KR20000057769A - 극자외선 리소그래피용 반사성 플라이눈 컨덴서 - Google Patents

극자외선 리소그래피용 반사성 플라이눈 컨덴서 Download PDF

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에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨.
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Abstract

포토리소그래피에 사용되는 감광성 기판 상에 레티클의 이미지를 투영하기 위하여 사용되는 조사 소스 또는 컨덴서로서, 소망의 방사 강도, 동공 필, 또는 각 분포를 형성하기 위하여, 사전결정되어 배치된 면 또는 요소를 가진 제1 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이, 및 사전결정되어 배치된 면 또는 요소를 가진 제2 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이를 가지는 조사 소스 또는 컨덴서. 극자외선 전자기 방사선의 소스가 아치 형상의 면 또는 요소를 가진 제1 플라이눈 또는 거울 어레이에 제공된다. 상기 아치 형상의 면 또는 요소는 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 내의 대응하는 면에 상기 소스의 이미지를 형성하기 위하여 배치된다. 소망의 방사 강도, 동공 필, 또는 각 분포와 함께, 소망의 형상 및 방사도가 얻어진다. 아치형 조사 필드 또는 이미지가 간결한 패키지 내에 고효율로 형성된다. 본 발명의 조사 시스템은, 극자외선 내이고, 1 나노미터 내지 약 157 나노미터의 범위의 전자기 방사선을 사용하여, 0.025 미크론과 같이 작은 특성 크기의 이미지화를 용이하게 한다.

Description

극자외선 리소그래피용 반사성 플라이눈 컨덴서{REFLECTIVE FLY'S EYE CONDENSER FOR EUV LITHOGRAPHY}
본 발명은, 반도체 제조에서 포토리소그래피에 사용되는 것과 같이 감광성 기판 상에 레티클(reticle)의 이미지를 투영하는 컨덴서 및 조사(illumination) 시스템에 일반적으로 관계되며, 더 자세히는, 소망의 방사도 및 소망의 각 분포, 동공 필(pupil fill), 또는 방사 강도를 형성하기 위한 반사성 플라이눈(fly's eye), 면형성된 거울, 또는 거울 어레이(array)를 가진 극자외선 또는 약 X-레이 파장에서의 사용에 적합한 컨덴서에 관계된다.
포토리소그래피는 다수의 장치, 특히, 전자 또는 반도체 장치의 제조에 자주 사용된다. 포토리소그래피 프로세스에서, 레티클 또는 마스크의 이미지가 감광성 기판 상에 투영된다. 감광성 기판 상에 이미지화되도록 소망되는 소자 또는 특성 크기가 이제까지 소형화됨에 따라서, 기술적인 문제들이 자주 발생한다. 이들 문제들 중의 하나는 레티클 또는 마스크를 조사하여 그 이미지가 감광성 기판 상에 투영될 수 있도록 하는 것이다. 반도체 장치의 소자 또는 특성 크기가 이제까지 소형화됨에 따라서, 0.13 마이크로미터 이하의 해상도를 제공하는 포토리소그래피 시스템에 대한 요구가 있다. 이들 비교적 작은 소자 또는 특성 크기의 이미지화를 달성하기 위하여, 더 짧은 파장의 전자기 방사선이, 감광성 기판 상에 레티클 또는 마스크의 이미지를 투영하기 위하여 사용되어야 한다. 따라서, 포토리소그래피 시스템이 157 나노미터 이하의 극자외선 파장에서, 그리고 1 나노미터 근처의 약 X-레이 파장에서까지 작동할 필요가 종종 있다. 아울러, 요구되는 해상도 및 이미지화 능력을 가진 투영 광학은 흔히 링 필드(ring field)의 부분을 사용하도록 한다. 포토리소그래피에서 사용되는 그러한 투영 광학 시스템의 하나가, 1998년 9월 29일자로 윌리엄슨에게 발행된 미국 특허 제5,815,310호 "고 수치 개구 링 필드 광학적 축소 시스템"에 개시되어 있으며, 이것은 여기에 완전히 참조로 포함된다. 여기에 개시된 투영 광학 시스템은 0.03 미크론의 작업 해상도를 달성할 수 있지만, 감광성 기판 상에 레티클 또는 마스크의 이미지를 투영하기 위하여 요구되는 조사 특성을 제공할 수 있는 조사 소스 또는 조사 시스템이 거의 없다. 1994년 8월 16일자로 화이트에게 발행된 미국 특허 제5,339,346호 "플라즈마 유도된 X-레이 비선형화를 수반하는 장치 제조"에 하나의 조사 시스템이 개시되어 있다. 상기 특허에는, 축을 중심으로 대칭적으로 배치된, 짝지어진 면들을 포함하는 면형성된 컬렉터 렌즈를 구비한 레이저-펌프되는 플라즈마 소스와 함께 사용하기 위한 컨덴서가 개시되어 있다. 또다른 조사 시스템이, 1997년 10월 14일자로 오시노에게 발행된 미국 특허 제5,677,939호 "조사 장치"에 개시되어 있다. 여기에는, 회전의 포물선형-원환체를 가진 반사 거울, 및 자오선 방향으로 임계 조사를 실행하기 위한 반사면과 구결(sagittal) 방향으로 쾰러(Kohler) 조사를 실행하기 위한 반사면을 가지는 반사 유형 광학 인터그레이터(integrator)를 구비한, 아치형 패턴으로 물체를 조사하기 위한 조사 시스템이 개시되어 있다. 또다른 조사 시스템이 1996년 4월 30일자로 스웨트에게 발행된 미국 특허 제5,512,759호 "싱크로트론 방출광을 사용한 링 필드 카메라를 조사하는 컨덴서"에 개시되어 있으며, 이것은 완전히 여기에 참조로 포함된다. 여기에는, 광빔을 수집하는 오목 및 볼록 구면 거울, 상기 광빔을 카메라의 실제 입구 동공으로 수렴 및 유도하는 평면 거울, 및 레지스티브 마스크를 통하여 그리고 카메라의 가상 입구 동공 내로 실제 입구 동공을 이미지화하는 구면 거울을 포함하는 컨덴서가 개시되어 있다. 또다른 조사 시스템이 1994년 11월 1일자로 스웨트에게 발행된 미국 특허 제5,361,292호 "링 필드를 조사하기 위한 컨덴서"에 개시되어 있다. 여기에는, 방사선을 수집하고, 다른 거울에 의하여 옮겨지고 회전되는 한 세트의 아치형 초점을 생성하여 모든 아치형 영역이 마스크에서 중첩되도록 하는 세그먼트화된 비구면 거울을 사용하는 컨덴서가 개시되어 있다. 또다른 조사 시스템이 1997년 5월 20일자로 스탠톤 외 에게 발행된 미국 특허 제5,631,721호 "포토리소그래피에서 사용을 위한 하이브리드 조사 시스템"에 개시되어 있으며, 이것은 여기에 완전히 참조로 포함된다. 여기에는, 다중-이미지 광학 요소, 컨덴서, 및 어레이 또는 회절성 광학 요소가 개시되어 있다.
