KR20000057825A

KR20000057825A - 포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크의 검사수정 방법 및 포토마스크의 사용 방법

Info

Publication number: KR20000057825A
Application number: KR1020000004268A
Authority: KR
Inventors: 가몬가즈야
Original assignee: 다니구찌 이찌로오, 기타오카 다카시; 미쓰비시덴키 가부시키가이샤
Priority date: 1999-02-19
Filing date: 2000-01-28
Publication date: 2000-09-25
Also published as: JP4756720B2; US6228542B1; DE10002316A1; KR100336031B1; JP2000241958A

Abstract

본 발명은 회로패턴 중에 경사선이 있으면, 회로패턴의 드로잉(drawing) 시간이 현저히 길게되기 때문에, 포토마스크가 비싸고, 정밀도가 낮다는 과제를 해결하기 위한 것이다. 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여 투명 기판(2)의 한 주면(主面)상에 형성된 차광패턴(3b)은 경사선이 경사선의 폭(W), 투영 노광 장치의 해상력(Rp), 투영 노광 장치의 전사 배율(m)로부터, Np= int(W/Rp/m)+1로 정의되는 Np개의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지는 다각형의 데이터로 변환된, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여 투명 기판(2)의 한 주면 상에 형성된 것이다.

Description

포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크의 검사 수정 방법 및 포토마스크의 사용 방법{PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURE, METHOD OF TEST/REPAIR, AND METHOD OF USE THEREFOR}

본 발명은 반도체 집적 회로 장치나 액정 디스플레이의 제조공정에서 사용되는 포토마스크 및 그 포토마스크의 제조 방법, 검사수정 방법 및 사용 방법에 관한 것이다.

최근, 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치를 이용하여, 포토마스크를 제조하는 일이 증가되고 있다.

도 13은 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치를 나타내는 구성도이다. 도 13에 있어서, 참조부호 101은 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치, 참조부호 1O2는 LaB₆전자총, 참조부호 103은 제 1 성형 애퍼처(aperture), 참조부호 104는 제 1 성형 렌즈, 참조부호 105는 제 1 성형 편향기, 참조부호 106은 제 2 성형 렌즈, 참조부호 107은 제 2 성형 애퍼처, 참조부호 108은 축소 렌즈, 참조부호 109는 블랭킹(blanking) 전극, 참조부호 110은 편향기, 참조부호 111은 집속(集束) 렌즈, 참조부호 112는 드로잉(drawing) 필드이다.

또한, 참조부호 113은 제 1 성형 애퍼처(103)와, 제 1 성형 렌즈(104)와, 제 1 성형 편향기(105)와, 제 2 성형 렌즈(106)와, 제 2 성형 애퍼처(107)로 이루어지는 가변성형 렌즈부이고, 참조부호 114는 편향기(110)와 집속렌즈(111)로 이루어지는 수속(收束)편향 렌즈부이다. 또한, 참조부호 115는 스테이지(도시하지 않음) 상에 놓여진 피노광 대상으로서의 포토마스크이다.

가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치(101)에서는 회로패턴을 드로잉하는 경우, 도 14의 (a)에 도시하는 바와 같이, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 단순한 직사각형으로 구분하고, 각 직사각형마다 순서대로 노광하는 방식을 채용하고 있다. 이 때문에, 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치(101)에서는 회로패턴의 레이아웃이 단순한 경우, 회로패턴의 레이아웃이 복잡한 경우에 비해서, 노광하는 면적은 동일하더라도 노광하는 직사각형의 수가 적어 스루풋(throughput)이 높다.

또한, 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치(101)는 도 14의 (b)에 도시하는 바와 같이 노광하는 부분 및 노광하지 않은 부분을 포함하는 포토마스크 전체를 가우스 빔으로 스캔하여 회로패턴을 드로잉하는 방식을 채용하는 가우스 빔 래스터(raster)스캔형의 전자선 노광 장치나, 도 14의 (c)에 도시하는 바와 같이 노광하는 부분만을 가우스 빔으로 스캔하여 회로패턴을 드로잉하는 방식을 채용하는 가우스 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치에 비해서 스루풋이 높은 점에서 우수하다.

또한, 최근, LSI의 고집적화에 따라 작은 영역에 복잡한 기능을 채워 넣고자 하면, 종횡으로 연장하는 배선만으로는 자유도가 작기 때문에 경사 방향으로 연장하는 배선을 이용하는 경우가 증가하고 있다.

그러나, 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치(101)에서는 경사선을 드로잉 가능하도록 제 1 및 제 2 성형부가 구성되고 있지 않다. 그래서, 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치(101)에서는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을 드로잉하는 경우, 우선, 도 14의 (a)에 도시하는 바와 같이 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를, 경사선이 전자선 노광 장치(101)의 해상력과 같은 폭을 갖는 복수의 가늘고 긴 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로 변환한다. 즉, 경사선의 폭(W)을 전자선 노광 장치(101)의 해상력(Rw)의 정수배가 되도록 설계하고, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를, 경사선이 Nw=W/Rw에서 정의되는 Nw개의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로 변환한다. 그 후, 이들 직사각형을 1개씩 노광하는 것에 의해 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을 드로잉한다.

또, 레이아웃 데이터를 일률적으로 슈링크(shrink)할 때, 직사각형의 레이아웃 데이터의 경우, 정확하게 그리드(grid) 상에 놓이지만, 경사선을 포함한 다각형의 레이아웃 데이터의 경우, 정확하게 그리드 상에 실린다고는 할 수 없다. 슈링크 후의 레이아웃 데이터가 그리드 상에 정확하게 실리고 있지 않은 경우, 레이아웃 데이터에 반올림 오차가 발생하여, 드로잉정밀도가 열화한다.

