KR19990011149A - Cleaning system for plasma display panels - Google Patents

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KR19990011149A
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Abstract

본 발명은 기판 위에 전극이나 격벽을 형성하기 전에 상기 기판 상에 존재하는 오염을 제거하는 PDP용 세정시스템에 관한 것으로서, 특히 상기 기판과 밀착되도록 설치된 롤 브러시를 회전시켜 상기 기판 상에 존재하는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 세정조와, 상기 제 1 세정조를 지난 기판을 향해 애시드를 분사하여 상기 기판 상에 남아있는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 애시드 샤워조와, 상기 기판과 밀착되도록 설치된 롤 브러시를 회전시켜 상기 기판 상에 남아있는 미세 오염을 제거하는 동작을 수행하는 제 2 세정조를 포함하여 구성된 PDP용 세정 시스템을 구비함으로써, 상기 기판의 다양한 오염에 대해 다각도로 대응할 수 있게 되어 시스템의 개조가 불필요하고 추가적인 설비 투자액이 절감되며 제품의 수율이 향상되도록 하는 PDP용 세정 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a PDP cleaning system that removes contamination present on the substrate before forming an electrode or partition on the substrate, and in particular, rotates a roll brush installed in close contact with the substrate to prevent contamination present on the substrate. A first cleaning bath performing a removing operation; an acid shower bath performing an operation of removing an contamination remaining on the substrate by spraying an acid toward the substrate past the first cleaning tank; and a roll provided to be in close contact with the substrate. By having a cleaning system for a PDP comprising a second cleaning tank for rotating the brush to remove the micro-contamination remaining on the substrate, it is possible to respond to the various contamination of the substrate at various angles PDP eliminates retrofitting, reduces additional equipment investment and improves product yield A cleaning system for

Description

플라스마 디스플레이 패널용 세정 시스템Cleaning system for plasma display panels

본 발명은 플라스마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : PDP ; 이하 PDP라 부름)의 제조 시스템에 관한 것으로서, 특히 유리기판 상에 전극이나 격벽을 형성시키기 전에 상기 유리기판의 표면오염을 제거하는 PDP용 세정 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP) manufacturing system, and more particularly, to a PDP cleaning system for removing surface contamination of the glass substrate before forming electrodes or partitions on the glass substrate. It is about.

일반적으로 PDP는 페닝(penning)가스를 방전 현상에 이용한 평판 표시 장치로서 플라스마 디스플레이 장치의 정보표시부를 구성하고 있으며, 방전 방식에 따라 AC(Alternating Current)형과 DC(Direct Current)형으로 나누어진다.In general, PDP is a flat panel display device using a penning gas for a discharge phenomenon, and constitutes an information display unit of a plasma display device. The PDP is divided into an alternating current (AC) type and a direct current (DC) type according to a discharge method.

일반적인 AC형 PDP는 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이 서로 대향되게 위치된 표면 유리기판(1)과 배면 유리기판(5)으로 이루어진다.A typical AC PDP consists of a surface glass substrate 1 and a rear glass substrate 5 positioned opposite to each other as shown in Figs. 1A and 1B.

여기서, 상기 표면 유리기판(1)은 하면에 형성된 표시 전극(2)과, 상기 표시 전극(2) 위에 형성된 유전체층(3)과, 상기 유전체층(3)에 증착된 산화 마스네슘(MgO)막인 보호층(4)으로 구성되고, 상기 배면 유리기판(5)은 상면에 형성된 어드레스(address) 전극(6)과, 상기 어드레스 전극(6) 사이에 스트라이프 모양으로 형성된 격벽(7)으로 구성된다.The surface glass substrate 1 may include a display electrode 2 formed on a bottom surface thereof, a dielectric layer 3 formed on the display electrode 2, and a magnesium oxide (MgO) film deposited on the dielectric layer 3. The back glass substrate 5 comprises an address electrode 6 formed on an upper surface thereof, and a partition wall 7 formed in a stripe shape between the address electrodes 6.

또한, 상기 격벽(7)은 상기 어드레스 전극(6)을 복수의 방전셀로 분리하는 역할을 하고, 상기 어드레스 전극(6)에는 피복하는 형태로 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체(8)가 구분되어 도포되며, 상기 표면 유리기판(1)과 배면 유리기판(5) 사이에는 네온(Ne)이나 헬륨(He), 크세논(Xe) 등의 방전 가스(9)가 채워져 있다.In addition, the partition wall 7 serves to separate the address electrode 6 into a plurality of discharge cells, and cover the address electrode 6 with red (R), green (G), and blue (B) shapes. Phosphor 8 is divided and applied, and discharge gas 9 such as neon, helium, and xenon is filled between the surface glass substrate 1 and the rear glass substrate 5. have.

또한, 상기 표면 유리기판(1)과 배면 유리기판(5)은 경화된 실링재(10)를 이용하여 프리트 실링(frit sealing)되며, 상기 표시 전극(2)과 어드레스 전극(6)이 서로 직교하도록 조립된다.In addition, the surface glass substrate 1 and the rear glass substrate 5 are frit sealed using a cured sealing material 10, so that the display electrode 2 and the address electrode 6 are perpendicular to each other. Are assembled.

