KR20010049010A - 감광액공급장치 - Google Patents

감광액공급장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20010049010A
KR20010049010A KR1019990053921A KR19990053921A KR20010049010A KR 20010049010 A KR20010049010 A KR 20010049010A KR 1019990053921 A KR1019990053921 A KR 1019990053921A KR 19990053921 A KR19990053921 A KR 19990053921A KR 20010049010 A KR20010049010 A KR 20010049010A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photosensitive liquid
buffer tank
filter
bubble removing
gas
Prior art date
Application number
KR1019990053921A
Other languages
English (en)
Inventor
조강일
Original Assignee
인재식
주식회사 누리텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 인재식, 주식회사 누리텍 filed Critical 인재식
Priority to KR1019990053921A priority Critical patent/KR20010049010A/ko
Publication of KR20010049010A publication Critical patent/KR20010049010A/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0031Degasification of liquids by filtration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0073Degasification of liquids by a method not covered by groups B01D19/0005 - B01D19/0042
    • B01D19/0078Degasification of liquids by a method not covered by groups B01D19/0005 - B01D19/0042 by vibration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1007Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material
    • B05C11/1013Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material responsive to flow or pressure of liquid or other fluent material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

본 발명은 감광액공급장치에 관한 것으로, 감광액 공급관로에 기포를 제거하기 위한 별도의 기포제거용 버퍼탱크를 설치하여 감광액으로부터 기포가 자연적으로 분리되도록 함과 동시에 상기 기포제거용 버퍼탱크에 진동발생기를 부착하여 기포의 분리가 촉진되도록 하고, 이와 더불어 감광액을 필터링하는 필터에도 진동발생기를 설치하여 필터를 통과하는 감광액으로부터 기포가 분리되도록 구성된 것인 바, 감광액에 혼입되어 있는 기포를 효과적으로 제거할 수 있도록 한 것이다.

Description

감광액공급장치 {APPARATUS FOR SUPPLYING PHOTO RESIST}
본 발명은 감광액공급장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 감광액으로부터 기포를 효과적으로 분리 제거할 수 있는 감광액공급장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체제조공정에 있어서 웨이퍼(wafer)를 가공하는 장치는, 웨이퍼를 이송하는 이송로봇과, 웨이퍼 위에 감광액을 도포하는 코터(Coater)와, 정렬(align) 및 노광(exposure) 후 현상액을 이용하여 필요한 곳과 불필요한 부분을 구분하여 상을 형성하기 위해 웨이퍼의 표면 중 일정부위의 PR(Photo Resist)을 제거하는 디벨로퍼(Developer)와, 정렬 후 마스크(mask)의 상이 웨이퍼에 옮겨지도록 소정 주파수의 광선에 노출시키는 공정을 수행하는 노광기 및, 상기 코터에 의해 감광액이 도포된 웨이퍼를 가열 및 냉각시켜 감광액의 접착력을 증가시키는 베이크유니트(Bake-Unit) 등으로 구성된다.
이중 상기한 코터 즉, 감광액도포장치로 감광액을 공급하는 장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 감광액을 저장하는 복수의 저장통(10, 11)과 이 복수의 저장통(10, 11)에 저장된 감광액의 부족여부를 감지하기 위한 복수의 감광액감지센서(20, 21)와 상기 복수의 저장통(10, 11)으로부터 공급되는 감광액을 일시 저장하여 그 공급속도를 균일하게 하는 복수의 버퍼탱크(30, 31)와 이 복수의 버퍼탱크 내의 감광액을 외부로 배출시키기 위한 복수의 수동조작밸브(40, 41)와 상기 복수의 버퍼탱크 배출구를 선택적으로 개폐하는 삼방밸브(3 Way -Valve; 50)와 복수의 저장통에 저장된 감광액이 감광액도포장치로 공급되도록 펌핑동작을 수행하는 펌프(60)와 감광액에 혼입된 불순물 또는 불균일한 크기의 입자를 제거하는 필터(70)와 이 필터를 통과하는 감광액을 외부로 배출시키기 위한 수동조작밸브(80)와 감광액도포장치에 공급된 감광액 중 웨이퍼상에 도포되고 남은 소량의 감광액을 다시 감광액공급파이프내로 흡입하는 역흡입밸브(90)로 구성된다.
