KR20000025417A - 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치에 관한 것으로, 현상액 공급 장치의 끝단에 현상액의 흐름을 측정 및 공급량을 조절하는 현상액 공급 조절기가 장착됨으로써, 현상액의 공급량을 보다 정확히 조절할 수 있고, 현상액 공급량의 변화에 따른 현상 불량을 방지할 수 있다.
Description
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 현상액 공급 조절기(developer supply controller)를 갖는 현상액 공급 장치에 관한 것이다.
현상액 공급 장치는 포토(photo) 공정 중에서 현상(develop) 공정에 사용되는 장치로서, 노광(exposure) 후 웨이퍼(wafer) 상에 정확한 패턴(pattern)이 나타나도록 하는 장치이다.
현상액 공급 장치에서 가장 중요한 것은 선폭(critical dimension)의 균일도(uniformity)를 정확하게 나타나도록 하는 것으로, 따라서 현상액을 분사하는데 있어서 일정량이 분사되어야만 정확한 선폭이 나오게 된다.
즉, 현상액의 양이 정확히 조절되지 않는 경우, 현상 불량으로 인해 선폭의 균일도 불량이 발생되고, 결과적으로 이러한 현상 불량은 포토 공정을 다시 진행하는 웨이퍼 리웍(wafer rework) 공정을 유발하게 된다.
현재 현상액 공급 장치는 전부 소프트웨어(software)적인 시간(time) 조절로 현상액의 양을 조절하는 시스템으로 구성되어 있기 때문에, 만약의 경우 소프트웨어적으로 문제가 발생되었을 때 그 원인을 찾을 수 없고, 현상 불량이 발생된다.
본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 현상액의 양을 정확히 조절할 수 있고, 소프트웨어의 에러(error) 발생에 따른 현상 불량을 방지할 수 있는 현상액 공급 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 현상액 공급 조절기를 갖는 현상액 공급 장치의 구조를 보여주는 블록도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10, 100 : 현상액 공급 장치 102, 103 : 현상액 공급 탱크
106 : 필터 108 : 플로우 미터
110 : 에어 조절 밸브 111 : 현상액 중앙 공급 라인
112 : N2 공급 라인 113 : 현상액 공급 라인
200 : 현상액 공급 조절기
(구성)
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 케미컬(chemical) 공급 장치에 있어서, 상기 케미컬 공급 장치의 끝단에 장착되어 상기 케미컬 공급 장치로부터 유입되는 케미컬의 양의 흐름을 측정 및 케미컬의 공급량을 조절하는 케미컬 공급 조절기를 포함한다.
이 장치의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 케미컬 공급 조절기는, 유량 흐름 측정기(mass flow controller)이다.
(작용)
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 신규한 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치는, 현상액 공급 장치의 끝단에 현상액의 흐름을 측정 및 현상액의 공급량을 조절하는 현상액 공급 조절기를 장착함으로써, 현상액의 공급량을 보다 정확히 조절할 수 있고, 현상액 공급량의 변화에 따른 현상 불량을 방지할 수 있다.
(실시예)
이하, 도 1을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 현상액 공급 장치(10)의 구조를 보여주는 블록도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 현상 공급 조절기(200)를 갖는 현상액 공급 장치(10)는, 기존의 현상액 공급 장치(100)의 현상액 공급 라인(113)의 끝단에 장착된 현상액 공급 조절기(200)를 포함한다.
상기 기존의 현상액 공급 장치(100)는 현상액 중앙 공급라인(111)으로부터 현상액을 공급받는 현상액 공급 탱크(tank)(102, 103)와, 현상액 내의 이물질을 거르는 필터(filter)(106), 현상액의 흐름의 양을 보는 플로우 미터(flow meter)(108), 그리고 현상액을 공급 및 차단시키는 에어 조절 밸브(air operation valve)(110)를 포함한다.
상기 현상액 공급 탱크(102, 103)는 상기 현상액 중앙 공급라인(111) 외에 N2 가스 공급 라인(112)이 장착되어 있어, N2에 의해 현상액을 현상액 공급 탱크(102, 103)로부터 유출시키게 된다. 이와 같이, 유출된 현상액은 현상액 공급 라인(113)을 통해 상기 필터(106)에 유입되고, 이 필터(106)를 통해 현상액 내의 이물질이 제거된다. 상기 플로우 미터(108)에서 상기 필터(106)를 통과한 현상액의 흐름의 양을 보게 되며, 상기 에어 조절 밸브(110)에서 상기 플로우 미터(108)를 거친 현상액을 현상액 분사 노즐(nozzle)을 통해 웨이퍼에 공급 및 차단하게 된다.
상기 현상액 공급 조절기(200)는 예를 들어, 유량 흐름 측정기(mass flow controller)로서 상기 기존의 현상액 공급 장치(100)의 끝단에 장착되어 즉, 상기 에어 조절 밸브(110)의 끝단에 장착되어 현상액의 양을 시간 조절보다 더 정확히 조절하여 웨이퍼에 공급하게 된다.
상기 현상액 공급 조절기(200)는 현상액의 공급량의 측정을 통해 케미컬(chemical)의 양을 알 수 있도록 하며, 장치별로 현상액 공급량의 변화의 원인을 파악하는 기본 데이터(data)로도 사용될 수 있다.
본 발명은 현상액 공급 장치의 끝단에 현상액 공급 조절기를 추가함으로써, 현상액의 공급량을 보다 정확히 조절할 수 있고, 현상액 공급량의 변화에 따른 현상 불량을 방지할 수 있는 효과가 있다.
Claims (2)
- 케미컬(chemical) 공급 장치(supply apparatus)에 있어서,상기 케미컬 공급 장치(100)의 끝단에 장착되어 상기 케미컬 공급 장치(100)로부터 유입된 케미컬 양의 흐름을 측정 및 케미컬의 공급량을 조절하는 케미컬 공급 조절기(200)를 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 케미컬 공급 조절기(200)는, 유량 흐름 측정기(mass flow controller)인 것을 특징을 하는 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980042498A KR20000025417A (ko) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980042498A KR20000025417A (ko) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000025417A true KR20000025417A (ko) | 2000-05-06 |
Family
ID=19553666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019980042498A KR20000025417A (ko) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 케미컬 공급 조절기를 갖는 케미컬 공급 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20000025417A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030048698A (ko) * | 2001-12-12 | 2003-06-25 | 안경대 | 반도체소자제조를 위한 포토공정용 약액의 정량공급장치및 그 방법 |
-
1998
- 1998-10-12 KR KR1019980042498A patent/KR20000025417A/ko not_active Application Discontinuation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030048698A (ko) * | 2001-12-12 | 2003-06-25 | 안경대 | 반도체소자제조를 위한 포토공정용 약액의 정량공급장치및 그 방법 |
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