KR20000023352A - 광보호성 화장용 조성물 및 이의 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 국소적 용도, 특히 피부 및/또는 모발의 광보호용 화장용 조성물에 관한 것으로, 화장용으로 허용 가능한 부형제 내에 하기를 포함함을 특징으로 한다 :
(i) 벤조트리아졸 관능기를 갖는 하나 이상의 규소(silicon) 유도체로 이루어진 용해된 스크리닝 시스템 (dissolved screening system);
(ii) 하나 이상의 신남산 유도체 및/또는 하나 이상의 살리실산 유도체로 구성된 용해 스크리닝 시스템 (solubilizing screening system); 상기 용해 스크리닝 시스템은 그 자체로 상기 용해된 스크리닝 시스템의 전체를 용해시키기에 충분한 양으로 존재한다.
본 발명은 또한 자외선 복사 효과에 대한 피부 및 모발의 보호 용도에 관한 것이다.

Description

광보호성 화장용 조성물 및 이의 용도 {PHOTOPROTECTIVE COSMETIC COMPOSITIONS AND USES}
본 발명은 국소적 용도, 특히 자외선 복사에 대한 피부 및/또는 모발의 광보호용 신규의 화장용 조성물(하기로부터 단순하게 일광 차단 조성물로 공지된 조성물) 및 이들의 상기 화장 용도에의 사용에 관한 것이다. 더욱 구체적으로, 본 발명은 화장용으로 허용 가능한 부형제 내에, 차단제의 하나가 다른 차단제에 대해 용해 특성을 갖는, 두 개 이상의 특정 친유성 차단제의 조합을 함유하는 일광 차단 조성물에 관한 것이다. 또한 본 발명은, 하나 또는 두 가지 종류의 특정 액체 친유성 차단제로 하나 또는 두 개의 특정 고체 친유성 차단제를 용해시키는 방법에 관한 것이다.
280 내지 400 nm의 파장을 갖는 빛을 복사하면, 인간의 피부가 그을리고, UV-B 의 이름으로 공지된 280 내지 320 nm의 파장을 갖는 복사는 자연적인 변색(bronzing)의 발생을 저해할 수 있는 화상 및 홍반을 유발한다는 것이 공지되어 있다.
또한, 피부를 그을리게 하는 320 내지 400 nm의 UV-A 복사는, 피부에, 특히 민감성 피부, 또는 일광 복사에 계속해서 노출된 피부의 경우에 해로운 변화를 줄 수 있다는 것이 공지되어 있다. 특히, UV-A 복사는 피부의 탄성을 손상시키고, 주름의 발생을 유발하여 조로로 이어지게한다. UV-A 복사는 특정 대상에 있어서 홍반 작용을 촉발하거나 상기 반응을 두드러지게하며, 광독성 또는 광알레르기성 반응을 유발하기까지 한다. 따라서, UV-A 복사도 차단하는 것이 바람직하다.
현재까지, 피부의 광보호 (UV-A 및/또는 UV-B)를 위한 많은 화장용 조성물이 제공되었다.
특히, 사용시의 편안함 (부드러움, 피부 연화, 사용 용이성 및 기타)에 관련한 다양한 이유로, 현재의 일광 차단 조성물은 일반적으로 수중유 종류의 유제의 형태로 제공되며(즉, 연속 분산 수성상 및 비연속 분산된 유상으로 구성된 화장용 허용 가능 부형제), 희망하는 보호 지수에 따라 선택되는, 유해한 UV 복사선을 선택적으로 흡수할 수 있는 다양한 농도의 하나 이상의 종래의 유기 차단제를 함유한다(보호 지수 (PF) 는 수리적으로 UV 차단제 없이 홍반을 일으키는데 필요한 시간에 대한 UV 차단제를 사용한 경우의 홍반을 일으키는데 필요한 복사 시간의 비로 나타내어진다). 이들의 친유, 또는 반대로 친수 특성에 따라, 상기 차단제는 각각 최종 조성물의 수성상 또는 지방상에 분배될 수 있다.
일광 차단 화장품에 특히 유리하고, UV-A 및 UV-B에 매우 활성인 친유성 UV 유기 차단제가 특허 EP-A-0,392,883 호, EP-A-0,660,701 호, EP-A-0,708,108 호, EP-A-0,711,778 호 및 EP-A-711,779 호에 개시되어 있다. 이들은 벤조트리아졸 관능기를 갖는 폴리오르가노실록산 또는 실란이다. 이들은 특색있는 양태를 나타내지만, 실온에서 고체라는 단점을 갖는다. 이러한 이유로, 일광 차단 화장용 조성물에 있어서의 이들의 용도는, 이들의 제형 및 처리, 특히 이들을 바르게 용해시킬 수 있는 용매를 찾는 문제인 경우 특정한 제한이 있다. 이점에 있어서, 현재 일반적으로 에스테르와 같은 오일, 더욱 구체적으로는 C12-15알킬 벤조에이트 (Finetex 사의 "Finsolve TN"), 또는 트리글리세리드, 특히 C8-12지방산의 트리글리세리드 (Huls 사의 "Miglyol 812"), 또는 모노알콜 또는 폴리올, 예컨대 에탄올, 및 이들의 혼합물에 의존하고 있다. 이들 생성물은 상기 차단제에 대해 용해 특성을 갖지만, UV-A 및 UV-B 복사 모두의 UV 복사에 대한 차단의 분야에 있어서 특정 활성을 갖지 않는다는 단점이 있다.