상기와 같이 구성된 PDP는 투명 전극 상호 간에 전압을 인가함으로써 전극의 위에 있는 유전체층(3)과 보호층(4)의 표면에서 방전이 일어나 자외선이 발생하게 된다. 이 자외선에 의하여 상기 배면 유리기판(5)에 도포되어 있는 형광체가 여기하여 발광하며, 구분 도포된 형광체에 의해 컬러 표시가 된다.The PDP configured as described above discharges the surface of the dielectric layer 3 and the protective layer 4 on the electrode by applying a voltage between the transparent electrodes to generate ultraviolet rays. By the ultraviolet rays, the phosphor coated on the back glass substrate 5 is excited and emits light, and color display is performed by the phosphor coated separately.

도 2를 참조하여 종래 기술에 의한 PDP용 세정 시스템을 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 2, a cleaning system for a PDP according to the related art is as follows.

먼저, 참조번호 110은 유리기판(100)의 상면과 밀착되도록 설치된 디스크 브러시(disk brush)(111)를 회전시켜 상기 유리기판(100) 상의 오염을 제거하는 동작을 수행하는 디스크 브러시조를 나타내고, 참조번호 120은 상기 디스크 브러시조(110)의 뒤에 설치되고 상기 유리기판(100)의 상면과 밀착되도록 설치된 롤 브러시(roll brush)(121)를 회전시켜 상기 유리기판(100) 상에 남아있는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 롤 브러시조를 나타낸다.First, reference numeral 110 denotes a disk brush tank for performing an operation of removing contamination on the glass substrate 100 by rotating a disk brush 111 installed to be in close contact with the upper surface of the glass substrate 100. Reference numeral 120 denotes a contamination remaining on the glass substrate 100 by rotating a roll brush 121 installed behind the disk brush bath 110 and installed in close contact with the upper surface of the glass substrate 100. Represents a roll brush bath to perform the operation to remove the.

이때, 상기 유리기판(100)의 표면에 존재하는 오염의 제거정도는 상기 디스크 브러시(111)와 롤 브러시(121)의 회전력, 상기 유리기판(100)과 디스크 브러시(111)의 밀착력, 상기 유리기판(100)과 롤 브러시(121)의 밀착력, 상기 유리기판(100)의 이동속도 등에 의해서 결정된다.At this time, the degree of removal of contamination present on the surface of the glass substrate 100 is the rotational force of the disk brush 111 and the roll brush 121, the adhesion of the glass substrate 100 and the disk brush 111, the glass It is determined by the adhesion between the substrate 100 and the roll brush 121, the moving speed of the glass substrate 100, and the like.

또한, 참조번호 130은 상기 롤 브러시조(120)를 지난 유리기판(100)에 노즐(131)을 통해 순수를 분사하여 상기 유리기판(100)의 표면에 남아있는 잔류 오염을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 샤워조를 나타내고, 참조번호 140은 초음파를 이용하여 상기 제 1 샤워조(130)를 지난 유리기판(100) 상에 남아있는 미세 오염을 제거하는 동작을 수행하는 초음파조를 나타낸다.In addition, reference numeral 130 is an operation of removing the residual contamination remaining on the surface of the glass substrate 100 by spraying pure water through the nozzle 131 to the glass substrate 100 past the roll brush bath 120. A first shower bath is shown, and reference numeral 140 denotes an ultrasonic bath that performs an operation of removing fine contamination remaining on the glass substrate 100 past the first shower bath 130 using ultrasonic waves.

여기서, 상기 초음파조(140)는 순수가 저장되고 상면이 개구된 용기(141)와 상기 용기(141) 내에 설치된 초음파 발진기(143)를 구비하고 있다. 상기와 같이 구성된 초음파조(140)에서는 상기 유리기판(100)이 상기 용기(141)의 순수 속에 잠겨있는 상태에서 상기 초음파 발진기(143)에 의해 음파의 응집 및 분산 작용이 일어나면, 이러한 음파의 응집 및 분산 작용에 의하여 상기 유리기판(100) 상에 존재하는 미세 오염이 박리되어 세정이 이루어진다.Here, the ultrasonic bath 140 includes a container 141 in which pure water is stored and an upper surface thereof is opened, and an ultrasonic oscillator 143 installed in the container 141. In the ultrasonic bath 140 configured as described above, when the glass substrate 100 is immersed in the pure water of the container 141, the aggregation and dispersion of sound waves occur by the ultrasonic oscillator 143. And by the dispersing action, fine contamination existing on the glass substrate 100 is peeled off, and cleaning is performed.

또한, 참조번호 150은 상기 초음파조(140)를 지난 유리기판(100)으로 노즐(151)을 통해 순수를 분사하여 상기 유리기판(100) 상에 남아있는 부유물을 완전히 제거하는 동작을 수행하는 제 2 샤워조를 나타내고, 참조 번호 160는 상기 제 2 샤워조(150)을 지난 유리기판(100)으로 에어나이프(air knife)(161)를 통해 압축 공기를 분사하여 수분을 강제로 밀어내는 방식으로 상기 유리기판(100)을 건조시키는 동작을 수행하는 건조조를 나타낸다.In addition, reference numeral 150 denotes an agent for spraying pure water through the nozzle 151 to the glass substrate 100 past the ultrasonic bath 140 to completely remove the suspended matter remaining on the glass substrate 100. 2 denotes a shower tank, and reference numeral 160 denotes a method of forcibly pushing moisture by injecting compressed air through an air knife 161 to the glass substrate 100 passing through the second shower tank 150. Represents a drying tank performing an operation of drying the glass substrate 100.