도 15는 전자선 노광 장치를 이용하여 제조된 포토마스크를 이용하여 반도체 집적 회로나 액정 디스플레이를 제조하기 위한 투영 노광 장치를 나타내는 구성도이다. 도 15에 있어서, 참조부호 201은 투영 노광 장치, 참조부호 202는 광원으로서의 Hg램프, 참조부호 203은 제 1 렌즈, 참조부호 204는 제 1 미러, 참조부호 205는 제 2 렌즈, 참조부호 206은 플라이 아이 렌즈, 참조부호 207은 2차 광원면, 참조부호 208은 제 3 렌즈, 참조부호 209는 블라인드, 참조부호 210은 제 4 렌즈, 참조부호 211은 제 2 미러, 참조부호 212는 제 5 렌즈, 참조부호 213은 제 6 렌즈, 참조부호 214는 동면(瞳面), 참조부호 215는 제 7 렌즈이다.

또한, 참조부호 216은 포토마스크, 참조부호 217은 피노광 대상으로서의 웨이퍼, 참조부호 218은 Hg램프(202)로부터 출사된 광, 참조부호 219는 포토마스크(216)에 의해 회절된 회절광이다.

투영 노광 장치(201)의 해상력(Rp)은 노광파장(λ), 렌즈의 개구수(NA), 프로세스정수(k1)를 이용하여, Rp=k1·λ/NA로 정의된다. 이 때문에, 포토마스크(216)의 한 주면 상에 형성된 차광패턴의 폭이, m·Rp 이하의 경우, 그 차광패턴의 형상을 피노광 대상으로서의 웨이퍼(217) 상에 정확히 나타낼 수 없어 윤곽이 둥글게 된다. 예컨대 도 16의 (a)는 중앙에 한 변이 m·Rp 이하인 정방형의 구멍을 갖는 차광패턴을 구비한 포토마스크를 도 15에 나타내는 투영 노광 장치에 장착하여, 웨이퍼(217)를 노광한 경우, 웨이퍼(217)상에서는 차광패턴의 형상이 도 16의 (b)에 나타내는 형상으로 나타내어진다.

가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치를 이용하여 경사선을 드로잉하는 경우에는 이상과 같이 실행하기 때문에, 회로패턴 중에 경사선이 있으면, 회로패턴의 드로잉 시간이 현저히 길게 되어, 전자선 노광 장치의 스루풋이 열화하여, 포토마스크의 가격이 상승하는 등의 과제가 있었다.

또한, 드로잉 시간이 길게 되면, 전자선 노광 장치의 스테이지의 드리프트(drift) 영향도 커지기 때문에, 길이치수 오차가 확대하여, 포토마스크의 정밀도가 저하하는 등의 과제가 있었다.

본 발명은 상기 한 바와 같은 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 염가로 고정밀도인 포토마스크를 얻는 것을 목적으로 한다.

또한, 그 포토마스크의 제조 방법, 검사 수정 방법, 및 사용 방법을 얻는 것을 목적으로 한다.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 의한 포토마스크를 나타내는 구성도,

도 2는 포토마스크의 제조 방법을 나타내는 플로차트,

도 3은 실시예 3을 설명하기 위한 도면,

도 4는 실시예 4를 설명하기 위한 도면,

도 5는 실시예 5를 설명하기 위한 도면,

도 6은 실시예 6을 설명하기 위한 도면,

도 7은 실시예 7을 설명하기 위한 도면,

도 8은 실시예 8을 설명하기 위한 도면,

도 9는 실시예 9를 설명하기 위한 도면,

도 10은 실시예 10을 설명하기 위한 도면,

도 11은 포토마스크의 결함 수정 방법을 설명하기 위한 도면,

도 12는 포토마스크의 사용 방법을 설명하기 위한 도면,

도 13은 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치를 나타내는 구성도,

도 14는 전자선 노광 장치의 노광 방법을 설명하기 위한 도면,

도 15는 투영 노광 장치를 나타내는 구성도,

도 16은 투영 노광 장치를 설명하기 위한 도면.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

1 : 포토마스크 2 : 투명 기판

3b : 차광 패턴 4 : 경사선에 상당하는 선

4a, 4b : 경사선의 단부에 상당하는 위치

4c : 경사선에 상당하는 선의 중점

4d : 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선

5 : 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴

6 : 경사선 6a, 6b : 경사선의 단부

7a, 7b : 경사선의 단부에 접속하는 변

8a, 8b : 경사선의 단부에 상당하는 위치에 접속하는 변

9 : 미소 직사각형

본 발명에 관한 포토마스크는 투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위이다(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력).

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 면적이, 경사선이 계단형상으로 나타내어진 다각형의 면적과 같은 포토마스크를 제공할 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변과, 경사선이 계단형상으로 나타내어진 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 상당하는 위치에 접속하는 변이 평행관계에 있는 포토마스크를 제공할 수도 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변과, 경사선이 계단형상으로 나타내어진 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 상당하는 위치에 접속하는 변이 직각관계에 있는 포토마스크를 제공할 수도 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 평행관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 중점에 대하여 점대칭인 포토마스크를 제공할 수도 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 평행관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선에 대하여 미러대칭인 포토마스크를 제공할 수도 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 직각관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 중점에 대하여 점대칭인 포토마스크를 제공할 수도 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 직각관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선에 대하여 미러대칭인 포토마스크를 제공할 수도 있다.