그러나, 이들 기존의 조사 시스템은 소망의 조사를 제공할 수 없고, 비교적 복잡하다. 아울러, 이들 시스템들 중 다수가 비교적 대형이며, 많은 표면을 가짐으로써 에너지의 손실을 가져온다. 일부는 또한 정렬하기 어렵고, 조정을 요구할 수 있다.
따라서, 포토리소그래피에서 사용을 위하여 소망의 방사도 및 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도를 가진, 소정의 필드 또는 영역에 걸쳐서 소망의 방사도를 제공하는 극자외선에서의 사용을 위한 개선된 조사 시스템 및 컨덴서에 대한 요구가 있다.
본 발명은, 소망의 조사를 제공하는 극자외선 스펙트럼에서의 사용을 위한 조사 시스템, 그리고 특히 컨덴서에 관한 것이다. 반사기는 소스로부터 전자기 방사선을 수집하여 그것을 제1 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이에 유도한다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이는, 바람직하게는 아치 형상을 가진 요소 또는 면을 가진다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이는, 베이스 표면의 상부에 표면 편차를 가진 복수의 개개의 요소 또는 면을 가짐으로써, 제2 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이에 소망의 방사도 및 소망의 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도를 발생시킨다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이는 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이로부터 전자기 방사선을 수용하도록 위치된다. 소망의 형상을 가지는 소망의 방사 강도는, 감광성 기판 상에의 투영을 위한 레티클에 중계(relay) 된다.
따라서, 감광성 기판 상에의 투영을 위한 레티클에 소망의 조사를 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.
아치 형상의 조사 필드가 형성되는 것이 본 발명의 한 장점이다.
소망의 방사도 및 소망의 방사 강도 또는 동공 필이 얻어지는 것이 본 발명의 또다른 장점이다.
균일성이, 면의 수를 변화시키고 수용되는 조사의 크기를 조절함에 의하여 조절될 수 있다는 것이 본 발명의 또다른 장점이다.
조사 필드에서 조사 강도가, 면들 간의 상관관계 또는 면의 크기, 형상, 그리고, 위치를 변화시킴에 의하여 조절될 수 있다는 것이 또다른 장점이다.
아치형 면을 가지는 일반적으로 오목한 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이가 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 의하여 이미지화된다는 것이 본 발명의 특징이다.
각 면이 표면 편차를 가지는 면들을 구비한 일반적으로 볼록한 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이가, 조사 필드에서 소망의 방사도 및 소망의 방사 강도를 형성한다는 것이 본 발명의 또다른 특징이다.
면의 배율(power)이 소망의 조사 필드를 얻기 위하여 변경될 수 있다는 것이 본 발명의 또다른 특징이다.
이들 그리고, 다른 목적, 장점, 및 특징들은 하기의 상세한 설명의 관점에서 충분히 명백하게 될 것이다.
도 1은, 본 발명의 조사 시스템의 개략도이다.
도 2는, 투영 광학과 결합된 본 발명의 조사 시스템을 도시하는 개략도이다.
도 3a은, 본 발명의 제1 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이를 도시하는 사시도이다.
도 3b는, 단일 요소 또는 면의 아치 형상을 도시하는 정면도이다.
도 3c는, 도 3b에서 선 3C-3C를 따라 취해진 단면이다.
도 4a는, 제2 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이를 도시하는 사시도이다.
도 4b는, 단일 요소 또는 면의 직사각형 형상을 도시하는 정면도이다.
도 4c는, 도 4b에서 선 4C-4C를 따라 취해진 단면이다.
도 5a는, 환형 조사 동공 필을 도시하는 평면도이다.
도 5b는, 환형 조사 패턴의 방사도 프로파일을 도시하는 그래프이다.
도 6a는, 아치형 조사 필드를 도시하는 평면도이다.
도 6b는, 도 6a에 도시된 조사 필드의 선 6B-6B를 따라서 취해진 측단면의 방사도 프로파일을 도시하는 그래프이다.
도 6c는, 조사 필드의 부분을 도시하는 개략적 사시도이다.
도 7은, 제1 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 요소 또는 면 배치를 설명하는데 사용되는 좌표 규정의 그래픽적 도시이다.
도 8a는, 제1 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 요소 또는 면의 알파 경사각 표면 편차를 그래픽적으로 도시한다.
도 8b는, 제1 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 요소 또는 면의 베타 경사각 표면 편차를 그래픽적으로 도시한다.
도 9a는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 각 면 또는 요소의 알파 경사각을 그래픽적으로 도시한다.
도 9b는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 각 면 또는 요소의 베타 경사각을 그래픽적으로 도시한다.
도 9c는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 각 면 또는 요소의 Z 변위를 그래픽적으로 도시한다.
도 10a는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 각 면 또는 요소의 알파 경사를 그래픽적으로 도시한다.
도 10b는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 각 면 또는 요소의 베타 경사를 그래픽적으로 도시한다.
도 10c는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 각 면 또는 요소의 Z 변위를 그래픽적으로 도시한다.
도 11a는, 제1 플라이눈 또는 거울 어레이 상에 수용된 소스로부터의 방사도를 도시하는 개략적 평면도이다.
도 11b는, 도 11a의 선 11B-11B를 따라서 발생된 방사 플럭스를 설명하는 그래프이다.
도 1은, 본 발명의 조사 시스템 또는 컨덴서를 개략적으로 도시하고 있다. 컨덴서(10)는, 소스(12)를 사용하며, 이 소스는, 레이저 플라즈마 소스, 모세관 방전관, 또는 싱크로트론과 같은 극자외선 또는 EUV 소스일 수 있다. 소스(12)로부터의 전자기 방사선은 반사기(14)에 의하여 수집된다. 반사기(14)는 스펙트럼 필터 및/또는 오염 조절 윈도우를 위한 중간 이미지를 제공하기 위하여 바람직하게는 타원 형상을 가진다. 쌍곡선 형상도 또한 사용될 수 있다. 그러나, 싱크로트론 소스에 대하여는, 반사기(14)는 이 기술분야의 숙련된 이들에게 주지된 또다른 형태일 수 있다. 참조 로페즈-델가도 및 스왈크(Lopez-Delgado and Swarc), 광 통신(Optical Communication), Vol. 19 #2, 페이지 286-291, 1976. 일부 응용에서는, 컬렉터는 완전히 제거될 수 있다. 반사기(14)로부터 반사된 전자기 방사선은 반사성 플라이눈 또는 제1 거울 어레이(16)에 의하여 수집된다. 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이라는 용어는 면형성된 거울을 포함하고, 또한 지칭하도록 의도된다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)로부터 반사된 전자기 방사선은, 제2 반사성 플라이눈 또는 제2 거울 어레이(18)에 의하여 수집된다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)는, 제2 반사성 플라이눈 또는 제2 거울 어레이(18)에서의 대응하는 면의 근처에 복수의 소스 이미지를 형성하기 위하여 사용되는 복수의 반사성 요소 또는 거울을 구비한다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(18)로부터 반사된 전자기 방사선은, 제1 반사성 광학 요소(20) 및 제2 반사성 광학 요소(22)에 의하여, 이미지 평면 또는 조사 필드(24)로 릴레이(relay)된다. 광학 요소들(20 및 22)의 결합은, 제2 반사성 플라이눈(18) 근처에 위치된, 개구 스톱(aperture stop)의 이미지를 투영 광학의 동공 내로 릴레이한다. 제1 및 제2 광학 요소(20 및 22)는 조사 필드(24)에 걸쳐서 모든 점에 대하여 균일한 각 분포를 보존하도록 보정된 코마(coma)이다. 제1 광학 요소(20) 및 제2 광학 요소(22) 그리고 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(18)의 각 요소 또는 면에 의하여 형성된 릴레이의 조합은, 조사 필드 또는 평면(24)에서, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16) 내의 대응하는 요소의 개구의 이미지와 중첩된다. 바람직하게는, 조사 필드(24)는 아치형 영역이며, 적어도 제1 반사성 플라이눈(16)은, 조사 필드(24)를 형성하는 아치형 영역과 형상이 유사한 아치형 개구를 가진 요소 또는 면을 가진다. 이것은 더 효율적인 조사를 제공한다.
