KR19980083964A - Plasma spraying device and method for manufacturing PDP bulkhead using the same - Google Patents

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KR19980083964A KR1019970019484A KR19970019484A KR19980083964A KR 19980083964 A KR19980083964 A KR 19980083964A KR 1019970019484 A KR1019970019484 A KR 1019970019484A KR 19970019484 A KR19970019484 A KR 19970019484A KR 19980083964 A KR19980083964 A KR 19980083964A
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이윤관
김제석
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Abstract

플라즈마 스프레잉(plasma spraying) 장치 및 이를 이용한 피디피(Plasma Display Panel ; PDP) 격벽 제조방법에 관한 것으로, 기판상의 소정영역에 일정 간격을 갖는 마스크 패턴들을 형성한 후, 마스크 패턴이 형성된 기판을 플라즈마 스프레잉 장치의 홀더에 고정시킨 다음, 플라즈마 스프레잉 장치의 가스관에 반응 가스를 주입하면서 전극에 전압을 걸어주어 플라즈마를 발생시킨다. 그리고 플라즈마를 기판으로 분사시키면서 플라즈마에 격벽 물질을 공급하여 마스크 패턴 사이의 기판상에 격벽을 형성한 후, 마스크 패턴들을 제거함으로써, 공정 시간이 짧고 제작 비용이 절감되며, 격벽의 정밀도 및 특성이 매우 좋으므로, 생산성 및 수율이 향상된다.The present invention relates to a plasma spraying apparatus and a method for manufacturing a plasma display panel (PDP) partition wall using the same, wherein after forming mask patterns having a predetermined interval in a predetermined region on the substrate, the substrate on which the mask pattern is formed is plasma sprayed. After fixing to the holder of the Ying apparatus, a plasma is generated by applying a voltage to the electrode while injecting the reaction gas into the gas pipe of the plasma spraying apparatus. By supplying a barrier material to the plasma while injecting the plasma into the substrate to form a partition on the substrate between the mask patterns, and removing the mask patterns, the process time is short, manufacturing cost is reduced, and the precision and characteristics of the partition are very high. Since it is good, productivity and a yield are improved.

Description

플라즈마 스프레잉 장치 및 이를 이용한 피디피(PDP) 격벽 제조방법Plasma spraying device and method for manufacturing PDP bulkhead using the same

본 발명은 피디피(PDP) 제조방법에 관한 것으로, 특히 플라즈마 스프레잉(plasma spraying) 장치 및 이를 이용한 피디피(Plasma Display Panel ; PDP) 격벽 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a PDP manufacturing method, and more particularly, to a plasma spraying device and a PDP partition wall manufacturing method using the same.

일반적으로, 플라즈마 디스플레이는 기체 방전시 발생하는 플라즈마로부터 나오는 빛을 이용하여 영상을 제공하는 것으로, 방전되는 플라즈마는 미세한 격벽에 의해 격리되어 단위 셀을 구성하고 있다.In general, a plasma display provides an image using light emitted from a plasma generated during gas discharge, and the discharged plasma is separated by a fine partition wall to constitute a unit cell.

미세한 격벽에 의해 구성된 단위 셀을 구동회로에 의해 선택적으로 발광시킴으로써 영상을 구현하는데, 실제 플라즈마 디스플레이를 제작할 때에 100㎛ 정도되는 단위 셀을 유리 기판위에 형성하는 것은 상당히 어렵다.An image is realized by selectively emitting light of a unit cell formed by a fine partition wall by a driving circuit. It is quite difficult to form a unit cell of about 100 μm on a glass substrate when fabricating an actual plasma display.

이와 같은 플라즈마 디스플레이의 미세한 격벽 형성을 위해 최근에는 스크린 인쇄(screen print)법, 샌드 브래스트(sand blast)법, 감광성 페이스트(paste)법, 첨가(additive)법 등을 사용한다.Recently, a screen print method, a sand blast method, a photosensitive paste method, an additive method, and the like are used to form a fine partition wall of such a plasma display.

스크린 인쇄법은 도 1a에 도시된 바와 같이 기판상에 유리 페이스트를 7-8회 정도 반복하여 인쇄 및 건조시킨 후, 소성하여 격벽을 만드는 공정이다.Screen printing is a process of printing and drying the glass paste on the substrate by repeating about 7-8 times as shown in FIG.

그러나, 양산시 제조시간이 매우 길고 격벽의 정밀도가 좋지 못하다.However, during mass production, the manufacturing time is very long and the partition wall precision is not good.

샌드 브래스트법은 도 1b에 도시된 바와 같이 기판상에 유리 페이스트를 도포하고 건조시킨 후, 레지스터를 마스크로 유리 페이스트의 소정영역을 샌딩 처리로 제거한다. 그리고, 레지스트를 제거한 후 유리 페이스트를 소성하여 격벽을 제조하는 공정으로, 제조시간은 비교적 짧지만 재료 손실이 많고 샌딩 처리 과정에서 생성된 폐기물이 공해 물질이기 때문에 환경 처리를 위한 비용 발생의 부담이 있다.In the sand blasting method, after applying and drying the glass paste on the substrate as shown in Fig. 1B, a predetermined region of the glass paste is removed by sanding treatment using a resist as a mask. In addition, the process of manufacturing the partition wall by firing the glass paste after removing the resist, although the manufacturing time is relatively short, there is a lot of material loss, and the waste generated during the sanding process is a pollution material, so there is a burden of cost for environmental treatment. .