본 발명에 관한 포토마스크의 제조 방법은 회로패턴을 레이아웃하고 그 레이아웃 데이터를 작성하는 공정과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로 변환하는 공정과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 변환 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 회로패턴을 드로잉하는 공정을 포함하고, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 공정에서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)을 Rw<R<Rp·m의 범위로 하는 것이다(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp은 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크 드로잉 장치의 해상력).

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 방법이 복수 그대로인 경우, 모든 직사각형의 수가 적은 방법을 선택하는 포토마스크의 제조 방법을 제공할 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 방법이 복수 그대로인 경우, 미소 직사각형의 수가 적은 방법을 선택하는 포토마스크의 제조 방법을 제공할 수도 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 방법이 복수 그대로인 경우, 미소 직사각형이 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 외주부에 위치하지 않는 방법을 선택하는 포토마스크의 제조 방법을 제공할 수도 있다.

이 발명에 관한 포토마스크의 검사 수정 방법은 투명기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크의 경사선에 상당하는 선의 위치에 발생한 결함을 검사 수정하는 것에 대하여, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 참조하여 비스듬히 검사 수정하는 것이다(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크 드로잉 장치의 해상력).

본 발명에 관한 포토마스크의 사용 방법은 투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크를 이용하여, 반도체 집적 회로를 제조하는 것이다(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력).

본 발명에 관한 포토마스크의 사용 방법은 투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광 패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크를 이용하여, 액정 디스플레이를 제조하는 것이다(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력).

이하, 본 발명의 일 실시예를 설명한다.

(실시예 1)

도 1은 본 발명의 실시예 1에 의한 포토마스크를 나타내는 구성도이다. 도 1에 있어서, 참조부호 1은 포토마스크, 참조부호 2는 투명 기판, 참조부호 3a는 경사선을 포함하지 않은 사각형태의 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여, 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치(마스크 드로잉 장치)에 의해 노광하는 것에 의해 투명 기판(2)의 한 주면 상에 형성된 차광패턴, 참조부호 3b는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여, 가변성형 빔 벡터 스캔형의 전자선 노광 장치에 의해 노광하는 것에 의해 투명 기판(2)의 한 주면 상에 형성된 차광패턴이다. 또한, 참조부호 4는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴 중의 경사선에 상당하는 선이다.

차광패턴(3b)은 경사선이 경사선의 폭(W), 포토마스크(1)를 장착하는 투영 노광 장치(노광 장치)의 해상력(Rp), 투영 노광 장치의 전사배율(m)로부터 Np=int(W/Rp/m)+1로 정의되는 Np개의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지는 다각형의 데이터로 변환된, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여 투명 기판(2)의 한 주면 상에 형성된 것이다.

여기서, 일반적으로, Rp·m은 전자선 노광 장치의 해상력(Rw)보다 10배 이상 크기 때문에, Np는 Nw보다 작고, 그 결과, 직사각형의 폭(R)은 전자선 노광 장치의 해상력(Rw)보다 크다. 또한, Np=int(W/Rp/m)+1로 정의되는 것으로부터 직사각형의 폭(R)은 Rp·m보다 작은 것도 명백하다. 즉 직사각형의 폭(R)은 Rw<R<Rp·m의 범위이다.

환언하면, 차광패턴(3b)은 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상에 나타내어진 다각형으로서 나타낸 것이며, 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것이다.

도 1은 일 실시예로서, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴 중의 경사선이, 폭(R1)이 Rw<R1<Rp·m의 범위인 직사각형 4x와 폭(R2)이 Rw<R2<Rp·m의 범위인 직사각형 4y에 의해 계단형상으로 나타내어지는 예를 나타내고 있다.

이상과 같이, 이 실시예 1에 의하면, 차광패턴(3b)은 경사선이 Np(<Nm)개의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지는 다각형의 데이터에 변환된, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 것이므로, 종래의 경우와 비교해서 적은 노광 회수로 단시간에 회로패턴이 드로잉된다. 그 결과, 전자선 노광 장치의 스루풋이 향상하고, 포토마스크가 저가로 되는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 전자선 노광 장치의 드리프트의 영향도 작아지고, 포토마스크가 길이치수 오차가 작게 고정밀도인 것으로 되는 효과도 얻을 수 있다.

(실시예 2)

실시예 2에서는 실시예 1에서 설명한 포토마스크의 제조 방법에 대하여 설명한다. 도 2는 포토마스크의 제조 방법을 나타내는 플로차트이다. 포토마스크를 제조하는 경우, 우선, CAD를 이용하여, 제조예정인 장치에 필요한 회로패턴을 레이아웃한다(단계 ST1).

그 후, 회로패턴의 집적도를 향상시키기 위해서, 회로패턴을 치밀화하고, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 작성한다(단계 ST2). 이 때, 디자인 룰을 지키면서, 적절히 배선을 구부려 보다 많은 회로패턴을 작은 영역에 집적하기 위해서, 종횡으로 연장하는 배선뿐만 아니라 경사 방향으로 연장하는 배선을 이용하는 경우가 있다.

그 후, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 표준포맷으로 변환한다(단계 ST3).

그 후, 회로패턴의 레이아웃 데이터로부터, 각 층마다의 데이터를 추출하여 전개한다(단계 ST4).

그 후, 회로패턴의 레이아웃 데이터 중의 도형 변환을 하는 영역을 지정한다(단계 ST5).