도 2는, 투영 광학(11)과 결합하여 사용되는 본 발명의 조사 시스템 또는 컨덴서(10)를 개략적으로 도시한다. 투영 광학(11)은, 임의의 투영 광학일 수 있으나, 바람직하게는, 여기에 참조로 포함되는 1998년 9월 29일자로 윌리엄슨에게 발행된 미국 특허 제5,815,310호 "고 수치 개구 링 필드 광학적 축소 시스템"에 개시된 것과 같은 축소 투영 광학이다. 조사 시스템 또는 컨덴서(10)는, 소망의 방사도 및 소망의 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도를 가지고, 소정의 형상, 바람직하게는 아치 형상을 가지는 조사 필드(24)를 형성한다. 그러나, 임의의 소정의 또는 소망의 방사도 및 방사 강도가 형성될 수 있다. 아치형 조사 필드(24)는, 감광성 기판(28) 상에 재생되기 위한 이미지를 포함하는 레티클(25)을 조사한다. 레티클(25)로부터 반사된 전자기 방사선은 제1 거울(30)에 의하여 수용되고, 제2 거울(32)로 반사되며, 제2 거울은 차례로 방사선을 제3 거울(34)로 반사하고, 제3 거울은 차례로 방사선을 제4 거울(36)로 반사하며, 제4 거울은 차례로 방사선을 제5 거울(38)로 반사하며, 제5 거울은 차례로 방사선을 제6 거울(40)로 반사하며, 제6 거울은 감광성 기판(28) 상에 레티클(25)의 이미지를 형성하는 전자기 방사선을 반사한다. 바람직하게는, 투영 광학(11)은, 1 이하의 확대도를 가져서 레티클(25)의 이미지가 감광성 기판(28)에서 축소되도록 한다.
도 3a-c는, 도 1 및 2에 도시된 제1 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이(16)을 더 완전히 도시한다. 도 3a는 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)을 도시하는 사시도이다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)는 베이스(41)를 가진다. 베이스(41)는 오목한 베이스 표면(44)을 가진다. 오목한 베이스 표면(44)에는 복수의 반사성 면 또는 요소(42)가 장착되어 있다. 면(42)은, 아치 형상이며, 오목한 표면을 가진다. 오목한 베이스 표면(44)은, 제조를 단순화하기 위하여 구형일 수 있지만, 아나몰픽(anamorphic) 비구형과 같은 더 복잡한 형상이, 더 높은 처리량을 내기 위하여 바람직할 수 있다. 도 3a는, 복수의 행 및 열로 분할되는 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)을 도시한다. 어떠한 수의 행 및 열도 적합하겠지만, 6 ×83 어레이가 바람직한 것으로 결정되었다. 일반적으로, 바람직한 실시예에서 제공되는 특정한 치수는 미국 특허 제5,815,310호에 개시된 것과 같은 투영 광학 축소 시스템에 대하여 설계된 것이다. 그러나, 본 발명은 그 적용에 따라서 다른 특정한 치수로 맞추어질 수 있다. 균일성의 향상이 어레이 크기를 증가시킴에 의하여 달성될 수 있다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)의 표면은, 소스의 이미지로, 도 1 및 2에 도시된, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 내의 대응하는 면을 채우도록 처리된다. 반사성 플라이눈의 배치 또는 축상 이동은 반사성 플라이눈을 형성하는 요소 또는 면과 접촉하는 피스톤 또는 다른 동등한 수단에 의하여 달성될 수 있다. 아울러, 각각의 면 또는 요소의 확대도 또는 표면 형상은, 피스톤에 대한 요구를 제거하거나 물리적으로 면 또는 요소를 이동시키기 위하여 변경될 수 있다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)의 각 요소 또는 면(42)은 소스로부터의 전자기 방사선을 수용하고, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 대응하는 면 또는 요소를 채운다. 도 3b는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(42)를 형성하는 단일 면 또는 요소(42)의 아치 형상을 도시하는 평면도이다. 면 또는 요소(42)는, 바람직한 실시예에서는, 바람직하게는 약 7 ×93 밀리미터의 치수를 가진다. 도 3c는, 도 3b의 선 3C-3C를 따라 취해진 단면이다. 면 또는 요소(42)는 반사성 오목 표면(46) 및 볼록 표면(48)을 가진다. 볼록 표면(48)은 오목한 베이스 표면(44)과 거의 정합될 수 있다. 그러나, 표면(48)은, 편평하거나 평면적이거나, 또는 임의의 다른 적절한 형상일 수도 있다. 오목한 면 또는 요소(42)는, 약 1,100 내지 1,300 밀리미터의 반경을 가진 오목한 반사성 표면(46)을 가질 수 있다. 면 또는 요소(42)는, 도 3a에 도시된 베이스 표면(44) 상에 장착되어, 면 또는 요소가 표면으로부터 이동되어 각도에 있어서 경사지게 될 수 있다.
