KR19990083344A - 단일층이축연신폴리에스테르필름,이의용도및이의제조방법 - Google Patents

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디츠 볼프강, 힐케르트 고트프리트
미쯔비시 폴리에스테르 필름 게엠베하
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Abstract

본 발명은 우수한 가공 성능과 함께, 금속화되거나 산화물로 피복된 후에 매우 우수한 기체 또는 산소 차단 특성을 가지고, 하나의 기재층로부터 층을 이루고 있는, 평면 연신도 △p가 0.166 이상인 단일층 이축 연신 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

Description

단일층 이축 연신 폴리에스테르 필름, 이의 용도 및 이의 제조 방법{Single-layer, biaxially oriented polyester film, its use, and process for its production}
본 발명은 열가소성 폴리에스테르를 80중량% 이상 포함하는 투명한 이축 연신 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 상기 필름은 우수한 가공 성능 및 우수한 광학 특성을 가지며, 금속화되거나 산화물로 피복된 후에 매우 우수한 기체 또는 산소 차단막이다. 본 발명은 또한 상기 필름의 용도 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
이축 연신 폴리에스테르 필름은 포장 및 주로 이들의 유리한 특성, 즉, 우수한 광학 특성, 높은 기계적 강도, 특히 기체에 대한 우수한 차단 효과, 가열할 경우의 우수한 치수 안정성 및 탁월한 레이플랫성(layflat)이 필요한 산업에 사용된다.
식품 포장재 적용시, 포장 기술은 기체, 스팀 및 향미에 대한 우수한 차단 효과[이는 낮은 투과도(transmission) 또는 투과율(permeability)과 동일한 의미를 갖는다]를 요구한다. 이러한 유형의 포장재의 익히 공지된 제조 방법은 상기 목적으로 사용된 가소성 필름의 고진공 알루미늄 금속화이다. 이외의 익히 공지된 방법은 필름의 산화물(예: SiOx또는 AlxOy) 또는 물유리로의 피복화이다. 본질적으로, 사용된 피막은 투명하다.
상기 언급한 물질에 대한 차단 효과는 본질적으로 필름내의 중합체의 종류 또는 적용된 차단층의 품질에 따라 좌우된다. 따라서, 산소와 같은 기체 및 향미에 대한 높은 우수한 차단 효과는 금속화 이축 연신 폴리에스테르 필름에서 달성된다. 스팀에 대한 차단 효과는 금속화 이축 연신 폴리프로필렌 필름에서 달성된다.
금속화되거나 산화적으로 피복된 필름의 우수한 차단 특성은 이들이 특히 불충분한 차단막이 존재할 경우, 장기 저장 또는 운반 기간 동안 포장된 식품이 손상되고, 악취를 풍기거나 향미를 잃게 되는 위험을 유발하기 때문에, 포장 식품 및 기타 소비품, 예를 들어, 커피, 지방 함유 스낵(견과류, 감자 칩 등) 및 이산화탄소 함유 음료(파우치내)에 사용된다는 것을 의미한다.
알루미늄 층으로 금속화되거나 도포된 산화층을 갖는 폴리에스테르 필름을 포장재로 사용할 경우, 이들은 일반적으로 다층 복합 필름(적층품)의 구성 성분이다. 이로부터 제조된 백은, 예를 들어, 수직 튜브형 백 성형기, 충전기 및 봉합기 상에서 충전시킬 수 있다. 백은 내부면(즉, 내용물과 직면하는 면)에서 열-봉합되고, 열-봉합층은, 예를 들어, 폴리에틸렌으로 이루어진다. 여기서, 복합 필름은 전형적으로 폴리에스테르 층/알루미늄 또는 산화물 층/접착제 층/열-봉합성 층의 구조를 갖는다. 금속 또는 산화층의 두께는 단지 10 내지 80nm이다. 이렇게 아주 얇은 기능성 층이라도 빛에 대한 충분한 보호 및 매우 우수한 차단 특성을 달성하기에 충분히 효과적이다.
산소 차단도 또는 산소 투과도는 일반적으로 적층품 또는 포장재 자체에서 측정하는 것이 아니라, 금속화 폴리에스테르 필름 상에서 측정한다. 비교적 장기간 저장 후에도 식품 또는 기타 소비품의 우수한 품질을 확인하기 위해, 금속화 필름의 산소 투과도(투과율과 동일)는 2㎤/(㎡ bar d) 이하, 특히 1.5㎤/(㎡ bar d) 미만일 수 있다. 미래에, 포장 산업에서는 금속화 필름에 대해 1.0㎤/(㎡ bar d) 미만의 투과율을 수득하기 위한 시도와 함께 보다 높은 차단도를 필요로 할 것이다.
선행 기술 분야에는, 금속화되거나 산화적으로 피복된 이축 연신 폴리에스테르 필름의 차단 효과에 대한 상세한 원리의 충분한 지식뿐만 아니라 이를 결정적으로 개선시킬 어떠한 방법도 존재하지 않았다. 명백히 중요한 변수는 기판 표면, 및 기판 중합체 및 이의 형태이다.