그 후, 회로패턴의 레이아웃 데이터 중의 반복 부분과 비반복 부분을 일단 나눈다(단계 ST6).

그 후, 반복 부분 및 비반복 부분을 작은 세그먼트로 분할한다(단계 ST7). 다만, 반복 부분의 분할은 반복 부분이 세그먼트보다 큰 경우에 실행한다.

그 후, 세그먼트마다, 중복제거 등 기존의 도형 연산 등의 처리를 한다(단계 ST8).

그 후, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터에 있어서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것으로 변환한다(단계 ST9). 즉, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를, 경사선이 경사선의 폭(W), 투영 노광 장치의 해상력(Rp), 투영 노광 장치의 전사배율(m)로부터 Np=int(W/Rp/m)+1로 정의되는 Np개의 직사각형에 의해 계단형상에 나타내어지는 다각형의 데이터로 변환한다.

그 후, 반복 부분을 비반복 부분에 할당한다(단계 ST10).

그 후, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 사용하는 가변성형 빔 스캔형의 전자선 노광 장치의 포맷으로 변환한다(단계 ST11).

그 후, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 변환 후의 레이아웃 데이터를 갖는 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여, 회로패턴을 가변성형 빔 스캔형의 전자선 노광 장치에 의해 드로잉한다(단계 ST12). 즉, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴 변환 후의 레이아웃 데이터 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지기 때문에, 이들 직사각형을 가변성형 빔 스캔형의 전자선 노광 장치에 의해 1개씩 노광하는 것에 의해, 회로패턴을 드로잉한다.

이상과 같이, 이 실시예 2에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 경사선이 경사선의 폭(W), 투영 노광 장치의 해상력(Rp), 투영 노광 장치의 전사배율(m)로부터 Np=int(W/Rp/m)+1로 정의되는 Np개의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지는 다각형의 데이터로 변환하기 때문에, 종래의 경우에 비해서, 노광 회수가 적고, 회로패턴의 드로잉 시간이 짧다. 그 결과, 전자선 노광 장치의 스루풋이 향상하고, 저가격의 포토마스크를 제조할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 전자선 노광 장치의 드리프트의 영향이 작게되고, 길이치수 오차가 작은 고정밀도의 포토마스크를 제조할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

(실시예 3)

실시예 3 내지 실시예 6에서는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴의 예에 대하여 설명한다.

도 3은 실시예 3을 설명하기 위한 도면이다. 도 3의 (a)는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을 나타내고, 도 3의 (b) 내지 도 3의 (g)는 도 3의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b), 즉, 도 3의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상에 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴(3b)에서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것을 나타내고 있다.

도 3의 (b) 및 도 3의 (e)는 도 3의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 작은 경우를 나타내고, 도 3의 (c), 도 3의 (d), 도 3의 (f) 및 도 3의 (g)는 도 3의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 큰 경우를 나타낸다.

도 3의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)은 서로 평행관계에 있다. 도 3의 (b) 내지 도 3의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)의 면적은 도 3의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)의 면적과 같다. 도 3의 (b) 내지 도 3의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)와 위치(4b)를 접속하는 계단형상은 경사선에 상당하는 선의 중점(4c)에 대하여 점대칭이다. 즉, 도 3의 (b) 내지 도 3의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)은 도 3의 (a)에 나타내는 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)이 서로 평행관계에 있는 회로패턴(5)의 레이아웃 데이터를, 변환 전후의 면적을 유지한 채로, 경사선을, 경사선에 상당하는 선의 중점(4c)에 대하여 점대칭인 계단형상으로 변환한 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b)을 나타내고 있다. 또, 상술한 경사선의 단부에 접속하는 2개의 변이 서로 평행관계에 있는 회로패턴의 레이아웃 데이터를, 변환전후의 면적을 유지한 채로, 경사선을, 경사선에 상당하는 선의 중점에 대하여 점대칭인 계단형상으로 변환하는 방식에서는 변환 부분의 대칭성이 확보된다.

또한, 도 3의 (b) 내지 도 3의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a, 4b)에 접속하는 변(8a, 8b)은 도 3의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a, 7b)과 평행관계에 있고, 도 3의 (e) 내지 도 3의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a, 4b)에 접속하는 변(8a, 8b)은 도 3의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 단부에 접속하는 변(7a, 7b)과 직각관계에 있다. 변(8a, 8b)은 경사선에 상당하는 선(4)과 예각을 이룬다. 도 3의 (b)는 도 3의 (e)에 비례하고, 도 3의 (c)는 도 3의 (f)에 비례하고, 도 3의 (d)는 도 3의 (g)에 비례하여, 계단형상에 있어서의 굴곡부의 수가 적기 때문에, 변환 후의 데이터 량이 적다고 하는 점에서 우수하다.

(실시예 4)

도 4는 실시예 4를 설명하기 위한 도면이다. 도 4의 (a)는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을 나타내고, 도 4의 (b) 내지 도 4의 (g)는 도 4의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b), 즉, 도 4의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴(3b)에 있어서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것을 나타내고 있다.

도 4의 (b) 및 도 4의 (e)는 도 4의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 작은 경우를 나타내고, 도 4의 (c), 도 4의 (d), 도 4의 (f) 및 도 4의 (g)는 도 4의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 큰 경우를 나타내고 있다.