여기서, 상기 유리기판(100)은 롤러의 회전에 의해 동작되는 컨베이어(101)를 통해 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지하지 않고 계속 이동된다.Here, the glass substrate 100 continues to move without stopping from the loader to the unloader through the conveyor 101 operated by the rotation of the roller.

그러나, 상기와 같이 구성된 PDP용 세정 시스템은 상기 유리기판(100)이 로딩부(Loader)에서 바로 디스크 브러시조(110)로 진행되기 때문에 외부의 오염물질이 상기 디스크 브러시조(110) 내로 침투할 수 있고, 갑작스러운 환경변화로 인하여 상기 디스크 브러시조(110) 내의 환경에 상기 유리기판(100)이 적응하지 못하는 문제점이 있다.However, in the cleaning system for the PDP configured as described above, since the glass substrate 100 proceeds directly to the disk brush bath 110 at the loader, external contaminants may penetrate into the disk brush bath 110. The glass substrate 100 may not adapt to the environment in the disc brush bath 110 due to a sudden change in the environment.

또한, 종래 기술에 따른 PDP용 세정 시스템은 디스크 브러시조(110)에서 디스크 브러시(111)의 마모가 심하고, 상기 디스크 브러시(111)와 유리기판(100) 간의 거리조정이 어려우며, 상기 유리기판(100)의 상측에만 디스크 브러시(111)가 설치되기 때문에 유리기판(100)이 휘게 되는 문제점이 있다.In addition, the cleaning system for a PDP according to the prior art is abrasion of the disk brush 111 in the disk brush tank 110, difficult to adjust the distance between the disk brush 111 and the glass substrate 100, the glass substrate ( Since the disc brush 111 is installed only on the upper side of the 100, the glass substrate 100 may be bent.

또한, 상기 디스크 브러시조(110)에서는 상기 디스크 브러시(111)의 회전으로 인하여 유리기판(100)의 표면에 훼손이 일어날 수도 있고, 한번 제거되었던 오염물질이 재부착될 수도 있으며, 상기한 이유로 유리기판(100)이 휘게 되면 상기 유리기판(100)의 전표면에 대한 균일한 세정이 불가능하게 되는 문제점이 있다.In addition, in the disk brush bath 110, damage may occur on the surface of the glass substrate 100 due to the rotation of the disk brush 111, and contaminants that have been removed once may be reattached. If the substrate 100 is bent, there is a problem that uniform cleaning of the entire surface of the glass substrate 100 is impossible.

또한, 종래 기술에 따른 PDP용 세정 시스템은 상기 롤 브러시조(120)에서 유리기판(100)과 롤 브러시(121)의 밀착정도가 불균일하거나 상기 롤 브러시(121)에 휨이 발생되면 상기 유리기판(100)의 전표면에 대해 균일한 세정을 할 수 없게 되는 문제점이 있다.In addition, the cleaning system for a PDP according to the related art is a glass substrate 100 in the roll brush tank 120 when the adhesion degree of the glass substrate 100 and the roll brush 121 is uneven or the bending occurs in the roll brush 121, the glass substrate There is a problem that uniform washing cannot be performed on the entire surface of (100).

또한, 종래 기술에 따른 PDP용 세정 시스템의 초음파조(140)에서는 유리기판(100)의 상면보다 하면의 세정이 더 잘 이루어지고, 유기오염의 세정이 잘 되지 않으며, 상기 용기(141)와 그 내부의 순수가 오염된 경우에는 유리기판(100)으로부터 박리된 오염물이 재부착되는 문제점이 있다.In addition, in the ultrasonic bath 140 of the PDP cleaning system according to the related art, the lower surface of the glass substrate 100 is cleaned better than the upper surface of the glass substrate 100, and the organic contamination is not well cleaned. If the pure water inside is contaminated, there is a problem that the contaminants peeled off from the glass substrate 100 are reattached.

또한, 상기 유리기판(100)은 가공업체의 가공기술에 따라 유리기판(100)의 표면오염의 종류 및 정도가 다양한데, 종래 기술에 따른 PDP용 세정 시스템은 상기 제 1 샤워조(130)와 제 2 샤워조(150)를 통해 순수만을 분사하기 때문에 유리기판(100)의 구입시 주로 문제가 되는 표면백화, 슬러지(sludge), 핀홀(pin hole), 파편, 잔류 연마제 등의 다양한 표면오염의 제거가 곤란한 문제점이 있다.In addition, the glass substrate 100 is a variety and type of surface contamination of the glass substrate 100 according to the processing technology of the processing company, PDP cleaning system according to the prior art is the first shower bath 130 and the first 2 Since only the pure water is injected through the shower tank 150, various surface contaminations such as surface whitening, sludge, pinholes, debris, and residual abrasives, which are mainly a problem when purchasing the glass substrate 100, are removed. There is a difficult problem.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 다양한 형태의 표면오염을 하나의 장비 내에서 모두 처리가능한 세정 시스템을 구비함으로써 유리기판의 오염에 대해 다각도로 대응할 수 있게 되어 제품의 수율이 향상 되도록 하는 PDP용 세정 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and by having a cleaning system that can handle various types of surface contamination in a single equipment, it is possible to cope with the contamination of the glass substrate at various angles, the yield of the product It is an object to provide a cleaning system for PDP to be improved.