도 4a-4c는, 도 1 및 2에 도시된 제2 반사성 플라이눈, 면형성된 거울, 또는 거울 어레이(18)의 구조를 더 완전하게 도시하고 있다. 도 4a는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(18)를 일반적으로 도시하는 사시도이다. 약 800 밀리미터의 반경을 가진 볼록한 베이스 표면을 가질 수 있는 볼록 베이스(50)는 그 위에 장착된 복수의 직사각형 반사성 오목 면(52)들을 가진다. 반사성 오목 면 또는 요소(52)는 열 및 행으로 형성된 어레이 내에 장착된다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(18)의 면 또는 요소(52)는 바람직하게는 제조의 용이성을 위하여 직사각형일 수 있지만, 정사각형과 같은 다른 형상들이 다른 적용을 위하여 요망될 수 있다. 바람직하게는, 면 또는 요소(52)는 약 5 ×5 밀리미터의 치수를 가진다. 오목 면 또는 요소(52)는, 약 2100 밀리미터의 반경을 가질 수 있다. 면 또는 요소(52)의 수는, 도 3a에 도시된 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(16)의 면 또는 요소(42)의 수에 1 대 1로 대응할 수 있거나, 또는 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(18)는, 매트릭스 또는 그리드 패턴 내에 배열된 다소의 면 또는 요소(52)를 가질 수 있다. 도 4b는, 면 또는 요소(52)의 가능한 직사각형 형상을 도시하는 평면도이다. 도 4c는, 도 4b의 선 4C-4C를 따라서 취해진 단면이다. 도 4b는, 반사성 오목 면 표면(56) 및 오목 표면(58)을 가지는 면 또는 요소(52)를 도시한다. 오목 표면(58)은, 도 4a에 도시된 베이스(50)의 볼록 표면(54)에 거의 정합할 수 있거나, 또는 편평하거나 평면적이거나, 또는 임의의 다른 적절한 형상일 수 있다. 면(52)은, 도 4a에 도시된 베이스(50) 상에 장착될 수 있어서, 그 면이 표면으로부터 소정의 거리만큼 이동되고, 소정의 방법으로 경사 또는 각도가 형성될 수 있다.
도 5a-5b는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면 상에 일반적으로 무작위로 위치된 소스 이미지를 가지는 반사성 플라이눈에 대한 방사도 및 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도를 도시한다. 그러나, 반사성 플라이눈은 일반적으로 환형의 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도를 제공하도록 방향설정된다. 전자기 방사선의 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도는 톱 햇(top hat) 조사, 균일 조사, 4중 조사, 또는 다른 알려진 조사의 형태일 수 있다. 따라서, 레티클 상의 임의의 단일한 점에서 소스를 향하여 뒤돌아 볼 때, 소정의 또는 소망의 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도가 보인다. 개개의 소스 이미지 모두를 총합 또는 더함에 의하여, 조사 필드 또는 이미지 평면에서의 전체 또는 균일한 소망의 방사도가 얻어진다. 소망의 방사도는 바람직한 실시예에서 실질적을 균일하다. 도 5a는, 일반적으로 무작위로 위치된 복수의 이미지 또는 조사 픽셀(62)로 구성된 일반적으로 환형의 동공 필(60)을 도시한다. 도 5b는 소망의 조사 패턴을 도시한다. 도 5a에 도시된 조사 패턴의 직경을 따라서 취해진 단면은, 도 5b에 도시된 소망의 패턴에 가깝다. 파형(64)은, 소망의 환형의 형태를 가진 조사 강도를 도시한다. 조사 픽셀(62)의 균일성이 증가하고 픽셀(62)의 수가 많을수록, 소망의 조사 패턴과의 유사성이 더 향상될 것이다. 이미지 그리드는, X 및 Y 축을 따라서 거의 동일한 수의 소스 이미지를 제공하기 위하여 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상에 바람직하게는 정사각형 또는 육각형이다. 이 대칭성이 없으면, 컨덴서가 0도 및 90도에서 유발되는 특성들 또는 선 폭들 사이에 바이어스(bias)를 도입할 것이다.
도 6a-6c는, 아치형 조사 필드 또는 이미지 평면(66)의 형성을 도시하고 있다. 도 6a는, 조사 필드 또는 이미지 평면(66)에 대한 소망의 아치 형상을 도시하는 평면도이다. 도 6b는, 도 6a에 도시된 아치형 조사 필드 또는 이미지 평면(66)의 측 단면에 대한 방사도를 나타낸다. 파형(68)은, 도 6a에 도시된 아치형 조사 필드(66)의 폭에 걸쳐서 실질적으로 균일한 소망의 방사도를 도시한다. 아치형 필드(66)의 길이 방향의 방사도는 또한 바람직하게는 실질적으로 균일하고, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상에 조사된 영역의 크기를 변경함에 의하여 조정될 수 있다. 도 6c는, 도 6a에 도시된 아치형 조사 필드(66)의 부분을 도시한다. 실질적으로 균일한 방사도 또는 조사가 복수의 환형 각 분포, 방사 강도, 또는 동공 필(60)에 의하여 형성되고 그래픽적으로 조사된다. 조사(70)의 원추(cone)가, 아치형 조사 필드(66)를 형성하는 소망의 각 분포, 동공 필, 또는 방사 강도를 가진 전자기 방사선을 제공한다. 조사(70)의 원추의 각 범위는, 본 발명의 조사 시스템에 의하여 조절될 수 있다. 조사 필드(66)에서, 조사의 원추가 초점(71)에 온다는 점과, 초점(71)으로부터 멀리 이동할 때에만 중심의 흐려짐이 일어난다는 점이 인식되어야 한다. 따라서, 소망의 방사도 및 방사 강도가 달성될 수 있다. 바람직하게는, 균일한 방사도가 사용된다.
도 7은, 본 발명에서 사용되는 제1 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상의 반사성 면 또는 요소의 배치를 기술하는데 사용되는 좌표 시스템 규정을 그래픽적으로 도시한다. 각 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이는 4개의 사분면으로, 즉 1사분면, 2사분면, 3사분면, 4사분면으로 나뉘어질 수 있다. 도 7에서 열 -3 내지 +3으로 도시된, 복수의 열들이 각 사분면과 연관되어 있다. 그러나, 상이한 수의 열이 적용 및 소망의 방사도 및 방사 강도에 따라서 사용될 수 있다. 아울러, 개별적으로 식별되지는 않았으나, 약 행 -45 로부터 행 +45 에 이르는 범위를 가진 복수의 행이 각 사분면과 연관되어 있다. 따라서, 도 7은, 6 ×90 어레이를 형성하는 6개의 열 및 90개의 행을 가진 좌표 시스템 규정을 도시한다.
도 8a-8b는, 본 발명의 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이를 형성하는 면 또는 요소의 배치를 그래픽적으로 도시한다. 도 8a-8b는, 이전의 도면에 도시된 제1 또는 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 사용된 면 또는 요소의 경사 형성을 그래픽적으로 나타낸다. 도 8a에서, 원(72)은, 알파(α) 각 경사를 나타낸다. 알파 각 경사는 Y-Z 평면에서 X축을 중심으로 회전된다. 도 8b에서, 원(74)은 베타(β) 각 경사를 나타낸다. 베타 각 경사는 X-Z 평면에서 Y축을 중심으로 회전된다. 면의 배치 및 위치결정은, Z 변위와 결합하여 알파(α) 경사각 및 베타(β) 경사각에 관하여 정의될 수 있다.
도 9a-9c 및 10a-10c는, 도 7 및 8에 도시된 좌표 시스템 규정을 사용하여 제1 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이를 위한 개개의 면 또는 요소의 배치를 그래픽적으로 도시한다. 도 9a-9c 및 10a-10c의 그래프들은 1차적으로 1사분면 및 2사분면을 나타내고 있지만, 3사분면 및 4사분면이 거울상 또는 상보적인 것으로 간주될 수 있고, 그리고, 도 9a-9c 및 10a-10c에 포함된 정보에 기초하여 용이하게 결정될 수 있다.