도 4의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)은 서로 평행관계에 있다. 도 4의 (b) 내지 도 4의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)의 면적은 도 4a에 나타내는 회로패턴(5)의 면적과 같다. 도 4의 (b) 내지 도 4의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)와 위치(4b)를 접속하는 계단형상은 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선(4d)에 대하여 미러대칭이다. 즉, 도 4의 (b) 내지 도 4의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)은 도 4의 (a)에 나타내는 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)이 서로 평행관계에 있는 회로패턴(5)의 레이아웃 데이터를, 변환 전후의 면적을 유지한 채로, 경사선을, 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선(4d)에 대하여 미러대칭인 계단형상으로 변환한 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b)을 나타내고 있다.

또한, 도 4의 (b) 내지 도 4의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)에 접속하는 변(8a)은 도 4의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a, 7b)과 평행관계이고, 도 4의 (b) 내지 도 4(d)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4b)에 접속하는 변(8b)은 도 4의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a, 7b)과 직각관계이고, 도 4의 (e) 내지 도 4의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)에 접속하는 변(8a)은 도 4의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 단부에 접속하는 변(7a, 7b)과 직각관계이고, 도 4의 (e) 내지 도 4의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4b)에 접속하는 변(8b)은 도 4의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 단부에 접속하는 변(7a, 7b)과 평행관계에 있다. 변(8a, 8b)은 경사선에 상당하는 선(4)과 예각을 이룬다.

(실시예 5)

도 5는 실시예 5를 설명하기 위한 도면이다. 도 5의 (a)는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을 나타내고, 도 5의 (b) 내지 도 5의 (g)는 도 5의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b), 즉, 도 5의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴(3b)이고, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것을 나타내고 있다.

도 5의 (b) 및 도 5의 (e)는 도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 작은 경우를 나타내고, 도 5의 (c), 도 5의 (d), 도 5의 (f) 및 도 5의 (g)는 도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 큰 경우를 나타내고 있다.

도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)은 서로 직각관계에 있다. 도 5의 (b) 내지 도 5의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)의 면적은 도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)의 면적과 같다. 도 5의 (b) 내지 도 5의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)와 위치(4b)를 접속하는 계단형상은 경사선에 상당하는 선의 중점(4c)에 대하여 점대칭이다. 즉, 도 5의 (a) 내지 도 5(g)에 나타내는 차광패턴(3b)은 도 5의 (a)에 나타내는 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)이 서로 직각관계에 있는 회로패턴(5)의 레이아웃 데이터를, 변환 전후의 면적을 유지한 채로, 경사선을, 경사선에 상당하는 선의 중점(4c)에 대하여 점대칭인 계단형상으로 변환한 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b)을 나타내고 있다.

또한, 도 5의 (b) 내지 도 5의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)에 접속하는 변(8a)은 도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 평행관계이고, 도 5의 (b) 내지 도 5의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4b)에 접속하는 변(8b)은 도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7b)과 직각관계에 있고, 도 5의 (e) 내지 도 5의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)에 접속하는 변(8a)은 도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 단부에 접속하는 변(7a)과 직각관계이고, 도 5의 (e) 내지 도 5의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4b)에 접속하는 변(8b)은 도 5의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 단부에 접속하는 변(7b)과 평행관계에 있다. 변(8a, 8b)은 경사선에 상당하는 선(4)과 예각을 이룬다.

(실시예 6)

도 6은 실시예 6을 설명하기 위한 도면이다. 도 6의 (a)는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을 나타내고, 도 6의 (b) 내지 도 6의 (g)는 도 6의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b), 즉, 도 6의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴(3b)으로서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것을 나타내고 있다.

도 6의 (b) 및 도 6의 (e)는, 도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 작은 경우를 나타내고, 도 6의 (c), 도 6의 (d), 도 6의 (f) 및 도 6의 (g)는 도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 폭(W)이 Rp·m보다 큰 경우를 나타내고 있다.

도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)은 서로 직각관계에 있다. 도 6의 (b) 내지 도 6의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)의 면적은 도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)의 면적과 같다. 도 6의 (b) 내지 도 6의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)와 위치(4b)를 접속하는 계단형상은 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선(4d)에 대하여 미러대칭이다. 즉, 도 6의 (b) 내지 도 6의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)은 도 6의 (a)에 나타내는 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 변(7b)이 서로 직각관계에 있는 회로패턴(5)의 레이아웃 데이터를, 변환전후의 면적을 유지한 채로, 경사선을, 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선(4d)에 대하여 미러대칭인 계단형상에 변환한 후의 레이아웃 데이터에 근거하여 형성된 차광패턴(3b)을 나타내고 있다. 또, 상술한 경사선의 단부에 접속하는 2개의 변이 서로 직각관계에 있는 회로패턴의 레이아웃 데이터를, 변환전후의 면적을 유지한 채로, 경사선을, 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선에 대하여 미러대칭인 계단형상에 변환하는 방식에서는 변환 부분의 대칭성이 확보된다.

또한, 도 6의 (b) 내지 도 6의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)에 접속하는 변(8a)은 도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7a)과 평행관계이고, 도 6의 (b) 내지 도 6의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4b)에 접속하는 변(8b)은 도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7b)과 평행관계이고, 도 6의 (e) 내지 도 6의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4a)에 접속하는 변(8a)은 도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선(6)의 단부에 접속하는 변(7a)과 직각관계에 있고, 도 6의 (e) 내지 도 6의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)에서의 경사선의 단부에 상당하는 위치(4b)에 접속하는 변(8b)은 도 6의 (a)에 나타내는 회로패턴(5)에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변(7b)과 직각관계에 있다. 변(8a, 8b)은 경사선에 상당하는 선(4)과 예각을 이룬다. 도 6의 (b)는 도 6의 (e)에 비례하고, 도 6의 (c)는 도 6의 (f)에 비례하고, 도 6의 (d)는 도 6의 (g)에 비례하고, 계단형상에 있어서의 굴곡부의 수가 적으므로, 변환 후의 데이터 량이 적다고 하는 점에서 우수하다.

