KR20010087833A - 평판표시소자의 전기적 검사 장치 및 그 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 평판표시소자의 검사장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 TFT LCD, STN LCD, ELD, PDP등과 같은 평판표시소자 신호선의 단락,단선 등과 같은 결함, 각 표시 픽셀의 단락, 단선 등과 같은 전기적 이상을 검사함으로써, 평판표시소자의 각 단위 공정에서의 결함을 검출하여 평판표시소자의 수율을 증대시키고, 적절한 불량의 구별을 위한 평판표시소자의 전기적 검사장치 및 검사방법에 관한 것이다.

이를 위하여 본 발명은, 평판표시소자에 적절한 전기신호를 인가하는 검사신호 발생부와, 대상 평판표시소자의 전기적 특성을 읽을 수 있는 다수의 프로브를 구비한 비접촉 탐침 어레이 장치와, 상기 장치로부터 전기 신호를 입력받아서 정보를 분석, 판단하는 신호처리부와, 처리된 신호를 이용하여 각 검사 영역의 결함 여부을 판단하는 종합 처리부를 구비한다. 각각의 처리 모듈은 중앙 제어기에 의하여 종합적으로 관리 운영되며 각각의 모듈은 실시간 신호처리를 통하여 고속 자동 검사 기능이 실현된다.

Description

평판표시소자의 전기적 검사 장치 및 그 방법{Electrical Test Apparatus for Flat Panel Display Devices and Test Method for the Same}

본 발명은 TFT LCD, STN LCD, LED, PDP, OLED와 같은 평판표시소자의 전기적 성능을 평가하고 각각의 단위 픽셀의 양,불량 유무를 판단하여 평판표시소자의 각 단위 공정별로 전기적 불량 소자의 제거를 통한 수율 관리 및 비용절감을 위한 평판표시소자의 전기적 특성 검사 장치 및 그 방법에 관한 것이다.

일반적으로 TFT LCD와 같은 평판표시소자는 전기적 전도성을 가지는 가로, 세로의 신호선과 각각의 픽셀에 전압을 인가하고 방향을 제어 하기위한 트랜지스터를 가지고 있는데 이들 회로의 불량은 평판표시소자의 불량과 직결되므로 각각의 공정에서 불량을 구분하여 제거할 필요가 있다. 이와 같은 평판표시소자의 검사 방법은 여러 가지가 있으나 대략 3가지 정도가 현재 상용화되어 있다.

현재 사용되는 방법은 각 픽셀에 연결된 축전기에 전하를 축적시킨 후 각 신호선의 정전용량 변화를 탐침에 의하여 검출하여 신호선의 단락, 단선과 트랜지스터의 이상유무를 판별하는 정전용량변화 검출법에 의한 평판표시소자의 검사방법이 있다. 이와 같은 방법은 Genrad사의 평판표시소자 검사 시스템과 IBM사의 TFT 어레이 검사 시스템이 대표적이다. 다른 하나의 방법은 Voltage Imaging 기법을 사용하는 방법으로써, PDI사의 시스템이 대표적인데, 이는 각 픽셀의 축적 전하를 2차원 검출기를 통하여 전장 변화로서 검출하고 Optical Light를 광학적 이성질체에 입사하여 인가된 전기장에 따라 직선 편광이 원 편광으로 변환되는 성질을 이용하여 원 편광 정도를 측정함으로서 각 픽셀에 인가된 전압의 크기를 판별하여 검사하는 방법이다. 또다른 한가지 방법은 Applied Material사의 시스템에서 사용하는 방법으로 주사 전자 현미경의 원리를 이용하여 각 픽셀에 전계를 인가한 후 전자를 입사시키면 각 픽셀에서는 2차 전자를 발생시키게 되고, 이들 2차 전자를 분석하여 각 픽셀의 전계를 확인하는 방법이다.

그러나 이와 같은 각각의 검사방법은 적용하는 시스템에 따라 장단점을 가지고 있다. Genrad사의 평판표시소자 검사 시스템과, IBM의 TFT 어레이 검사 시스템에서 적용하는 정전용량의 변화를 검출하는 방법의 경우, 평판표시소자의 양,불량을 검사하는 속도는 매우 빠르나, 각각의 가로세로 신호선에 신호를 공급하고 읽어내기 위하여 각각의 신호선 당 1개씩의 검사용 탐침이 필요하게 되고 각각의 탐침들은 동시에 전 신호선을 접촉해야하기 때문에 매우 고가의 평판표시소자의 검사 시스템을 요구하게 되는 단점을 가지고 있다.

