KR0135454Y1 - 반도체 제조 장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체소자 제조공정에서 사용되는 약액을 저장하는 약액용기의 오염을 방지할 수 있는 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 약액용기와, 캐리어개스의 유량을 조절하는 유량조절계와, 상기 유량조절계로부터 제공된 캐리어개스를 상기 약액용기에 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브와 니들밸브를 갖는 캐리어개스 공급라인, 그리고 상기 약액용기로부터 제공된 약액을 공정챔버와 연결된 유량계로 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브와 니들밸브를 갖는 약액공급라인을 구비한 반도체 제조 장치에 있어서, 상기 캐리어개스 공급라인의 공압밸브와니들밸브 사이에 설치된 제1개폐수단과; 상기 약액공급라인의 공압밸브와 니들밸브 사이에 설치된 제2개폐수단을 포함하고 있다. 이와같은 장치에 의해서, 상기 제1 및 제2공압밸브의 불량이 발생하여도 상기 니들밸브의 파손을 방지할 수 있고, 그리고 매뉴어밸브 및 니들밸브로 오염원을 차단하기 때문에 상기 약액용기가 쉽게 오염되는 문제점을 해결할 수 있다.
Description
제1도는 종래 반도체 제조 장치의 구성을 개략적으로 보여주고 있는 도면.
제2도는 본 고안의 실시예에 따른 반도체 장치의 구성을 개략적으로 보여주고 있는 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호 설명
10 : 제1공압밸브 11 : 제1메뉴얼밸브
12 : 제1니들밸브 14 : 캐리어개스
16 : 유량조절계 18 : 캐리어개스공급라인
20 : 약액용기 22 : 제2니들밸브
23 : 제2매뉴얼밸브 24 : 제2공압밸브
28 : 약액공급라인 30 : 유량계
32 : 제3공압밸브 36 : 공정챔버
[산업상의 이용분야]
본 고안은 반도체소자를 제조하는 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 반도체소자 제조공정에서 사용되는 약액을 저장하는 약액용기의 오염을 방지할 수 있는 반도체 제조 장치에 관한 것이다.
[종래 기술 및 그의 문제점]
제1도는 종래 반도체 제조 장치의 구성을 개략적으로 보여주고 있다.
제1도를 참조하면, 종래 반도체 제조 장치는 외부로부터 공급되는 캐리어개스(14)의 유량을 조절하는 유량조절계(16)와, 상기 유량조절계(16)와 약액용기(20)를 연결하는 캐리어개스공급라인(18)상에 직렬로 설치되어 상기 캐리어개스(14)의 공급을 제어하는 제1공압밸브(10) 및 제1니들밸브(12)와, 상기 약액용기(20)와 유량계(30)를 연결하는 약액공급라인(28)상에 직렬로 설치되어서 상기 약액용기(20)내의 캐리어개스공급라인(18)을 통해 공급된 캐리어개스(14)에 의해 버블링(bubbling) 된 TEOS(tetra - ethyl - ortho - silicate)약액의 공급을 제어하는 제2니들밸브(22)·미스트세퍼레이터(mist separator;26)·제2공압밸브(24)와, 상기 유량계(30)와 연결되어 약액이 공급되는 공정챔버(36)로 구성된다.
그러나, 이와같은 구성을 갖는 종래 반도체 제조 장치에 의하면, 장시간 공정을 진행하거나, 또는 상기 약액용기(20)내의 미세한 오염원에 의해 상기 미스트세퍼레이터(26)가 오염되어 공정이 마무리된 웨이퍼의 불량을 유발한다.
그리고, 상기 제1 및 제2공압밸브(10,24)의 불량이 발생하여서 상기 니들밸브(12,22)가 파손되면, 상기 약액용기(20)로 오염원이 인입되기 때문에 결국, 상기 약액용기(20)를 교체해야하는 문제점이 발생한다.