그러나, 상기한 바와 같은 종래의 감광액공급장치에서는, 저장통에 저장된 감광액 자체에 기포가 포함되어 있을 뿐 아니라 여러 밸브와 특히 펌프를 통과하면서 감광액에 기포가 다량으로 발생되는 데, 이와 같이 감광액에 기포가 혼입되는 경우 웨이퍼상에 도포되는 감광액의 두께에 편차가 발생되고 전체적으로 감광액의 도포량이 감소하여 불량이 많이 발생됨에 따라 웨이퍼의 수율이 감소하는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 감광액에 포함된 기포를 효과적으로 분리 제거할 수 있는 감광액공급장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 감광액공급장치를 도시한 개략도,
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 감광액공급장치를 도시한 개략도,
도 3은 도 2에 도시된 기포제거용 버퍼탱크의 내부구조를 설명하기 위한 수직방향의 단면도,
도 4는 도 2에 도시된 제3 감광액감지센서의 구조를 설명하기 위한 도면,
도 5는 도 2에 도시된 주요 구성부의 신호연결관계를 설명하기 위한 개략적인 블록구성도.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉
50, 120, 220, 240, 250: 밸브 100: 메인 기포제거수단
110: 기포제거용 버퍼탱크 130: 감광액감지센서
140, 210: 진동발생기 150: 수위센서
200: 필터용 기포제거수단 230: 필터용 버퍼탱크
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 감광액공급장치는, 감광액저장수단의 감광액을 급송수단을 이용해 목적지로 공급하는 감광액공급장치에 있어서, 감광액이 유입 및 유출되는 유입 및 유출구와 감광액으로부터 분리된 기체가 배출되는 기체배출구가 구비된 기포제거용 버퍼탱크 및, 상기 기포제거용 버퍼탱크의 소정부위에 부착되어 진동을 발생하는 진동발생기를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 감광액공급장치를 도시한 개략도로서, 동도면을 참조하면 알 수 있듯이, 본 발명의 감광액공급장치는, 감광액을 저장하는 복수의 저장통(10, 11)과, 이 복수의 저장통(10, 11)으로부터 공급되는 감광액을 일시 저장하여 그 공급속도를 균일하게 하는 복수의 버퍼탱크(30, 31)와, 이 복수의 버퍼탱크의 배출구를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브(50)와, 상기 제1 밸브(50)로부터 공급되는 감광액 중에 포함된 기포를 분리 제거하는 메인 기포제거수단(100)과, 복수의 저장통에 저장된 감광액이 감광액도포장치로 공급되도록 펌핑동작을 수행하는 펌프(60)와, 감광액에 혼입된 불순물 또는 불균일한 크기의 입자를 제거하는 필터(70)와, 이 필터(70)를 통해 필터링되는 감광액으로부터 기포를 분리 제거하는 필터용 기포제거수단(200)을 포함한다.
또한, 본 발명의 감광액공급장치는, 상기 복수의 저장통(10, 11)에 저장된 감광액의 부족여부를 감지하기 위한 제1 및 제2 감광액감지센서(20, 21)와, 상기 복수의 버퍼탱크(30, 31) 내의 감광액을 외부로 배출시키는 복수의 수동조작밸브(40, 41)와, 상기 필터(70)를 통과하는 감광액을 외부로 배출시키기 위한 수동조작밸브(80)와 감광액도포장치에 공급된 감광액 중 웨이퍼상에 도포되고 남은 소량의 감광액을 다시 감광액공급파이프내로 흡입하는 역흡입밸브(90)를 포함한다.
상기 메인 기포제거수단(100)은, 감광액으로부터 기포를 분리하는 기포제거용 버퍼탱크(110)와, 이 기포제거용 버퍼탱크(110)를 통해 감광액으로부터 분리된 기포의 기체를 외부로 배출시키는 제2 밸브(120)와, 이 제2 밸브(120)를 통해 기체 이외에 감광액의 누출이 감지되는 경우 감지신호를 발생하는 제3 감광액감지센서(130)로 구성된다.