실제로 본 출원인은 우연히, 그리고 놀랍게도 신남산 유도체 종류의 UV 차단제 및/또는 살리실산 유도체 종류의 UV 차단제가 상기 고체 차단제, 즉, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체를 위한 특히 주목할 만한 용매를 구성한다는 것을 발견하였다. 신남산 유도체 및 살리실산 유도체는 이미 이들의 UV-B에 대한 활성이 공지되어 있는 액체 친유성 차단제이지만, 상기 고체 차단제에 대한 이들의 용해 특성은 기술된 바 없다는 점에 주목해야한다. 따라서 본 발명의 이점은, 한편으로, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체 또는 이의 혼합물을 종래 공지된 용매가 아닌 그 자체로 항상 유리한 용매로 용해시킬 수 있을 뿐만 아니라, 다른 한편으로, 차단제의 양을 증가시켜 최종 일광 차단 조성물 내의 차단제의 보호의 수준을 상당히 증가시키는 것이 가능하다는 점에서 두 부분이다.
상기 조합된 발견은 본 발명의 기초이다.
따라서, 본 발명의 요지의 하나에 따라, 화장용으로 허용 가능한 부형제 내에 하기를 함유함을 특징으로 하는 신규의 화장용 조성물, 특히 일광 차단 조성물이 제공된다 :
(i) 벤조트리아졸 관능기를 갖는 하나 이상의 규소 유도체로 구성된 용해된 스크리닝 시스템; 및
(ii) 하나 이상의 신남산 유도체 및/또는 하나 이상의 살리실산 유도체로 구성된 용해 스크리닝 시스템 ; 상기 용해 스크리닝 시스템은 그 자체로서 상기 용해된 스크리닝 시스템의 전체를 용해시키는데 충분한 양으로 존재한다.
본 발명의 또 다른 요지는 자외선 복사, 특히 일광 복사에 대해 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 화장용 조성물의 제조에 있어서의 상기 조성물의 용도이다.
본 발명의 또 다른 요지는 자외선 복사, 특히 일광 복사에 대해 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 화장 처리 방법으로서, 본질적으로 피부 및/또는 모발에 본 발명에 따른 조성물의 유효량을 도포하는 것으로 이루어진다.
끝으로, 본 발명의 또 다른 요지는, UV 복사에 대해 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 화장용 조성물의 제조에 있어서, 상기 조성물에 존재하는 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체의 하나 이상의 고체 UV 차단제를 그 자체로서, 충분한 양으로, 용해시키는 것이 가능하도록 하는 용해 스크리닝 시스템으로서의 하나 이상의 신남산 및/또는 하나 이상의 살리실산 유도체의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 다른 특성, 양태 및 이점은 하기의 상세한 설명에 의해 명백해질 것이다.
본 발명에 사용된 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체는 바람직하게는 하기 화학식 1의 하나 이상의 단위체를 함유하는 벤조트리아졸 관능기를 갖는 실록산 또는 실란이다 :
O(3-a)/2Si(R7)a-G
[상기 식중,
- R7은 임의 할로겐화 C1-10알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼, 또는 트리메틸실릴옥시라디칼이고,
- a 는 0 내지 3의 정수이고,
- G 는 하기 화학식 2에 상응하는 규소 원자에 직접 결합된 1가 라디칼을 나타낸다 :
[상기 식중,
- Y 는 동일 또는 상이하며, C1-8알킬 라디칼, 할로겐 및 C1-4알콕시 라디칼로부터 선택되며, C1-4알콕시 라디칼의 경우에 있어서, 동일한 방향족 핵 상의 두 개의 인접한 Y 라디칼은 함께 알킬리덴기가 1 내지 2 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬리덴디옥시기를 형성할 수 있으며,
- X 는 O 또는 NH를 나타내고,
- Z 는 수소 또는 C1-4알킬 라디칼을 나타내며,
- n 은 0 내지 3 의 정수를 나타내고,
- m 은 0 또는 1 이고,
- p 는 1 내지 10 의 정수이다]].
