KR19990031092U - 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치에 관한 것으로, 종래에는 보트에 웨이퍼가 미스로딩된 상태에서 이를 확인하지 못하고 작업을 계속하여 웨이퍼의 파손을 초래하는 문제점이 있었다. 본 고안 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치는 로드락 챔버(6)의 일측벽에 상, 하부스텝모터(20)(20')를 설치하고, 그 상, 하부스텝모터(20)(20')의 모터축(20a)(20a')에 상, 하부회전암(21)(21')을 각각 설치하며, 그 상, 하부회전암(21)(21')의 전단부에 각각 발광센서(22)와 수광센서(23)를 설치하여 구성되어, 웨이퍼(W)들을 보트(7)에 탐재한 다음, 상, 하부스텝모터(20)(20')를 이용하여 상, 하부회전암(21)(21')을 보트(7)의 전방으로 이동시키고, 발광센서(22)와 수광센서(23)를 이용하여 웨이퍼(W)의 미스로딩을 검출함으로써, 종래와 같이 보트에 웨이퍼가 미스로딩된 상태에서 작업을 진행하여 웨이퍼를 파손시키는 것을 방지하게 되는 효과가 있다.

Description

반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치

본 고안은 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩(WAFER MISS LOADING) 검출장치에 관한 것으로, 특히 보트(BOAT)에 장착되는 웨이퍼가 정확히 로딩되지 않은 상태에서 작업을 진행하여 웨이퍼의 파손을 초래하는 것을 방지하도록 하는데 적합한 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치에 관한 것이다.

도 1은 종래 반도체 종형 확산로의 구성을 보인 종단면도이고, 도 2는 종래 보트의 구성을 보인 종단면도이며, 도 3은 도 2의 A-A'를 절취하여 보인 단면도로서, 도시된 바와 같이, 종래 종형 확단로는 라이너 튜브(1)의 내측에 내, 외측 튜브(2)(3)로 구성된 공정챔버어셈블리(4)가 설치되어 있고, 상기 라이너 튜브(1)의 외측에 히터(5)가 설치되어 있다.

그리고, 상기 공정챔버어셈블리(4)의 하측에 로드락 챔버(6)가 설치되어 있고, 그 로드락 챔버(6)의 내측에 보트(7)가 설치되어 있으며, 그 보트(7)의 하측에 보트(7)를 승강시키기 위한 엘리베이터(8)가 설치되어 있다.

또한, 상기 보트(7)는 상, 하판(9)(9')이 수개의 라다(10)에 의하여 지지되어 있고, 그 라다(10)에는 웨이퍼(W)를 탑재하기 위한 다수개의 슬롯(10a)이 형성되어 있다.

도면중 미설명부호 11은 가스공급관이고, 12는 가스배기라인이다.

상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 종형 확산로에서는 이재기(미도시)를 이용하여 웨이퍼(W)들을 보트(7)에 탑재하고, 엘리베이터(8)를 이용하여 보트(7)를 내측튜브(2)의 내측으로 이동시킨 다음, 일정온도로 유지되는 상태에서 가스공급관(11)을 통하여 공정챔버어셈블리(4)의 내측으로 공정가스를 공급하며 웨이퍼(W)에 주입되어 있는 불순물을 확산시키는 확산작업을 실시하게 된다.

그리고, 상기와 같이 공정을 진행하기 위하여 보트(7)에 웨이퍼(W)들을 탑재할 때는 도 3과 같이 웨이퍼(W)의 플랫 존(F)이 보트(7)의 입구측에 정열되도록 탑재한다.

그러나, 상기와 같이 구성되는 종래 반도체 종형 확산로에서는 보트(7)에 웨이퍼(W)를 탑재할때에 주로 보트(7)의 상, 하측에 탑재되는 휨이 발생된 더미 웨이퍼(DUMMY WAFER)들이 미끄러져서 도 4에 도시되 바와 같이 웨이퍼(W)의 플랫 존(F)이 틀어진 상태인 미스로딩이 발생되고, 이와 같이 웨이퍼(W)가 미스로딩이 발생된 상태에서 공정을 진행하기 위하여 보트(7)를 상승시키다가 내측 튜브(2)의 하단부에 부ㄷ쳐서 웨이퍼(W)의 파손을 초래하는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 웨이퍼를 보트에 탑재한 다음, 미스로딩을 검출할 수 있도록 하여, 미스로딩에 의한 웨이퍼의 파손을 방지하도록 하는데 적합한 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치를 제공함에 있다.

도 1은 종래 반도체 종형 확산로의 구성을 보인 종단면도.

도 2는 종래 보트의 구성을 보인 종단면도.

도 3은 도 2의 A-A'를 절취하여 보인 단면도.

도 4는 웨이퍼가 미스로딩된 상태를 보인 단면도.

도 5는 본 고안 웨이퍼 미스로딩 검출장치가 장착된 종형확산로의 구성을 보인 종단면도.

도 6a는 본 고안 웨이퍼 미스로딩 검출장치의 작동상태를 보인 상태도.