이중 상기 기포제거용 버퍼탱크(110)는 도 3에 도시된 바와 같이, 그 하부면에 제1 밸브(50)를 통과한 감광액이 유입되는 유입파이프(111)와, 탱크 내의 감광액을 펌프(60)로 유출하는 유출파이프(112)가 설치되고, 그 상부면에 감광액으로부터 분리된 기포의 기체를 외부로 배출시키는 기체배출용 파이프(113)가 설치된다.
여기서, 기포제거용 버퍼탱크(110) 내의 유입파이프(111)와 유출파이프(112) 간에는 소정의 거리(ΔL)와 고저차(ΔH)가 있어 유입파이프(111)를 통해 유입된 감광액의 흐름이 다소 지체된 다음 유출파이프(112)를 통해 펌프(60)로 유출되도록 할 수도 있다. 즉, 감광액이 기포제거용 버퍼탱크(110)에 머무르는 시간을 다소 연장시켜 감광액에 포함된 기포가 자연적으로 분리되도록 함으로써, 본 발명의 효과를 극대화할 수 있다.
또한, 상기 기체배출용 파이프(113)는 외부의 광이 투과될 수 있는 투명한 재질로 형성할 수 있으며, 그 종단은 소정의 저압발생수단에 연결되는데, 이 저압발생수단은 감광액공급장치 이외에 웨이퍼 가공공정 상에서 진공에 가까운 저압을 발생하는 여타의 장비를 공용으로 이용하는 것이 바람직하나, 진공펌프(Vaccum Pump)를 별도로 설치하여 사용하는 것도 무방하다.
그리고, 기포제거용 버퍼탱크(110)는 복수의 저장통(10, 11)과 펌프(60) 보다 높은 위치에 설치할 수 있는 데, 이와 같이 기포제거용 버퍼탱크(110)를 저장통과 펌프 보다 높은 위치에 설치하게 되면, 전체 감광액공급관로내에서 감광액으로부터 분리된 기포의 기체가 기포제거용 버퍼탱크(110)로 쉽게 모이도록 할 수 있는 한편, 유출파이프(113)를 통한 감광액의 누출을 최대한 억제할 수 있게 된다.
이와 더불어, 기포제거용 버퍼탱크(110)의 하측 외주면에는 진동을 발생하는 제1 진동발생기(140)가 부착되고 기포제거용 버퍼탱크(110)의 상측 외주면에서 내주면을 관통하여 수위센서(150)가 설치된다.
여기서, 상기 제1 진동발생기(140)의 일실시예로서, 모터 회전자의 일측에 무게추를 부착하여 모터를 편심회전시킴으로써 진동을 발생하도록 구성할 수 있으며, 상기 수위센서(150)는 일종의 근접센서로서 센서와 감광액 간의 거리(Hw)가 소정거리 이내로 근접하면 이를 감지하여 근접신호를 발생한다.
그리고, 상기한 제3 감광액감지센서(130)의 일실시예의 구성은 도 4에 도시된 바와 같이, 기체배출용 파이프(113)를 향해 광을 발산하는 발광부(131)와 이 발광부(131)로부터 발산된 광의 수광상태에 따라 스위칭동작을 수행하여 하이 또는 로우레벨의 감지신호를 발생하는 수광부(132)로 구성될 수 있다.
상기 발광부(131)는 소정의 직류전원(Vcc)에 직렬로 연결된 제1 저항(R1)과, 이 저항(R1)을 매개로 인가되는 직류전원(Vcc)에 의해 광(光)을 발생하는 발광다이오드(LED)로 구성된다.
상기 수광부(132)는 소정의 직류전원(Vcc)에 직렬로 연결된 제2 저항(R2)과, 컬렉터단이 상기 제2 저항(R2)에 직렬로 연결되고 이미터단이 접지되어 상기 발광다이오드(LED)로부터 발생된 광의 수신상태에 따라 턴온 또는 턴오프되는 포토트랜지스터(PTR)와, 일단이 상기 제2 저항(R2)과 상기 포토트랜지스터(PTR)의 컬렉터단에 병렬로 연결되고 타단이 후술될 제어부에 연결되는 제3 저항(R3)으로 구성된다.