도 1a는 일반적인 PDP의 구조가 도시된 구성도,Figure 1a is a block diagram showing the structure of a typical PDP,

도 1b는 PDP의 부분 단면이 도시된 구성도,1B is a configuration diagram showing a partial cross section of the PDP;

도 2는 종래 기술에 따른 PDP용 세정 시스템이 도시된 구성도,2 is a block diagram showing a cleaning system for a PDP according to the prior art,

도 3은 본 발명에 따른 PDP용 세정 시스템이 도시된 구성도,3 is a block diagram illustrating a cleaning system for a PDP according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 롤 브러쉬의 동작 상태도,4 is an operational state diagram of a roll brush according to the present invention;

도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 파이프 샤워가 도시된 구성도,5a to 5c is a block diagram showing a pipe shower according to the present invention,

도 6a는 본 발명에 따른 에어커튼이 도시된 구성도,Figure 6a is a block diagram showing an air curtain according to the present invention,

도 6b는 본 발명에 따른 에어커튼의 동작 상태도이다.6b is an operational state diagram of the air curtain according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

500 : 유리기판 510 : 제 1 대기조500: glass substrate 510: first atmospheric tank

520 : 제 1 세정조 530 : 제 2 대기조520: first cleaning tank 530: second atmospheric tank

540 : 애시드 샤워조 550 : 제 1 샤워조540: acid shower bath 550: first shower bath

560 : 제 2 세정조 570 : 제 2 샤워조560: second cleaning tank 570: second shower tank

580 : 린스조 590 : 건조조580: rinse tank 590: drying tank

600 : 에어커튼 601 : 공기 주입구600: air curtain 601: air inlet

603 : 몸체 605 : 슬리트603: Body 605: Slit

610 : 파이프 샤워 611 : 세정제 주입구610: pipe shower 611: cleaning agent inlet

613 : 몸체 615 : 구멍613: Body 615: Hole

620 : 롤 브러시620: Roll Brush

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 PDP용 세정 시스템의 특징은 기판 위에 전극이나 격벽을 형성하기 전에 상기 기판 상에 존재하는 오염을 제거하는 PDP용 세정시스템에 있어서, 상기 기판과 밀착되도록 설치된 롤 브러시를 회전시켜 상기 기판 상에 존재하는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 세정조와, 상기 제 1 세정조를 지난 기판을 향해 애시드(acid)를 분사하여 상기 기판 상에 남아있는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 애시드 샤워조와, 상기 애시드 샤워조를 지난 기판을 향해 순수를 분사하여 상기 기판 상에 남아있는 애시드와 부유물을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 샤워조와, 상기 제 1 샤워조를 지난 기판과 밀착되도록 설치된 롤 브러시를 회전시켜 상기 기판 상에 남아있는 미세 오염을 제거하는 제 2 세정조와, 상기 제 2 세정조를 지난 기판을 향해 순수를 분사하여 상기 기판 상에 남아있는 미세 부유물을 제거하는 동작을 수행하는 제 2 샤워조와, 상기 제 2 샤워조를 지난 기판을 향해 순수를 분사하여 기판 상에 남아있는 오염을 완전히 제거하는 동작을 수행하는 린스조와, 상기 린스조를 지난 기판을 향해 압축공기를 분사하여 상기 기판을 건조시키는 동작을 수행하는 건조조를 포함하여 구성된 것이다.A feature of the PDP cleaning system according to the present invention for achieving the above object is a cleaning system for a PDP which removes contamination present on the substrate before forming an electrode or a partition on the substrate, wherein the PDP cleaning system is installed to be in close contact with the substrate. A first cleaning tank performing an operation of removing the contamination present on the substrate by rotating the roll brush; and spraying acid toward the substrate past the first cleaning tank to remove the contamination remaining on the substrate. An acid shower bath for performing an operation of performing an operation, a first shower tank for spraying pure water toward the substrate passing through the acid shower tank to remove acid and suspended matter remaining on the substrate, and a first shower tank passing through the first shower tank A second cleaning bath for rotating the roll brush provided to be in close contact with the substrate to remove fine contamination remaining on the substrate; A second shower bath for spraying pure water toward the substrate past the bath to remove fine suspended matter remaining on the substrate, and contamination remaining on the substrate by spraying pure water toward the substrate past the second shower bath And a rinsing tank for completely removing the rinse tank, and a drying tank for drying the substrate by spraying compressed air toward the substrate past the rinsing tank.