문헌[참조: Weiss et al., "Thin Solids Films" 204(1991)]에서는 투과율에 대한 기판 층의 조도(roughness)의 영향을 연구하였다. 이에 대해, 폴리에스테르 필름을 다양한 농도의 이산화티탄 입자가 함유된 래커로 피복한다. 상기 실험에서, 피막내의 이산화티탄의 농도는 2 내지 20중량%로 다양하다. 이 방법을 사용하여, 피복된 기판 표면의 조도 Ra를 43nm(피복되지 않은 필름 및 피복된 필름, 이산화티탄 부재) 내지 124nm로 변화시킬 수 있다. 이 실험에서, 피복된 표면의 증가된 조도(TiO2의 증가된 특성)로 알루미늄으로 금속화시킨 후 현저하게 높은 산소 투과도를 수득한다. 그러나, 피복된 필름(0중량%)을 피복되지 않은 필름과 비교할 경우, 기판 표면의 표면 조도는 둘다에서 동일하더라도 산소 투과도에서의 가장 큰 단계 증가가 나타난다. 필름을 단순히 피복시킬 경우 차단도가 약 0.43㎤/(㎡ bar d)(순수한 필름)에서 약 19㎤/(㎡ bar d)(피복된 필름)로 열화된다. 상기 작업의 상업적 상품으로 전이성에 대한 추가의 불확실성은 실험실 증류기를 사용하여 알루미늄 층을 도포한다는 사실에 의해 발생한다. 산업적 금속화기와 비교할 경우, 이 방법은 본질적으로 낮은 투과도 값을 달성하고, 차단 특성에 대한 기판 표면의 영향은 명백하게 나타낼 수 없다.
폴리에스테르 필름의 기판 표면의 이의 차단 특성에 대한 영향에 대한 연구의 이외의 상세한 결과는 논문[참조: H. Utz, Technische Universitat Munchen 1995: "Barriereeigen-schaften aluminiumbedampfter Kunststoffolien"(Barrier properties of aluminium-metalized plastic films)]에서 찾아볼 수 있다.
EP-A-0 490 665 A1에는 자기-기록 테이프용 단일층 이축 연신 폴리에스테르 필름에 대해 기술되어 있고, 이 필름은 a) 약 0.02 내지 0.3㎛ 범위내의 평균 입경을 갖는 ω-알루미나 0.05 내지 1.0중량% 및 b) 약 0.1 내지 1.5㎛ 범위내의 평균 입경을 갖는, ω-알루미나 이외의 종류의 불활성 입자(이들 입자는 ω-알루미나 입자보다 크다) 0.01 내지 1.5중량%를 함유한다.
이 필름의 표면은, -11.4 x + 4 〈 log y 〈 -10.0 x + 5; y 〉30, x 〉0.05㎛의 상관계수로 기술되는 다수의 융기부(elevation)/돌출부(protrusion)에 의해 형성된다. 상기식에서, 융기부를 x의 높이에서 분할시킬 경우, x(㎛)는 표준 수준 이상의 높이이고 y는 융기부의 수(개수/㎟)이다. 융기부의 분포는 조도를 측정하는 표준 장치로 측정한다. 이 문헌에서는 차단 특성, 광택도 또는 헤이즈의 개선에 관한 어떠한 정보도 제공하지 않는다.
또한, 기체 또는 산소 차단도는 기판으로서 작용하는 필름용 특정 중합체를 선택함으로써 개선시킬 수 있다[참고 문헌: Schrikker, G.: Metallisierte Kunststoffilien fur hoherwetige Verpackungen(Metalized plastic films for high-quality packaging), ICI 5th International Metallising Symposium 1986, Cannes]. 예를 들어, 폴리에스테르, 구체적으로 에틸렌글리콜 및 테레프탈산으로부터 제조된 것, 또는 에틸렌글리콜, 테레프탈산 및 나프탈렌-2,6-디카복실산으로부터 제조된 것이 특히 적합하다. 이들 이외에, 폴리아미드, 에틸렌비닐 알콜 공중합체(EVOH) 및 폴리비닐리덴 클로라이드 또한 유리하게 사용할 수 있다. 이와 같이, 예를 들어, US-A-5 506 014에는 (a) 테레프탈산 45 내지 85몰% (b) 나프탈렌디카복실산 10 내지 40몰% 및 (c) 탄소수 2 내지 8의 디카복실산 5 내지 15몰%로부터 제조된 코폴리에스테르 및 (d) 에틸렌글리콜이 기술되어 있다(여기서, 몰%는 디카복실산의 총 비율을 기준으로 한다). 상기 폴리에스테르는 기체에 대한 보다 우수한 차단 특성을 갖는다고 청구되어 있다. 특히, 병 또는 용기, 및 다양한 두께의 필름을 제조하는데 사용된다. 언급한 원료의 단점은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)보다 상당히 비싸고, 식품 포장 용도로 사용하기에 적합하지 않고/않거나 공인되지 않았다는 것이다.
본 발명의 목적은 금속화되거나 산화물로 피복된 후에도 기체 또는 산소의 매우 우수한 차단막인 공압출된 이축 연신 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다. 또한, 상기 필름은 우수한 광학 특성(낮은 헤이즈, 높은 광택도)을 가지고, 제조하고 가공하는데 용이(낮은 마찰 계수)해야 한다.
금속화 후에 필름의 산소 투과율은 1.0㎤/(㎡ d bar) 미만이어야 한다. 산화물로 피복된 후의 필름의 산소 투과율은 3.0㎤/(㎡ d bar) 미만이어야 한다. 필름의 광택도는 150 이상이어야 하고, 이의 헤이즈는 4.0% 미만이어야 한다. 이의 기타 특성에서, 필름은 이러한 유형의 공지된 포장 필름과 적어도 등가이어야 한다. 또한, 제조하기에 간단하고 비용 효율적이어야 하고, 통상의 기계 상에서 잘 가공되어야 한다. 마찰 계수는 0.5 미만이어야 한다.