한편, 상기 필터용 기포제거수단(200)은 필터(70)의 외측 몸체에 부착된 제2 진동발생기(210)와, 필터(70)로부터의 기체 또는 감광액을 선택적으로 유출시키도록 개폐동작되는 제3 밸브(220)와, 이 제3 밸브(220)로부터 기체배출관로를 통해 유입된 감광액의 외부누출을 방지하기 위해 설치되는 필터용 버퍼탱크(230)와, 이 필터용 버퍼탱크(230) 내의 기체를 외부로 배출하기 위한 제4 밸브(240) 및, 필터용 버퍼탱크(230)로 공기를 불어넣어 이 필터용 버퍼탱크(230) 내의 감광액을 외부로 배수시키기 위한 제5 밸브(250)로 구성된다.
여기서, 상기 제2 진동발생기(210)의 일실시예로서, 제1 진동발생기(140)와 동일하게 모터 회전자의 일측에 무게추를 부착하여 모터를 편심회전시킴으로써 진동을 발생하도록 구성할 수 있다.
그리고, 상기 제4 밸브(240)는 파이프를 매개로 소정의 저압발생수단에 연결되는데, 이 저압발생수단은 감광액공급장치 이외에 웨이퍼 가공공정 상에서 진공에 가까운 저압을 발생하는 여타의 장비를 공용으로 이용하는 것이 바람직하나, 진공펌프를 별도로 설치하여 사용하는 것도 무방하다.
또한, 상기 제5 밸브(250)는 파이프를 매개로 소정의 기압발생수단에 연결되는데, 이 공기압발생수단은 감광액공급장치 이외에 웨이퍼 가공공정 상에서 특정의 기압을 발생하는 여타의 장비를 공용으로 이용하는 것이 바람직하나, 공기압축기(Air compressor)를 별도로 설치하여 사용하는 것도 무방하다.
한편, 도 5는 도 2에 도시된 주요구성부의 신호연결관계를 설명하기 위한 개략적인 블록구성도로서, 동도면을 참조하면 알 수 있듯이, 제1 감광액감지센서(20)와 제2 감광액감지센서(21)와 수위센서(150) 및 제3 감광액감지센서(130)로부터의 각 감지신호는 제어부(330)로 입력되고, 펌프(60)와 제1 내지 제 5 밸브(50, 120, 220, 240, 250)와 역흡입밸브(90)와 제1 및 제2 진동발생기(140, 210)는 제어부(330)로부터의 제어신호에 의해 동작된다.
그리고, 제어부(330)에는 전체적인 웨이퍼가공장치의 동작을 제어하는 호스트컴퓨터 등과의 통신을 매개하는 통신부(310)와, 관리자의 키조작을 키신호로 변환하여 입력하는 키입력부(320)와, 부져음을 발생하는 부져(340)가 설치되어 있다.
여기서, 제어부(330)는 통신부(310)를 통해 중앙의 호스트컴퓨터 등으로부터 하달되는 명령과 키입력부(320)를 통한 관리자의 키신호와 제1 내지 제3 감광액감지센서(20, 21, 130) 및 수위센서(150)로부터의 감지신호에 따라 상술한 각 전기장치 즉, 펌프(60)와 제1 내지 제 5 밸브(50, 120, 220, 240, 250)와 역흡입밸브(90)와 제1 및 제2 진동발생기(140, 210)를 제어하기 위한 각각의 제어신호를 발생한다.
상기한 바와 같이 구성된 본 발명의 동작예를 도 2 내지 도 5를 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
초기상태에서, 관리자가 키입력부(320)에 구비된 키를 조작하여 감광액을 공급하기 위한 공급원을 제1 저장통(10)과 제2 저장통(11) 중에서 하나를 선택하면, 그에 상응하는 키신호가 키입력부(320)로부터 발생하여 제어부(330)로 입력되고, 제어부(330)로부터 관리자가 선택한 저장통의 공급관로를 개방하기 위한 제어신호와 펌프(60)를 구동하기 위한 제어신호가 제1 밸브(50)와 펌프(60)로 인가된다.