또한, 본 발명의 부가적인 특징은, 상기 제 1 세정조의 앞과 뒤에는 각각 외부로부터 공급된 기판을 시스템 내부의 환경에 적응시키는 동작을 수행하는 제 1 대기조와, 상기 애시드 샤워조에서 사용된 애시드가 기판을 타고 상기 제 1 세정조로 흘러드는 것을 방지하는 동작을 수행하는 제 2 대기조가 설치되고, 상기 제 1 세정조의 입구, 상기 제 2 대기조의 입구, 상기 애시드 샤워조의 입구과 출구, 상기 건조조의 입구측에는 에어커튼(air curtain)이 설치되며, 상기 에어커튼은 압축 공기가 공급되는 공기 주입구와, 상기 공기 주입구와 연결된 몸체와, 상기 몸체와 결합되어 압축 공기를 분사하는 슬리트(slit)로 구성되는데 있다.In addition, an additional feature of the present invention is that the front and rear of the first cleaning tank, respectively, the first atmospheric tank to perform the operation of adapting the substrate supplied from the outside to the environment inside the system, and the acid used in the acid shower bath A second atmospheric tank is installed to prevent the substrate from flowing into the first cleaning tank, and an inlet of the first cleaning tank, an inlet of the second waiting tank, an inlet and an outlet of the acid shower bath, and an inlet side of the drying tank are provided. An air curtain is installed, and the air curtain is composed of an air inlet port through which compressed air is supplied, a body connected to the air inlet port, and a slit coupled to the body to inject compressed air. .

또한, 본 발명의 다른 부가적인 특징은, 상기 제 1 세정조와 제 2 세정조에는 상기 기판의 상측과 하측에 각각 적어도 하나 이상의 롤 브러시가 설치되고, 상기 제 1 세정조와 제 2 세정조는 그 상부에 상기 기판을 향해 세정제를 분사하는 파이프 샤워(pipe shower)가 각각 설치되며, 상기 파이프 샤워는 세정제가 공급되는 세정제 공급구와, 상기 세정제 공급구와 연결되고 하측면에 다수의 구멍이 형성된 원통형의 몸체로 구성되는데 있다.In addition, another additional feature of the present invention is that the first cleaning tank and the second cleaning tank are provided with at least one roll brush on the upper side and the lower side of the substrate, respectively, the first cleaning tank and the second cleaning tank at the top thereof Pipe showers for spraying a cleaner toward the substrate are provided, respectively, and the pipe shower is configured of a cleaner supply port through which a cleaner is supplied, and a cylindrical body connected to the cleaner supply port and having a plurality of holes formed in a lower side thereof. It is.

또한, 본 발명의 다른 부가적인 특징은, 상기 제 1 세정조는 상기 파이프 샤워를 통해 공급되는 세정제가 중성세제이고, 상기 제 2 세정조는 상기 파이프 샤워를 통해 공급되는 세정제가 순수인데 있다.In addition, another additional feature of the present invention is that the first cleaning bath is a neutral detergent supplied through the pipe shower, and the second cleaning bath is a pure water supplied through the pipe shower.

또한, 상기와 같이 구성된 본 발명은 기판의 다양한 오염에 대해 다각도로 대응할 수 있게 되어 시스템의 개조가 불필요하고 추가적인 설비 투자액이 절감되며 제품의 수율이 향상되는 이점이 있다.In addition, the present invention configured as described above is able to cope with various angles to the various contamination of the substrate, there is an advantage that the system does not need to be retrofitted, additional equipment investment is reduced and the yield of the product is improved.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 PDP용 세정 시스템이 도시된 구성도, 도 4는 본 발명에 따른 롤 브러쉬의 동작 상태도, 도 5a는 본 발명에 따른 파이프 샤워가 도시된 사시도, 도 5b는 도 5a의 단면도, 도 5c는 도 5a의 저면도, 도 6a는 본 발명에 따른 에어커튼이 도시된 구성도, 도 6b는 본 발명에 따른 에어커튼의 동작 상태도, 이다.3 is a configuration diagram showing a cleaning system for a PDP according to the present invention, Figure 4 is an operational state diagram of a roll brush according to the present invention, Figure 5a is a perspective view showing a pipe shower according to the present invention, Figure 5b is Figure 5a 5C is a bottom view of FIG. 5A, FIG. 6A is a configuration diagram showing an air curtain according to the present invention, and FIG. 6B is an operation state diagram of the air curtain according to the present invention.

도 3을 참조하여 본 발명에 따른 PDP용 세정 시스템을 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 3 describes a cleaning system for a PDP according to the present invention.

먼조, 참조번호 520은 유리기판(500)과 밀착되도록 설치된 롤 브러시(620)를 회전시켜 상기 유리기판(500) 상에 존재하는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 세정조를 나타내고, 참조번호 510은 상기 제 1 세정조(520)의 앞에 설치되어 외부로부터 공급된 유리기판(500)을 시스템 내의 환경에 적응시키는 동작을 수행하는 제 1 대기조를 나타낸다.First, reference numeral 520 denotes a first cleaning tank for rotating the roll brush 620 installed to be in close contact with the glass substrate 500 to remove the contamination present on the glass substrate 500. 510 denotes a first atmospheric tank installed in front of the first cleaning tank 520 and adapted to adapt the glass substrate 500 supplied from the outside to the environment in the system.

