용을 기술한다. 디멀티플렉서에서 나온 광학 신호들은 광학 화이버 또는 평면 멤버 형태의 다수의 웨이브가이드를 통하여 전달된다.
광학 통신 제55권 6호(1985년 10월 15일)에서 마쉬브(Mashev)와 파포브(Popov)의 논문 "Zero Order Anomaly of Dielectric Coated Grating"은 영차에서 광을 반사하는, 공진 편차(anomaly)를 생성시키는 영차 회절 격자를 기술한다. 이러한 조작으로 인해 협대역 파장 필터를 제공하도록 조율되게 된다. 상기 격자는 유전체가 공기인 그루브로서 물질의 요소를 갖는 3층 유전성 격자로 제공된다.
매그너슨(Magnusson) 등의 미국 특허 제 5,216,680 호는 조절 가능한 레이저빔을 제공하도록 박막 물질들로 구성된 공진 필터의 사용을 기술한다. 매그너슨의 특허에서, 광 신호는 광학 스위치를 작동시키도록 사용된다.
현행 파장 분할 멀티플렉싱/디멀티플렉싱(WDM) 시스템들은 제조단가가 비싸며, 높은 광학 손실과, 부적절한 성능을 갖고 있다.
발명의 요약
본 발명은 다수의 이산 파장들을 처리하도록 광학 신호들을 디멀티플렉싱 또는 멀티플렉싱 시키는 다수의 공진 격자 필터를 포함하는 고체 필터 조립체에 관한 것이다.
광학 신호 멀티플렉서/디멀티플렉서를 포함하는 본 발명은 다수의 공진 격자 필터들로 이루어진다. 이것은 모든 파장(주파수) 채널들이 단일 디바이스에서 분리되거나 결합 가능하게 한다. 상기 디바이스는 바람직한 파장을 선택하기 위해 공진 격자 필터를 사용하는 다른 기술들과 구별된다. 이로운 특징들은 제조의 용이성, 극히 높은 처리량과 성능, 그리고 특정 파장들을 선택하기 위해 많은 필터들을 포함하는 어레이 또는 스택에 집적되는 능력이다.
본 발명은 더 상세하게 멀티플렉서 또는 디멀티플렉서로서 작동하는 광학 디바이스로 구현된다. 상기 디바이스는 다수의 광학 신호 주파수들에 대해 멀티플렉싱된 광학 채널로 연장하는 진행축을 따라 배열된 다수의 공진 격자 필터들로 이루어진다. 상기 필터들은 각 공진 주파수에서 광학 신호들을 반사시키며, 진행축을 따라 각 공진 주파수들 이외의 주파수에서 광학 신호들을 전송한다. 상기 필터들은 진행축에 비-직각으로 각각 배열되어, 진행축과, 다수의 이산 주파수들을 갖는 광학 신호들을 전달하도록 제공된 이산 주파수 채널들중 1개 채널사이에서의 반사 신호를 반사시킨다.
바람직하게 본 발명의 필터들은 영차 회절 격자 필터들이다. 그러한 필터들은 바람직하게 극히 높은 처리량을 지닌 협대역(잠재적으로 1-2 옹스트롬 대역폭)이다. 상기 필터들은 단일 마스터(master)로부터 복제될 수 있으며, 대량 생산하기에 상대적으로 저가이고, 이산 파장 식별을 할 수 있으므로 고밀도 어레이로 집적될 수 있다. 협대역 필터의 중심 파장은 격자 파라미터(입사각, 굴절율, 격자 주기, 등)중 1개를 바꿈으로서 작은 범위에 걸쳐 또한 조율될 수 있다.
이것들 및 본 발명의 다른 목적들은 하기 설명서와 본문에 포함되어 본 발명의 몇 개의 바람직한 실시예들을 기술하고 도시하는 도면들로부터 쉽게 명백해질 것이다. 그러한 실시예들은, 그러나 모든 가능한 실시예들을 총망라한 것은 아니므로, 기준은 본 발명의 적법한 범위로서 상세한 설명에 뒤따르는 청구범위로 하여야 한다.
도 1은 종래 기술분야에서 개별 공진 격자 필터의 제 1 실시예의 사시도.