이들 화합물은 특히, 특허 EP-A-0,392,883 호, EP-A-0,660,701 호, EP-A-0,708,108 호, EP-A-0,711,778 호 및 EP-A-711,779 호에 개시되어 있다.
본 발명에 사용된 규소 유도체는, 특히 EP-A-0,660,701 호에 개시된 벤조트리아졸 실리콘(silicone)의 일반군에 속하는 것들이 바람직하다.
본 발명의 수행에 특히 적합한 벤조트리아졸 실리콘의 군은, 하기 화학식 5 또는 화학식 6 에 상응하는 화합물을 함유하는 것이다 :
[상기 식중,
- R7은 동일 또는 상이하며, C1-10알킬, 페닐, 3,3,3-트리플루오로프로필 및 트리메틸실릴옥시 라디칼로부터 선택되며, R7라디칼 수의 80 % 이상이 메틸이고,
- D 는 동일 또는 상이하며 R7라디칼 및 G 라디칼로부터 선택되고,
- r 은 0 내지 50 의 정수이고, s 는 0 내지 20 의 정수이며, s 가 0 인 경우, 두 개의 D 가운데 하나 이상은 G를 나타내고,
- u 는 1 내지 6 의 정수이고, t 는 0 내지 10 의 정수이며, t + u 는 3 이상으로 이해되며,
- G 는 상기 화학식 2 에 상응한다].
상기 화학식 2에 나타나는 바와 같이, -(X)m-(CH2)p-CH(Z)-CH2- 링크의 벤조트리아졸 단위체로의 부착은, 상기 벤조트리아졸 단위체가 실리콘 사슬의 규소 원자로 연결되는 것을 보장하며, 본 발명에 따라, 벤조트리아졸의 두 개의 원자핵에 의해 제공된 가용한 모든 위치에서 발생할 수 있다 :
바람직하게는, 상기 부착은 3, 4 또는 5 위치 (히드록실 관능기를 지닌 방향족 핵), 또는 4' 위치 (트리아졸 고리에 인접한 벤젠 핵) 및 더욱 바람직하게는 3, 4 또는 5 위치에 일어날 수 있다. 본 발명의 바람직한 양태에 있어서, 3 위치에 부착이 일어난다.
마찬가지로, Y 치환체 단위체 또는 단위체들의 부착은 벤조트리아졸 내의 가용한 모든 다른 위치에서 일어날 수 있다. 하지만, 이러한 부착은 3, 4, 4', 5 및/또는 6 위치에 일어나는 것이 바람직하다. 본 발명의 바람직한 양태에 있어서, Y 단위체의 부착은 5 위치에서 일어난다.
상기 화학식 5 및 화학식 6에서, 알킬 라디칼은 직쇄 또는 분지쇄일 수 있으며, 특히 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-아밀, 이소아밀, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실 및 tert-옥틸 라디칼로부터 선택될 수 있다. 본 발명에 따른 바람직한 R7알킬 라디칼은 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, n-옥틸 및 2-에틸헥실 라디칼이다. 더욱 바람직하게는 R7라디칼은 모두 메틸 라디칼이다.
상기 화학식 5 및 화학식 6 의 화합물 가운데, 화학식 5 에 상응하는 것, 즉 짧은 직쇄를 갖는 디오르가노실록산을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 화학식 5 의 화합물 가운데, D 라디칼이 모두 R7라디칼인 것을 사용하는 것이 바람직하다.
특히, 본 발명의 범주 내의 직쇄 디오르가노실록산 가운데, 하기 특성의 하나 이상, 더욱 바람직하게는 모두를 나타내는 통계 유도체(statistical derivative) 또는 대안적으로 블록-정의된(block-defined) 유도체가 바람직하다 :
- D 가 R7라디칼이고,
- R7은 알킬, 더욱 바람직하게는 메틸이며,
- r 은 0 내지 15 ; s 는 1 내지 10 이고,
- n 은 0이 아니고, 바람직하게는 1 이며, Y 는 메틸, tert-부틸 또는 C1-4알콕시로부터 선택되며,
- Z 는 수소 또는 메틸이고,
- m = 0 또는 [m = 1 및 X = O] 이며,
- p 는 1이다.
본 발명에 특히 적합한 벤조트리아졸 실리콘의 군은 하기 화학식 7 로 나타내어지는 것들이다 :
[상기 식중,
0 ≤ r ≤10
1 ≤s ≤10 이고,
E 는 하기의 2가 라디칼을 나타낸다 :
].
본 발명의 특히 바람직한 구현예에서, 벤조트리아졸 실리콘은 하기 화학식에 상응하는 화합물이다(본 원에 있어서 화합물 (a) 로 공지됨) :
상기 화학식 1, 5, 6 및 7의 생성물의 제조에 적합한 방법은 미국 특허 US 3,220,972 호, US 3,697,473 호, US 4,340,709 호, US 4,316,033 호 및 US 4,328,346 호 및 유럽 특허 EP-A-0,392,883 호 및 EP-A-0,742,003 호에 개시되어 있다.
벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체는 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 20 중량 %, 바람직하게는 0.2 내지 15 중량 %의 함량으로 본 발명에 따른 조성물에 존재할 수 있다. 본 발명의 본질적인 특성에 따라, 단독 또는 혼합물로서 취한 상기 화합물은 최종 조성물에 완전히 또는 실질적으로 완전히 용해된 형태로 제공되어야 한다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 신남산 유도체 가운데 이소펜틸 4-메톡시신나메이트, 2-에틸헥실 4-메톡시신나메이트, 메틸 디이소프로필신나메이트, 이소아밀 4-메톡시신나메이트 또는 디에탄올아민 4-메톡시신나메이트를 언급할 수 있다.
상기 언급한 신남산 유도체 가운데, 본 발명에 따라 특히 Givaudan 사의 "Parsol MCX" 의 상표명으로 시판되는 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트를 사용하는 것이 매우 바람직하다; 따라서 상기 차단제는 하기 전개된 화학식에 상응한다 :
본 발명에 따라 사용할 수 있는 살리실산 유도체 가운데, 호모멘틸 살리실레이트, 2-에틸헥실 살리실레이트, 트리에탄올아민 살리실레이트 또는 4-이소프로필벤질 살리실레이트를 언급할 수 있다.
상기 살리실산 유도체 가운데, 본 발명에 따라 Witco 사의 "Kemester HMS" 의 상표명으로 시판되는 제품과 같은, 호모살레이트로도 공지된 호모멘틸 살리실레이트를 사용하는 것이 특히 바람직하며, 이는 하기 화학식에 상응한다 :
상기 살리실산 유도체 가운데, 본 발명에 따라, 특히 BASF 사의 "Uvinol O-18" 의 상표명으로 시판되는, 하기 화학식에 상응하는 옥틸 살리실레이트를 사용하는 것이 더욱 바람직하다 :
본 발명에 따라 사용될 수 있는 살리실산 유도체 가운데, 하기 화학식 8 에 상응하는 분지쇄 알킬 사슬을 갖는 살리실 화합물 또는 이의 혼합물을 언급할 수 있다 :
[상기 식중,
m 은 5, 7 또는 9 이고, n 은 4, 6 또는 8 이며, p 는 0 또는 1 이고, 단, p 가 0 인 경우, m 은 5 또는 7 이고, n 은 4 또는 6 이다].
상기 화합물들은 US 5,783,173 호에 개시, 제조되었다. 상기 화학식 8 의 화합물 가운데, 2-부틸옥틸 벤조에이트, 2-헥실데실 벤조에이트, 2-부틸옥틸 히드록시벤조에이트 또는 이들의 혼합물 및, 특히 2-부틸옥틸 벤조에이트/2-헥실데실 벤조에이트 혼합물, 예컨대 C.P. Hall 사의 "Allstar AB", 또는 2-부틸옥틸 히드록시벤조에이트, 예컨대 C.P. Hall 사의 "Hallbrite BHB"를 언급할 수 있다.
본 발명의 신남산 유도체 및/또는 살리실산 유도체는 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 20 중량 %, 바람직하게는 0.2 내지 15 중량 %의 함량으로 존재한다.
본 발명에 따른 조성물의 본질적인 특성에 따라, 상기 화합물은 단독으로, 또는 혼합물로서, 조성물 내의 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체의 모든, 또는 실질적으로 모든 차단제를 자체로서 용해시키기 위해 충분한 양으로 사용되어야 한다. 본 발명의 고체 차단제의 완전하고 안정한 용해를 보장하기 위한 상기 용매의 최소량은, 상기 용매 중 상기 차단제의 용해도 파라미터의 연구로부터 통상적으로 결정할 수 있다.
예를 들어, 실온하에 상기 화합물 (a) 에 상응하는 벤조트리아졸 실리콘은 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트(신나메이트 종류의 용매 차단제) 중 50 중량 %의 비율 및 옥틸 살리실레이트(살리실레이트 종류의 용매 차단제) 중 60 중량 % 의 비율로 가용성임이 알려졌다.
일반적으로, 벤조트리아졸 관능기 화합물을 갖는 규소 유도체 및 신나메이트 및/또는 살리실레이트 화합물의 농도는, 최종 조성물의 일광 차단 지수가 바람직하게는 2 이상이 되도록 선택된다는 것을 주목해야 한다.
