KR20000065454A - 독성불순물이 없는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 독성 불순물이 없는 새로운 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물의 제조방법에 대한 것으로, 좀 더 상세하게는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물과 2,4-디클로로페놀의 염을 40∼300℃의 온도에서 용매의 존재하 또는 부재하, 및 촉매의 존재하 또는 부재하에서 축합반응시켜 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 제조한 다음, 상기 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 산화제의 존재하에, 용매의 존재하 또는 부재하, 및 촉매의 존재하 또는 부재하에서 0∼100℃의 온도로 산화반응 및 가수분해반응시켜 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르를 제조하는 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 독성 불순물이 없는 새로운 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물의 제조방법에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 2',5'-디클로로페닐카르보닐화합물과 2,4-디클로로페놀의 축합반응후 얻어지는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르를 산화반응시켜 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르를 제조하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 항균제란 각종 제품에 항균력을 부여하여 각종 미생물 즉, 세균이나 곰팡이의 피해로부터 제품을 보호하고 이를 접촉하는 인체의 건강과 병원균으로부터의 감염을 막아주는 기능성 제품이다.
항균제로는 유기계로 4급 아민염, 유기페놀화합물, 고급유기산, 유기황화합물, 유기할로겐화합물 등이 있고, 유기금속계로는 아크릴유화동 복합체, 아연피리치온 등이 있고 무기계로 각종 제올라이트의 은, 구리, 아연 등이 담지된 제품이 있다. 항균제의 요구성능은 항균력, 인체안전성, 제품의 안정성, 적용하고자 하는 환경과 항균제와의 상용성(compatibility)등이 있다.
한편, 하기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르 화합물은 이미 저독성 항균제로 이미 잘 알려져 있는 화합물로 탁월한 항균성능으로 인하여 비누, 세제, 화장품 등 생활용품 등에 광범위하게 사용되고 있다(미국특허 제 3,904,696호, 제 3,629,477호, 제 3,800,048호, 스위스특허 제 43,211,958).
그러나, 상기 화학식 1로 표시되는 항균제 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르화합물을 제조하는 기존공정(미국특허 제 4,490,562호, 제 4,486,610호, 제 4,467,117호)은 제조과정에서 농축 황산을 과량 사용함으로써 산성폐기물을 과량 발생시키고, 디벤조퓨란류 등의 독성부산물을 상당량(24∼28%) 생성하여 다단계의 다양한 정제공정을 거쳐 제품을 요구하는 순도까지 제조해야 하는 어려움이 있다.
기존 공정을 4 단계로 약술하면 다음과 같다.
제 1단계로서 1,4-디클로로벤젠을 질산이 함유된 산성수용액상에서 니트로화반응시켜 2,5-디클로로니트로벤젠을 제조한다. 제 2단계로서 2,5-디클로로니트로벤젠을 2,4-디클로로페놀의 금속히드록시드와 구리계 촉매하에서 반응시킴으로써 2,4,4'-트리클로로-2'-니트로디페닐에테르를 제조한다. 제 3단계로서 2,4,4'-트리클로로-2'-니트로디페닐에테르를 환원시켜 2,4,4'-트리클로로-2'-아미노디페닐에테르를 제조한다. 마직막으로, 제 4단계로서 2,4,4'-트리클로로-2'-아미노디페닐에테르를 진한 황산에서 디아조화하고, 디아조화합물은 황산수용액에서 활류시켜 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르를 제조한다.
이때 발생되는 주요 부산물인 디벤조퓨란류를 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르로부터 분리하기 위하여 pH조절에 의한 추출, 고진공 감압증류, 용매상 재결정 등의 다단계의 집중적인 정제공정을 거쳐야 한다.
상기 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르에 요구되는 미국 FDA의 불순물규격은 하기 표 1과 같다.