도 6b는 본 고안 웨이퍼 미스로딩 검출장치의 비작동상태를 보인 상태도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 라이너 튜브2 : 내측 튜브

3 : 외측 튜브4 : 공정챔버어셈블리

5 : 히터6 : 로드락 챔버

7 : 보트20 : 상부스텝모터

20' : 하부스텝모터21 : 상부회전암

21' : 하부회전암22 : 발광센서

23 : 수광센서W : 웨이퍼

상기와 같은 본 고안의목적을 달성하기 위하여 라이너 튜브의 내측에 내, 외측 튜브로 구성된 공정챔버어셈블리가 설치되어 있고, 상기 라이너 튜브의 외측에는 히터가 설치되어 있으며, 상기 공정챔버어셈블리의 하측에는 로드락 챔버가 설치되어 있고, 그 로드락 챔버의 내측에는 웨이퍼를 탑재하기 위한 보트가 설치되어 있는 반도체 종형 확산로에 있어서, 상기 로드락 챔버의 내부 일측벽에 상, 하측으로 일정간격을 두고 상, 하부스텝모터를 설치하고, 그 상, 하부스텝모터의 모터축에 각각 상, 하부회전암을 설치하며, 그 상부회전암의 전단부에 발광센서를 설치하고, 상기 하부회전암의 전단부에 수광센서를 설치하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치가 제공된다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 5는 본 고안 웨이퍼 미스로딩 검출장치가 장착된 종형확산로의 구성을 보인 종단면도로서, 도시된 바와 같이, 라이너 튜브(1)의 내측에 내, 외측 튜브(2)(3)로 구성된 공정챔버어셈블리(4)가 설치되어 있고, 상기 라이너 튜브(1)의 외측에 히터(5)가 설치되어 있으며, 상기 공정챔버어셈블리(4)의 하측에 로드락 챔버(6)가 설치되어 있고, 그 로드락 챔버(6)의 내측에 웨이퍼(W)들을 탑재하기 위한 보트(7)가 설치되어 있으며, 그 보트(7)의 하측에 보트(7)를 승강시키기 위한 엘리베이터(8)가 설치되어 있다.

그리고, 상기 로드락 챔버(6)의 내부 일측벽에 상, 하측으로 일정간격을 두고 상, 하부스텝모터(20)(20')가 설치되어 있고, 그 상, 하부스텝모터(20)(20')의 모터축(20a)(20a')에 각각 상, 하부회전암(21)(21')가 설치되어 있으며, 그 상부회전암(21)의 전단부에 발광센서(22)가 설치되어 있고, 상기 하부회전암(21')의 전단부에는 수광센서(23)가 설치되어 있다.

도면중 미설명부호 11은 가스공급관이고, 12는 가스배기라인이다.

상기와 같이 구성되어 있는 본 고안 웨이퍼 미스로딩 검출장치가 설치된 반도체 종형 확산로는 이재기(미도시)를 이용하여 웨이퍼(W)들을 보트(7)에 탑재한다.

그런 다음, 상, 하부스텝모터(20)(20')를 이용하여 상, 하부회전암(21)(21')을 시계 반대방향으로 일정각도 회전시켜서 상.하부회전암(21)(21')이 도 6a에 도시된 바와 같이 보트(7)에 탑재된 웨이퍼(W)들의 플랫 존(F)에 근접되도록 위치시킨다.

그런 다음, 상기 상부회전암(21)의 전단부에 설치된 발광센서(22)에서 하측으로 발광하고, 그 빛을 하부회전암(21')의 전단부에 설치된 수광센서(23)에서 수광하며, 만약, 발광센서(22)에서 발광된 빛이 수광센서(23)에서 수광되지 않을 때에는 미스로딩된 웨이퍼(W)에 의하여 발광되는 빛이 차단되는 것이므로 이를 감지하여 부져를 울리거나 작업을 멈추도록 하여 작업자에게 알린다.

상기와 같이 웨이퍼(W)의 미스로딩검출작업을 실시하여 미스로딩이 발견되지 않는 경우에는 상, 하부스텝모터(20)(20')에 의하여 상, 하부회전암(21)(21')을 시계방향으로 일정각도 회전시켜서 도 6b에 도시된 바와 같이 상, 하부회전암(21)(21')을 원복시키게 된다.

그런 다음, 엘리베이터(8)를 이용하여 보트(7)를 내측튜브(2)의 내측으로 이동시키고, 일정온도로 유지되는 상태에서 가스공급관(11)을 통하여 공정챔버어셈블리(4)의 내측으로 공정가스를 공급하며 웨이퍼(W)에 주입되어 있는 불순물을 확산시키는 확산작업을 실시하게 된다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치는 로드락 챔버의 일측벽에 상, 하부스텝모터를 설치하고, 그 상, 하부스텝모터의 모터축에 상, 하부회전암을 각각 설치하며, 그 상, 하부회전암의 전단부에 각각 발광센서와 수광센서를 설치하여 구성되어, 웨이퍼들을 보트에 탐재한 다음, 상, 하부스텝모터를 이용하여 상, 하부회전암을 보트의 전방으로 이동시키고, 발광센서와 수광센서를 이용하여 웨이퍼의 미스로딩을 검출함으로써, 종래와 같이 보트에 웨이퍼가 미스로딩된 상태에서 작업을 진행하여 웨이퍼를 파손시키는 것을 방지하게 되는 효과가 있다.

Claims (1)

1. 라이너 튜브의 내측에 내, 외측 튜브로 구성된 공정챔버어셈블리가 설치되어 있고, 상기 라이너 튜브의 외측에는 히터가 설치되어 있으며, 상기 공정챔버어셈블리의 하측에는 로드락 챔버가 설치되어 있고, 그 로드락 챔버의 내측에는 웨이퍼를 탑재하기 위한 보트가 설치되어 있는 반도체 종형 확산로에 있어서, 상기 로드락 챔버의 내부 일측벽에 상, 하측으로 일정간격을 두고 상, 하부스텝모터를 설치하고, 그 상, 하부스텝모터의 모터축에 각각 상, 하부회전암을 설치하며, 그 상부회전암의 전단부에 발광센서를 설치하고, 상기 하부회전암의 전단부에 수광센서를 설치하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 종형 확산로의 웨이퍼 미스로딩 검출장치.