본 발명에 따른 조성물의 특히 유리한 특성에 따라, 본 발명의 조성물은 바람직하게는 상기 신남산 유도체 또는 살리실산 유도체가 아닌, 벤조트리아졸 관능기 화합물을 갖는 실리콘 유도체용 가용화제를 함유하지 않거나, 실질적으로 함유하지 않는다. 본 발명에 따라, 어떤 화합물이 다른 화합물 내에 약 1 중량 % 미만의 용해도를 나타내는 경우, 그 화합물은 다른 화합물에 대해 용해성이 없는 것으로 간주한다.
또한, 본 발명의 바람직한 양태에 따르면, 다양한 스크리닝 시스템이 존재하는 화장용으로 허용 가능한 부형제는 수중유 종류의 유제이다.
본 발명에 따른 일광 차단 화장용 조성물은, 물론 상기의 모든 친유성 차단제가 아닌, UVA 및/또는 UVB에 활성인 하나 이상의 부가의 친수성 또는 친유성 일광 차단제(흡수제)를 함유할 수 있다. 이러한 부가의 차단제는 특히 캠퍼 유도체, 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, 디벤조일메탄 유도체, β,β-디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체 또는 특허 WO-93/04665 호에 개시된 실리콘 차단제 및 중합체 차단제로부터 선택될 수 있다. 유기 차단제의 다른 예가 특허 EP-A-0,487,404 호에 주어져있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 피부의 인공적인 변색 및/또는 탠닝용 시약(자가-탠닝제), 예컨대 디히드록시아세톤 (DHA) 과 같은 시약을 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 화장용 조성물은 또한, 피복된, 또는 피복되지 않은 산화 금속 안료 또는 대안적으로는 나노-안료(1차 입자의 평균 크기 : 일반적으로 5 내지 100 nm, 바람직하게는 10 내지 50 nm), 예컨대 산화 티타늄(금홍석 및/또는 예추석 형태의 무정형 또는 결정화), 산화 철, 산화 아연, 산화 지르코늄 또는 산화 세륨 나노-안료를 함유할 수 있으며, 이들은 모두 자체로서 공지된 UV 광보호제이다. 또한 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트는 통상적인 피복제이다. 이러한 피복된 또는 피복되지 않은 산화금속 나노-안료는 특히, 특허 EP-A-0,518,772 호 및 EP-A-0,518,773 호에 개시되어 있다.
본 발명의 조성물은, 특히 지방 물질, 유기 용매, 증점제, 연화제, 항산화제, 불투명화제, 안정화제, 에몰리언트, 히드록시산, 발포 억제제, 습윤제, 비타민, 향료, 방부제, 계면활성제, 충전제, 격리제, 추진제, 염기성화제 또는 산성화제, 염료 또는 화장품에 통상적으로 사용되는, 특히 유제 형태의 일광 차단 조성물의 제조를 위한 다른 임의의 성분으로부터 선택된 종래의 화장 보조제를 추가로 함유할 수 있다.
지방 물질은 오일 또는 왁스 또는 이들의 혼합물로 이루어질 수 있고, 이들은 지방산, 지방알콜 및 지방산 에스테르를 함유할 수 있다. 오일은 동물성, 식물성, 광물성 또는 합성 오일, 및 특히 액체 바셀린, 액체 파라핀, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 오일, 이소파라핀, 폴리-α-올레핀 또는 플루오르화 및 퍼플루오르화 오일로부터 선택될 수 있다. 마찬가지로 왁스는 자체로 공지된 동물, 화석, 식물, 광물 또는 합성 왁스로부터 선택될 수 있다.
유기 용매 가운데 저급 알콜 및 폴리올을 언급할 수 있다.
증점제는 특히, 변성 또는 비변성일 수 있는 가교화 아크릴산 동종 중합체, 구아검 및 셀룰로스, 예컨대 히드록시프로필화 구아검, 메틸히드록시에틸 셀룰로스, 히드록시프로필메틸 셀룰로스 또는 히드록시에틸 셀룰로스로부터 선택될 수 있다.
물론, 당업자는 고려하는 첨가에 의해, 본 발명에 따른 차단제의 조합에 본질적으로 관련된 유리한 특성, 특히, 수득되는 일광 차단 지수에 악영향을 끼치지 않도록, 상기 임의의 부가적인 화합물 및/또는 이들의 양을 선택하는데 주의할 것이다.
본 발명의 조성물은 당업자에게 공지된 기술, 특히 수중유 또는 유중수 종류의 유제의 제조를 의도한 기술에 따라 제조될 수 있다.
상기 조성물은 특히, 예컨대 크림, 유액, 겔 또는 크림 겔과 같은 단순 또는 복합 유제 (O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W)의 형태, 분말 또는 고형 스틱의 형태로 제공될 수 있으며, 임의로는 에어로졸로서 포장될 수 있고, 폼 또는 스프레이의 형태로 제공될 수 있다.