도 1A는 도 1의 실시예에 대한 굴절율 그래프.
도 2는 종래 기술분야에서 개별 공진 격자 필터의 제 2 실시예의 사시도.
도 2A는 도 2의 실시예에 대한 굴절율 그래프.
도 3은 도 1에 도시된 다수의 필터들을 포함하는 본 발명의 멀티플렉싱/디멀티플렉싱 디바이스의 제 1 실시예.
도 4는 본 발명의 멀티플렉싱/디멀티플렉싱 디바이스의 제 2 실시예.
도 5A 및 도 5B는 도 4의 실시예에 대한 반사율 대 파장의 그래프.
도 6은 본 발명의 멀티플렉싱/디멀티플렉싱 디바이스의 제 3 실시예.
도 7A 및 도 7B는 도 6의 실시예에 대한 반사율 대 파장의 그래프.
도 8A, 8B 및 8C는 도 3 및 4의 실시예중 1개에의 조립체에 도 2의 유형의 다수 필터들을 만드는 방법을 도시한다.
도 1은 굴절율이 n2인 광 전송 물질의 기판(11), 다수의 평행 그루브(12), 및 굴절율이 n1인 제 2 광 전송 물질로 제공된 그루브용 삽입물(13)을 구비하는 바이너리 공진 격자 구조체(10)를 도시한다. 이에 관련해서, "광(light)"은 가시광선 스펙트럼에서의 신호들 이외에 종래 알려진 기술분야에서 광학 전송 시스템에 의해 일반적으로 다루어지는 주파수들의 전체 스펙트럼에서의 신호들을 의미한다. 상기 바이너리 격자 구조체(10)는 영차 회절 격자(더 높은 차수로 회절된 필드는 없음)를 제공한다. 광 신호들은 통과되거나 반사된다. 결국 필터(10)의 굴절율은 유효 굴절율(neff)를 갖는 실제 같은 동종 물질로 표시될 수 있다.
그 경우에, 격자 구조체가 굴절율 n0을 갖는 입력 영역(14) 또는 출력 영역(15)으로 도시되고, 격자 영역 내에서의 굴절율이 n0<neff>n2의 굴절율 표준을 만족시킨다면, 표면 전달 필드가 생성되어 전체 내부 반사(유효 웨이브가이드)로 인하여 격자 영역 내로 트랩(trap)된다.
도 1A는 n1과 n2로 정의된 영차 격자 영역이 주변의 동종 영역들보다 더 높은 유효율(neff)을 가지므로, 평면 (유효) 웨이브가이드의 외관을 주는 것으로 도시되어 있다. 만일 회절된 필드가 이 유효 웨이브가이드의 모드에 커플링되면, 상기 필드는 공진하여 모든 광 에너지를 반대방향으로 반사시킨다. 이 공진 효과는 표면으로부터 입사 필드의 전반사를 초래하며, 협대역 반사 필터로 제공하기에 파장에 극히 민감하다. 모든 다른 주파수들은 필터를 경유하여 통과한다.
도 2는 굴절율이 n2인 기판(17)이 사인파 형상이며 굴절율이 n1인 유전성 코팅물(18)을 갖는 단일 공진 격자 필터(16)의 다른 실시예를 나타낸다. 상기 필터에 대한 유효 굴절율(neff)은 도 2A의 굴절율 그래프에 도시된 것처럼 기판 또는 코팅물의 굴절율보다 더 크다. 1차원 격자 파라미터들은 다음과 같다: 기판의 굴절율=1.52, 격자 주기=594.95nm, 격자의 변조 깊이=450nm, 코팅물의 굴절율=1.58, 코팅물 두께=600nm.
본 발명은 광학 신호들을 멀티플렉싱 및 디멀티플렉싱 시키는 다수의 공진 격자 필터들(예를 들면, 도 3의 요소(10a-10e)들)을 활용한다. 멀티플렉싱은 단일 채널을 경유하여 전송된 신호들과 평행하게 다중 신호들을 변환시킨다. 디멀티플렉싱은 단일 채널로부터 평행하게 작동하고 있는 다중 채널로 신호들을 분배한다. 본 발명에 따르면 공진 격자 필터들을 지닌 WDM 시스템을 구성하는 많은 구조 배치가 있다.