불순물 항목 | 불순물 양 |
2,4-디클로로페놀(2,4-DCP) | 〈 0.01% |
4-클로로페놀(4-CP) | 〈 0.01% |
4,4'-디클로로-2-히드록시디페닐 에테르(DCHDPE) | 〈 0.7% |
2,4,8-트리클로로디벤조퓨란(TCDBF) | 〈 10 ppm |
2,8-디클로로디벤조퓨란(DCDBF) | 〈 1 ppm |
상기 표 1에서 알 수 있듯이, 2종의 디벤조퓨란류와 3종의 페놀류가 문제이며, 특히 디벤조퓨란류는 1∼10ppm 이하로 제품내에서 조절해야 한다.
이와 같은 엄격한 규격을 맞추기 위해서는 전술한 다단계 정제공정을 거쳐야 하고 이로 인한 비용, 공정의 번거로움, 제품의 손실 등의 문제점이 있을 수 있다. 또한 기존 제조방법은 제조과정에서 황산 등의 강산을 과량사용함으로 인해 산성폐기물이 과도하게 발생하는 등의 문제점이 있다.
이에 본 발명자들은 상기 화합물에 대한 광범위한 예의 연구를 수행한 결과, 근본적으로 디벤조퓨란류가 생성되지 않는 새로운 제조공정을 개발함으로써 디벤조퓨란의 제거부담을 없에고 제품의 수율을 높이며, 과량의 황산사용을 막아 환경친화적으로 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조가 가능하게 되었고, 본 발명은 이에 기초하여 완성되었다.
따라서, 본 발명의 목적은 디벤조퓨란(Dibenzofuran)류의 생성없이 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르를 제조하는 방법을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르의 제조방법은 하기 화학식 3으로 표시되는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물과 하기 화학식 4로 표시되는 2,4-디클로로페놀의 염을 40∼300℃의 온도에서 용매의 존재하 또는 부재하, 및 촉매의 존재하 또는 부재하에서 축합반응시켜 하기 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 제조하는 단계; 및 상기 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 산화제의 존재하에, 용매의 존재하 또는 부재하, 및 촉매의 존재하 또는 부재하에서 0∼100℃의 온도로 산화반응 및 가수분해반응시키는 단계로 구성된다.
여기서, R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 축쇄의 알킬쇄이다.
여기서, R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 축쇄의 알킬쇄이다.
이하 본 발명을 좀 더 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
일반적으로 상기 화학식 1로 표시되는 화합물인 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르는 광범위한 항균스펙트럼을 가지는 저독성 항균제로서, 본 발명은 상기 화합물의 새로운 제조방법을 제시함으로써 제조공정을 단축하고, 독성불순물인 디벤조퓨란의 생성을 막고, 황산을 과량 사용함에 따른 강산성 폐기물 문제 등 기존 제조방법의 단점을 획기적으로 개선시킨 것이다.
본 발명에 따른 제조공정은 3단계로서, 먼저, 제 1단계로서, 하기 반응식 1을 참조하면, 하기 화학식 2로 표시되는 1,4-디클로로벤젠으로부터 화학식 3으로 표시되는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물을 제조한다.
여기서, R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 축쇄의 알킬쇄이다.
상기 제 1단계에서 화학식 3으로 표시되는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물은 시판되는 제품을 사용하거나, 또는 화학식 2로 표시되는 1,4-디클로로벤젠과 다양한 화합물과의 반응으로 얻을 수 있다. 예를 들어, 화학식 3에서 R이 수소인 경우는 친전자 방향족 치환반응 (Electrophilic Aromatic Substitution Reaction)으로 1,4-디클로로벤젠에 포밀기 (Formyl)를 도입시킬 수 있다. 사용가능한 반응조건의 예로는 POCl3/DMF, 헥사메틸렌테트라아민/유기산, 또는 염산/ZnCl2조건 등이 있다. 화학식 3에서 R이 알킬쇄인 경우는 역시 친전자 방향족 치환반응으로 1,4-디클로로벤젠에 케톤기를 도입시킬 수 있다. 사용가능한 반응조건의 예로는 루이스산(예를 들어, AlCl3, FeCl3등) 존재하에서 카르복실산 염화물(Carboxylic acid chloride) 또는 카르복실산 무수물(Carboxylic acid anhydride)를 1,4-디클로로벤젠과 반응, 또는 불균질 (heterogeneous) 촉매(예를 들어, ZSM-5) 존재하에서 고온고압으로 탈수시키면서 1,4-디클로로벤젠과 카르복실산을 반응시키는 것이다. 반응후 얻어진 반응물은 일반적인 정제과정을 거쳐 얻을 수 있는데, 예를 들어, 감압증류를 통해 가스크로마토그래피(Gas Chromatography) 분석결과, 99.0%이상 비교적 고순도로 얻을 수 있다. 이때, 사용되는 카르보닐 화합물의 양은 1,4-디클로로벤젠 대비 각각 1∼10당량, 산촉매의 양은 0.03∼5당량이 바람직하다.