(실시예 7)

실시예 7 내지 실시예 10에서는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 변환 후의 레이아웃 데이터의 예에 대하여 설명한다.

도 7은 실시예 7을 설명하기 위한 도면이다. 도 7의 (a) 내지 도 7의 (h)는 도 3의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5) 변환 후의 레이아웃 데이터를 나타내고 있다. 도 3의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터는 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것이지만, 도 7의 (a) 내지 도 7의 (h)에서는 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 모양만을 나타내고 있다.

도 7의 (a)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 3의 (b)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 7의 (b)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 3의 (c)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이고, 도 7의 (c) 및 도 7의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 3의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 7의 (e)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 3의 (e)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 7의 (f)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 3의 (f)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 7의 (g) 및 도 7의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 3의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이다.

일반적으로, 미소한 직사각형은 큰 직사각형에 비해서 드로잉 정밀도가 나쁘다. 또한, 미소한 직사각형이 다각형의 외주부에 위치하고 있으면, 미소한 직사각형을 포함시킨 전체의 드로잉 정밀도가 나쁘게 된다. 또한, 직사각형의 수는 적을 수록, 변환 후의 데이터 량은 적다.

도 7의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터와 도 7의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터를 비교한 경우, 도 7의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수와 도 7의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수는 동일하지만, 도 7의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)의 수는 도 7의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)의 수보다 많고, 또한, 도 7의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 미소 직사각형(9)은 외주부에 위치하고 있다. 따라서, 도 7의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우, 도 7의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우에 비해서, 정밀도가 높은 차광 패턴을 형성할 수 있다. 마찬가지로, 도 7의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우, 도 7의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우에 비해서, 정밀도가 높은 차광패턴을 형성할 수 있다. 특히, 도 7의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)은 도 7의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)보다 작고, 또한, 외부에 위치하고 있기 때문에, 도 7의 (g)와 도 7의 (h)의 비교에 있어서, 이 효과가 현저하다.

(실시예 8)

도 8은 실시예 8을 설명하기 위한 도면이다. 도 8의 (a)부터 도 8의 (h)는 도 4의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터를 나타내고 있다. 도 4의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터는 복수의 직사각형에 의해 계단형상에 나타내어지고, 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것이지만, 도 8의 (a) 내지 도 8의 (h)에서는 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 모양만을 나타내고 있다.

도 8의 (a)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 4의 (b)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 8의 (b)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 4의 (c)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 8의 (c) 및 도 8의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 4의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 8의 (e)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 4의 (e)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 8의 (f) 나타내는 레이아웃 데이터는 도 4의 (f)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 8의 (g) 및 도 8의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 4의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이다.

도 8의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터와 도 8의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터를 비교한 경우, 도 8(c)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수와 도 8(d)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수는 동일하지만, 도 8의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)의 수는 도 8의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터중의 미소 직사각형(9)의 수보다 많고, 또한, 도 8의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 미소 직사각형(9)은 외주부에 위치하고 있다. 따라서, 도 8의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광 패턴을 형성하는 경우, 도 8의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우에 비해서, 정밀도가 높은 차광패턴을 형성할 수 있다. 마찬가지로, 도 8의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광 패턴을 형성하는 경우, 도 8의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우에 비교해서, 정밀도가 높은 차광패턴을 형성할 수 있다. 특히, 도 8의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)은 도 8의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)보다 작고, 또한, 외부에 위치하고 있기 때문에, 도 8의 (g)와 도 8의 (h)와의 비교에 있어서, 이 효과가 현저하다.

(실시예 9)

도 9는 실시예 9를 설명하기 위한 도면이다. 도 9의 (a) 내지 도 9의 (h)는 도 5의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터를 나타내고 있다. 도 5의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터는 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것이지만, 도 9의 (a) 내지 도 9의 (h)에서는 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 모양만을 나타내고 있다.

도 9의 (a)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 5의 (b)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 9의 (b)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 5의 (c)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 9의 (c) 및 도 9의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 5의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 9의 (e)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 5의 (e)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 9의 (f)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 5의 (f)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 9의 (g) 및 도 9의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 5의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이다.

도 9의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터와 도 9의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터를 비교한 경우, 도 9(c)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수와 도 9의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수는 동일하고, 도 9의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)의 수와 도 9의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)의 수도 동일하지만, 도 9의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터 중에는 보다 작은 미소 직사각형(9)이 외주부에 위치하고 있다. 따라서, 도 9의 (c)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우, 도 9의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우에 비해서, 정밀도가 높은 차광패턴을 형성할 수 있다. 마찬가지로, 도 9의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광 패턴을 형성하는 경우, 도 9의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광 패턴을 형성하는 경우에 비해서, 정밀도가 높은 차광 패턴을 형성할 수 있다.

(실시예 10)

도 10은 실시예 1O을 설명하기 위한 도면이다. 도 10의 (a) 내지 도 10의 (h)는 도 6의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터를 나타내고 있다. 도 6의 (a)에 나타내는 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴(5)의 변환 후의 레이아웃 데이터는 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것이지만, 도 10의 (a) 내지 도 10의 (h)에서는 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 모양만을 나타내고 있다.