도 9a-9c는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이를 형성하는 면 또는 요소의 배치를 정의한다. 도 9a는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 1사분면 및 2사분면 내의 면에 대한 알파 경사각을 나타낸다. 도 9a의 그래프로부터 결정될 수 있는 바와 같이, 약 -45 내지 +40 으로부터의 면들의 각 행은, 무작위한 선형 분포를 가진다. 알파 경사각은 약 -10.5°내지 +16°의 범위를 가진다. 아울러, 무작위성은, 6개의 열에 대하여 약 1°이다. 이것은 여기에서 바람직한 실시예이지만, 다른 유사한 위치가, 적용 및 소망의 조사 필드 및 성질에 따라서 사용될 수 있다. 도 9b는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 대한 베타 경사각을 그래픽적으로 도시한다. 도 9b에 도시된 바와 같이, 공칭(nominal) 값 주위의 무작위한 분포가 바람직하다. 따라서, 도 9b를 참조하면, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 대한 베타 경사각은 약 +0.5° 내지 +11.5°의 범위를 가지며, 그리고, 약 1.5°의 무작위성을 가진다. 유사하게, 3사분면 및 4사분면은 약 -11.5°내지 -0.5°의 범위를 가진 베타 경사각을 가진다. 도 9c는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 대한 Z 방향의 변위를 그래픽적으로 나타낸다. Z 변위는, 약 +4 내지 -44 밀리미터의 범위를 가지는 일반적으로 무작위한 포물선형 분포를 가지며, 오목하다. 2사분면 및 이에 대응하여 4사분면은, 더 큰 공칭 하락에 기인하여 더 많은 변화량을 가진다. 외부 열 +3 및 -3은 더 적은 면을 가질 수 있다.
도 10a-10c는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 내의 면 또는 요소의 배치를 그래픽적으로 나타낸다. 아울러, 도 10a-10c로부터, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 사용되는 면의 행 및 열의 수가, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 사용된 면의 수와 반드시 1 대 1로 대응하지는 않는다는 점이 인식될 수 있다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이는 바람직하게는 약 24 ×24 어레이이다. 도 10a는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 대한 알파 경사각을 그래픽적으로 나타낸다. 도 10a로부터 알 수 있는 바와 같이, 약 + 또는 -4°의 무작위성을 가진 약 -10°내지 +4°의 범위를 가지는 무작위한 선형 분포가 있다. 도 10b는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 대한 베타 경사각을 그래픽적으로 도시한다. 도 10b로부터 알 수 있는 바와 같이, 약 + 또는 -3°의 무작위성을 가진 약 -0.5°내지 +6.5°의 범위를 가지는 무작위한 선형 분포가 있다. 유사하게, 3사분면 및 4사분면이 -6.5°내지 +0.5°의 범위를 가지는 베타 경사각을 가진다. 도 10c는, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 대한 Z 변위를 그래픽적으로 도시한다. 도 10c에서 볼 수 있는 바와 같이, 약 -23 내지 +14 밀리미터의 범위를 가진 볼록한 무작위한 분포가 있다. 24 열이 그리드 패턴 내에 배열되어 있다. 면 0 에서 큰 스텝(step)은, 사분면에 의한 무작위화에 기인한다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 1사분면 내의 0 근처의 상승 면은, 음의 변위를 요구하는 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면과 무작위하게 짝지어지는 반면에, 2사분면 내의 유사한 면은, 양의 변위를 요하는 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 내의 면과 짝지어진다. 이것은, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 중심 근처에 큰 스텝을 형성한다.
도 9a-9c 및 10a-10c에 도시된 제1 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 내의 면 또는 요소의 배치는 여기에서 바람직한 실시예임이 인식되어야 한다. 면 또는 요소 배치는, 특정한 응용 및 소망의 방사도 및 소망되거나 요구되는 방사 강도에 따라서 분명히 변경될 수 있음이 인식되어야 한다. 배치에 대한 그러한 변경은 본 발명 및 특정한 응용의 개시의 관점에서 본 분야의 통상의 기술을 가진 이들에게 어떤 과도한 실험없이도 충분히 명백하다.
부가적으로, 무작위 또는 무작위화라는 용어는 완전히 무작위한 것을 의미하도록 의도된 것이 아니고, 소망의 결과를 달성하기 위하여 소정의 방법으로 무작위하게 배열되거나 무작위화된 것을 의미한다. 이것은, 도 11a-11b를 참조하여 더 완전히 인식될 수 있다. 도 11a는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이(116)에 의하여 수용된 소스로부터의 조사 패턴(112)을 도시한다. 조사 패턴은, 실시예에서, 중심의 흐려짐(113)을 가질 수 있다. 조사 패턴(112)의 방사도는, 또한 일반적으로 균일하지 않다. 도 11b는, 도 1의 선 11B-11B를 따라서 취해진 방사 플럭스를 도시하는 그래프이다. 파형(164)은, 거리 또는 직경의 함수로서, 방사 플럭스의 크기를 도시한다. 세그먼트(165)는 중심의 흐려짐을 나타내며, 만곡된 선들(167)은, 컬렉터 거울에서의 극 UV 반사도의 강하에 기인하여, 중심의 흐려짐 근처의 면 또는 거울로부터 거울의 가장자리(edge)의 면 또는 거울로 이동하는 에너지에 있어서 중요한 강하를 나타낸다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이로부터 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이로의 면 또는 거울의 1 대 1 상관관계가 유지되면, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 가장자리의 면 또는 거울 상의 소스 이미지는 중심 근처의 그들 이미지 보다 훨씬 적은 에너지를 가질 것이다. 그러므로, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서의 조사 패턴은, 도 5b에 도시된 이상적인 분포에 접근하지 않을 것이지만, 대신에 도 11b와 유사할 것이다. 이 효과를 보충하기 위하여, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 사이의 상관관계가, 소망의 결과를 얻기 위하여, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 걸쳐서, 소스 이미지를, 그리고, 따라서, 에너지를 재분포시키기 위하여, 선택되거나, 처리되거나, 또는 배치된다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 특정한 면을 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 무작위로 선택된 면과 상관시킴에 의하여, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에 걸친 평균 분포가, 바람직한 실시예에서 도 5b에 도시된 이상적인 분포에 더 가깝게 접근할 것이다.
제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 특정 면을 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 한 면과 상관시키기 위하여, 면의 축상 위치 및/또는 곡률 및 경사가 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 소망의 면 근처에 소스의 이미지를 형성하도록 조정된다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상의 면의 축상 위치 및/또는 곡률 및 경사는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면의 이미지가 레티클 평면 또는 조사 필드에서 초점이 맞고 중첩되는 것을 보장하도록 계산된다. 이 방법은, 바람직한 실시예에서 고유한 소스로부터 중심의 흐려짐을 제거 또는 정밀하게 표시하기 위하여 사용될 수 있다는 것을 주지하라. 흐려진 부분 내의 것과 같은, 소스로부터의 중요하지 않은 에너지를 수용하는 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면을, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면과 상관시키지 않음에 의하여, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상의 방사도 패턴 내의 중심 구멍이 제거될 수 있고, 더 균일한 동공 필이 생성될 수 있다.