또한, 참조번호 540은 상기 제 1 세정조(520)를 지난 유리기판(500)으로 노즐(541)을 통해 애시드를 분사하여 상기 유리기판(500) 상의 표면백화, 슬러지, 잔류 연마제, 핀홀, 표면 스크래치(scratch) 등의 표면오염을 제거하는 동작을 수행하는 애시드 샤워조를 나타낸다. 이때, 상기 애시드는 유리기판(500)의 상면으로 균일하게 분사되도록 원추형의 스프레이(spray) 형태로 분사된다.In addition, reference numeral 540 denotes a surface whitening, sludge, residual abrasive, pinhole, surface on the glass substrate 500 by spraying an acid through the nozzle 541 onto the glass substrate 500 passing the first cleaning tank 520. An acid shower bath which performs an operation of removing surface contamination such as scratches is shown. At this time, the acid is sprayed in the form of a spray (conical spray) to be uniformly sprayed on the upper surface of the glass substrate 500.

또한, 참조번호 530은 상기 제 1 세정조(520)와 애시드 샤워조(540) 사이에 설치되어 상기 제 1 세정조(520)와 애시드 샤워조(540)를 차단하는 동작을 수행하는 제 2 대기조를 나타내고, 참조번호 550은 상기 애시드 샤워조(540)를 지난 유리기판(500)으로 노즐(551)을 통해 순수를 분사하여 상기 유리기판(500) 상에 남아있는 애시드와 부유물을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 샤워조를 나타내며, 참조번호 560은 상기 제 1 샤워조(550)를 지난 유리기판(500)과 밀착되도록 설치된 롤 브러시(620)를 회전시켜 상기 유리기판(500) 상에 남아있는 미세 오염을 제거하는 제 2 세정조를 나타낸다.Also, reference numeral 530 is provided between the first cleaning tank 520 and the acid shower tank 540 to perform the operation of blocking the first cleaning tank 520 and the acid shower tank 540. Reference numeral 550 denotes an operation of removing pure acid and suspended matter remaining on the glass substrate 500 by spraying pure water through the nozzle 551 to the glass substrate 500 passing the acid shower tank 540. The first shower bath is performed, and reference numeral 560 rotates the roll brush 620 installed to be in close contact with the glass substrate 500 passing through the first shower bath 550 and remains on the glass substrate 500. The 2nd washing tank which removes microcontamination is shown.

또한, 참조번호 570은 상기 제 2 세정조(560)를 지난 유리기판(500)으로 노즐(571)을 통해 순수를 분사하여 상기 유리기판(500) 상에 남아있는 미세 부유물을 제거하는 동작을 수행하는 제 2 샤워조를 나타내고, 참조번호 580은 상기 제 2 샤워조(570)를 지난 유리기판(500)으로 노즐(581)을 통해 초순수를 분사하여 상기 유리기판(500) 상에 남아있는 오염을 완전히 제거하는 동작을 수행하는 린스조를 나타내며, 참조번호 590은 상기 린스조(580)를 지난 유리기판(500)으로 에어나이프(air knife)(591)를 통해 압축 공기를 분사하여 수분을 강제로 밀어내는 방식으로 상기 유리기판(500)을 건조시키는 동작을 수행하는 건조조를 나타낸다.In addition, reference numeral 570 performs an operation of removing fine suspended matter remaining on the glass substrate 500 by spraying pure water through the nozzle 571 to the glass substrate 500 passing through the second cleaning tank 560. A second shower bath is shown, and reference numeral 580 denotes a glass substrate 500 passing through the second shower bath 570 to spray ultrapure water through the nozzle 581 to prevent contamination remaining on the glass substrate 500. A rinsing tank which performs an operation of removing completely, reference numeral 590 denotes a glass substrate 500 passing through the rinsing tank 580 and sprays compressed air through an air knife 591 to force moisture. Represents a drying tank that performs an operation of drying the glass substrate 500 by pushing.

여기서, 상기 제 1 세정조(520)와 제 2 세정조(560)는 도 4 내지 도 5c에 도시된 바와 같이 상기 유리기판(500)의 상하측에 적어도 하나 이상의 롤 브러시(620)가 각각 설치되고, 그 상부에는 상기 유리기판(500)을 향해 세정제를 분사할 수 있도록 세정제가 공급되는 세정제 공급구(611)와, 상기 세정제 공급구(611)와 연결되고 하측면에 다수의 구멍(615)이 형성된 원통형의 몸체(613)로 구성된 파이프 샤워(610)가 설치된다.Here, the first cleaning tank 520 and the second cleaning tank 560, at least one roll brush 620 is installed on the upper and lower sides of the glass substrate 500, respectively, as shown in Figs. In the upper part, a cleaner supply port 611 through which a cleaner is supplied to spray the cleaner toward the glass substrate 500, and a plurality of holes 615 connected to the cleaner supply port 611 and lower side thereof. A pipe shower 610 composed of the formed cylindrical body 613 is installed.