PDI사의 검사 시스템에 적용하는 Voltage Imaging을 검출하는 방법의 경우에는 각각의 검사 영역에 2차원 광학 탐침을 사용하므로 검사장치는 매우 단순해지는 장점을 가지고 있지만, 검사를 수행하기 위하여 이미지처리와 이동을 동시에 해야 하기 때문에 검사속도가 매우 느리게 되는 단점이 있다. 아울러, 검사를 수행하기 위하여 매우 약한 전압레벨(Voltage Level)의 신호를 얻기 위하여 탐침을 피검사체에 매우 가까이 근접시켜야 하므로 피검사체가 손상을 입을 수 있는 단점도 가지고 있다.

Applied Material사의 시스템에서 사용하는 방법의 경우에는 주사 전자 현미경의 원리를 그대로 활용하기 때문에 신속한 검사, 평판표시소자의 양,불량과 같은 검사, 상세한 결함 모양의 평가, 결함 구성 성분의 분석 등을 동시에 수행할 수 있는 장점을 가지고 있다. 그러나, 상기의 검사 방법은 진공상태에서 검사를 수행해야 하고, 요구되는 진공정도가 고진공이므로 진공챔버(Chamber)를 필요로 하기 때문에, 검사 장치가 기구적으로 복잡해지며, 검사를 수행하기 위해 피검사물인 평판표시소자를 일정 수준 이상의 요구되는 진공에 이르게 하기 위하여 장시간이 소요되는 단점을 가지고 있다. 또한, 검사시간을 단축하기 위하여 외부 장치와 검사를 수행하는 진공 챔버(Chamber) 사이에 전실(Load Lock Chamber)을 설치해야 하므로 검사시간의 증가를 유발하게 된다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여 비 접촉 Scan형의 전위차검출 어레이를 통한 고속, 고신뢰성의 평판표시소자의 전기적 결함을 검사하는 검사 장치 및 그 방법을 제공하는데 본 발명의 목적이 있는 것이다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 피 검사체에 검사 신호를 인가하는 검사 신호 발생기와, 상기 신호 발생기에 의하여 인가된 전위차를 비접촉으로 읽기 위한 전위차 검출 어레이와 이를 구동하기 위한 전위차 검출 어레이 구동기를 구비하고 피 검사체와의 일정 거리에서 전위차 검출 어레이의 검출 신호를 입력 받아서 각 픽셀의 전위를 적절한 신호로 변환하는 비접촉형 탐침 어레이와 상기 탐침 어레이를 피 검사 기판과 일정거리를 유지할 수 있도록 조절되는 탐침 조정기, 각각의 탐침으로부터 피 검사체의 전위를 읽을 수 있는 다수의 전위차계를 구비하고, 상기 다수의 전위차계로부터 입력된 신호를 처리하여 시스템 콘트롤러로 소정의 신호로 전달하고, 전달된 신호를 바탕으로 미리 정의된 조건에 따라 양 불량을 판정할 수 있는 판정 소프트웨어로 이루어진 검사장비로 이루어진 것에 특징이 있다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 패턴 신호 발생기에 의하여 검사 대상 평판표시소자에 소정의 검사신호를 인가하는 단계와 탐침 어레이를 검사 대상기판에 근접시키고, 상기 검사대상 표시소자와 상기 탐침 어레이를 일정간격을 유지하는 단계, 모션제어기를 이용하여 검사 스테이지를 소정의 방향으로 이동하면서 상기 검사 대상 평판표시소자의 전위차를 검출하는 단계, 소정의 측정신호와 동기신호를 이용하여 신호를 변환하는 단계, 그리고 최종적으로 상기 장치 제어기에서 측정된 신호를 바탕으로 상기 검사대상 평판표시자치의 양 불량 유무를 판단하는 단계를 포함하는 검사방법으로 이루어진 것에 특징이 있다.

도 1은 종래 기술 1에 따른 정전용량 변화 검출법에 의한 평판표시소자의 검사방법을 나타내는 회로도.

도 2는 종래 기술 2에 따른 Voltage Image 검출법에 의한 평판표시소자의 검사방법을 나타내는 블록도.