[고안의 목적]
따라서, 상술한 문제점을 해결하기 위해 제안된 본 고안은, 반도체소자 제조공정에서 사용되는 약액을 저장하는 약액용기의 오염을 방지할 수 있는 반도체 제조 장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
[고안의 구성]
상술한 목적을 달성하기 위한 본 고안의 특징에 의하면, 반도체 제조장치는, 약액용기와, 캐리어개스의 유량을 조절하는 유량조절계와, 상기 유량조절계로부터 제공된 캐리어개스를 상기 약액용기에 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브와 니들밸브를 갖는 캐리어개스 공급라인, 그리고 상기 약액용기로부터 제공된 약액을 공정챔버와 연결된 유량계로 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브와 니들밸브를 갖는 약액공급라인을 구비한 반도체 제조장치에 있어서, 상기 캐리어개스 공급라인의 공압밸브와 니들밸브 사이에 설치된 제1개폐수단과; 상기 약액공급라인의 공압밸브와 니들밸브 사이에 설치된 제2개폐수단을 포함한다.
이 특징의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 제1개폐수단은 적어도 하나 이상의 매뉴얼밸브를 포함한다.
이 특징의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2개폐수단은 적어도 하나 이상의 매뉴얼밸브를 포함한다.
[작용]
이와같은 장치에 의해서, 상기 제1 및 제2공압밸브의 불량에 의한 상기 니들밸브의 파손을 방지할 수 있고, 그리고 매뉴얼밸브 및 니들밸브로 이중차단하기 때문에 외부로부터의 오염원에 의해 상기 약액용기가 쉽게 오염되는 문제점을 해결할 수 있다.
[실시예]
이하, 본 고안의 실시예를 첨부도면 제2도에 의거해서 상세히 설명한다.
제2도를 참고하면, 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 반도체 제조 장치는, 약액용기와, 캐리어개스의 유량을 조절하는 유량조절계와, 상기 유량 조절계로부터 제공된 캐리어개스를 상기 약액용기에 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브와 니들밸브를 갖는 캐리어개스 공급라인, 그리고 사익 약액용기로부터 제공된 약액을 공정챔버와 연결된 유량계로 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브와 니들밸브를 갖는 약액공급라인을 구비한 반도체 제조 장치에 있어서, 상기 캐리어개스 공급라인 및 상기 약액공급라인의 공압밸브와 니들밸브 사이에 각각 설치된 매뉴얼밸브를 포함한다. 이러한 장치에 의해서, 반도체소자 제조공정에서 사용되는 약액을 저장하고 있는 약액용기의 오염을 방지할 수 있다.
제2도에 있어서, 제1도에 도시된 반도체 제조 장치의 구성요소와 동일한 기능을 갖는 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호를 병기한다.
제2도는 본 고안의 실시예에 따른 반도체 제조 장치의 구성을 보여주고 있다.
제2도를 참조하면, 본 고안의 실시예에 따른 반도체 제조 장치는, 크게 외부로부터 공급되는 캐리어개스(14)의 유량을 조절하는 유량조절계(16)와, 상기 유량조절계(16)와 약액용기(20)를 연결하는 캐리어개스공급라인(18)상에 직렬로 설치된 제1공압밸브(10)·제1메뉴얼밸브(11)·제1니들밸브(12)와, 상기 약액용기(20)와 유량계(30)를 연결하는 약액공급라인(28)상에 직렬로 설치되어 상기 약액용기(20)내의 상기 외부로부터 공급된 캐리어개스(14)에 의해 버블링(bubbling)된 TEOS 약액을 공급하는 제2니들밸브(22)·제2매뉴얼밸브(23)·제2공압밸브(24)와, 상기 유량계(30)와 연결된 공정쳄버(36)로 구성된다.
상술한 구성을 갖는 반도체 제조 장치의 동작은 다음과 같다.