도 3에 따르면, 디바이스(20)는 도 1에 도시된 유형의 다수의 영차 공진 격자 필터(10a-10e)를 포함하는데, 필터들은 수평 기준과 수직 기준 사이에서 45도의 각도로 각 필터(10a-10e)가 적층된 어레이로 조립된다. 상기 공진 필터(10a-10e)는 굴절율(nb)을 갖는 물질(21)에 삽입될 수 있으며, 그 굴절율은 공진 필터의 기판 물질의 굴절율(na)과 일치한다(즉, na=nb). 상기 물질(21)은 광 전송 오일과 같은 유체이거나, 광 전송 플래스틱 물질과 같은 고체일 수 있다. 만일 상기 고체 물질을 필터(10a-10e)와 조립하는데 접착제가 사용된다면, 에폭시와 같은 광 전송 물질이 사용된다. 상기 필터(10a-10b)는 또한 선택된 각도로 필터(10a-10e)를 향하게 하도록 각진 표면을 지닌 톱니파 에지(sawtooth edge)를 각각 구비하는 상부 및 하부 지지 구조체(도시되지 않음) 사이에 배치될 수 있다. 결국 조립체(20)는 도 3에 도시된 것처럼 프리즘 블럭 형태를 취하거나, 다른 형태를 또한 취할 수 있다.
영차 격자 영역의 유효 굴절율(neff)은 또한 기판 굴절율과 매우 근접하다. 따라서, 굴절율이 각 공진 구조체를 둘러싸는 입력 및 출력 영역과 동일하다면, 프레넬(Fresnel) 반사 및, 채널간의 누화가 최소화된다.
도 3의 변형된 형태는 톱니파 장착 멤버(상부 및 하부)를 사용하고 도 2에 도시된 유형의 다수의 사인파 격자들을 사용하여 구성될 수 있으며, 약 45도로 방향지워진 축을 갖는다. 스페이서(spacer) 물질은 유체 또는 고체 물질의 형태로 사용될 수 있다.
도 3에서, 입사 신호는 디멀티플렉싱 모드에서 반사된 파장(λ1, λ2, λ3, λ4...λn)을 각각 제공도록 동일한 각도(θ)로 필터(10a-10e)에 충돌한다. 공진 격자 필터 사이의 공간에 삽입된 광 전송 스페이서 물질(21)은 상기 공진 격자 필터들중 두번째 필터(10b)에 의해 수신된 입사 신호는 상기 공진 격자 필터들중 첫번째 필터(10a)에 의해 수신된 입사 신호와 다르도록 굴질율을 갖는다. 주파수 및 파장의 이 변동은 필터(10c-10e)에서 또한 발생한다. 이것은 서로 다른 파장(λ1, λ2, λ3, λ4...λn)을 초래한다. 도 3의 양방향 화살표는 파장(λ1, λ2, λ3, λ4...λn)의 신호들이 개별 채널들을 따라 전송되고, 멀티플렉싱 모드에서 공통의 진행축을 따라 뒤로 반사될 수 있음을 나타낸다.
도 4는 다수의 간격지워진 거의 평행한 필터(10f-10j)의 제 2 실시예를 나타내는데, 각 필터(10f-10j)는 동일하며, 45도 주위의 각도들(θ1, θ2, θ3, θ4... θn)중 각각, 약간씩 수정되는 각도로 변동된다. 도 4의 양방향 화살표는 파장(λ1, λ2, λ3, λ4...λn)의 신호들이 개별 채널들을 따라 전송될 수 있고, 멀티플렉싱 모드에서 공통의 진행축을 따라 뒤로 반사될 수 있음을 나타낸다.
도 5A 및 5B는 도 3 또는 도 4를 기초로한 16-채널 WDM 시스템의 성능을 도시하는데, 그 각각은 단일 공진 필터 세트를 제공한다. 100%의 반사율은 도 5a에 도시된 것처럼 일정한 중심 주파수 주변에서 발생한다. 측파대 주파수들에 응답하는 드롭 오프(drop off)는 도 5B의 데시벨로 도시되어 있다. -5dB와 -10dB 사이에서 일부 누화된다.