유제를 고려하는 경우에, 유제의 수성상은, 공지된 방법(Bangham, Standish and Watkins, J. Mol. Biol., 13, 238 (1965), FR 2,315,991 호 및 FR 2,416,008 호)에 따라 제조한 비이온성 소포성 분산액을 함유할 수 있다.
본 발명의 화장용 조성물은 일광 차단 조성물 또는 화장품으로서, 자외선 복사에 대한 인간의 피부 또는 모발의 보호를 위한 보호용 조성물로서 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 화장용 조성물이 UV 복사에 대한 인간의 피부의 보호를 위해, 또는 일광 차단 조성물로서 사용되는 경우, 본 발명의 조성물은 용매 또는 지방 물질 중 분산액 또는 현탁액, 비이온성 소포성 분산액 또는 대안적으로는 유제, 바람직하게는 수중유 종류의 유제의 형태, 예컨대 크림 또는 유액, 연고, 겔, 크림겔, 고형 스틱, 스틱, 에어로졸 폼 또는 스프레이의 형태로 제공될 수 있다.
본 발명에 따른 화장용 조성물이 모발의 보호를 위해 사용되는 경우, 본 발명의 조성물은 샴푸, 로션, 겔, 유제 또는 비이온성 소포성 분산액의 형태로 제공될 수 있으며, 예를 들어 샴푸 이전 또는 이후, 염색 또는 탈색 이전 또는 이후, 퍼머 또는 스트레이트 퍼머 작업 중 또는 이후에 사용될 린스 조성물, 스타일링 또는 트리팅 로션 또는 겔, 블로우 건조 또는 세팅용 로션 또는 겔, 또는 모발의 퍼머 또는 스트레이트 퍼머, 염색 또는 탈색용 조성물의 형태로 제공될 수 있다.
조성물이 눈썹, 속눈썹 또는 피부용 화장품, 예컨대 피부 트리트먼트 크림, 파운데이션, 립스틱, 아이섀도우, 페이스파우더, 마스카라 또는 아이라이너로 사용되는 경우, 본 발명의 조성물은 무수 또는 수성, 고형 또는 반죽 형태, 예컨대 수중유 또는 유중수 유제, 비이온성 소포성 분산액 또는 대안적으로는 현탁액의 형태로 제공될 수 있다.
지시로서, 수중유 유제 종류의 부형제를 갖는 본 발명에 따른 일광 차단 제형을 위해, 수성상(특히 친수성 차단제를 함유한다)은 전체 제형에 대해 일반적으로 50 내지 95 중량 %, 바람직하게는 70 내지 90 중량 %를 나타내고, 오일상(특히 친유성 차단제를 함유한다)은 전체 제형에 대해 5 내지 50 중량 %, 바람직하게는 10 내지 30 중량 %를 나타내며, (공)유화제는 전체 제형에 대해 0.5 내지 20 중량 %, 바람직하게는 2 내지 10 중량 %를 나타낸다.
본 원의 서두에 지적한 바와 같이, 본 발명의 또 다른 요지는, 피부 또는 모발에 상기 화장용 조성물의 유효량을 도포하는 것으로 구성되는, UV 복사 효과에 대해 피부 및 모발을 보호하기 위한 피부 및 모발의 화장 처리 방법이다.
본 발명의 구체적이고 비제한적인 실시예를 제공한다.
실시예 1 : 일광 차단 크림(수중유 유제)
- 조성물 (a) 에 상응하는 벤조트리아졸 실리콘 5 g
- 2-에틸헥실 신나메이트 (Parsol MCX) 10 g
- 유화제 (Arlacel 165) 2 g
- 스테아르산 2.5 g
- 방부제 q.s
- 스테아릴 알콜 0.5 g
- 트리에탄올아민 0.5 g
- 습윤제 8 g
- 방부제 q.s.
- 격리제 0.1 g
- 아크릴 증점 중합체 (Pemulen TR1) 0.22 g
- 폴리디메틸실록산 (DC245 Fluid) 2 g
- 트리에탄올아민 0.22 g
- 정제수 q.s. 100 g
지방상에 차단제를 용해시키고, 이어서 상기 지방상에 유화제를 첨가하고, 약 80 ℃로 가열한 후, 끝으로 빠르게 교반하면서 동일 온도로 미리 가열한 물을 첨가하여 상기 유제를 제조한다.
실시예 2
- 조성물 (a)에 상응하는 벤조트리아졸 실리콘 6 g
- 옥틸 살리실레이트 10 g
- 유화제 (Arlacel 165) 2 g
- 스테아르산 2.5 g
- 방부제 q.s.
- 스테아릴 알콜 0.5 g
- 트리에탄올아민 0.5 g
- 습윤제 8 g
- 방부제 q.s.