제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 모든 면의 곡률이, 동일하도록 선택된다면, 각 면의 축상 위치, 또는 피스톤은, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 선택된 면에서 소스의 적합한 초점을 보장하도록 선택되어야 한다. 바람직한 실시예에 대하여 선택된 바와 같이, 무작위한 상관관계를 선택할 때에는, 이것은 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상에 큰 면-대-면 축상 위치 변경을 요구할 수 있다. 이 큰 동작은, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 특정 사분면 내의 면들이, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 동일한 사분면 내의 면들과 상관되도록 허용함만으로 최소화될 수 있다. 이 속박은, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상에서 축상 면-대-면 배치를 최소화하면서, 소망의 균일한 분포를 유지한다. 면-대-면 축상 위치 변경은, 각 면의 곡률, 또는 광학 배율이 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서 적합한 초점을 보장하도록 조정되도록 허용함에 의하여 완전히 제거될 수 있다. 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 각 면의 광학 배율을 변경하는 것은, 그러나, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서의 소스 이미지의 확대도 및 크기를 변경한다. 그러므로, 축상 배치 및 광학 배율 선택의 적절한 조화는, 소망의 동공 필 또는 방사 강도를 더 가깝게 얻기 위하여 선택될 수 있다. 이것은 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면에 유사하게 적용될 수 있다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들 상에 동일한 곡률을 선택한 실시예에 있어서, 각 면의 축상 위치는 레티클 평면에서 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면의 적절한 초점을 보장하도록 선택되어야 한다. 면-대-면 축상 위치 변경은 특정 사분면에 대한 상관을 제한함에 의하여 최소화될 수 있고, 그리고, 각 면이 상이한 곡률, 또는 광학 배율을 가지도록 허용함에 의하여 제거될 수 있다.
제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 특정 면을 완전히 채우지 않는 소스 이미지에 대하여는, 소스 이미지가 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 선택된 면 상의 임의의 위치에 위치되도록 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 대응하는 면의 경사가 조절되도록 허용함에 의하여, 동공 필 또는 방사 강도가 더 조작될 수 있다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면의 경사는 그리고나서 레티클 평면 도는 조사 필드에서 아치형 이미지의 중첩을 보장하기 위하여 조절되어야 한다. 그러므로, 면의 수, 면-대-면 상관, 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면의 크기, 형상, 및 위치를 조작함에 의하여, 본 발명을 실시함에 있어서, 임의의 소망의 동공 필 또는 방사 강도가 얻어질 수 있다.
따라서, 본 발명은 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이 상의 조사 영역의 크기의 조절 및/또는 면의 수의 변경에 의하여 균일성을 조절하는 것을 허용한다는 것이 충분히 인식되어야 한다. 본 발명은, 또한 면의 수의 변경, 제1 및 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들 사이의 상관관계의 변경, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들의 크기, 형상, 및 위치의 변경, 및/또는 오직 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들 보다 더 작은 소스 이미지에 대해서는, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들에 적절한 경사를 부가하고 따라서 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들의 경사를 조정함에 의하여 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들 상의 소스 이미지의 위치의 변경에 의하여 동공 필 또는 방사 강도의 변경을 허용한다.
아울러, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이에서의 소스 이미지들의 초점은, 모든 면에 대하여 동일한 광학 배율을 가진 시스템에 대한 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 대응하는 면들의 축상 위치를 변경함에 의하여, 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들의 광학 배율을 변경함에 의하여, 및/또는 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들의 축상 배치 및 광학 배율의 적절한 조합을 선택함에 의하여 유지될 수 있다. 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들 근처의 레티클에 위치한 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 아치형 면들의 이미지들의 초점은, 모든 면에 대하여 동일한 광학 배율을 가진 시스템에 대한 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들의 축상 위치를 변경함에 의하여, 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들의 광학 배율을 변경함에 의하여, 및/또는 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들의 축상 배치 및 광학 배율의 적절한 조합을 선택함에 의하여 유지될 수 있다. 아울러, 바람직하지 않은 흐려짐은, 중요하지 않은 에너지를 가진 제1 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 면들을 제2 반사성 플라이눈 또는 거울 어레이의 대응하는 면과 상관시키지 않음에 의하여 제거될 수 있다.
본 발명은 포토리소그래피, 특히 극자외선 파장 영역, 또는 일반적으로 1 나노미터 내지 157 나노미터의 범위의 파장을 위한 전자기 방사선을 사용하는 포토리소그래피를 크게 향상시킨다. 본 발명은, 0.025 미크론 정도로 작은 특성 크기를 이미지화할 수 있는 적절한 투영 광학과 결합할 때, 조사 시스템을 제공한다. 아울러, 본 발명은, 감광성 기판 상에 레티클의 이미지를 투영하는데 사용되도록 소망의 각 분포 또는 방사 강도를 가진 소망의 방사도를 허용한다. 따라서, 본 발명은,간결한 패키지 내에 고 효율로 소망의 방사 강도 또는 각 분포를 제공한다.
방사 강도를 나타내기 위하여 사용된 용어 "동공 필"은 흔히 "동공 필"이라고 불리는 동공에서의 방사도 분포와 혼동되어서는 안된다. 각 필드 점으로부터, 마스크에서 동공으로 뒤돌아보는 방사 강도는, 동공 내의 방사도 분포와 반드시 동일하지는 않을 것이라는 점을 인식하는 것이 중요하다. 하나의 예는, 방사도 분포가 균일했다면, 그러나 마스크 또는 레티클의 우측 절반은, 원의 우측 절반인 방사 강도를 가질 것이고, 마스크 또는 레티클의 좌측 절반은, 원의 좌측 절반인 방사 강도를 가지는 것이 될 것이다.
본 발명은 바람직한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 본 발명의 개념과 범위를 벗어나지 않고 변형이 이루어질 수 있음이 인식되어야 한다.