상기 목적은 열가소성 폴리에스테르를 80중량% 이상 포함하고 내부 및/또는 불활성 입자를 함유하는 기재층을 가지고, 평면 연신도 △p가 0.166 이상인 공압출된 단일층 이축 연신 폴리에스테르 필름에 의해 달성하였다.
내부 입자는 폴리에스테르의 제조 동안 원료내에 잔류하는 촉매 잔기를 의미한다.
불활성 입자는, 예를 들어, 제조 동안 원료에 가해진 입자를 의미한다.
본 발명에 따라, 금속화되거나 산화적으로 피복된 필름의 바람직한 산소 투과율을 달성하기 위해서는 신규한 필름의 평면 연신도 △p는 정의된 값 이상이어야 한다. 이 값은 △p = 0.166으로 정의된다.
금속화되거나 산화적으로 피복된 PET 필름에서 우수한 기체 또는 산소 차단도를 성취하기 위해서는, 필름의 높은 평면 연신도 △p가 상기 제시된 값보다 작을 경우(참조: 도 1), 상기 의미에서 차단도는 불량하나, 필름의 평면 연신도 △p가 상기 제시된 값보다 클 경우, 상기 의미에서 차단도는 우수하다.
신규한 필름의 바람직한 양태에서, 평면 연신도 △p는 0.1663 이상이고 , 매우 특히 바람직한 양태에서 평면 연신도 △p는 0.1665 이상이다.
바람직하고 특히 바람직한 양태에서, 금속화되거나 산화적으로 피복된 형태의 신규한 필름은 특히 우수한 기체 또는 산소 차단막이다.
또한, 필름의 두께 방향으로의 굴절 지수 nz가 정의된 값 미만인 경우, 높은 차단도를 성취하기에 유리하다고 입증되었다. 이 값은 nz= 1.495이다.
도 1은 산소 투과도와 평면 연신도 △p와의 관계를 도시한 것이다.
종속항은 본 발명의 바람직한 양태를 제공하고, 이들은 추가로 아래에 기술한다.
본 발명에 따라, 필름은 단일층 구조를 가지고 기재층 B로 구성되어 있다. 상기 층은 필름의 제조 및 가공에 유리한 안료를 포함할 수 있다.
필름의 기재층은 바람직하게는 열가소성 폴리에스테르를 90중량% 이상 정도로 포함하고 있다. 이에 적합한 폴리에스테르는 에틸렌 글리콜 및 테레프탈산(= 폴리에틸렌 테레프탈레이트, PET)으로부터 제조된 것, 에틸렌 글리콜 및 나프탈렌-2,6-디카복실산(= 폴리에틸렌 2,6-나프탈레이트, PEN)으로부터 제조된 것, 1,4-비스하이드록시메틸사이클로헥산 및 테레프탈산(= 폴리-1,4-사이클로헥산디메틸렌 테레프탈레이트, PCDT)으로부터 제조된 것 또는 에틸렌 글리콜, 나프탈렌-2,6-디카복실산 및 비페닐-4,4'-디카복실산(= 폴리에틸렌 2,6-나프탈레이트 디벤조에이트, PENBB)으로부터 제조된 것이다. 에틸렌 글리콜 및 테레프탈산 단위, 또는 에틸렌 글리콜 및 나프탈렌-2,6-디카복실산 단위를 90몰% 이상, 바람직하게는 95몰% 이상 정도로 포함하는 폴리에스테르가 특히 바람직하다. 나머지 단량체 단위는 층 A(또는 층 C)에 존재할 수도 있는, 기타 지방족, 지환족 또는 방향족 디올 및 디카복실산으로부터 유도된다.
이외의 적합한 지방족 디올의 예는 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 식 HO-(CH2)n-OH(여기서, n은 3 내지 6의 정수이다)의 지방족 글리콜(특히, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올 및 1,6-헥산디올) 또는 탄소수 6 이하의 측쇄 지방족 글리콜이다. 지환족 디올 중, 사이클로헥산디올(특히, 1,4-사이클로헥산디올)이 언급되어야 한다. 이외의 적합한 방향족 디올의 예는 식 HO-C6H4-X-C6H4-OH(여기서, X는 -CH2-, -(CH3)2-, -C(CF3)2, -O-, -S- 또는 -SO2-이다)의 방향족 디올이다. 이들 이외에, 식 HO-C6H4-C6H4-OH의 비스페놀도 매우 적합하다.
이외의 적합한 방향족 디카복실산은 벤젠디카복실산, 나프탈렌디카복실산(예: 나프탈렌-1,4- 또는 1,6-디카복실산), 비페닐-x,x'-디카복실산(특히, 비페닐-4,4'-디카복실산), 디페닐아세틸렌-x-x'-디카복실산(특히 디페닐아세틸렌-4,4'-디카복실산) 및 스틸벤-x-x'-디카복실산이다. 지환족 디카복실산 중, 사이클로헥산디카복실산(특히, 사이클로헥산-1,4-디카복실산)이 언급되어야 한다. 특히 적합한 지환족 디카복실산은 C3-C19-알칼디온산이고, 이들의 알칸부는 직쇄 또는 측쇄일 수 있다.
폴리에스테르는, 출발 물질이 디카복실산 에스테르 및 디올이고, 아연, 칼슘, 리튬, 마그네슘 및 망간의 염과 같은 통상의 에스테르교환반응 촉매를 사용하는 에스테르교환반응 공정에 의해 제조할 수 있다. 다음, 중간체를 삼산화안티몬 또는 티탄 염과 같은 광범위하게 사용되는 중축합반응 촉매의 존재하에 중축합시킨다. 상기 제조는 디카복실산 및 디올로부터 직접 출발하여, 중축합 촉매의 존재하에 직접 에스테르교환반응에 의해 성공적으로 수행할 수 있다.