- 격리제 0.1 g
- 아크릴 증점 중합체 (Pemulen TR1) 0.22 g
- 폴리디메틸실록산 (DC245 Fluid) 2 g
- 트리에탄올아민 0.22 g
- 정제수 q.s. 100 g
지방상에 차단제를 용해시키고, 이어서 상기 지방상에 유화제를 첨가하고, 약 80 ℃로 가열한 후, 끝으로 빠르게 교반하면서 동일 온도로 미리 가열한 물을 첨가하여 상기 유제를 제조한다.
본 발명은 국소적 용도, 특히 피부 및/또는 모발의 광보호용 화장용 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체 또는 이의 혼합물을 종래 공지된 용매가 아닌 그 자체로 항상 유리한 용매로 용해시킬 수 있을 뿐만 아니라, 다른 한편으로, 차단제의 양을 증가시켜 최종 일광 차단 조성물 내의 차단제의 보호의 수준을 상당히 증가시키는 것이 가능하다.

Claims (33)

  1. 화장용으로 허용 가능한 부형제 내에 하기를 포함함을 특징으로 하는 국소적인 용도의 광보호용 화장용 조성물 :
    (i) 벤조트리아졸 관능기를 갖는 하나 이상의 규소 유도체로 구성된 용해된 스크리닝 시스템 (dissolved screening system);
    (ii) 하나 이상의 신남산 유도체 및/또는 하나 이상의 살리실산 유도체로 구성된 용해 스크리닝 시스템(solubilizing screening system; 상기 용해 스크리닝 시스템은 그 자체로 상기 용해된 스크리닝 시스템의 전체를 용해시키기에 충분한 양으로 존재한다).
  2. 제 1 항에 있어서, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체가 하기 화학식 1의 하나 이상의 단위체를 함유하는 벤조트리아졸 관능기를 갖는 폴리오르가노실록산 및/또는 실란으로부터 선택되는 조성물 :
    [화학식 1]
    O(3-a)/2Si(R7)a-G
    [상기 식중,
    - R7은 임의 할로겐화 C1-10알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼, 또는 트리메틸실릴옥시라디칼을 나타내고,
    - a 는 0 내지 3의 정수이고,
    - G 는 하기 화학식 2에 상응하는 규소 원자에 직접 결합된 1가 라디칼을 나타낸다 :
    [화학식 2]
    [상기 식중,
    - Y 는 동일 또는 상이하며, C1-8알킬 라디칼, 할로겐 및 C1-4알콕시 라디칼로부터 선택되며, C1-4알콕시 라디칼의 경우에 있어서, 동일한 방향족 핵 상의 두 개의 인접한 Y 라디칼은 함께 알킬리덴기가 1 내지 2 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬리덴디옥시기를 형성할 수 있는 것으로 이해되며,
    - X 는 O 또는 NH를 나타내고,
    - Z 는 수소 또는 C1-4알킬 라디칼을 나타내며,
    - n 은 0 내지 3 의 정수를 나타내고,
    - m 은 0 또는 1 이고,
    - p 는 1 내지 10 의 정수이다]].
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체가 하기 화학식 5 또는 화학식 6 의 어느 하나에 상응하는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [화학식 5]
    [화학식 6]
    [상기 식중,
    - R7은 동일 또는 상이하며, C1-10알킬, 페닐, 3,3,3-트리플루오로프로필 및 트리메틸실릴옥시 라디칼로부터 선택되며, R7라디칼 수의 80 % 이상이 메틸이고,
    - D 는 동일 또는 상이하며, R7라디칼 및 G 라디칼로부터 선택되고,
    - r 은 0 내지 50 의 정수이고, s 는 0 내지 20 의 정수이며, s 가 0 인 경우, 두 개의 D 가운데 하나 이상은 G를 나타내고,
    - u 는 1 내지 6 의 정수이고, t 는 0 내지 10 의 정수이며, t + u 는 3 이상으로 이해되며,
    - G 는 제 2 항에 정의된 화학식 2 에 상응한다].
  4. 제 3 항에 있어서, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체가 하기 화학식 7에 상응하는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [화학식 7]
    [상기 식중,
    0 ≤ r ≤10
    1 ≤s ≤10 이고,
    E 는 하기의 2가 라디칼을 나타낸다 :
    ].