Claims (58)

  1. 전자기 방사선의 소스;
    상기 소스로부터 전자기 방사선을 수용하는 제1 면형성된 거울; 및
    상기 제1 면형성된 거울로부터 반사된 전자기 방사선을 수용하는 제2 면형성된 거울;을 포함하며,
    이에 의하여 소정의 조사 필드가 형성되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 소스로부터 전자기 방사선을 수집 및 반사하고, 상기 제1 면형성된 거울을 향하여 상기 전자기 방사선을 유도하도록 배치된 반사기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제2 면형성된 거울들로부터 전자기 방사선을 수용하도록 배치된 릴레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 면형성된 거울이, 상기 제2 면형성된 거울 상에 상기 소스의 복수의 이미지를 형성하고, 상기 제2 면형성된 거울이, 소망의 방사 강도를 가진 소정의 형상을 가진 조사 필드를 형성하기 위하여 상기 전자기 방사선을 재유도하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 면형성된 거울은 복수의 오목 거울 표면들을 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 제1 면형성된 거울의 복수의 오목 거울들의 각각이 아치 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  7. 제 5 항에 있어서, 상기 제2 반사성 플라이눈의 복수의 오목 거울들의 각각이 직사각형 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  8. 제 5 항에 있어서, 상기 제1 면형성된 거울의 상기 복수의 오목 거울들이 일반적으로 오목한 형상을 형성하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  9. 제 5 항에 있어서, 상기 제2 면형성된 거울의 상기 복수의 오목 거울들이 일반적으로 볼록한 형상을 형성하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  10. 제 5 항에 있어서, 상기 복수의 오목 거울들이 경사진 배열을 가지며, 이것에 의하여 에너지가 소망에 따라 분포되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  11. 제 5 항에 있어서, 소망의 방사도 분포가 제공되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  12. 제 5 항에 있어서, 상기 복수의 오목 거울들이 상이한 광학 배율을 가지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 전자기 방사선은 극자외선 내의 파장을 가지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 면형성된 거울은, 최소한 3 ×10 의 거울 어레이를 포함하며, 상기 제2 면형성된 거울은, 최소한 6 ×6 의 거울 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  15. 극자외선 전자기 방사선의 소스;
    상기 소스로부터 전자기 방사선을 수용하도록 배치된, 상기 소스의 다중 이미지들을 형성하는 제1 반사성 플라이눈 수단; 및
    상기 제1 반사성 플라이눈 수단에 의하여 반사되고 이미지화된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된, 상기 제1 반사성 플라이눈 수단으로부터 수용된 소스의 다중 이미지들을 중첩하고, 소정의 방사 강도 및 소정의 형상을 가진 조사 필드를 형성하는 제2 반사성 플라이눈 수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 소스로부터 전자기 방사선을 수용하도록 배치된, 상기 소스로부터 전자기 방사선을 수집하고, 상기 제1 반사성 플라이눈 수단을 향하여 상기 전자기 방사선을 반사시키는 반사기 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 제2 플라이눈 수단으로부터 반사된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된 릴레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 제1 반사성 플라이눈 수단은 복수의 오목 거울들을 포함하는 제1 거울 어레이를 포함하며; 상기 제2 반사성 플라이눈 수단은 복수의 오목 거울들을 포함하는 제2 거울 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  19. 제 15 항에 있어서, 상기 제1 반사성 플라이눈 수단은 전체적으로 일반적으로 오목한 표면을 포함하며; 상기 제2 반사성 플라이눈 수단은 전체적으로 일반적으로 볼록한 표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  20. 제 19 항에 있어서, 상기 전체적으로 일반적으로 오목한 표면은 포물선형인 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  21. 제 18 항에 있어서, 조사 필드에서 이미지들을 중첩하기 위하여, 상기 제1 거울 어레이의 복수의 오목 거울들의 각각이 경사지고; 그리고, 상기 제2 거울 어레이의 복수의 오목 거울들의 각각이 경사지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  22. 제 18 항에 있어서, 소망의 방사도 분포가 제공되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  23. 제 18 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 거울 어레이 내의 복수의 오목 거울들이 상이한 광학 배율을 가지며, 이것에 의하여 제2 거울 어레이 및 조사 필드에서 초점이 유지되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  24. 극자외선 전자기 방사선의 소스;
    상기 전자기 방사선을 반사하는 반사기;
    제1 형상의 표면을 가진 제1 베이스;
    상기 제1 형상의 표면 상에 형성된 제1 복수의 아치형 면들을 가지며, 상기 전자기 방사선을 수용 및 반사하도록 배치된 제1 반사성 플라이눈;
    제2 형상의 표면을 가진 제2 베이스; 및
    상기 제2 형상의 표면 상에 형성된 제2 복수의 면들을 가지며, 상기 전자기 방사선을 수용 및 반사하도록 배치된 제2 반사성 플라이눈;을 포함하며,
    상기 제1 복수의 면들은, 상기 제2 복수의 면들에 상기 소스를 이미지화하기 위하여 배치되고,
    상기 제2 복수의 면들은 소망의 방사도 및 방사 강도를 가지는 아치형 조사 필드를 형성하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  25. 제 24 항에 있어서, 상기 제1 복수의 아치형 면들은, 상기 제2 복수의 면들 상에 에너지를 분포시키기 위하여, 무작위로 경사가 형성되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  26. 제 24 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 반사성 플라이눈 내의 상기 복수의 면들은 상이한 광학 배율을 가지며, 이것에 의하여 초점이 유지되고, 상기 제1 및 제2 베이스 표면 내의 변화가, 제조 및 정렬을 보조하면서 이루어질 수 있는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  27. 제 24 항에 있어서, 상기 제2 반사성 플라이눈으로부터 반사된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된 릴레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  28. 극자외선 전자기 방사선의 소스;
    상기 전자기 방사선을 반사하는 타원형 반사기;
    오목한 형상의 표면을 가지는 제1 베이스;
    상기 오목한 형상의 표면 상에 형성된 제1 복수의 아치형 오목 면들을 가지는 제1 반사성 플라이눈으로서, 상기 제1 복수의 아치형 오목 면들의 각각이 상기 전자기 방사선을 수용 및 반사하기 위하여 소정의 위치 및 경사를 가지는 제1 반사성 플라이눈;
    볼록한 형상의 표면을 가지는 제2 베이스로서, 상기 제1 반사성 플라이눈으로부터 반사된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된 제2 베이스; 및
    상기 볼록한 형상의 표면 상에 형성된 제2 복수의 오목 면들을 가지는 제2 반사성 플라이눈으로서, 상기 제2 복수의 오목 면들의 각각이 상기 전자기 방사선을 수용 및 반사하기 위하여 소정의 위치 및 경사를 가지는 제2 반사성 플라이눈;을 포함하며,
    상기 제1 복수의 면들 각각은, 상기 제2 복수의 면들 상에 상기 소스를 이미지화하기 위하여 소정의 위치 및 경사를 가지며,
    이것에 의하여 소망의 방사도 및 방사 강도를 가지는 아치형 조사 필드가 형성되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  29. 제 28 항에 있어서, 상기 제1 복수의 아치형 오목 면들 각각은 기준면에 대하여 -11.5도 내지 +16도의 범위의 경사를 가지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  30. 제 28 항에 있어서, 상기 제2 복수의 오목 면들 각각은 기준면에 대하여 -10도 내지 +10도의 범위의 경사를 가지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  31. 제 28 항에 있어서, 상기 제1 반사성 플라이눈은, 최소한 3 ×10 의 거울 어레이를 포함하며, 상기 제2 반사성 플라이눈은, 최소한 6 ×6 의 거울 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  32. 제 28 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 반사성 플라이눈 내의 거울들은 상이한 광학 배율을 가지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  33. 제 28 항에 있어서, 상기 제2 반사성 플라이눈으로부터 반사된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된 릴레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템.