도 3은 종래 기술 3에 따른 주사전자 현미경의 2차 전자 검출법에 의한 평판표시소자의 검사방법을 나타내는 블록도.

도 4는 본 발명에 의한 스캔닝 프로브 마이크로스코피에 의한 평판표시소자의 검사방법을 나타내는 블록도.

도 5는 본 발명에 의한 탐침 어레이와 검사대상기판과의 관계를 나타내는 모식도.

도 6은 본 발명의 기반기술인 SPM(Scanning Probe Microscope)의 기본도.

도 7은 본 발명에 의한 일반적 포텐셜 다이어그램.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉

1, 2, 3, 4, 5, 10 : 배선 6, 7, 8 : 트랜스미턴스 측정기

9 : 인가전원 11 : 2차원 탐침

12 : 엘이디 광원 13 : 빔 스플리터

14, 22, 32, 41 : 검사대상기판 21 : 전자총

23 : 집속기 24 : 2차전자 검출기

25 : 아날로그/디지털 변환기 26 : 중앙처리장치(CPU)

31 : 탐침 어레이 33 : 스테이지

34 : 동기신호 35 : 측정신호

42 : 도전성 패턴 43 : 탐침

44-1, 44-2 : 갭 유지장치 45 : 탐침 블록

이하 첨부된 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1에서와 같이, 종래 기술 1(미국특허 등록번호 : US05057775)에 있어서, 검사 대상인 평판표시소자는 전면에 걸쳐서 트랜지스터, 금속배선, 축전기의 조합으로 이루어져 있으므로, 인접 도전성 배선에 서로 다른 직류 전원을 인가한 후 배선(1, 2, 4)중에서 검사하고자하는 전기적 배선에 적절한 교류 전원을 인가한 후, 배선(1, 5, 10)에 전달되는 트랜스미턴스를 트랜스미턴스 측정기(6, 7, 8)를 이용하여 측정함으로서 각각의 단위 픽셀의 전자소자의 도통특성을 측정하고, 설정된 기준값과 측정값을 비교함으로서 각각의 단위 픽셀이 정상인지 또는 비정상인지를 판별할 수 있다.

이와 같은 검사방법은 대면적인 평판표시소자를 단시간 동안에 검사할 수 있다는 장점이 있다. 또한 각각의 표시 픽셀에 실제 LCD 모듈과 같은 평판표시장치의 구동방법과 유사한 신호를 인가함으로서 실제 구동특성과 유사한 검사결과를 얻을 수 있다. 하지만 이와 같은 검사 방법은 각각의 신호 배선이 상호 독립적인 배선을 형성해야하고, 복수의 가로세로 배선에 동시에 신호인가 및 신호 측정을 위하여 각각의 전체 배선에 대하여 탐침을 연결해야 하는 문제점이 있다.

첫째 문제점인, 각각의 신호선을 전기적으로 분리하는 문제에 있어서는 평판표시소자가 정전기적 파괴에 매우 취약해진다는 단점이 있다. 최근의 평판표시소자 업체의 소자 디자인을 보면 이와 같은 문제점을 극복하기 위하여 각각의 신호선을 별도의 도전성 배선에 단락시킴으로서 각각의 단위 픽셀의 정전전위를 일정하게 하도록 하고 있다. 이 경우 이와 같은 검사방법은 무의미하게 된다.

또한 두 번째 문제점의 경우 현재 보편화된 XGA급의 평판표시소자의 경우 신호선이 약 3840개 이상이며, 이와 같은 검사를 위해서는 동시에 3840개 이상의 탐침을 동시에 접촉시켜야하는 단점이 있다. 이와 같은 문제는 이와 같은 검사방법이 평판표시소자의 특성을 저하시킬 수 있으며 많은 탐침을 동시에 접속하기 위하여 고가의 탐침 유니트와 많은 수의 탐침을 동시 접속시킬 경우 발생하는 에러에 그대로 노출된다는 것을 의미한다.