도 6은 삼중 반사 필터 예를 도시하는데, 각 채널은 λ1에 대한 서브-필터(31a-31c)와 같이, 3개의 서브-필터들을 경유하여 반사되는 신호를 갖는다. 3개 필터(32a-32c, 33a-33c, 34a-34c 및 35a-35c)의 각 세트는 λ2, λ3,λ4...λn대한 채널들에 상응한다. 이 신호들은 단일 채널(30)로 멀티플렉싱 및 디멀티플렉싱 된다. 삼중 공진 필터 세트는 각 채널이 3개의 동일한 필터들 밖으로 반사시키도록 제공되어, 측파대들을 감소시킨다.
도 6의 실시예는 채널 누화를 감소시킨다. 도 7A 및 7B는 상기의 동일한 필터 설계를 기초로 삼중 공진 필터 세트의 성능을 도시한다. 채널 반사율은 조율된 채널 주파수들 주위에서 여전히 100%이지만, 채널 누화의 감소는 도 7B에서 -20dB 영역으로 됨에 주의해야 한다. 채널 간격(separation)은 0.8nm이므로, 14.4nm에서 16 채널을 실현할 수 있도록 함과 아울러, 화이버 광학 시스템에서는 대부분의 채널들의 2 내지 3배의 채널을 구현할 수 있게 된다. 전체 가용 대역폭은 1550nm의 파장에 대하여 약 50nm정도다.
본 발명에는 많은 이점들이 있다. 왜냐하면 각 공진 구조체는 굴절율-정합된 영역내에 삽입되기 때문에, 공진 필터의 입력 및 출력 영역들은 동일한 물질 특성을 갖는다. 따라서, 입사 필드는 공진 피크로부터 멀리서 프레넬 반사가 최소이거나 없음을 경험하게 된다, 즉 측파대 반사들을 제한한다.
공진 구조체들은 입사 필드에 대하여 특정 각도로 위치되어 공진 에너지를 평면 웨이브가이드의 다른 부분으로 전송할 수 있다.
공진 필터들은 고유의 광학 손실을 갖지 않으므로 공진 중심 파장에서 100% 처리량을 산출한다.
본 발명의 시스템들은 입사 필드 편광에 민감하거나 민감하지 않도록 설계될수 있다.
1차원으로 구성된 공진 필터는 편광 특성을 나타내며, 2차원 대칭으로 구성된 공진 필터는 비편광된 광으로 작동한다. 공진 격자 필터들은 바이너리 구조체 및 연속 표면 양각 구조체를 포함하는 몇 개의 서로 다른 구조들을 사용하여 설계될 수 있다. 도 1에 도시된 것과 같은 구조체는 편광-센서티브(sensitive)인데, 왜냐하면 그것은 1차원 격자 구조체(한방향으로 평행하게 진행하는 그루브)로 생각되기 때문이다. 편광-센서티브가 아닌 공진 필터를 구성하기 위해서, 대칭인 2차원 구성이 사용될 수 있다.
도 8A, 8B 및 8C는 박막 기술을 사용하여 마스터(master)를 생산한 후, 도 2에 도시된 유형의 다수 사인파 유형의 필터들을 만들도록 마스터를 사용하는 방법을 도시한다. 직접-기록, e-빔 리쏘그래피; 직접-기록, 집속된-이온 빔 리쏘그래피; 인터페로메트리(interferometry) 및 그레이-스케일 마스크 리쏘그래피와 같이 이용가능한 무수히 많은 제조 기술들이 있다. 도 8A는 2개의 빔이 그 위에 증착된 토포레지스트 물질 층(31)을 갖는 기판(30)위에 집속되는 간섭법을 도시한다. 상기 빔들이 간섭할 때, 특정 영역에서 강도 또는 크기에 비례하여 포토레지스트를 현상시키는 강도의 웨이브 패턴을 생성한다. 만일 강도가 낮은 보강으로 인하여 낮다면, 상기 포토레지스트는 덜 처리된다. 그 결과는 도 8B에 도시된 것처럼 사인파 또는 격자된 패턴으로 현상된 포토레지스트 층이 된다. 다음, 빔이 기판을 에칭시키도록 적용되면, 그 효과는 포토레지스트의 더 두꺼운 부분에 의해 완화되지만, 포토레지스트의 더 얇은 층들에 의해 덜 영향을 받게 된다. 결국, 사인파 패턴이기판으로 전달되어, 기판은 사인파 격자 표면을 갖는 다수의 필터들을 만드는 마스터가 된다. 필터 기판들은 도금, 코팅, 압축, 주입 몰딩과 같은 기술들을 사용하는 마스터로부터 만들어 질 수 있다. 사인파 필터 본체용 물질들은 플래스틱, 에폭시, 글래스 및 금속을 포함한다.