기재층은 또한 통상의 첨가제, 예를 들어, 안정화제 및/또는 점착방지제를 함유할 수 있다. 이들은 편리하게는 용융이 일어나기 전에 중합체 또는 중합체 혼합물에 가한다. 안정화제의 예는 인산 및 인산 에스테르와 같은 인 화합물이다.
전형적인 점착방지제(또한 본원에서는 안료라고도 칭함)는 무기 및/또는 유기 입자, 예를 들어, 탄산칼슘, 무정형 규산, 활석, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 황산바륨, 인산리튬, 인산칼슘, 인산마그네슘, 알루미나, LiF, 사용된 디카복실산의 칼슘, 바륨, 아연 및 망간 염, 카본 블랙, 이산화티탄, 카올린 및 가교결합된 폴리스테렌 입자 및 가교결합된 아크릴레이트 입자이다.
선택된 첨가제는 또한 2종 이상의 상이한 점착방지제의 혼합물, 또는 동일한 제형이나 상이한 입자 크기의 점착방지제의 혼합물일 수 있다. 상기 입자는 중축합 동안 또는 압출 동안 마스터뱃치를 통해, 예를 들어, 글리콜산 분산액으로서 각각 유리한 농도로 각각의 층에 가할 수 있다. 0 내지 5중량%의 안료 농도가 특히 적합하다고 입증되어 있다. 점착방지제의 상세한 설명은, 예를 들어, EP-A-0 602 964에서 볼 수 있다.
바람직한 입자는 콜로이드 및 쇄 형태의 SiO2이다. 이들 입자는 매우 효과적으로 중합체 매트릭스로 결합되고, 매우 경미한 범위로만 공포(vacuole)를 형성시킨다. 공포는 일반적으로 헤이즈를 일으키므로, 이들을 방지하는 것이 편리하다. 원칙적으로, 사용된 입자의 입경에 대한 제한은 없다. 그러나, 본 발명의 목적을 달성하기 위해, 평균 기본 입경 100nm 미만, 바람직하게는 60nm 미만, 특히 바람직하게는 50nm 미만의 입자 및/또는 평균 기본 입경 1㎛ 이상, 바람직하게는 1.5㎛ 이상, 특히 바람직하게는 2㎛ 이상의 입자를 사용하는 것이 유리하다고 입증되었다.
상술된 필름 특성, 특히 산화물로 금속화하고/피복한 후의 필름에 대한 투과율 값을 성취하는 것이, 필름 표면이 특정의 형태를 갖는 경우에 특히 유리하다고 입증되었다. 본원에 기술된 하나 이상의 필름 표면에 대해, 융기부의 수 N(㎟당) 및 융기부의 높이 h(㎛) 및 직경 d(㎛)는 하기 수학식에 의해 연결되어야 한다:
상기식에서,
0.05㎛ < h < 1.00㎛,
0.2㎛ < d < 10㎛,
N의 단위는 개수/㎟이고,
h의 단위는 ㎛이고,
d의 단위는 ㎛이다.
본원에 기술된 필름의 경우, 또한 후속적으로 산화물로 금속화되거나 피복된 경우 하기 조건에 따르는 경우가 유리한 것으로 입증되었다:
상기식에서,
0.05㎛ < h < 1.00㎛,
0.2㎛ < d < 10㎛,
N의 단위는 개수/㎟이고,
h의 단위는 ㎛이고,
d의 단위는 ㎛이다.
매우 특히 바람직한 양태에서, 필름의 적어도 한면의 Ra는 30 내지 90nm, 특히 35 내지 80nm이다.
상기한 조도 및 표면 형태는 상기한 입자의 기재층에의 첨가(및/또는 존재)에 의해 달성한다.
신규한 폴리에스테르 필름의 전체 두께는 넓은 범위내에서 변화시킬 수 있으며 목적하는 용도에 좌우된다. 이는 4 내지 50㎛, 특히 5 내지 45㎛, 바람직하게는 6 내지 40㎛이다.
기재층에 대한 중합체는 편리하게는 압출기를 통해 공급한다. 존재할 수 있는 이물질 또는 오염물을 압출 전에 중합체 용융물로부터 선별할 수 있다. 다음, 용융물은 성형시켜 편평한 용융 필름을 수득한다. 다음, 상기 필름을 배출시켜 냉각 롤, 필요한 경우, 이외의 롤의 보조로 고체화시킨다.
이축 연신은 일반적으로 연속적으로 수행한다. 이 경우, 바람직하게는 먼저 종축 방향(즉, 종방향 = MD: machine direction)으로, 이어서 횡축 방향(즉, 종방향에 대해 수직으로 = TD: transverse direction) 연신시키는 것이 바람직하다. 이는 분자 쇄의 연신을 일으킨다. 종축 방향으로의 연신은 수득할 스트레칭 비에 상응하는 상이한 속도로 2종의 롤 작동의 보조에 의해 수행할 수 있다. 횡축 연신의 경우, 일반적으로 적합한 텐터(tenter) 프레임을 사용한다.