  5. 제 4 항에 있어서, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체가 하기의 화학식에 상응하는 것을 특징으로 하는 조성물 :
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체가 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 20 중량 % 의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 신남산 유도체가 이소펜틸 4-메톡시신나메이트, 2-에틸헥실 4-메톡시신나메이트, 메틸 디이소프로필신나메이트, 이소아밀 4-메톡시신나메이트 또는 디에탄올아민 4-메톡시신나메이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 7 항에 있어서, 신남산 유도체가 하기 전개된 화학식에 상응하는 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트인 것을 특징으로 하는 조성물 :
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 살리실산 유도체가 호모멘틸 살리실레이트, 2-에틸헥실 살리실레이트, 트리에탄올아민 살리실레이트 또는 4-이소프로필벤질 살리실레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서, 살리실산 유도체가 하기 화학식의 호모멘틸 살리실레이트인 것을 특징으로 하는 조성물 :
  11. 제 9 항에 있어서, 살리실산 유도체가 하기 화학식에 상응하는 옥틸 살리실레이트인 것을 특징으로 하는 조성물 :
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 살리실산 유도체가 하기 화학식 8에 상응하는 분지쇄 알킬 사슬을 갖는 살리실 화합물 또는 이의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 :
    [화학식 8]
    [상기 식중,
    m 은 5, 7 또는 9 이고, n 은 4, 6 또는 8 이며, p 는 0 또는 1 이고, 단, p 가 0 인 경우, m 은 5 또는 7 이고, n 은 4 또는 6 이다].
  13. 제 12 항에 있어서, 화학식 8의 살리실산 유도체가 2-부틸옥틸벤조에이트, 2-헥실데실벤조에이트, 2-부틸옥틸 히드록시벤조에이트 또는 이들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 신남산 유도체 및/또는 살리실산 유도체가 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 20 중량 % 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체 및 신나메이트 및/또는 살리실레이트 화합물의 농도가, 상기 조성물의 일광 차단 지수가 2 이상이 되도록 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기술된 용해 스크리닝 시스템이 아닌 다른 용해된 스크리닝 시스템을 용해하는 시스템을 함유하지 않거나 실질적으로 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화장용으로 허용 가능한 부형제가 수중유 종류의 유제의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, UV-A 및/또는 UV-B에 활성인 부가의 친수성 또는 친유성 유기 차단제의 하나 이상을 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 부가의 유기 차단제가 캠퍼 유도체, 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, 디벤조일메탄 유도체, β,β-디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체 또는 중합체 차단제, 및 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체가 아닌 실리콘 차단제로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 부가의 광보호제로서, 산란 및/또는 반사에 의해 UV 복사를 물리적으로 차단할 수 있는 피복된, 또는 피복되지 않은 산화 금속 안료 또는 나노-안료를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 안료 또는 나노-안료가, 피복된 또는 피복되지 않은 산화 티타늄, 산화 아연, 산화 철, 산화 지르코늄, 산화 세륨 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피부의 인공적인 변색(bronzing) 및/또는 탠닝(tanning)을 위한 하나 이상의 시약을 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 지방 물질, 유기 용매, 증점제, 연화제, 항산화제, 불투명화제, 안정화제, 에몰리언트, 히드록시산, 발포 억제제, 습윤제, 비타민, 향료, 방부제, 계면활성제, 충전제, 격리제, 중합체, 추진제, 염기성화제 또는 산성화제, 또는 염료로부터 선택된 하나 이상의 보조제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 비이온성 소포성 분산액, 유제, 크림, 유액, 겔, 크림겔, 현탁액, 분산액, 분말, 고형 스틱, 폼 또는 스프레이의 형태로 제공되는, 인간의 피부 보호용 조성물 또는 일광 차단용 조성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 무수 또는 수성, 고형 또는 반죽성의 유제, 현탁액 또는 분산액의 형태로 제공되는, 속눈썹, 눈썹, 또는 피부의 화장용 조성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 샴푸, 로션, 겔, 유제 또는 비이온성 소포성 분산액의 형태로 제공되는, UV 복사에 대한 모발 보호용 조성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
  27. 제 1 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 기술된 조성물을, UV 복사에 대한 피부 및/또는 모발의 보호를 위한 화장용 조성물의 제조에 사용하는 방법.
  28. 제 7 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기술된 살리실산 유도체의 하나 이상 및/또는 신남산 유도체의 하나 이상을, 조성물에 존재하는 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기술된 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체의 하나 이상의 고체 UV 차단제를 그 자체로서, 충분한 양으로, 용해시키는 것이 가능하도록 하는 용해 스크리닝 시스템으로서, UV 복사에 대한 피부 및/또는 모발의 보호를 위한 화장용 조성물의 제조에 사용하는 방법.
  29. 제 1 항에 있어서, 피부 및/또는 모발의 광보호용 조성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
  30. 제 6 항에 있어서, 벤조트리아졸 관능기를 갖는 규소 유도체가 조성물의 총 중량에 대해 0.2 내지 15 중량 % 의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  31. 제 14 항에 있어서, 신남산 유도체 및/또는 살리실산 유도체가 조성물의 총 중량에 대해 0.2 내지 15 중량 % 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  32. 제 24 항에 있어서, 유제가 수중유 종류의 유제인 것을 특징으로 하는 조성물.
  33. 제 27 항에 있어서, UV 복사가 일광 복사인 것을 특징으로 하는 방법.
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