상기 제어부(330)로부터의 제어신호에 의해 제1 밸브(50)가 동작하여 관리자가 선택한 저장통의 관로를 개방하고 나머지 저장통의 관로는 폐쇄하며, 펌프(60)가 구동되어 제1 밸브(50)와 해당 버퍼탱크 및 기포제거용 버퍼탱크(110)를 통해 선택된 저장통으로부터 감광액을 흡입하여 감광액도포장치로 공급한다.
이와 동시에, 제어부(330)로부터 제1 진동발생기(140)를 구동하기 위한 제어신호가 발생되어 제1 진동발생기(140)로 인가되고, 이 제어부(330)로부터의 제어신호에 의해 제1 진동발생기(140)로부터 진동이 발생되며, 이 제1 진동발생기(140)로부터 발생된 진동에 의해 기포제거용 버퍼탱크(110)를 통과하는 감광액으로부터 기포가 분리된다.
여기서, 기포제거용 버퍼탱크(110) 내의 유입파이프(111)와 유출파이프(112) 간에 소정의 거리(ΔL)와 고저차(ΔH)를 형성시키면, 유입파이프(111)를 통해 유입된 감광액의 흐름이 다소 지체된 다음 유출파이프(112)를 통해 펌프(60)로 유출되도록 할 수 있음은 상술한 바와 같다. 즉, 감광액이 기포제거용 버퍼탱크(110)에 머무르는 시간을 다소 연장시켜 감광액에 포함된 기포가 자연적으로 분리되도록 하는 것이다.
그런데, 감광액의 경우 물이나 여타의 액체에 비해 상대적으로 점도가 커서 감광액으로부터 자연적으로 기포가 분리되는 데는 한계가 있는 만큼, 제1 진동발생기(140)를 이용해 기포제거용 버퍼탱크(140)에 진동을 가함으로써 기포의 분리가 촉진되도록 한 것이다.
한편, 감광액으로부터 기포가 분리되기 시작하는 초기에는 기포제거용 버퍼탱크(110) 내의 기압이 낮기 때문에 감광액의 수위가 비교적 높은 상태를 유지하여 수위센서(150)와 감광액과의 거리(Hw)가 소정거리 이내로 근접한 상태를 유지하고, 이 경우 수위센서(150)로부터 근접신호가 발생하여 제어부(330)로 입력된다.
상기와 같이 수위센서(150)로부터 근접신호가 입력되면 제어부(330)에서는 기포제거용 버퍼탱크(110) 내에 감광액으로부터 분리된 기체의 양이 많지 않은 것으로 판단한다.
이후, 시간이 경과되어 감광액으로부터 분리된 기체의 양이 많아지면 기포제거용 버퍼탱크(110)의 기압이 증가하면서 이 증가된 기압에 의해 감광액의 수위가 낮아진다. 이와 같이 기포제거용 버퍼탱크(110)의 수위가 낮아짐에 따라 감광액과 수위센서(150)간의 거리(Hw)가 소정거리 이상으로 멀어지게 되면, 수위센서(150)로부터 근접신호의 출력이 중단된다.
상기와 같이 수위센서(150)로부터 근접신호의 출력이 중단되면 제어부(330)에서는 기포제거용 버퍼탱크(110) 내에 감광액으로부터 분리된 기체의 양이 많은 것으로 판단하여 제2 밸브(120)를 개방시키기 위한 제어신호를 제2 밸브(120)로 인가한다.
상기 제어부(330)로부터의 제어신호에 의해 제2 밸브(120)가 개방되고 이 제2 밸브(120)가 개방됨으로 인해 기포제거용 버퍼탱크(130)에 모인 기체는 소정의 저압발생수단으로부터 발생된 저압에 의해 기체배출용 파이프(113)을 통해 신속히 외부로 배출된다.
여기서, 상기 기포제거용 버퍼탱크(130)로부터 기체가 배출되는 기체배출용 파이프(113)의 일측에는 제3 감광액감지센서(130)가 설치되어 있어 이 제3 감광액감지센서의 발광부(131)에 구비된 발광다이오드(LED)로부터 발생된 광이 투명한 재질의 기체배출용 파이프(113)를 투과해 수광부(132)의 포토트랜지스터(PTR)에 수광되며, 발광다이오드(LED)로부터의 광이 수광됨에 따라 포토트랜지스터(PTR)가 턴온된다.