연신을 수행하는 온도는 비교적 넓은 범위에 걸쳐 변화시킬 수 있고, 필름에서 목적하는 특성에 따라 좌우된다. 일반적으로, 종축 스트레칭은 80 내지 130℃에서 수행하고, 횡축 스트레칭은 90 내지 150℃에서 수행한다. 종축 스트레칭 비는 일반적으로 2.5:1 내지 6:1, 바람직하게는 3:1 내지 5.5:1의 범위내이다. 횡축 스트레칭 비는 일반적으로 3.0:1 내지 5.0:1, 바람직하게는 3.5:1 내지 4.5:1의 범위내이다. 본 발명에 따른 △p > 0.166의 높은 평면 연신도는, 보다 낮은 △p의 필름과 비교하여, 종축 및/또는 횡축 스트레칭에서의 온도를 낮추고/거나 종축 및/또는 횡축 스트레칭에서의 스트레칭 비를 높임으로써 달성할 수 있다. 횡축 스트레칭 전에, 필름의 한면 또는 두면 모두를 공지된 방법에 의해 인라인(in-line) 피복시킬 수 있다. 인라인 피복은, 예를 들어, 금속층 또는 적용시킬 수 있는 프린팅 잉크의 점착성을 개선시키거나, 대전방지 또는 가공 성능을 개선시키는 역할을 한다.
필름을 후속적으로 150 내지 250℃의 온도에서 약 0.1 내지 10초 동안 열-고정(heat-setting)시킨다. 다음, 통상의 방법으로 감는다.
금속층 또는 산화층을 한면 또는 두면 모두에 도포하기 전에, 이축 연신 및 열-고정 폴리에스테르 필름을 코로나- 또는 화염-처리할 수 있다. 처리의 강도는 필름의 표면 장력이 일반적으로 45mN/m 이상이도록 선택한다.
금속 또는 산화층은 통상의 산업 시스템에 적용된다. 알루미늄의 금속층은 일반적으로 통상의 금속화(보트(boat) 방법)에 의해 제조된다. 산화층의 경우, 전자빔 방법 또는 스퍼터링에 의한 적용은 또한 성공적인 것으로 판명되었다. 금속층 또는 산화층을 필름에 적용하는 동안 시스템에 대한 공정 파라미터는 표준 조건에 상응한다. 필름의 금속화는 바람직하게는 금속화 필름의 광학 밀도가 약 2.2 내지 2.8의 통상의 범위내이도록 수행한다. 산화층은 산화층의 두께가 바람직하게는 30 내지 100nm의 범위내이도록 하는 방법으로 필름에 도포한다. 피복시킬 필름의 웹 속도는 변수의 모든 세팅에 대해 5 내지 20m/초이다. 실험실 금속화 시스템은 경험적으로 차단도 값이 일반적으로 상당히 우수하게 나타나고 비교 목적으로 사용할 수 없으므로 금속화에 대해 사용할 수 없다.
필름을 또한 화학적으로 예비처리하여 이외의 목적하는 특성을 성취할 수 있다. 전형적인 피막은 점착을 촉진시키고, 대전방지성이고, 슬립(slip)을 개선시키거나 이형 작용을 갖는 층이다. 이러한 추가의 피막은 횡축 연신 전에 수성 분산액을 사용하여 인라인 피복을 통해 필름에 도포할 수 있다.
필름을 금속화시킬 경우, 금속층은 바람직하게는 알루미늄으로 구성된다. 그러나, 얇은 점착층의 형태로 도포할 수 있는 기타 물질도 또한 적합하다. 예를 들어, 규소가 특히 적합하고 알루미늄에 비해 투명한 차단층을 제공한다. 산화층은 바람직하게는 주기율표의 제2, 제3, 또는 제4족 원소의 산화물, 특히 마그네슘, 알루미늄 또는 규소의 산화물로 구성된다. 일반적으로, 감압하 또는 진공하에 도포할 수 있는 금속물 또는 산화물을 사용한다.
신규한 필름의 제조 비용이 선행 분야의 제조 비용과 필적한다는 것은 본 발명의 추가 이점이다. 신규한 필름의 가공 및 사용과 관련된 이의 기타 특성은 실질적으로 변하지 않거나 개선되기도 한다. 이외에, 재순환된 재료를 필름의 물리적 특성에 대해 상당한 부작용없이, 필름의 제조 동안 필름의 총 중량을 기준으로 하여 20 내지 50중량%의 농도로 사용할 수 있다.
필름은, 예를 들어, 빛 및/또는 공기에 민감한 식품 및 이외의 소비품 둘다의 포장에 우수한 적합성을 갖는다. 이외에, 또한 산업적 용도, 예를 들어, 증착압 박막(hot-stamping foil)을 제조하는데 매우 적합하다. 커피, 특히 분쇄 커피용 진공 팩을 제조하는데 특히 적합하다.
요약하면, 신규한 필름은 금속화되거나 산화물로 피복된 후 우수한 기체 또는 산소 차단막이다. 또한, 특히 고속 가공 기계장치 상에서 바람직한 우수한 가공 성능을 가지고, 높은 광택도 및 낮은 헤이즈를 가진다.
필름 표면 A의 광택도는 150 이상이다. 바람직한 양태에서, 필름의 광택도는 155 이상이고, 특히 바람직한 양태에서는 160 이상이다. 따라서, 상기 필름은 특히 프린팅 또는 금속화에 적합하다.
필름의 헤이즈는 4.0 미만이다, 바람직한 양태에서, 필름의 헤이즈는 3.8 미만이고, 특히 바람직한 양태에서는 3.5 미만이다.