제 2단계에서는, 하기 반응식 3을 참조하면, 화학식 3으로 표시되는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물과 화학식 4로 표시되는 2,4-디클로로페놀의 금속히드록시드를 구리계 촉매하에서 반응시킴으로써 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐페닐 에테르를 제조한다.
여기서, R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 축쇄의 알킬쇄이다.
상기 제 2단계에서 화학식 5의 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물은 2,4-디클로로페놀의 염과 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물을 교반반응시켜 얻는다. 상기 2,4-디클로로페놀의 염은 2,4-디클로로페놀과 염기화합물과의 반응에 의해 얻어지는데, 사용될 수 있는 염기화합물은 알칼리금속의 알콕시드, 알칼리토금속의 알콕시드 등의 금속알콕시화합물; 알칼리금속의 히드리드, 알칼리토금속의 히드리드 등의 금속히드리드 화합물; 및/또는 알칼리, 알칼리토금속의 0가 금속, 알칼리금속의 알킬리드, 피리딘, 알킬아민 등의 아민류 등이 있다.
얻어진 2,4-디클로로페놀의 염은 화학식 3으로 표시되는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물과 40∼300℃의 온도에서 용매의 존재하 또는 부재하에서, 촉매의 존재하 또는 부재하에서 교반반응시켜 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 얻는다.
즉, 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르의 제조반응은 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 옥탄올 등의 알코올류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족용매; 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 테트라히드로퓨란, 디이옥산, 석유에테르, 디메톡시에탄, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 니트로메탄, 술폴레인(sulfolane), 아세토니트릴, 프로피온니트릴, 벤조니트릴, 헥사메틸포스포아미드 등의 극성용매; 아닐린, 피리딘, 알킬아닐린, 디알킬아닐린 등의 아민용매; 및/또는 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 사염화탄소, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠 등의 할로겐용매의 존재하 또는 부재하에서 수행된다.
또한, 제 2단계 반응에서 사용될 수 있는 촉매는 구리계의 0가로 Cu; 1가로 CuCl, CuBr, CuI, Cu(아세테이트), Cu2O, Cu2SO4, CuCN 등이 있고; 2가로 CuCl2, CuBr2, CuI2, Cu(아세테이트)2, CuO, Cu(OH)2, CuCO3-Cu(OH)2, CuSO4등이 있다. 또한, NaI, NaBr, KI, KBr 등이 사용가능하다. 이들은 혼합사용이 가능하다.
상기 제 2단계 반응은 40∼300℃, 바람직하게는 100∼200℃인데, 40℃ 미만이면 반응속도가 느려지고, 300℃를 초과하면 반응수율이 떨어지는 단점이 있다.
반응후 얻어진 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물은 일반적인 방법으로 정제가 가능한데, 예를 들어, 감압증류하거나 재결정하여 가스크로마토그래피 분석결과, 99.0%이상의 비교적 고순도로 얻을 수 있다. 이때 사용되는 2,4-디클로로페놀의 염의 양은 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물 대비 0.5∼2당량이 바람직하다.
제 3단계에서는, 하기 반응식 3을 참조하면, 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐페닐 에테르를 산화제하에서 베이어-빌리거(Baeyer-Villiger)반응 및 가수분해반응시켜 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물을 제조한다.
여기서, R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 축쇄의 알킬쇄이다.