상기와 같이 수광부(132)의 포토트랜지스터(PTR)가 턴온됨에 따라 수광부(132)로 인가되는 직류전원(Vcc)이 포토트랜지스터(PTR)의 이미터단을 통해 접지단자로 패스되어 제어부(330)로는 로우레벨의 신호가 인가된다.
만약, 기체배출용 파이프(113)를 통해 기체 이외에 감광액이 누출되는 경우 발광부(131)의 발광다이오드(LED)로부터 발생된 광이 기체배출용 파이프(113) 내의 감광액에 가로막혀 통과하지 못하고 이에 따라 포토트랜지스터(PTR)는 턴오프된다.
상기와 같이 수광부(132)의 포토트랜지스터(PTR)가 턴오프됨에 따라 제2 및 제3 저항(R2, R3)을 매개로 직류전원(Vcc) 즉, 하이레벨의 신호가 제어부(330)로 인가되고, 제어부(330)는 상기 수위센서의 수광부(132)로부터 하이레벨의 신호가 입력됨에 따라 기체배출용 파이프(113)로 감광액이 누출된 것을 인식하여 제2 밸브(120)를 차단하기 위한 제어신호를 발생한다.
상기 제어부(330)로부터의 제어신호에 의해 제2 밸브(120)가 폐쇄되고 이 제2 밸브(120)가 폐쇄됨에 따라 감광액의 외부누출이 방지된다.
한편, 관리자가 키입력부(320)의 키를 조작하여 필터(70)를 통과하는 감광액으로부터 기포를 제거하기 위한 명령을 입력하면 이에 상응하는 키신호가 키입력부(320)로부터 발생하여 제어부(330)로 입력되고, 상기 키입력부(320)로부터의 키신호에 의해 제어부(330)는 제2 진동발생기(210)를 구동하고 제3 밸브(220)를 필터용 버퍼탱크(230) 측으로 개방시키며 제4 밸브(240)를 개방시키기 위한 각각의 제어신호를 발생하여 제2 진동발생기(210)와 제3 밸브(220) 및 필터용 버퍼탱크(230)로 인가한다.
상기 제어부(330)로부터의 제어신호에 의해 제2 진동발생기(210)가 구동되어 진동을 발생하고, 필터(70)와 필터용 버퍼탱크(230) 간의 관로를 개방하도록 제3 밸브(220)가 동작되며, 제4 밸브(240)가 개방되어 소정의 진공압발생수단으로부터 발생된 진공압이 필터용 버퍼탱크(230)로 공급된다.
상기 제2 진동발생기(210)로부터 발생된 진동에 의해 필터(70)를 통과하는 감광액으로부터 기포가 분리되고 이 분리된 기포로부터의 기체가 제3 밸브(220)를 통해 필터용 버퍼탱크(230)로 유입되며 이 필터용 버퍼탱크(230)로 유입된 기체는 상기한 진공압발생수단으로부터 공급된 진공압에 의해 신속히 외부로 배출된다.
이때, 필터(70)를 통과하는 감광액의 일부가 제3 밸브(220)를 통해 누출되더라도 이 누출되는 감광액은 공기보다 무겁기 때문에, 필터용 버퍼탱크(230)의 상부에 설치된 기체배출파이프로는 배출되지 못하고 필터용 버퍼탱크(230)의 저면에 모이게 된다.
이에 따라, 관리자가 키입력부(320)의 키를 조작하여 필터용 버퍼탱크(230)에 모인 감광액을 배출시키기 위한 명령을 입력하면 그에 상응하는 키신호가 키입력부(320)로부터 발생하여 제어부(330)로 인가되고, 상기 키입력부(320)로부터의 키신호에 의해 제어부(330)로부터 필터(70)와 필터용 버퍼탱크(230) 간의 관로를 폐쇄하기 위한 제어신호가 발생되어 제3 밸브(220)로 인가됨과 동시에 제4 밸브(240)를 폐쇄하고 제5 밸브(250)를 개방시키기 위한 각각의 제어신호가 발생되어 제4 밸브(240) 및 제5 밸브(250)로 인가된다.