도 2에서와 같이, 종래 기술 2에 의한 전압차 이미지 검사방법(미국특허 등록번호 : US0557001l)으로 대표되는 전기 광학적 검사 방법은 가로배선과 세로배선을 1에서 3개정도의 도통 블록으로 단락시키고, 각각에 평판표시소자를 구동하는 검사신호를 각각의 도통 블록에 도 2의 전기광학 2차원 탐침(11)을 검사대상 평판표시소자에 약 10 마이크로미터 정도의 높이로 근법시키고, 엘이디 광원(12)을 빔 스플리터(13)를 통하여 일정 방향의 편광을 상기 2차원 탐침(11)에 조사시키면, 패턴제너레이터의 전기신호가 인터페이스 카드를 거쳐 검사대상기판(14)에 형성된 전기장의 부호에 따라 상기 전기광학 2차원 탐침(11)에서 좌원편광 또는 우원편광으로 변화하고, 상기 전기광학 2차원 탐침(11)의 외면에 도포된 반사체에 의하여 반사된 우원편광 또는 좌원편광을 비디오 카메라에 의하여 측정하여 상기 검사대상기판(14)에 형성된 전기장의 부호와 양을 측정하고 싱크로나이져의 신호를 이용하여, 실제 패턴제너레이터의 신호와 비교하여 인가 전압과 측정전압을 비교하여 상기 검사대상기판(14)의 각 단위 픽셀 또는 도전성 배선의 불량 유무를 판단한다.

이와 같은 전위차 이미지 검사방법에 있어서는 상기 종래 기술 1에서 보이는단점들은 보완할 수 있다. 하지만 상기 종래 기술 2는 2차원 탐침(11)을 이용하여 입사광원의 편광 효과를 이용하게 되므로 각 검사단위 별로 이미지 프로세싱을 위한 정지시간과, 미약한 전기장을 상기 전기광학 소자에 전달하기 위하여 검사대상 평판표시소자와 2차원 탐침(11)을 매우 가까이 근접시켜야 하고, 2차원의 탐침(11)을 항상 일정거리로 유지해야하는 어려움이 있다. 이와 같은 이유로, 상기 종래 기술 2는 검사대상기판을 검사하는데 장시간이 소요되며, 면접촉에 의한 검사대상 기판의 오염과 같은 문제점이 발생 하게 된다.

도 3에 도시된 것과 같이 종래 기술 3에 의한 스캐닝 일렉트론 마이크로스코피를 이용하는 방법은, 도 3의 전자총(21)에서 발생한 전자를 가속하여, 전기신호가 가해진 검사대상기판(22)에 입사시켜 이때 상기 전자총(21)에서 발생한 전자와 상기 검사대상기판(22)에 축적된 전하와의 상호 작용에 의하여 발생한 2차전자를 집속기(23)을 통하여 2차전자 검출기(24)를 통하여 검출한후, 아나로그/디지털 변환기(25)를 통하여 중앙처리장치(26)으로 화상 이미지로 전달하여 이미지 프로세싱을 통하여 상기 검사대상 평판표시소자(22)의 불량 유무를 판단하는 검사 장치이다.

이와 같은 장치에 있어서는 기본적으로 전자선의 밀도와 선속을 유지하기위하여 전체 장치를 고진공 상태를 유지해야하며, 이와 같은 연유로 검사대상 평판표시소자 또한 고진공 챔버(Chamber)에 삽입한 후 진공 상태에서 상기의 종래 기술 3에 의한 검사가 이루어 질 수밖에 없다. 상기의 검사 방법은 검사이외에 물질 분석 또는 고 분해능으로 불량영역을 검사할 수 있는 장점이 있는 반면, 검사를 위하여진공을 요하기 때문에 대용량의 진공 챔버(Chamber)가 필요하며, 고진공을 얻기 위하여 추가적으로 진공펌프를 이용하여 진공을 만들고, 이를 유지하기 위한 예비시간이 필요하다. 그러므로 검사 전처리 시간이 매우 늘어나 결과적으로 검사기의 효율을 저하시키게 된다.

본 발명은 상기 도 1, 도 2, 도 3에서 언급한 종래 기술에 의한 평판표시소자의 전기적 검사장치들의 단점을 보완하고, 고속성과 정확성을 유지하면서, 비교적 저렴하며, 전처리시간이 필요 없는 평판표시장치의 전기적 검사장치를 구현하는데 본 발명의 목적이 있다.