상기와 같이 구성된 제 1 세정조(520)와 제 2 세정조(560)는 상기 유리기판(500)이 이동하는 방향과 반대방향으로 상기 롤 브러시(620)를 회전되어 그 상호 회전력에 의해 세정이 이루어지며, 상기 롤 브러시(620)의 회전력 및 상기 롤 브러시(620)와 유리기판(500) 사이의 간격 조절이 용이하도록 상기 롤 브러시(620)를 설치하여 세정력을 향상시킨다.The first cleaning tank 520 and the second cleaning tank 560 configured as described above are rotated by the roll brush 620 in a direction opposite to the direction in which the glass substrate 500 moves, and cleaning is performed by the mutual rotational force. The roll brush 620 is installed to facilitate the rotational force of the roll brush 620 and the gap between the roll brush 620 and the glass substrate 500 to improve cleaning power.

또한, 상기 제 1 세정조(520)에서는 상기 롤 브러시(620)의 오염 및 제거된 오염입자의 비산을 방지하고 상기 유리기판(500) 상의 유기오염을 제거할 수 있도록 상기 파이프 샤워(620)를 통해 중성세제를 분사하고, 상기 제 2 세정조(560)에서는 미세한 유기오염 및 메탈오염을 제거하도록 순수를 분사한다.In addition, in the first cleaning tank 520, the pipe shower 620 may be prevented to prevent contamination of the roll brush 620 and scattering of the removed contaminants and to remove organic pollution on the glass substrate 500. Neutral detergent is sprayed through, and the second cleaning tank 560 sprays pure water to remove fine organic and metal contamination.

또한, 상기 제 1 세정조(520)의 입구, 상기 제 2 대기조(530)의 입구, 상기 애시드 샤워조(540)의 입구와 출구, 상기 건조조(590)의 입구측에는 도 6a와 같이 압축 공기가 공급되는 공기 주입구(601)와, 상기 공기 주입구(601)와 연결되어 압축공기가 유입된 몸체(603)와, 상기 몸체(603)와 결합되어 압축 공기를 분사하는 슬리트(605)로 구성되어, 상기 유리기판(500)을 향해 압축 공기를 분사하는 에어 커튼(600)이 상기 유리기판(500)의 상하측에 위치되도록 각각 설치되어 있다.In addition, the inlet of the first cleaning tank 520, the inlet of the second atmospheric tank 530, the inlet and outlet of the acid shower tank 540, the inlet side of the drying tank 590 as shown in Figure 6a It is composed of an air inlet 601 is supplied, the body 603 is connected to the air inlet 601, the compressed air is introduced, and the slits 605 are coupled to the body 603 to inject the compressed air Thus, the air curtain 600 for injecting compressed air toward the glass substrate 500 is provided so as to be located on the upper and lower sides of the glass substrate 500.

상기와 같이 구성된 상기 에어 커튼(600)은 도 6b에 도시된 바와 같이 상기 슬리트(605)를 통해 상기 유리기판(500)으로 압축 공기를 분사함으로써 상기한 각각의 작업조에서 상기 유리기판(500)을 향해 분사되는 중성세제, 애시드, 순수 등이 상기 유리기판(500)을 타고 다른 작업조로 흘러드는 것을 방지하는 차단막 역할을 한다.The air curtain 600 configured as described above is sprayed compressed air to the glass substrate 500 through the slits 605 as shown in FIG. Neutral detergent, acid, pure water, etc. sprayed toward) serves as a blocking film to prevent the glass substrate 500 from flowing into another working tank.

상기와 같이 구성된 세정 시스템에서 상기 유리기판(500)은 롤러(503)의 회전에 의해 동작되는 컨베이어(501)를 통해 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지하지 않고 계속 이동된다.In the cleaning system configured as described above, the glass substrate 500 continues to move without stopping from the loader to the unloader through the conveyor 501 operated by the rotation of the roller 503.

상기와 같이 구성되고 동작되는 본 발명에 따른 PDP용 세정 시스템은 유리기판(500) 상에 존재하는 표면백화, 무기오염, 유기오염, 슬러지, 핀홀, 잔류 연마제, 파편 등 다양한 형태의 표면오염을 하나의 장비 내에서 모두 처리가능한 세정 시스템을 구비함으로써 유리기판(500)의 오염에 대해 다각도로 대응할 수 있어 시스템의 개조가 불필요하고 추가적인 설비 투자액이 절감되며 제품의 수율이 향상되는 이점이 있다.PDP cleaning system according to the present invention configured and operated as described above is one of various surface contamination such as surface whitening, inorganic pollution, organic pollution, sludge, pinhole, residual abrasive, debris existing on the glass substrate 500 By providing a cleaning system that can handle all of the equipment in the equipment can be coped with a multi-angle response to contamination of the glass substrate 500, there is no need to modify the system, additional equipment investment is reduced and the yield of the product is improved.

또한, 본 발명은 다양한 형태의 오염에 대해 모두 대응 가능하므로 상기 유리기판(500)의 수입시 요구되는 정밀검사가 필요없고, 유리기판(500)의 구입처를 다각화하여 그로 인한 가격절감을 꾀할 수 있는 이점이 있다.In addition, since the present invention can cope with all kinds of contamination, it is not necessary to perform the overhaul required when the glass substrate 500 is imported, and the price of the glass substrate 500 can be diversified to reduce the cost. There is an advantage.