상기 제 3단계에서 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물은 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 0∼100℃의 온도 및 산화제의 존재하에, 용매의 존재하 또는 부재하, 및 촉매의 존재하 또는 부재하에서 교반반응시켜 제조된다. 사용될 수 있는 산화제로는 산소(Oxygen), 오존(Ozone), 질산, 차아염소산나트륨, t-부틸히드로퍼옥시드, KHSO5, PhIO, 메타클로로퍼옥시벤조인산(m-chloroperbenzoic acid), 퍼옥시 벤조인산, 파라니트로퍼옥시벤조인산, 과초산(Peracetic acid), 트리프루오르퍼옥시아세트산(Trifluoroperacetic acid), 과산화수소(Hydrogen peroxide), 퍼옥시개미산(Performic acid), 퍼옥시말레인산(Permaleic acid), 퍼옥시푸마린산(Perfumaric acid), 과인산, 과황산, 과탄산나트륨(Sodium percarbonate), 및/또는 과붕산나트륨 (Sodium perborate) 등이 있다.
또한, 상기 산화반응은 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 옥탄올 등의 알코올류; 초산, 개미산, 프로피온산, 트리플루오르아세트산 등의 유기산; 무수초산, 무수트리플루오르아세트산 등의 유기산유도체; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족용매; 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 석유에테르, 디메톡시에탄, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 니트로메탄 등이 극성용매; 및/또는 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠 등의 할로겐용매의 존재하 또는 부재하에서 수행된다.
아울러, 상기 산화반응에서 사용될 수 있는 촉매는 염산, 황산, 질산, 인산, 헤테로폴리산(Heteropoly acid), 인산지르코늄(Zirconium phosphate), 인산주석(Tin phosphate), 인산세리움(Cerium phosphate), 및/또는 제올라이트 등이 사용가능하다.
한편, 상기 반응은 0∼100℃, 바람직하게는 20∼70℃인데, 0℃ 미만이면 반응속도가 느려지고, 100℃를 초과하면 반응수율이 떨어지는 단점이 있다. 반응후 얻어진 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물의 에스테르화합물은 일반적인 방법으로 쉽게 가수분해반응시켜 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물의 제조가 가능한데, 산성조건, 예를 들어, 아세톤 용매와 염산수용액하 또는 저급알코올과 황산하에서 가수분해가 가능하고, 염기성조건, 예를 들어, 저급알코올과 알칼리금속의 히드록시드하에서 가수분해가 가능해 부반응없이 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물를 얻을 수 있다. 얻어진 화합물은 일반적인 방법으로 정제가 가능한데, 예를 들어, pH조절에 의한 추출, 감압증류 또는 재결정하여 가스크로마토그래피 분석결과, 99.0%이상 고순도로 얻을 수 있다.
산화반응에서 사용되는 산화제의 양은 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 대비 1.0∼10당량이 바람직하다.
상기 반응의 경우 페놀류 및 비페놀류의 불순물을 모두 워크-업(work-up) 과정에서 pH조절을 통하여 쉽게 제거할 수 있는 장점이 있다. 이 과정을 좀 더 자세히 설명하면 다음과 같다.
산화반응후 얻어지는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물의 에스테르 화합물은 일반적인 워크-업 용매, 즉, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 디에틸에테르, 메틸-t-부틸에테르, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,1,2,2-테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠 등으로 쉽게 용매층으로 추출할 수 있다. 이때 산화반응에 사용된 산화제 및 물에 녹는 반응용매의 경우는 물로 쉽게 제거할 수 있다. 얻어진 용매층은 알칼리 수용액(예를 들어, 희석된 수산화나트륨 수용액 등)으로 세척하여 반응물과 함께 존재하는 페놀류 불순물을 쉽게 물층으로 제거할 수 있다.