도 10의 (a)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 6의 (b)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 10의 (b)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 6의 (c)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 10의 (c) 및 도 10의 (d)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 6의 (d)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 10의 (e)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 6의 (e)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 10의 (f)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 6의 (f)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이며, 도 10의 (g) 및 도 10의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터는 도 6의 (g)에 나타내는 차광패턴(3b)을 형성하기 위한 기본이 되는 것이다.

도 10의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터와 도 10의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터를 비교한 경우, 도 10의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수와 도 10의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터를 구성하는 직사각형의 수는 동일하고, 도 10의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)의 수와 도 10의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터 중의 미소 직사각형(9)의 수도 동일하지만, 도 10의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터 중에는 보다 작은 미소 직사각형(9)이 외주부에 위치하고 있다. 따라서, 도 10의 (g)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광 패턴을 형성하는 경우, 도 10의 (h)에 나타내는 레이아웃 데이터에 근거하여 차광패턴을 형성하는 경우에 비교해서, 정밀도가 높은 차광 패턴을 형성할 수 있다.

(실시예 11)

실시예 11에서는 실시예 1에서 설명한 포토마스크에 발생한 결함의 검사 수정 방법에 대하여 설명한다.

도 11은 포토마스크의 결함수정 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 11의 (a)는 실시예 1에서 설명한 포토마스크(1)에 있어서의 차광패턴(3b)의 경사선에 상당하는 선(4)의 위치에 결함(10)이 발생하고 있는 모양을 나타내고, 도 11의 (b)는 그 결함을 검사 수정한 후의 모양을 나타내고 있다.

통상, 제조한 포토마스크에 결함이 발생하고 있는 경우, 드로잉 데이터를 참조하여, 백결함이면 FIB(Focused Ion Beam)에 의한 매립, 흑결함이면 레이저 어플리케이션에 의한 제거를 하여, 드로잉 데이터대로 수정한다. 이 때문에, 실시예 1에서 설명한 포토마스크(1)에 있어서의 차광패턴(3b)의 경사선에 상당하는 선(4)의 위치에 발생한 결함(10)을 검사 수정하는 경우, 통상, 드로잉 데이터를 참조하여 계단형상으로 검사 수정한다.

그러나, 실시예 1에서 설명한 포토마스크(1)에 있어서의 차광패턴(3b)을 이용하여 최종적으로 형성하고자 하는 형상은 경사선을 포함한 다각형, 즉 회로패턴의 형상이다. 이 때문에, 차광패턴(3b)의 경사선에 상당하는 선(4)의 위치에 발생한 결함(10)을, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 참조하여 비스듬히 검사 수정하더라도 어떤 불편함도 없다.

이상과 같이, 이 실시예 11에 의하면, 차광패턴(3b)의 경사선에 상당하는 선(4)의 위치에 발생한 결함(10)을, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 참조하여 비스듬히 검사 수정하는 경우, 계단형상으로 검사 수정할 필요가 없기 때문, 결함(10)의 검사 수정을 용이하게 실행할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

(실시예 12)

실시예 12에서는 실시예 1에서 설명한 포토마스크의 사용 방법에 대하여 설명한다.

도 12는 포토마스크의 사용 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 12의 (a)는 투영 노광 장치(201)를 나타내고, 도 12의 (b)는 투영 노광 장치(201)에 장착된 실시예 1에서 설명한 포토마스크(1)를 나타내고, 도 12의 (c)는 투영 노광 장치(201)에서 노광된 웨이퍼(11)를 나타내고 있다.

차광패턴(3b)은 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 것이며, 계단의 1 단계의 높이, 즉 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것이다. 이 때문에, 실시예 1에서 설명한 포토마스크(1)를 이용하여 웨이퍼(11)를 노광한 경우, 차광패턴(3b)의 형상을 정확히 전사할 수 없고, 계단형상이 경사선으로서 전사되고, 웨이퍼(11)상에 회로패턴의 형상을 한 차광 패턴(12)이 형성된다.

따라서, 실시예 1에서 설명한 포토마스크(1)를 이용하여 반도체 집적 회로나 액정 디스플레이를 제조하는 경우, 염가로 신뢰성이 높은 반도체 집적 회로나 액정디스플레이를 제조할 수 있다.