코팅물은 기판보다 더 높은 굴절율을 갖는 물질로서 박막 코팅물을 사용하거나, 더 높은 굴절율의 영역을 생성시키기 위해서 표면에 이온 주입에 의해 이 필터 본체에 도포될 수 있다.
지금까지 본 발명의 방법 및 장치의 바람직한 실시예의 설명이었다. 당 기술분야에서 통상의 당업자들은 변형들이 이루어질 것으로 인식하지만 여전히 본 발명의 사상 및 범위내에 있으므로, 본 발명의 실시예들을 정의하기 위해서, 하기의 청구범위가 만들어 졌다.

Claims (19)

  1. 멀티플렉서 또는 디멀티플렉서로서 작동하는 광학 디바이스에 있어서,
    다수의 광학 신호 주파수들에 대해 멀티플렉싱된 광학 채널들로 연장시키는 진행축을 따라 배열되어, 각각의 공진 주파수에서 광학 신호들을 반사시키며, 상기 진행축을 따라 각각의 공진 주파수 이외의 다른 주파수에서 광학 신호들을 전송하고, 진행축 및, 다수의 이산 주파수 채널들중 1개 채널사이에서 각각의 광학 신호를 반사시키도록 진행축에 비직각으로 배열되어, 각각 이산 주파수들을 갖는 광학 신호들을 이송하도록 제공된 다수의 공진 격자 필터들로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 바이너리 공진 필터 격자 구조체인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 사인파 표면을 지닌 기판을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 사인파 표면은 유전성 코팅물로 코팅되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들 사이의 공간에 어셈블된 광 전송 스페이서 물질을 더 포함하는데, 상기 광 전송 스페이서 물질은 상기 공진 격자 필터중 두번째 필터에 의해 수신된 입사 신호가 상기 공진 격자 필터중 첫번째 필터에 의해 수신된 입사 신호와 서로 다르도록 굴절율를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 바이너리 공진 필터 격자 구조체인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 광 전송 스페이서 물질은 고체인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 광 전송 스페이서 물질은 유체인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  9. 제 5 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 사인파 표면을 지닌 기판을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 사인파 표면은 유전성 코팅물로 코팅되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 에어 스페이스(air space)에 의해 서로 떨어져 간격지워지고, 공진 격자 필터들 각각은 상기 공진 격자 필터들중 앞선 필터보다 진행축에 약간 다른 각도로 배치되어 상기 공진 격자 필터들중 앞선 필터에 대해 반사된 신호와 주파수에서 다른 신호를 반사하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 동일한 구조체를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  13. 제 11 항에 있어서, 각 채널에는 적어도 1개의 부가 공진 격자 필터를 포함하므로, 1개의 부가 시간에 각 공진 주파수 신호를 반사하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  14. 제 11 항에 있어서, 각 채널에는 적어도 2개의 부가 공진 격자 필터들을 포함하므로, 적어도 1개의 부가 시간에 각 공진 주파수를 반사하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  15. 제 11 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 바이너리 공진 필터 격자 구조체인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  16. 제 11 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 사인파 표면을 지닌 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  17. 제 14 항에 있어서, 상기 사인파 표면은 유전성 코팅물로 코팅되는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  18. 제 1 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 영차 격자 필터들인 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
  19. 제 1 항에 있어서, 상기 공진 격자 필터들은 동일한 구조체를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 디바이스.
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