KR20000000953A - 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체소자 제조장치로 공급이 이루어지는 케미컬을 유량을 확인할 수 있는 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼 상에 케미컬을 분사시키는 노즐로 상기 케미컬을 공급할 수 있는 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치에 있어서, 상기 케미컬의 유량을 확인할 수 있는 확인수단을 상기 노즐의 전단(前端)에 더 구비시켜 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 케미컬의 유량을 정확하게 확인함으로써 이로 인한 불량의 발생을 최소화시켜 반도체소자의 제조에 따른 생산성이 향상되는 효과가 있다.
Description
본 발명은 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체소자 제조장치로 공급이 이루어지는 케미컬(Chemical)을 유량을 확인할 수 있는 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자는 다양한 단위공정을 수행함으로써 제조되고, 상기와 같은 단위공정의 수행에서는 주로 케미컬을 이용한다.
이러한 케미컬을 이용한 단위공정 중에서 반도체소자로 제조할 수 있는 웨이퍼(Wafer) 상에 케미컬을 분사시키는 노즐(Nozzle)이 구비되는 제조장치로 상기 케미컬을 공급하는 공급장치를 살펴보면, 주로 도1에 도시된 바와 같이 제조장치로 공급하기 위한 케미컬을 저장하는 저장부(10)와 상기 케미컬의 공급을 수행하기 위하여 상기 저장부(10)에 가스를 공급하는 가스공급부(12) 및 상기 케미컬의 공급시 개폐동작을 수행하는 밸브(Vavle)(14)들이 구비되어 있다.
그리고 상기 케미컬의 원할한 공급을 위하여 상기 케미컬을 최종적으로 가압시키는 가압부(16)가 구비되어 있다.
이에 따라 상기와 같은 구성으로 이루어지는 케미컬 공급장치는 상기 케미컬을 노즐(18)로 공급함으로써 스핀척(Spin Chuck)(20) 상에 안착된 웨이퍼(W)에 분사시킬 수 있다.
그러나 종래의 케미컬 공급장치는 단순히 상기 노즐(18)로 케미컬을 공급할 뿐 상기 제조장치로 공급되는 케미컬의 유량 등을 확인할 수 있는 별도의 수단이 구비되어 있지 않았다.
이에 따라 상기와 같은 케미컬 공급장치를 이용한 케미컬의 공급에서는 상기 케미컬이 공급되는 유량의 미확인으로 인하여 불량이 빈번하게 발생하였다.
따라서 종래의 케미컬 공급장치를 이용한 공정의 수행에서는 빈번한 불량의 발생으로 인하여 반도체소자의 제조에 따른 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 케미컬의 유량을 정확하게 확인함으로써 이로 인한 불량의 발생을 최소화시켜 반도체소자의 제조에 따른 생산성을 향상시키기 위한 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치를 제공하는 데 있다.
도1은 종래의 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치를 나타내는 구성도이다.
도2는 본 발명에 따른 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
W : 웨이퍼 10, 40 : 저장부
12, 42 : 가스공급부 14, 44 : 밸브
16, 46 : 가압부 18, 48 : 노즐
20, 50 : 스핀척 52 : 확인수단
54 : 경보수단
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치는, 웨이퍼 상에 케미컬을 분사시키는 노즐로 상기 케미컬을 공급할 수 있는 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치에 있어서, 상기 케미컬의 유량을 확인할 수 있는 확인수단을 상기 노즐의 전단(前端)에 더 구비시켜 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 확인수단에는 작업자가 신속하게 대처할 수 있도록 상기 케미컬의 유량의 이상에 따른 경보를 제공하는 경보수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도2는 본 발명에 따른 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이다.
먼저, 제조장치로 공급하기 위한 케미컬을 저장하는 저장부(40) 및 가스의 가압으로써 상기 케미컬의 공급을 수행할 수 있는 가스공급부(42)가 구비되어 있다.
그리고 상기 케미컬의 공급시 개폐동작을 수행하는 밸브(44)들이 구비되어 있다.
여기서 상기 밸브(44)는 주로 공기의 공급으로 개폐동작을 수행할 수 있는 에어밸브(Air Vavle) 및 전압의 차이로써 개폐동작을 수행할 수 있는 솔레노이드밸브(Solenoid Vavle) 등이 구비될 수 있다.
또한 상기 케미컬의 원활한 공급을 위하여 상기 케미컬을 공급되는 노즐(48)의 전단에서 최종적으로 가압시키는 가압부(46)가 구비되어 있다.
이에 따라 상기와 같은 구성으로 이루어지는 케미컬 공급장치는 상기 케미컬을 반도체소자 제조장치에 구비되는 노즐(48)로 공급함으로써 스핀척(50) 상에 안착된 웨이퍼(W)에 분사시킬 수 있다.
여기서 본 발명은 상기 노즐(48)의 전단(前端)에 상기 케미컬의 공급시 그 유량을 확인할 수 있는 확인수단(52)이 구비되고, 또한 상기 케미컬의 유량의 이상에 따른 경보를 제공할 수 있는 경보수단(54)을 상기 확인수단(52)에 더 구비시킬 수 있다.
그리고 상기 확인수단(52)은 센서(Sencer) 또는 엠에프씨(Mass Flow Controller : MFC) 등을 구비시킬 수 있고, 상기 경보수단(54)은 부저 등을 구비시킬 수 있다.
이에 따라 본 발명은 상기 케미컬 공급장치를 이용한 케미컬의 공급시 상기 확인수단(52)을 이용함으로써 그 유량을 확인하면서 공급할 수 있다.
즉, 상기 케미컬이 균일하게 공급이 이루어지고 있는 등의 확인을 하면서 상기 반도체소자의 제조에 따른 공정을 수행할 수 있는 것이다.
따라서 상기 케미컬의 유량을 정확하게 확인하면서 상기 케미컬을 공급할 수 있기 때문에 이에 따른 불량을 최소화시킬 수 있다.
또한 상기 확인수단(52)에 경보수단(54)을 더 구비시킴으로써 상기 케미컬의 공급시 이상을 발생하였을 때 경보를 제공하고, 이에 따라 작업자가 신속하게 대처할 수 있다.
특히, 포토레지스트(Photoresist) 또는 현상액 등과 같은 케미컬을 이용하는 반도체소자 제조장치에 본 발명의 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치를 적극적으로 응용할 수 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 케미컬의 유량을 정확하게 확인함으로써 이로 인한 불량의 발생을 최소화시켜 반도체소자의 제조에 따른 생산성이 향상되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (2)
- 웨이퍼 상에 케미컬을 분사시키는 노즐로 상기 케미컬을 공급할 수 있는 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치에 있어서,상기 케미컬의 유량을 확인할 수 있는 확인수단을 상기 노즐의 전단(前端)에 더 구비시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 확인수단에는 상기 케미컬의 유량의 이상에 따른 경보를 제공하는 경보수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980020909A KR20000000953A (ko) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980020909A KR20000000953A (ko) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000000953A true KR20000000953A (ko) | 2000-01-15 |
Family
ID=19538494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019980020909A KR20000000953A (ko) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 반도체소자 제조용 케미컬 공급장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20000000953A (ko) |
-
1998
- 1998-06-05 KR KR1019980020909A patent/KR20000000953A/ko not_active Application Discontinuation
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