특히 고속 기계장치(릴러(reeler), 금속화기, 프린팅 및 적층화 기계장치) 상에서의 필름의 가공 및 릴링 성능은 대단히 우수하다. 적어도 한면 상의 마찰 계수가 0.5 미만인 필름의 마찰 계수는 이의 가공 성능의 척도이다. 바람직한 양태에서, 상기 계수는 0.45 미만이고, 특히 바람직한 양태에서는 0.40 미만이다. 우수한 두께 프로필 이외에, 탁월한 레이플랫성 및 낮은 마찰 계수, 릴링 성능은 필름의 조도에 결정적으로 영향을 받는다. 필름의 릴링은 필름의 적어도 한면 상의 평균 조도가 30 내지 90nm 범위내이면서, 기타 특성은 변함없이 유지되는 경우 특히 우수하다는 것은 명백하다. 바람직한 양태에서, 평균 조도는 35 내지 80nm 범위내이고, 특히 바람직한 양태에서는 40 내지 60nm 범위내이다.
하기 표(표 1)에 본 발명에 따른 가장 중요한 필름 특성을 다시 한번 제시한다.
본 발명에 따른 범위 바람직한 범위 특히 바람직한 범위 단위 측정 방법
평면 연신도 △p > 0.166 > 0.1663 > 0.1665 내부
금속화 필름의산소 투과율 < 1 < 0.85 < 0.7 g m-2d-1bar-1 DIN 53 380,파트 3
굴절 지수 nz < 1.495 < 1.494 < 1.493 내부
광택도(측정 각도 20。)i) > 150 > 155 > 160 DIN 67 530
헤이즈i) < 4.0 < 3.8 < 3.5 % ASTM-D 1003-52
마찰 계수 < 0.5 < 0.45 < 0.40 DIN 53 375
평균 조도 Ra 30-90 35-80 40-60 nm 0.25mm의 컷-오프를 갖는 DIN 4768
i)금속화되지 않은 필름 상에서 측정
다음 방법을 사용하여 원료 및 필름에 대한 파라미터를 측정한다:
(1)광학 밀도
맥베쓰(Macbeth) TD-904 농도계(Densitometer)(Macbeth로부터 구입, Division of Kollmorgen Industruments Corp.)를 사용하여 광학 밀도를 측정한다. 광학 밀도는 OD = -lg l/l0(여기서, l은 투사광의 강도이고 l0는 투과광의 강도이고 l/l0는 투과도이다)로서 정의한다.
(2)산소 차단도
금속화 필름의 산소 차단도는 DIN 53 380, 파트 3에 따라 모컨 모던 컨트롤즈(Mocon Modern Controls)(USA)로부터 구입한 OX-TRAN 2/20을 사용하여 측정한다.
(3)평면 연신도 △p의 측정
평면 연신도는 다음 과정을 사용하여 Abbe 굴절계로 굴절 지수를 측정함으로써 측정한다:
시험편의 제조
시험편 크기 시험편 길이: 60 내지 100mm
시험편 너비: 10mm의 프리즘 너비와 상응함
nMD및 nα(= nz)를 측정하기 위해, 측정할 시험편을 필름으로부터 잘라내야 하고; 시험편의 종행하는(running) 가장자리를 TD 방향으로 정확하게 종행시켜야 한다. nTD및 nα(= nz)를 측정하기 위해, 측정할 시험편을 필름으로부터 잘라내야 하고; 시험편의 종행하는 가장자리를 MD 방향으로 정확하게 종행해야 한다. 시험편을 필름 웹의 중간으로부터 취해야 한다. Abbe 굴절계는 23℃에서 사용하여야 한다는 것을 주의한다.
유리 막대를 사용하여, 소량의 디요오도메탄(n=1.745) 또는 디요오도메탄-브로모나프탈렌 혼합물을 측정 과정 전에 철저히 세정한 보다 낮은 프리즘에 적용시킨다. 혼합물의 굴절 지수는 1.685 이상이어야 한다. TD 방향으로 잘라낸 시험편을 우선 이의 상부에 놓아, 프리즘의 전체 표면을 감싼다. 종이 와이퍼를 사용하여, 필름을 프리즘 상에 단단하게 편평히 압착시켜, 이 위에 단단하고 평활하게 위치시킨다. 과량의 액체는 흡수 제거해야 한다. 다음, 소량의 시험 용액을 필름 위로 적하한다. 제2 프리즘을 아래쪽으로 회전시켜 접촉부로 단단히 압착시킨다. 지시계 눈금을 밝음에서 어둠으로의 전환이 1.62 내지 1.68 범위내의 가시 범위에서 나타날 때까지 돌린다. 밝음에서 어둠으로의 전환이 뚜렷하지 않을 경우, 단지 하나의 밝은 영역 및 하나의 어두운 영역만이 가시적이도록 하는 방법으로 함께 착색시킨다. 뚜렷한 전환 라인은 2개의 대각선의 교차점(접안 렌즈내)으로 가져온다. 측정 눈금 상에서 나타난 값을 읽어 시험 기록에 넣는다. 이는 종방향에서의 굴절 지수 nMD이다. 눈금을 점안 렌즈내에서의 가시 범위가 1.49 내지 1.50일 때까지 돌린다.
굴절 지수 nα또는 nz(필름의 두께 방향으로)를 측정한다. 약한 정도로만 보이는 전환의 가시도를 개선시키기 위해, 편광 필름을 접안 렌즈 위에 놓는다. 이를 전환이 명백하게 보일 때까지 회전시킨다. 동일한 고려사항을 nMD를 측정하는데 적용시킨다. 밝음에서 어둠으로의 전환이 뚜렷하지 않은 경우(착색), 뚜렷한 전환이 나타날 수 있는 방법으로 함께 착색시킨다. 상기 뚜렷한 전환 라인을 2개의 대각선 라인의 교차점 상에 놓아 눈금 상에 나타난 값을 읽어 표에 도입한다.