  34. 감광성 기판 상에 레티클의 이미지를 투영하기 위하여 사용되는 조사 시스템용 컨덴서에 있어서,
    소스로부터 전자기 방사선을 수용하도록 배치된, 상기 소스의 다중 이미지들을 형성하는 제1 반사성 플라이눈 수단; 및
    상기 제1 반사성 플라이눈 수단에 의하여 반사되고 이미지화된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된, 상기 제1 반사성 플라이눈 수단에 의하여 형성된 다중 이미지들을 중첩하고, 소정의 방사 강도 및 형상을 가진 조사 필드를 형성하는 제2 반사성 플라이눈 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  35. 제 34 항에 있어서, 상기 소스로부터 전자기 방사선을 수용하도록 배치된, 상기 소스로부터 전자기 방사선을 수집하고, 상기 제1 반사성 플라이눈 수단으로 전자기 방사선을 반사하는 반사기 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  36. 제 34 항에 있어서, 상기 제2 반사성 플라이눈 수단으로부터 반사된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된 릴레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  37. 제 34 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 반사성 플라이눈 수단 각각은, 거울 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  38. 제 37 항에 있어서, 상기 제1 반사성 플라이눈 수단의 거울 어레이 내의 각 거울은 소정의 범위 내에서 무작위로 경사지고; 그리고, 상기 제2 반사성 플라이눈 수단의 거울 어레이 내의 거울들의 경사는 조사 필드를 보상 및 형성하기 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  39. 제 37 항에 있어서, 상기 거울 어레이 내의 거울들은 상이한 광학 배율을 가지는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  40. 감광성 기판 상에 레티클의 이미지를 투영하기 위하여 사용되는 조사 시스템용 컨덴서에 있어서,
    어레이를 형성하는 제1 복수의 거울들을 포함하는 제1 반사성 플라이눈으로서, 상기 제1 복수의 거울들 각각이 소정의 변위 및 각 경사를 가지는 제1 반사성 플라이눈;
    어레이를 형성하는 제2 복수의 거울들을 포함하는 제2 반사성 플라이눈으로서, 상기 제2 복수의 거울들 각각이 소정의 변위 및 각 경사를 가지며, 이것에 의하여 상기 제1 복수의 거울들로부터 반사된 전자기 방사선이 상기 제2 복수의 거울들에 의하여 수용되는 제2 반사성 플라이눈;을 포함하며,
    이것에 의하여, 제1 및 제2 복수의 거울들의 소정의 변위 및 각 경사가, 소정의 방사 강도를 가진 소정의 형상의 조사 필드를 형성하게 되는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  41. 제 40 항에 있어서, 상기 제2 반사성 플라이눈으로부터 반사된 전자기 방사선을 수용하도록 배치된 릴레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  42. 제 40 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 복수의 거울들의 각 경사가 소정 범위 내에서 무작위한 것을 특징으로 하는 컨덴서.
  43. 감광성 기판 상에 레티클의 이미지를 투영하기 위하여 사용되는 조사 시스템용 컨덴서에 있어서,
    소스로부터 전자기 방사선을 수용하고, 상기 소스의 다중 이미지들을 형성하도록 배치된 제1 면형성된 거울; 및
    상기 제1 면형성된 거울에 의하여 형성된 상기 소스의 다중 이미지들을 수용하고, 상기 제1 면형성된 거울에 의하여 형성된 다중 이미지들을 중첩하도록 배치된 제2 면형성된 거울;을 포함하며,
    이것에 의하여, 소정의 방사 강도 및 형상을 가지는 조사 필드가 형성되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  44. 제 43 항에 있어서, 상기 제1 면형성된 거울이 아치형 면을 포함하는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  45. 제 43 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 면형성된 거울들 각각은 다수의 면들을 구비하며, 이것에 의하여, 상기 다수의 면들이 조사 필드에서 균일성을 조절하도록 변경되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  46. 제 43 항에 있어서, 상기 제1 면형성된 거울에 의하여 수용된 조사 영역은, 크기에 있어서 조절되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  47. 제 43 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 면형성된 거울들 각각은 다수의 면들을 구비하며, 이것에 의하여, 상기 다수의 면들이 조사 필드에서 방사 강도를 조절하도록 변경되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  48. 제 47 항에 있어서, 제1 및 제2 면형성된 거울들의 상기 다수의 면들 사이의 상관관계가 변화되고, 이것에 의하여 방사 강도가 변경되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  49. 제 47 항에 있어서, 상기 제2 면형성된 거울의 상기 다수의 면들의 크기, 형상, 및 위치가 변화되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  50. 제 47 항에 있어서, 상기 제2 면형성된 거울 상에 형성된 상기 소스의 다중 이미지들의 위치가, 상기 제1 면형성된 거울의 상기 다수의 면들 각각을 경사지게 함에 의하여 변경되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  51. 제 47 항에 있어서, 상기 제2 면형성된 거울에 의하여 수용된 다중 이미지들의 초점이, 상기 제1 면형성된 거울의 상기 다수의 면들의 축상 위치를 변경함에 의하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  52. 제 47 항에 있어서, 상기 제2 면형성된 거울에 의하여 수용된 다중 이미지들의 초점이, 상기 제1 면형성된 거울의 상기 다수의 면들의 광학 배율을 변경함에 의하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  53. 제 47 항에 있어서, 상기 제2 면형성된 거울에 의하여 수용된 다중 이미지들의 초점이, 상기 제1 면형성된 거울의 상기 다수의 면들의 축상 위치 및 광학 배율의 조합을 변경함에 의하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  54. 제 47 항에 있어서, 조사 필드에 형성된 다중 이미지들의 초점이, 상기 제2 면형성된 거울의 상기 다수의 면들의 축상 위치를 변경함에 의하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  55. 제 47 항에 있어서, 조사 필드에 형성된 다중 이미지들의 초점이, 상기 제2 면형성된 거울의 상기 다수의 면들의 광학 배율을 변경함에 의하여 얻어지는것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  56. 제 47 항에 있어서, 조사 필드에 형성된 다중 이미지들의 초점이, 상기 제2 면형성된 거울의 상기 다수의 면들의 축상 위치 및 광학 배율의 조합을 변경함에 의하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  57. 제 43 항에 있어서, 바람직하지 않은 흐려짐이, 소정의 에너지를 수용하는 제1 면형성된 거울의 다수의 면들을 상기 제2 면형성된 거울에 상관시킴에 의하여 제거되고, 이것에 의하여 바람직하지 않은 흐려짐 내의 중요하지 않은 에너지가 제거되는 것을 특징으로 하는 조사 시스템용 컨덴서.
  58. 소망의 방사 강도를 가진 소정의 형상을 가진 조사 필드를 형성하는 방법에 있어서,
    전자기 방사선의 소스를 제공하는 단계;
    상기 소스로부터 복수의 이미지들을 형성하는 단계; 및
    상기 조사 필드를 형성하는 복수의 이미지들을 재유도하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
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