페놀류 불순물을 제거한, 반응물이 녹아 있는 용매층은 일반적인 가수분해법으로 처리하면 쉽게 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르를 얻을 수 있으며, 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르가 녹아있는 용매에 pH 12이상의 알칼리수용액을 가함으로써 선택적으로 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르를 물층으로 뽑아낼 수 있다. 이 과정에서 이 번에는 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르와 함께 존재하는 비페놀류 불순물은 용매층에 남게 되어 결과적으로 간단한 워크-업 과정만을 이용하여 페놀류와 비페놀류 불순물을 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르와 깨끗하게 분리할 수 있다. 기존의 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 제조법으로는 비페놀류불순물은 워크-업 과정에서 분리가 가능하나 페놀류 불순물은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 함께 남아 워크-업 이후의 감압증류 등의 방법을 사용하여야 만 제거할 수 있고, 제거되지 못한 페놀류 불순물이 최종제품에 불순물로 작용하여 제품의 질을 떨어뜨리는 단점이 있었다.
알칼리 처리로 얻어진 상기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르의 알칼리염은 pH 5∼7까지 중화하여 물층과 분리한 후 일반적인 방법으로 정제가 가능한데, 예를 들어, 감압증류하거나 재결정하여 가스크로마토그래피 분석결과, 99.0%이상 비교적 고순도로 얻을 수 있다.
이하 실시예를 통하여 본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하지만 하기 예에 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르의 제조(카르보닐이 아세틸인 경우)
교반장치, 콘덴서, 온도계가 부착된 500 ml 둥근 플라스크에 103g의 2,4-디클로로페놀을 투입한다. 반응물의 온도를 60℃로 유지하고 39.7g의 수산화칼륨분말을 천천히 투입한다. 이 온도에서 10분간 교반한 후 반응물에 50ml의 톨루엔을 투입한다. 반응물을 환류시키면서 생성된 물을 톨루엔과 공비증류시켜 제거한다. 반응물에 198ml의 2-메톡시에틸에테르를 투입하고 완전히 녹여 용액 A를 제조한다.
교반장치, 콘덴서, 온도계가 부착된 500 ml 둥근 프라스크에 114g의 2,5-디클로로아세토페논, 4.2g의 1가 염화구리, 2.0g의 요오드화칼륨을 투입한다.
미리 제조된 용액 A를 적가장치를 이용하여 6시간에 걸쳐 천천히 투입하면서 반응물을 환류시킨다. 적가가 끝난 후 반응물을 환류시키면서 반응진행경과를 TLC(Thin Layer Chromatography; Eluent: n-Hexane/Ethyl acetate, 7/1)로 확인한다. 반응이 끝나면 2-메톡시에틸에테르와 저비점불순물은 증류시켜 회수하고 반응물은 500ml의 톨루엔에 투입한다. 톨루엔용액은 500ml의 3% 수산화나트륨 수용액에 투입한 후, 워크-업한다.
톨루엔층과 물층은 펀넬(funnel)을 이용하여 층분리시키고, 언어진 톨루엔층은 농축시킨다. 농축된 반응물은 톨루엔/헵탄 혼합물하에서 재결정하여 2,4,4'-트리클로로-2'-아세틸디페닐 에테르(순도: 99.0%, 수율: 76%)를 얻는다.
실시예 2
화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물의 제조
교반장치, 콘덴서, 온도계가 부착된 500ml 둥근 플라스크에 상기 실시예 1에서 얻은 100g의 2,4,4'-트리클로로-2'-아세틸디페닐 에테르를 투입하고, 300ml의 디클로로메탄에 녹인다. 반응물의 온도를 상온으로 유지하고 115g의 m-클로로퍼벤조인산, 35g의 p-톨루엔술폰산을 투입한다. 반응물을 환류시키면서 반응진행경과를 TLC(Thin Layer Chromatography; Eluent: n-Hexane/Ethyl acetate, 7/1)로 확인한다. 반응이 끝나면 200ml의 물을 투입하여 워크-업하고, 펀넬을 이용하여 층분리시킨다. 얻어진 디클로로메탄층은 3% 수산화나트륨 수용액을 투입하여 워크-업하고 펀넬을 이용하여 층분리시킨다. 얻어진 디클로로메탄층은 196g의 10% 수산화칼륨을 투입하고 1시간동안 환류시킨다. 상온까지 냉각후 알칼리 수용액층에 새로운 200ml의 디클로로메탄을 투입하여 워크-업하고, 펀넬을 이용하여 층분리시킨다. 얻어진 알칼리수용액층은 10% 염산수용액을 이용하여 pH를 중성으로 맞춘다.