상기 제어부(330)로부터의 제어신호에 의해 필터(70)와 필터용 버퍼탱크(230) 간의 관로를 폐쇄하도록 제3 밸브(220)가 동작되고, 제4 밸브(240)가 폐쇄되며, 제5 밸브(250)가 개방된다.
상기 제5 밸브(250)가 개방됨에 따라 소정의 기압발생수단으로부터 발생된 소정의 압력이 필터용 버퍼탱크(230)로 공급되고, 이 공급된 압력에 의하여 필터용 버퍼탱크(230) 내의 감광액이 그 하부에 구비된 배수파이프를 통해 외부로 배출된다.
즉, 본 발명은 감광액의 공급관로에 기포를 제거하기 위한 별도의 기포제거용 버퍼탱크를 설치하여 감광액으로부터 기포가 자연적으로 분리되도록 함과 동시에 상기 기포제거용 버퍼탱크에 진동발생기를 부착하여 감광액으로부터 기포의 분리가 촉진되도록 하고, 이와 더불어 감광액을 필터링하는 필터에도 진동발생기를 설치하여 필터를 통과하는 감광액으로부터 기포가 분리되도록 구성된 것인 바, 감광액에 혼입되어 있는 기포를 효과적으로 제거할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 감광액으로부터 기포가 자연적으로 분리되도록 별도의 버퍼탱크를 설치하고 이 버퍼탱크에 진동발생기를 설치해 기포의 분리를 촉진함으로써, 감광액에 혼입된 기포를 확실하게 제거할 수 있는 효과가 있다.

Claims (10)

  1. 감광액저장수단의 감광액을 급송수단을 이용해 목적지로 공급하는 감광액공급장치에 있어서,
    감광액이 유입 및 유출되는 유입 및 유출구와 감광액으로부터 분리된 기체가 배출되는 기체배출구가 구비된 기포제거용 버퍼탱크 및,
    상기 기포제거용 버퍼탱크의 소정부위에 부착되어 진동을 발생하는 진동발생기를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 기포제거용 버퍼탱크의 내부 소정 위치에 설치되어 수위에 따른 신호를 발생하는 수위센서 및,
    상기 기포제거용 버퍼탱크의 기체배출구에 설치되고 상기 수위센서로부터의 신호에 따라 개폐되는 밸브를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기포제거용 버퍼탱크 내의 기체를 신속히 배출하도록 기포제거용 버퍼탱크 내의 기압보다 낮은 저압을 발생하여 공급하는 저압발생수단을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 기포제거용 버퍼탱크로부터 기체가 배출되는 기체배출관로의 소정부위에 설치되어 기체 이외에 감광액이 감지될 경우 상기 밸브를 폐쇄하기 위한 신호를 발생하는 감광액감지용의 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 기포제거용 버퍼탱크 내의 유입구와 유출구는 소정의 거리와 고저차를 갖도록 구성된 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 기포제거용 버퍼탱크는, 상기 감광액저장수단과 급송수단 보다 높은 위치에 설치된 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 감광액공급장치에는, 감광액을 필터링하는 필터가 더 구비되고, 이 필터에는 진동을 발생하는 진동발생기와 감광액으로부터 분리된 기체를 외부로 배출하기 위한 파이프 및 밸브가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 필터와 상기 밸브의 사이에는, 상기 필터로부터 유입된 감광액이 외부로 누출되지 않도록 이를 모으는 별도의 필터용 버퍼탱크가 더 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 필터용 버퍼탱크 내의 기체를 신속히 배출하도록 필터용 버퍼탱크 내의 기압보다 낮은 저압을 발생하여 공급하는 저압발생수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 필터용 버퍼탱크의 소정부위에는 모아진 누출 감광액을 배출시키기 위한 배출구가 구비되고, 상기 필터용 버퍼탱크 내의 누출 감광액을 상기 배출구를 통해 배출시키도록 필터용 버퍼탱크 내의 기압보다 높은 고압을 발생하여 공급하는 고압발생수단 및 이 고압발생수단으로부터의 고압을 선택적으로 공급하는 고압공급용 밸브가 더 포함된 것을 특징으로 하는 감광액공급장치.