다음, 시험편을 회전시키고 다른 면의 상응하는 굴절 지수 nMD및 nα(=nz)를 측정하여 적합한 표에 도입한다.
MD 방향 및 두께 방향 각각의 굴절 지수의 측정 후, MD 방향으로 자른 시험편 스트립을 위치에 놓고 굴절 지수 nTD및 nα(=nz)를 상응하는 방식으로 측정한다. 스트립을 뒤집어, B면에 대한 값을 측정한다. A면 및 B면에 대한 값을 합하여 평균 굴절 지수를 수득한다. 다음, 연신도를 굴절 지수로부터 하기 식으로 계산한다:
△n = nMD- nTD
△p = (nMD+ nTD)/2 - nz
nav= (nMD+ nTD+ nz)/3
(4)SV
SV(용액 점도)는 폴리에스테르의 시험편을 용액(디클로로아세트산, 농도: 1중량%)에 용해시킴으로써 측정한다. 상기 용액 및 순수한 용매의 점도를 웁베로데(Ubbelohde) 점도계를 사용하여 측정한다. 몫(= 상대적인 점도 ηrel)를 상기 2개의 값으로부터 측정하고, 여기서 1.000을 뺀 다음, 이 값에 1000을 곱한다. 그 결과가 SV(용액 점도)이다.
(5)마찰 계수
마찰 계수는 제조한지 14일 후에 DIN 53 375에 따라 측정한다.
(6)표면 장력
표면 장력은 "잉크 방법"(DIN 53 364)을 사용하여 측정한다.
(7)헤이즈
필름의 헤이즈를 ASTM-D 1003-52에 따라 측정한다. 횔츠 헤이즈는 ASTM-D 1003-52를 기초로 하는 방법으로 측정하나, 가장 효과적인 측정 범위를 이용하기 위해 다른 표면 상부에 놓여진 필름 4조각에 대해 측정하고, 1°슬릿 다이아그램을 4°핀홀 대신 사용한다.
(8)광택도
광택도는 DIN 67 530에 따라 측정한다. 반사율은 필름 표면에 대한 광학 특성 값으로서 측정한다. 표준 ASTM-D 523-78 및 ISO 2813을 기준으로 하여, 입사각을 20° 또는 60°로 고정시킨다. 광 빔은 고정된 입사각에서 편평한 시험 표면에 부딪쳐 이에 의해 반사되고/되거나 산란된다. 비례적 전기 변수가 광전자 검출기에 부딪치는 광 빔을 나타내며 표시된다. 측정된 값은 단위가 없으며 입사각과 함께 언급되어야 한다.
(9)필름 표면의 입자 크기 측정
스캐닝 전자 현미경 및 이미지 분석 시스템을 사용하여 필름 표면 상의 융기부의 크기 분포를 측정한다. 일체화된 이미지 분석 프로그램: Analysis from Soft-Imaging System을 사용하는 필립스(Philips)사의 XL30 CP 스캐닝 전자 현미경을 사용한다.
상기 측정을 위해, 필름 시험편을 시험편 홀더 상 편평한 부분에 놓는다. 다음, 이들을 금속 박층(예: 은)으로 각도 α로 비스듬하게 금속화시킨다. 여기서, α는 시험편의 표면 및 금속 증기의 확산 방향 사이의 각도이다. 이러한 경사 금속화는 융기부 이면에 섀도우를 만든다. 섀도우는 아직 전기적으로 전도성이 아니므로, 시험편을 제2 금속(예: 금)으로 추가로 스퍼터링시키거나 금속화시키며, 여기서 제2 피복은 제2 피막을 샘플의 표면 위에 수직으로 밀착시켜 제2 피막내에 섀도우가 형성되지 않도록 한다.
이러한 방법으로 제조된 시험편 표면의 스캐닝 전자 현미경(SEM) 이미지를 찍는다. 융기부의 섀도우는 금속 물질의 콘트라스트(contrast)로 인해 가시적이다. 시험편을 SEM내에서 연신시켜 섀도우를 이미지의 한쪽 가장자리에 평행하게 종행시킨다. 이미지 기록을 위해 다음 조건을 SEM에 세팅한다: 거리 10mm, 가속 전압 10kV 및 스폿 4.5로 작동하는 제2 전자 검출기. 이미지내의 모든 정보가 그레이(gray) 값으로서 나타내고 백그라운드 노이즈의 강도가 충분히 작아 섀도우로서 검출되지 않도록 명도 및 콘트라스트를 세팅한다. 섀도우의 길이는 이미지 분석으로 측정한다. 섀도우 검증에 대한 최소값은 이미지의 그레이 값 분포의 제2 도함수가 0점을 통과하는 지점에 세팅한다. 섀도우 확인 전에, 이미지를 N×N 필터(크기 3, 1회 반복)로 평활하게 한다. 이미지내에 전체적으로 재생되지 않는 융기부는 측정에 포함되지 않도록 프레임을 세팅한다. 확대율, 프레임의 크기 및 평가할 이미지의 수를 선택하여 0.36㎟의 전체 필름 표면을 평가한다.
각각의 융기부의 높이는 다음 수학식을 사용하여 각각의 섀도우 길이로부터 산출한다:
상기식에서,
h는 융기부의 높이이고,
α는 금속화 각도이고,
L은 섀도우 길이이다.