이와 같은 목적을 실현하기 위하여, 본 발명에서는 기본 원리로서 도 6에 도시된 것과 같이 스캐닝 프로브 마이크로스코피(SPM : Scanning Probe Microscope)의 원리를 이용한다. 상기 스캐닝 프로브 마이크로스코피는 물질의 표면 높낮이를 원자 하나 크기 정도의 탐침을 이용하여, 검사대상 물체와 탐침 사이를 항상 동일한 전기적 전위차를 유지할 수 있도록 피지티(PZT)를 이용한 캔틸레버를 이용하여 구동하고, 이렇게 구동하여 피 검사체의 표면상태를 탐침의 높이로 표현하게 하고, 이때 생기는 높이차를 별도로 장착된 레이져 광원과 거울 장치에 의하여 측정기(Detector)를 통하여 검출한 후 높낮이 정보를 이용하여 시료 표면의 프로파일을 영상화하는 초고해상도 현미경 장치이다. 이때 시료 표면의 원자들과 탐침간의 전압차는 도 7에 도시된 바와 같다.

상기의 장치는 전기적 포텐셜의 부호에 따라 접촉 방식과 비접촉 방식이 있는데, 이는 상기 전기적 포텐셜의 부호에 따라 결정된다. 상기 장치의 가동영역은도 7에 보이는 콘택 영역을 이용하는 방법과 인터미디어트 콘택을 이용하는 방법이 있다. 본 발명에 있어서는 도 7에 보이는 빗금 부분의 전기적 포텐셜을 이용하게 된다. 상기 스캐닝 프로브 마이크로스코피는 일정한 전위차를 유지하고 탐침의 높이변화를 감지하는 방법인데 반하여 본 발명은 높이를 일정하게 유지하고 이때 평판표시소자와 탐침 간의 전기적 포텐셜을 측정하여 검사의 목적을 달성한다는 것이 본 발명에 의한 검사 방법이다.

본 발명에서는 이와 같은 원리를 이용하게 되지만 평판표시장치의 표면 프로파일을 측정하는 것이 아니기 때문에 도 6에 보이는 장치와는 상이한 방법을 사용한다. 즉, 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 도 5에 보이는 복수개의 탐침(43)을 가지는 선형의 탐침 어레이를 사용한다. 탐침 어레이는 기본적으로 직사각 형태의 초소형 면상 탐침(43)의 집합으로서 각각의 탐침(43)은 약 10마이크로미터 정도의 상호 간격을 가진다. 이때 검사대상기판(41)의 단위 픽셀 간격을 고려하여 적어도 하나 이상의 탐침(43)을 선택적으로 선택하여 사용하게 된다. 검사대상기판(41)에 형성된 도전성 패턴(42)상에 전기신호를 인가하고, 상기 복수 개의 탐침(43)을 평판표시소자인 검사대상기판(41)과 일정한 높이를 유지할 수 있는 갭(Gap) 유지장치(44-1, 44-2)를 포함하는 전기적 포텐샬 탐침 블록(45)으로 이루어져 있다.

도 4에 도시된 바와 같이 구동방법을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 먼저 본 발명에 의한 검사장치의 구성은 다음과 같다. 도 5에 상세하게 표시된 검사용 탐침어레이(31)와 탐침 블록(45)을 일정 높이로 유지하기 위한 간극 조정기, 상기간극 조정기를 제어하고, 검사 스테이지(33)를 구동하기 위한 모션제어기, 검사대상 평판표시소자에 측정 전압을 인가하기 위한 패턴 신호발생기, 상기 탐침 어레이로부터 전위차를 검출하는 전위차 검출기, 상기 측정신호(35)를 동기화 시키고, 본 발명의 목적을 달성하기 위한 신호를 측정하는 신호 처리기, 그리고 본 발명에 의한 장치 전체를 구동하는 장치 제어기에 적합한 신호로 변환하는 신호 변환기와 장치 제어기로 구성된다.

본 발명에 의한 장치의 동작 방법을 설명하면 다음과 같다. 우선 상기 패턴신호 발생기에 의하여 검사대상기판(32)에 소정의 검사신호를 인가하는 단계와 상기 탐침 어레이(31)를 검사대상기판(32)에 근접시키고, 상기 검사대상기판(32)과 상기 탐침 어레이(31)를 일정간격을 유지하는 단계, 상기 모션제어기를 이용하여 상기 검사 스테이지(33)를 소정의 방향으로 이동하면서 상기 검사대상기판(32)의 전위차를 검출하는 단계, 그리고 상기 소정의 측정신호(35)와 상기 동기신호(34)를 이용하여 신호를 변환하는 단계, 그리고 최종적으로 상기 장치 제어기에서 측정된 신호를 바탕으로 상기 검사대상기판(32)의 양 불량 유무를 판단하는 단계를 포함한다.