먼저, 상기 캐리어개스공급라인(18)상에 직렬로 설치된 제1공압밸브(10)·제1메뉴얼밸브(11)·제1니들밸브(12)를 순차적으로 제어하면, 상기 유량조절게(16)에 의해 유량이 제어된 캐리어개스(14)가 TEOS약액이 저장된 상기 약액용기(20)로 공급된다.
그리고, 싱가 캐리어개스(14)에 의해 버블링된 상기 약액용기(20)내의 TEOS 약액은 상기 약액공급라인(28)상에 직렬로 설치된 제2니들밸브(22)·제2매뉴얼밸브(23)·제2공압밸브(24)가 온(on)으로 제어되는 것에 따라 상기 약액공급라인(28) 및 유량계(30)를 관통하게 된다.
다음, 상기 유량계(300를 관통한 상기 TEOS 약액은 상기 유량계(30)와 상기 공정챔버(36)사이를 연결하는 공급라인상에 직렬로 설치된 제3공압밸브(32)와 필터(34)를 통해 웨이퍼가 로딩되어 있는 상기 공정챔버(36)로 공급되게 된다.
[고안의 효과]
종래 반도체 제조 장치에 의하면, 캐리어개스공급라인과 약액공급라인상에 설치된 제1 및 제2공압밸브의 불량에 의해서 니들밸브가 자주 파손되었다. 이로 인해 TEOS 약액을 저장하고 있는 약액용기로 오염원이 인입되었고, 따라서 상기 약액용기를 교체해야하는 문제점이 발생하였다.
상술한 문제점을 해결하기 위해 제안된 본 고안은, 캐리어개스 공급라인 및 약액공급라인의 상기 공압밸브와 니들밸브 사이에 각각 매뉴얼밸브를 설치한다.
따라서, 상기 공압밸브의 불량이 발생하여도 상기 니들밸브의 파손을 방지할 수 있고, 그리고 매뉴얼밸브 및 니들밸브로 이중차단하기 때문에 외부로부터의 오염원에 의해 상기 약액용기가 쉽게 오염되는 문제점을 해결할 수 있다.
Claims (3)
- 약액용기(20)와, 캐리어개스(14)의 유량을 조절하는 유량조절계(16)와, 상기 유량조절계(16)로부터 제공된 캐리어개스(14)를 상기 약액용기(20)에 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브(10)와 니들밸브(12)를 갖는 캐리어개스공급라인(18), 그리고 상기 약액용기(20)로부터 제공된 약액을 공정챔버(36)와 연결된 유량계(30)로 공급하고 직렬로 접속된 공압밸브(24)와 니들밸브(22)를 갖는 약액공급라인(28)을 구비한 반도체 제조 장치에 있어서, 상기 캐리어개스공급라인(18)의 제1공압밸브(10)와 니들밸브(12)사이에 설치된 제1개폐수단(11)과; 상기 약액공급라인(28)의 공압밸브(24)와 니들밸브(22)사이에 설치된 제2개폐수단(23)을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1개폐수단(11)은 적어도 하나 이상의 매뉴얼밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제2개폐수단(23)은 적어도 하나 이상의 매뉴얼밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019960002153U KR0135454Y1 (ko) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | 반도체 제조 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019960002153U KR0135454Y1 (ko) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | 반도체 제조 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970052819U KR970052819U (ko) | 1997-09-08 |
| KR0135454Y1 true KR0135454Y1 (ko) | 1999-03-20 |
Family
ID=19450417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019960002153U KR0135454Y1 (ko) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | 반도체 제조 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0135454Y1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100445631B1 (ko) * | 2001-07-12 | 2004-08-25 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 설비의 슬롯 밸브 개폐장치 |
-
1996
- 1996-02-13 KR KR2019960002153U patent/KR0135454Y1/ko not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100445631B1 (ko) * | 2001-07-12 | 2004-08-25 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 설비의 슬롯 밸브 개폐장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970052819U (ko) | 1997-09-08 |
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