이상과 같이, 본 발명에 의하면, 투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상에 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크 드로잉 장치의 해상력)가 되도록 포토마스크를 구성하였기 때문에, 저가격으로 고정밀도인 포토마스크를 얻을 수 있는 효과가 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 면적이, 경사선이 계단형상에 나타내어진 다각형의 면적과 같도록 포토마스크를 구성하면, 노광 장치에 장착하여 웨이퍼를 노광하였을 때, 웨이퍼 상에 회로패턴을 고정밀도로 전사할 수 있는 포토마스크를 얻을 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변과, 경사선이 계단형상으로 나타내어진 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 상당하는 위치에 접속하는 변이 평행관계에 있듯이 포토마스크를 구성하면, 노광 장치에 장착하여 웨이퍼를 노광하였을 때, 웨이퍼 상에 회로패턴을 고정밀도로 전사할 수 있는 포토마스크를 얻을 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변과, 경사선이 계단형상으로 나타내어진 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 상당하는 위치에 접속하는 변이 직각관계에 있도록 포토마스크를 구성하면, 노광 장치에 장착하여 웨이퍼를 노광하였을 때, 웨이퍼 상에 회로패턴을 고정밀도로 전사할 수 있는 포토마스크를 얻을 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 평행관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 중점에 대하여 점대칭이 되도록 포토마스크를 구성하면, 노광 장치에 장착하여 웨이퍼를 노광하였을 때, 웨이퍼 상에 회로패턴을 고정밀도로 전사할 수 있는 포토마스크를 얻을 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 평행관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선에 대하여 미러대칭이 되도록 포토마스크를 구성하면, 노광 장치에 장착하여 웨이퍼를 노광하였을 때, 웨이퍼 상에 회로패턴을 고정밀도로 전사할 수 있는 포토마스크를 얻을 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 직각관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 중점에 대하여 점대칭이 되도록 포토마스크를 구성하면, 노광 장치에 장착하여 웨이퍼를 노광하였을 때, 웨이퍼 상에 회로패턴을 고정밀도로 전사할 수 있는 포토마스크를 얻을 수 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형에 있어서의 경사선의 단부에 접속하는 변이 서로 직각관계에 있을 때, 경사선을 나타내는 계단형상이, 경사선에 상당하는 선의 수직이등분선에 대하여 미러대칭이 되도록, 포토마스크를 구성하면, 노광 장치에 장착하여 웨이퍼를 노광하였을 때, 웨이퍼 상에 회로패턴을 고정밀도로 전사할 수 있는 포토마스크를 얻을 수 있다.

본 발명에 의하면, 회로패턴을 레이아웃하고, 그 레이아웃 데이터를 작성하는 공정과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터에 변환하는 공정과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 변환 후의 레이아웃 데이터에 근거하여, 회로패턴을 드로잉하는 공정을 포함하며, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 공정에 있어서, 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)을 Rw<R<Rp·m의 범위로 되도록(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력) 포토마스크의 제조 방법을 구성하였기 때문에, 저가격으로 고정밀도인 포토마스크를 제조할 수 있는 효과가 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 방법이 복수인 경우, 전(全)직사각형의 수가 적은 방법을 선택하도록 포토마스크의 제조 방법을 구성하면, 변환 후의 데이터 량이 적어지는 효과가 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 방법이 복수인 경우, 미소 직사각형의 수가 적은 방법을 선택하도록 포토마스크의 제조 방법을 구성하면, 정밀도가 높은 차광 패턴을 갖는 포토마스크를 제조할 수 있는 효과가 있다.

본 발명에 의하면, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 방법이 복수인 경우, 미소 직사각형이 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 외주부에 위치하지 않은 방법을 선택하도록 포토마스크의 제조 방법을 구성하면, 정밀도가 높은 차광 패턴을 갖는 포토마스크를 제조할 수 있는 효과가 있다.

본 발명에 의하면, 투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광 패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크의 경사선에 상당하는 선의 위치에 발생한 결함을 검사 수정할 때에, 회로패턴의 레이아웃 데이터를 참조하여 비스듬히 검사 수정하도록(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력) 포토마스크의 검사 수정 방법을 구성하였기 때문에, 경사선에 상당하는 선의 위치에 발생한 결함의 검사 수정을 용이하게 실행할 수 있는 효과가 있다.

본 발명에 의하면, 투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상에 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광 패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크를 이용하여, 반도체 집적 회로를 제조하도록(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력) 포토마스크의 사용 방법을 구성하였기 때문에, 염가로 신뢰성이 높은 반도체 집적 회로를 제조할 수 있는 효과가 있다.

본 발명에 의하면, 투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하고, 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크를 이용하여, 액정 디스플레이를 제조하도록(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력) 포토마스크의 사용 방법을 구성하였기 때문에, 염가로 신뢰성이 높은 반도체 집적 회로를 제조할 수 있는 효과가 있다.

Claims

투명 기판과,

경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 상기 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하되,

상기 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 것을 특징으로 하는 포토마스크(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력).
회로패턴을 레이아웃하고, 그 레이아웃 데이터를 작성하는 공정과,

경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 상기 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어지고 또한 전체가 복수의 직사각형으로 이루어지는 다각형의 데이터로 변환하는 공정과,

상기 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 변환 후의 레이아웃 데이터에 근거하여, 회로패턴을 드로잉하는 공정을 포함하되,

상기 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴의 레이아웃 데이터를 변환하는 공정에 있어서, 상기 경사선을 나타내는 직사각형의 폭(R)을 Rw<R<Rp·m의 범위로 하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 제조 방법(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp은 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력).
투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 상기 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상에 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하되,

상기 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크의 상기 경사선에 상당하는 선의 위치에 발생한 결함을 검사 수정할 때, 상기 회로패턴의 레이아웃 데이터를 참조하여 비스듬히 검사 수정하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 검사 수정 방법(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력).
투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을 상기 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광 패턴을 구비하되,

상기 직사각형의 폭(R)이, Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크를 이용하여, 반도체 집적 회로를 제조하는 포토마스크의 사용 방법(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크 드로잉 장치의 해상력).
투명 기판과, 경사선을 포함한 다각형의 회로패턴을, 상기 경사선이 복수의 직사각형에 의해 계단형상으로 나타내어진 다각형으로서 나타낸 차광패턴을 구비하되,

상기 직사각형의 폭(R)이 Rw<R<Rp·m의 범위인 포토마스크를 이용하여, 액정 디스플레이를 제조하는 포토마스크의 사용 방법(단, m은 노광 장치의 전사배율, Rp는 노광 장치의 해상력, Rw는 마스크드로잉 장치의 해상력).