본 발명에 의한 검사 방법은 특정 평판표시소자에 국한되지 않으며, 기본적으로 도전성 물질에 의하여 형성된 각각의 표시 픽셀 또는 금속 배선으로 형성된 표시소자는 모두 검사 대상에 포함된다.

이상에서 상술한 바와 같이 본 발명은, 다수의 탐침을 구비하고, 다수의 탐침을 피 검사체에 일정간격을 유지할 수 있는 탐침 블록을 구비하고, 피 검사체에 전기신호를 인가할 수 있는 검사 신호 발생장치를 구비하여, 상기 다수의 탐침과 상기 검사 신호 발생장치에 의하여 피 검사체에 인가된 전기신호 사이의 터널링 효과에 의한 전기적 전위차를 읽음으로서 종래 기술 1에서 보이는 다수의 탐침 프로빙이 불필요하며, 종래 기술 2에서 보이는 저속성 또는 이미지 처리가 불필요하며, 종래 기술 3에서 보이는 진공유지가 불필요하고, 상대적으로 간단한 기계장치와 피 검사체와 접촉하지 않으면서 스캔모드에 의한 고속 검사 및 피 검사체의 오염을 최소화하며 피 검사체의 전기적 특성을 검사할 수 있다.

Claims (13)

1. 평판 표시소자의 전기적 검사 장치에 에 있어서,

   전기신호 발생장치부를 구비하고,

   상기 전기신호를 검출하는 다수의 탐침을 구비하고,

   다수의 탐침을 피 검사체에 일정간격으로 유지하는 탐침 블록을 구비하고,

   상기 다수의 탐침으로부터 상기 피 검사체의 전기적 전위차를 검출하여 신호화하는 신호 처리부와,

   상기 신호처리부의 처리 신호를 통하여 불량여부를 판단하는 판단장치로 이루어진 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
2. 제 1항에 있어서 평판표시소자가 액티브 매트릭스형의 액정표시소자인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
3. 제 1항에 있어서 평판표시소자가 패시브 매트릭스형의 액정표시소자인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
4. 제 1항에 있어서 평판표시소자가 피디피(PDP) 표시소자인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
5. 제 1항에 있어서 평판표시소자가 오엘이디(OLED) 표시소자인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
6. 제 1항에 있어서 상기 전기신호를 검출하는 다수의 탐침이 금속제의 니이들 핀인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
7. 제 1항에 있어서 상기 전기신호를 검출하는 다수의 탐침이 박막 공정에 의하여 형성되는 탐침 어레이인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
8. 제 1항에 있어서 상기 전기신호를 검출하는 다수의 탐침이 후막공정에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
9. 제 1항에 있어서 상기 탐침 블록이 공기 부양력에 의하여 일정간격을 유지하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
10. 제 1항에 있어서 상기 탐침 블록이 전기적 비례, 미분, 적분동작에 의하여 일정간격을 유지하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사장치.
11. 평판 표시소자의 전기적 검사 장치에 에 있어서,

    전기신호 발생장치부를 구비하고,

    적어도 하나 이상의 집적화된 탐침어레이를 구비하고,

    다수의 탐침을 피 검사체에 일정간격으로 유지하는 탐침 블록을 구비하고,

    상기 다수의 탐침으로부터 상기 피 검사체의 전기적 전위차를 검출하여 신호화하는 신호 처리부와,

    상기 신호처리부의 처리 신호를 통하여 불량여부를 판단하는 판단장치로 이루어진 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
12. 제11항에 있어서 평판표시소자가 오엘이디(OLED) 표시소자인 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사 장치.
13. 평판 표시소자의 전기적 검사 장치에 에 있어서,

    패턴 신호 발생기에 의하여 검사 대상 평판표시소자에 소정의 검사신호를 인가하는 단계,

    복수의 탐침 어레이를 검사 대상기판에 근접시키고, 탐침 어레이를 검사체와 일정간격을 유지하는 단계,

    검사 스테이지를 소정의 방향으로 이동하면서 검사 대상물의 전위차를 검출하는 단계와,

    측정신호 이용하여 검사대상 평판표시소자의 양 불량 유무를 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 전기적 검사장치.