이렇게 기록된 융기부는 진동 분포에 도달하도록 분류한다. 0 및 1㎛ 사이에서 0.05㎛ 너비의 등급으로 분류하고, 가장 작은 등급(0 내지 0.05㎛)은 추가의 평가 계산에 사용하지 않는다. 유사한 방식으로 융기부의 직경(섀도우가 형성된 방향과 수직 방향으로의 너비)을 0 내지 10㎛에서 0.2㎛ 너비의 등급으로 분류하고, 여기서 가장 작은 등급은 추가의 평가에 사용하지 않는다.
(11)조도
필름의 조도 Ra는 0.25mm의 컷-오프를 사용하여 DIN 4768에 따라 측정한다.
실시예 1
폴리에틸렌 테레프탈레이트 칩(에스테르교환반응 촉매로서 Mn을 사용하여 에스테르교환반응을 통해 제조; Mn 농도: 100ppm)을 160℃에서 건조시켜 잔류 수분을 50ppm 미만으로 하여 기재층 B에 대한 압출기로 공급한다.
전체 두께 12㎛의 투명한 단일층 필름을 압출에 의해 형성시킨 다음, 종축 및 횡축 방향으로 단계적으로 연신시킨다.
기재층 B:
SV가 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 RT 49(Hoechst AG) 84.0중량% 및
폴리에틸렌 테레프탈레이트(SV 800) 99.0중량% 및 Sylobloc 44 H(콜로이드성 SiO2, Grace로부터 구입) 0.5중량% 및 Aerosil TT 600(쇄형 SiO2, Degussa로부터 구입) 0.5중량%로부터 제조된 마스터뱃치 16.0중량%
각각의 공정 단계에 대한 제조 조건은 다음와 같다.
압출: 온도 층 A: 300℃
층 B: 300℃
층 C: 300℃
권취 롤의 온도: 30℃
다이 간격 너비: 1mm
횡축 스트레칭: 온도: 80 내지 120℃
횡축 스트레칭 비: 4.3
종축 스트레칭: 온도: 80 내지 135℃
종축 스트레칭 비: 4.0
고정: 온도: 230℃
시간: 3초
상기 필름은 매우 우수한 광학 특성 및 가공 성능을 갖는다(참조: 표 3).
필름을 제조한 후(본 실시예 및 하기 모든 실시예에서), 이를 산업적 금속화기내에서 진공하에 알루미늄을 사용하여 표면 A 상에 금속화시킨다. 피복 속도는 8m/초이고 광학 밀도는 2.6이다.
필름은 요구되는 기체 또는 산소 차단도를 나타낸다. 필름의 구조 및 이러한 방법으로 제조된 필름에서 성취되는 특성은 표 2 및 3에 나타낸다.
실시예 2
전체 두께 12㎛의 투명한 단일층 필름을 압출시킨 다음, 종축 및 횡축 방향으로 단계적으로 연신시킨다. 실시예 1과 비교하여, 종축 스트레칭에 대한 조건만을 변화시킨다.
종축 스트레칭: 온도: 80 내지 117℃
종축 스트레칭 비: 4.3
비교실시예 1
전체 두께 12㎛의 투명한 단일층 필름을 압출시킨 다음, 종축 및 횡축 방향으로 단계적으로 연신시킨다. 실시예 1과 비교하여, 종축 스트레칭에 대한 조건만을 변화시킨다.
종축 스트레칭: 온도: 80 내지 125℃
종축 스트레칭 비: 4.1
금속화 후, 필름은 필요로 하는 차단도 값을 가지지 않는다.
실시예 필름 두께 ㎛ 층 B내의 안료 평균 안료 직경 ㎛ 안료 농도 ppm
실시예 1 12 Sylobloc 44 HAerosil TT 600 2.50.04 800800
실시예 2 12 Sylobloc 44 HAerosil TT 600 2.50.04 800800
비교실시예 1 12 Sylobloc 44 HAerosil TT 600 2.50.04 800800
본 발명은 금속화되거나 산화물로 피복된 후에도 기체 또는 산소의 매우 우수한 차단막인 공압출된 이축 연신 폴리에스테르 필름을 제공한다.

Claims (9)

  1. 열가소성 폴리에스테르를 80중량% 이상 포함하고 내부 및/또는 불활성 입자를 함유하며, 평면 연신도 △p가 0.166이상인 공압출된 단일층 이축 연신 폴리에스테르 필름.
  2. 제1항에 있어서, 필름의 평면 연신도 △p가 0.1665 이상인 폴리에스테르 필름.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 산소 투과도가 1.0㎤/㎡ bar d 미만인 금속화 폴리에스테르 필름.
  4. 제3항에 있어서, 산소 투과도가 0.80㎤/㎡ bar d 미만인 금속화 폴리에스테르 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 적어도 한면이 인라인(in-line) 피복된 필름.
  6. 용융된 폴리에스테르를 슬롯 다이로 공급하고, 이로부터 냉각 롤 상에 압출시킨 다음, 생성된 예비필름을 이축 연신 및 열-고정시키고, 이렇게 수득된 필름의 평면 연신도 △p가 0.166 이상인, 제1항에 청구된 이축 연신 폴리에스테르 필름의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서, 재순환된 재료를, 필름의 총 중량을 기준으로 하여 10 내지 50중량%의 농도로 압출 공정에 공급하는, 이축 연신 폴리에스테르 필름의 제조 방법.
  8. 식품 및 다른 소비품을 포장하기 위한 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 청구된 필름의 용도.
  9. 증착압 박막(hot-stamping foil)을 제조하기 위한 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 청구된 필름의 용도.
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