층분리되어 바닥에 생성된 황색의 오일층은 감압증류하고, 얻어진 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르는 석유에테르하에서 재결정하여 순수한 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르(순도: 99.0%, 수율: 91%)를 얻는다.
실시예 3
화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 화합물의 제조
교반장치, 콘덴서, 온도계가 부착된 500ml 둥근 플라스크에 과산화수소 (30∼90농도%) 0.793 mole과 320ml의 초산, 78g의 무수말레인산을 투입한다. 30분간 교반후 50g의 상기 실시예 1에서 얻은 2,4,4'-트리클로로-2'-아세틸디페닐에테르를 투입한다. 반응온도를 50℃로 올리고 반응물을 교반시키면서 반응진행경과를 TLC(Thin Layer Chromatography; Eluent: n-Hexane/Ethyl acetate, 7/1)로 확인한다. 반응이 끝나면 초산과 물은 감압증류로 제거하고, 반응물을 농축시킨다. 농축된 반응물에 100ml의 톨루엔을 투입한다.
반응물의 온도를 상온으로 유지하고 30분간 교반한다. 생성된 백색분말은 여과하여 제거한다. 톨루엔층에 차례로 물 100g, 10% 소디움티오술페이트 100g, 10% 수산화나트륨 100g을 투입하여 톨루엔층을 세척한다. 톨루엔층에 메탄올 33ml와 황산 1.6g을 상온에서 투입하고 환류시킨다. 생성된 메틸아세테이트와 메탄올은 상압증류하여 제거한다. 톨루엔층에 10%수산화나트륨을 140 g투입하고 상온에서 교반한다. 톨루엔층과 알칼리수용액층은 펀넬을 이용하여 분리한다.
알칼리수용액층을 디클로로메탄 20ml로 세척하여 물층에 남아있는 소량의 2,4,4'-트리클로로-2'-아세틸디페닐에테르를 제거한다. 알칼리수용액층은 진한 황산으로 pH를 중성으로 맞춘다. 층분리되어 바닥에 생성된 황색의 오일층은 감압증류하고 얻어진 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르는 석유에테르하에서 재결정하여 순수한 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르(순도: 99.0%, 수율: 87%)를 얻는다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 제조방법은 제조과정에서 근본적으로 디벤조퓨란의 생성을 막아 디벤조퓨란 불순물이 없는 제품의 제조가 가능하며 디벤조퓨란의 회수, 소각 등 폐기처리 문제가 없다. 또한, 기존공정은 4단계 공정에서 과량의 황산을 사용함으로써 과도한 산성폐기물 문제가 있는 반면, 본 발명의 공정은 폐기물발생량이 적고 환경친화적이며, 4단계 공정에 비해 3단계 공정으로 공정이 단순해 지고 총 수율이 기존공정 대비 높다. 아울러, 페놀류 불순물제거가 2단계 워크-업 과정에서 이루어지기 때문에 최종 제품내에서 증류로 페놀을 제거해야 할 필요가 없고 페놀제거가 상대적으로 용이한 효과가 있다.