Claims (9)

기판 위에 전극이나 격벽을 형성하기 전에 상기 기판 상에 존재하는 오염을 제거하는 PDP용 세정시스템에 있어서,In the cleaning system for PDP to remove the contamination present on the substrate before forming an electrode or partition on the substrate, 상기 기판과 밀착되도록 설치된 롤 브러시를 회전시켜 상기 기판 상에 존재하는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 세정조와, 상기 제 1 세정조를 지난 기판을 향해 애시드를 분사하여 상기 기판 상에 남아있는 오염을 제거하는 동작을 수행하는 애시드 샤워조와, 상기 애시드 샤워조를 지난 기판을 향해 순수를 분사하여 상기 기판 상에 남아있는 애시드와 부유물을 제거하는 동작을 수행하는 제 1 샤워조와, 상기 제 1 샤워조를 지난 기판과 밀착되도록 설치된 롤 브러시를 회전시켜 상기 기판 상에 남아있는 미세 오염을 제거하는 제 2 세정조와, 상기 제 2 세정조를 지난 기판을 향해 순수를 분사하여 상기 기판 상에 남아있는 미세 부유물을 제거하는 동작을 수행하는 제 2 샤워조와, 상기 제 2 샤워조를 지난 기판을 향해 순수를 분사하여 기판 상에 남아있는 오염을 완전히 제거하는 동작을 수행하는 린스조와, 상기 린스조를 지난 기판을 향해 압축공기를 분사하여 상기 기판을 건조시키는 동작을 수행하는 건조조를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.A first cleaning tank performing an operation of removing contamination present on the substrate by rotating a roll brush provided to be in close contact with the substrate, and an acid is sprayed toward the substrate past the first cleaning tank to remain on the substrate; An acid shower bath for removing contamination; a first shower bath for spraying pure water toward a substrate past the acid shower tank to remove acid and suspended matter remaining on the substrate; and the first shower A second cleaning tank that rotates a roll brush installed to closely adhere to the substrate passing through the tank to remove fine contamination remaining on the substrate, and fine water remaining on the substrate by spraying pure water toward the substrate past the second cleaning tank; A second shower bath which performs an operation of removing floating matter, and pure water is sprayed toward the substrate past the second shower bath, A rinse tank for completely removing any contaminants, and a drying tank for drying the substrate by spraying compressed air toward the substrate past the rinse tank. . 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 세정조의 앞과 뒤에는 각각 외부로부터 공급된 기판을 시스템 내부의 환경에 적응시키는 동작을 수행하는 제 1 대기조와, 상기 애시드 샤워조에서 사용된 애시드가 기판을 타고 상기 제 1 세정조로 흘러드는 것을 방지하는 동작을 수행하는 제 2 대기조가 설치된 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.In front of and behind the first cleaning tank, respectively, a first atmospheric tank which performs an operation of adapting the substrate supplied from the outside to the environment inside the system, and an acid used in the acid shower bath flows into the first cleaning tank via the substrate. A cleaning system for a PDP, characterized in that a second atmospheric tank is installed to perform an operation of preventing the same. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 1 세정조의 입구, 상기 제 2 대기조의 입구, 상기 애시드 샤워조의 입구과 출구, 상기 건조조의 입구측에는 에어커튼이 설치된 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템PDP cleaning system, characterized in that the air curtain is installed on the inlet of the first cleaning tank, the inlet of the second atmospheric tank, the inlet and outlet of the acid shower tank, the inlet of the drying tank. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 에어커튼은 압축 공기가 공급되는 공기 주입구와, 상기 공기 주입구와 연결된 몸체와, 상기 몸체와 결합되어 압축 공기를 분사하는 슬리트로 구성된 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.The air curtain is a cleaning system for a PDP, characterized in that the compressed air is supplied with an air inlet, the body connected to the air inlet, and the body is combined with the slitting to inject compressed air. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 세정조와 제 2 세정조에는 상기 기판의 상측과 하측에 각각 적어도 하나 이상의 롤 브러시가 설치된 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.And at least one roll brush is provided at the upper side and the lower side of the substrate, respectively, in the first and second cleaning tanks. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제 1 세정조와 제 2 세정조는 그 상부에 상기 기판을 향해 세정제를 분사하는 파이프 샤워가 각각 설치된 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.The cleaning system for a PDP, wherein the first cleaning tank and the second cleaning tank are respectively provided with pipe showers for injecting a cleaning agent toward the substrate. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 파이프 샤워는 세정제가 공급되는 세정제 공급구와, 상기 세정제 공급구와 연결되고 하측면에 다수의 구멍이 형성된 원통형의 몸체로 구성된 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.The pipe shower is a cleaning system for a PDP, characterized in that consisting of a cylindrical body having a plurality of holes formed in the lower side and connected to the cleaner supply port, the cleaning agent supply port. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제 1 세정조는 상기 파이프 샤워를 통해 공급되는 세정제가 중성세제인 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.The first cleaning tank is a cleaning system for a PDP, characterized in that the cleaning agent supplied through the pipe shower is a neutral detergent. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제 2 세정조는 상기 파이프 샤워를 통해 공급되는 세정제가 순수인 것을 특징으로 하는 PDP용 세정 시스템.The second cleaning tank is a cleaning system for a PDP, characterized in that the cleaning agent supplied through the pipe shower is pure water.
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