KR1019990053921A 1999-11-30 1999-11-30 감광액공급장치 KR20010049010A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990053921A KR20010049010A (ko) 1999-11-30 1999-11-30 감광액공급장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990053921A KR20010049010A (ko) 1999-11-30 1999-11-30 감광액공급장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20010049010A true KR20010049010A (ko) 2001-06-15

Family

ID=19622756

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990053921A KR20010049010A (ko) 1999-11-30 1999-11-30 감광액공급장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20010049010A (ko)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100447076B1 (ko) * 2002-04-18 2004-09-04 주식회사 나래기술 감광액 공급펌프
KR100719710B1 (ko) * 2005-12-28 2007-05-17 동부일렉트로닉스 주식회사 포토레지스트 도포장치
KR100749335B1 (ko) * 2006-01-20 2007-08-14 (주)에스티글로벌 감광액 자동 배기 장치
KR100772844B1 (ko) * 2005-11-30 2007-11-02 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 감광액 공급장치
KR100780936B1 (ko) * 2001-09-07 2007-12-03 삼성전자주식회사 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
KR100857995B1 (ko) * 2003-11-03 2008-09-10 동부일렉트로닉스 주식회사 감광액 여과장치 및 그 불순물 제거방법
KR100934800B1 (ko) * 2007-11-30 2009-12-31 주식회사 동부하이텍 버퍼탱크와 바이브레이터를 갖춘 고점도 포토레지스트도포장치

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100780936B1 (ko) * 2001-09-07 2007-12-03 삼성전자주식회사 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
KR100447076B1 (ko) * 2002-04-18 2004-09-04 주식회사 나래기술 감광액 공급펌프
KR100857995B1 (ko) * 2003-11-03 2008-09-10 동부일렉트로닉스 주식회사 감광액 여과장치 및 그 불순물 제거방법
KR100772844B1 (ko) * 2005-11-30 2007-11-02 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 감광액 공급장치
KR100719710B1 (ko) * 2005-12-28 2007-05-17 동부일렉트로닉스 주식회사 포토레지스트 도포장치
KR100749335B1 (ko) * 2006-01-20 2007-08-14 (주)에스티글로벌 감광액 자동 배기 장치
KR100934800B1 (ko) * 2007-11-30 2009-12-31 주식회사 동부하이텍 버퍼탱크와 바이브레이터를 갖춘 고점도 포토레지스트도포장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102209902B1 (ko) 처리액 공급 장치 및 그의 탈기 방법
KR20010049010A (ko) 감광액공급장치
US6026986A (en) Chemical spray system and waste liquid tank used in same
JPH09479A (ja) 床面清掃機
CN114345644B (zh) 光刻胶输送系统
JPH07119200A (ja) 真空式下水道システムにおける真空弁の制御装置
CN110666680A (zh) 真空吸附装置
JPH0622157Y2 (ja) 立軸ポンプ
JPH09173404A (ja) 気泡発生装置
JP2000009100A (ja) ポンプ装置
US5984626A (en) Evacuation means for pumps
JP2003220303A (ja) 沈殿槽用上澄水排出装置
KR20050013687A (ko) 포토레지스트 공급시스템
KR200339278Y1 (ko) 수처리 공정에서의 액체 압력 변환 장치
JP2669917B2 (ja) 微細気泡発生装置
JP3690539B2 (ja) 低流動性液の輸送設備
KR200287876Y1 (ko) 절수형 세탁장치
JPH1136424A (ja) 真空下水道システムの真空弁強制作動装置
JPH1119570A (ja) 液供給機構
US7273544B2 (en) Sludge extractor
KR100559088B1 (ko) 기액혼합 흡인 압송장치
JPS5849436Y2 (ja) 揚水装置
JPH0925661A (ja) 空気式作動弁の制御装置
JP2000027282A (ja) ポンプシステム
JPH0925662A (ja) 空気式作動弁の制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
N231 Notification of change of applicant
E601 Decision to refuse application