Claims (12)
- 하기 화학식 3으로 표시되는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물과 하기 화학식 4로 표시되는 2,4-디클로로페놀의 염을 40∼300℃의 온도에서 용매의 존재하 또는 부재하, 및 촉매의 존재하 또는 부재하에서 축합반응시켜 하기 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 제조하는 단계; 및상기 2,4,4'-트리클로로-2'-카르보닐디페닐에테르 화합물을 산화제의 존재하에, 용매의 존재하 또는 부재하, 및 촉매의 존재하 또는 부재하에서 0∼100℃의 온도로 산화반응 및 가수분해반응시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 1로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르의 제조방법.화학식 3여기서, R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 축쇄의 알킬쇄이다.화학식 4화학식 5여기서, R은 수소 또는 탄소수 1∼20의 직쇄 또는 축쇄의 알킬쇄이다.화학식 1
- 제 1항에 있어서, 상기 화학식 4로 표시되는 2,4-디클로로페놀의 염은 2,4-디클로로페놀과 염기화합물을 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 2항에 있어서, 상기 염기화합물은 알칼리금속의 알콕시드, 알칼리토금속의 알콕시드, 알칼리금속의 히드리드, 알칼리토금속의 히드리드, 알칼리, 알칼리토금속의 0가금속, 알칼리금속의 알킬리드, 피리딘 및 알킬아민으로 이루어진 군으로부터 하나 또는 그 이상 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 축합반응시 반응용매는 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 옥탄올, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 테트라히드로퓨란, 디이옥산, 석유에테르, 디메톡시에탄, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 니트로메탄, 술폴레인(sulfolane), 아세토니트릴, 프로피온니트릴, 벤조니트릴, 헥사메틸포스포아미드, 아닐린, 피리딘, 알킬아닐린, 디알킬아닐린, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 사염화탄소, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 및 트리클로로벤젠으로 이루어진 군으로부터 하나 또는 그 이상 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 축합반응시 촉매는 Cu, CuCl, CuBr, CuI, Cu(아세테이트), Cu2O, Cu2SO4, CuCN, CuCl2, CuBr2, CuI2, Cu(아세테이트)2, CuO, Cu(OH)2, CuCO3-Cu(OH)2, CuSO4, NaI, NaBr, KI, 및 KBr로 이루어진 군으로부터 하나 또는 그 이상 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 축합반응시 반응온도는 100∼200℃임을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 산화제는 산소, 오존, 질산, 차아염소산나트륨, t-부틸히드로퍼옥시드, KHSO5, PhIO, 메타클로로퍼옥시벤조인산, 퍼옥시 벤조인산, 파라니트로퍼옥시벤조인산, 과초산, 트리프루오르퍼옥시아세트산), 과산화수소, 퍼옥시개미산, 퍼옥시말레인산, 퍼옥시푸마린산, 과인산, 과황산, 과탄산나트륨, 및 과붕산나트륨으로 이루어진 군으로부터 하나 또는 그 이상 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 산화반응시 용매는 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 옥탄올, 초산, 개미산, 프로피온산, 트리플루오르아세트산, 무수초산, 무수트리플루오르아세트산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 석유에테르, 디메톡시에탄, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르모노아세테이트, 니트로메탄, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 및 트리클로로벤젠으로 이루어진 군으로부터 하나 또는 그 이상 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 산화반응에 사용되는 촉매는 염산, 황산, 질산, 인산, 헤테로폴리산, 인산지르코늄, 인산주석, 인산세리움, 및 제올라이트로 이루어진 군으로부터 하나 또는 그 이상 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 산화반응의 온도는 20∼70℃임을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 축합반응시 상기 화학식 4로 표시되는 2,4-디클로로페놀의 염 대비 상기 화학식 3으로 표시되는 2',5'-디클로로페닐카르보닐 화합물의 당량비가 0.5∼2임을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 산화반응시 상기 화학식 5로 표시되는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르 대비 산화제의 당량비가 1.0∼10.0임을 특징으로 하는 방법.
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KR1019990011758A KR20000065454A (ko) | 1999-04-03 | 1999-04-03 | 독성불순물이 없는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르의 제조방법 |
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KR1019990011758A KR20000065454A (ko) | 1999-04-03 | 1999-04-03 | 독성불순물이 없는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르의 제조방법 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100510587B1 (ko) * | 2001-12-31 | 2005-08-30 | 한국과학기술연구원 | 할로겐이 치환된 디페닐에테르 유도체의 제조방법 |
KR100584985B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2006-05-29 | 에스케이 주식회사 | 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르의 제조방법 |
-
1999
- 1999-04-03 KR KR1019990011758A patent/KR20000065454A/ko not_active Application Discontinuation
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KR100584985B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2006-05-29 | 에스케이 주식회사 | 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐에테르의 제조방법 |
KR100510587B1 (ko) * | 2001-12-31 | 2005-08-30 | 한국과학기술연구원 | 할로겐이 치환된 디페닐에테르 유도체의 제조방법 |
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