그리고, 감광성 페이스트법은 도 1c에 도시된 바와 같이 기판상에 감광성 페이스트를 도포하고 건조한 다음, 마스크를 사용하여 감광성 페이스트를 노광 및 현상한다. 그리고 감광성 페이스트를 식각하는 공정으로 10회 정도의 반복 작업에 의해 격벽이 형성되는데, 정밀한 치수 조정은 가능하나 감광성 유리 페이스트의 가격이 비싸고 제작시간이 길어진다는 단점이 있다.In the photosensitive paste method, the photosensitive paste is coated on a substrate as shown in FIG. 1C and dried, and then the photosensitive paste is exposed and developed using a mask. In addition, the barrier rib is formed by the process of etching the photosensitive paste about 10 times, but precise dimension adjustment is possible, but the disadvantage is that the cost of the photosensitive glass paste is high and the production time is long.

첨가법은 도 1d에 도시된 바와 같이 기판상에 레지스터(register)를 도포하고 레지스터를 노광 및 현상시킨 후, 현상된 레지스터 사이에 유리 페이스트를 도포하고 건조 및 연마시킨다. 그리고, 레지스터를 제거하고 소성하여 격벽을 형성하는 공정으로, 제작시간 및 비용 부담이 많다는 단점이 있다.The addition method applies a register on the substrate as shown in FIG. 1D, exposes and develops the resistor, and then applies, dries and polishes the glass paste between the developed resistors. In addition, the process of forming a partition by removing and firing the resistor has a disadvantage in that it takes a lot of manufacturing time and cost.

종래 기술에 따른 피디피 격벽 제조방법에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있었다.The prior art PD barrier manufacturing method has the following problems.

첫째, 제작 시간이 길고 제작 비용의 부담이 많다.First, the production time is long and the burden of the production cost is high.

둘째, 격벽의 정밀도 및 특성이 좋지 못하여 생산성 및 수율이 낮다.Second, the productivity and yield are low due to the poor precision and characteristics of the bulkhead.

본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 제작 시간 및 제조 단가를 줄이고 격벽의 정밀도 및 특성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 스프레잉 장치 및 그를 이용한 피디피 격벽 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a plasma spraying device and a method for manufacturing a PD barrier rib using the same, which can reduce manufacturing time and manufacturing cost and improve the precision and characteristics of the barrier rib.

도 1a 내지 1d는 종래 기술에 따른 피디피 격벽 제조공정을 보여주는 공정단면도Figure 1a to 1d is a cross-sectional view showing a manufacturing process PDPD according to the prior art

도 2은 본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치를 보여주는 도면2 shows a plasma spraying device according to the present invention;

도 3a 내지 3c는 본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조공정을 보여주는 공정단면도Figure 3a to 3c is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the PD barrier using the plasma spraying device according to the present invention

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 냉각관2 : 애노드 전극1 cooling tube 2 anode electrode

3 : 캐소드 전극4 : 가스관3: cathode electrode 4: gas pipe

5 : 노즐6 : 피더5: nozzle 6: feeder

7 : 플라즈마 프레임8 : 홀더7: plasma frame 8: holder

9,11 : 기판12 : 마스크 패턴9,11 substrate 12 mask pattern

13 : 격벽13: bulkhead

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치는 제 1 전극과, 제 1 전극을 에워싸도록 형성되며 일측 끝에 노즐을 갖는 제 2 전극과, 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 형성되고 공급되는 가스를 플라즈마 상태로 만들어 노즐을 통해 외부로 분사시키는 가스관과, 노즐의 일측에 형성되고 원하는 위치에 형성하고자 하는 물질을 노즐을 통해 외부로 분사되는 플라즈마에 공급하는 피더로 구성됨에 그 특징이 있다.Plasma spraying apparatus according to the present invention for achieving the above object is formed so as to surround the first electrode, the first electrode and having a nozzle at one end, between the first electrode and the second electrode It is composed of a gas pipe for forming the gas to be formed and supplied into a plasma state and spraying it to the outside through the nozzle, and a feeder for supplying a substance formed on one side of the nozzle and to be sprayed to the outside through the nozzle. There is a characteristic.

본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법은 기판상의 소정영역에 일정 간격을 갖는 마스크 패턴들을 형성하는 스텝과, 각 마스크 패턴 사이의 기판상에 플라즈마 스프레잉 시스템을 이용하여 격벽을 형성하는 스텝과, 마스크 패턴들을 제거하는 스텝으로 이루어짐에 그 특징이 있다.In the method for manufacturing a PD barrier using a plasma spraying apparatus according to the present invention, a step of forming mask patterns having a predetermined interval in a predetermined region on a substrate is formed, and a barrier is formed on the substrate between the mask patterns by using a plasma spraying system. It is characterized by consisting of a step for removing and removing the mask patterns.

본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법은 기판상의 소정영역에 일정 간격을 갖는 마스크 패턴들을 형성하는 스텝과, 마스크 패턴이 형성된 기판을 플라즈마 스프레잉 장치의 홀더에 고정시키는 스텝과, 플라즈마 스프레잉 장치의 가스관에 반응 가스를 주입하면서 전극에 전압을 걸어주어 플라즈마를 발생시키는 스텝과, 플라즈마를 기판으로 분사시키면서 플라즈마에 격벽 물질을 공급하여 마스크 패턴 사이의 기판상에 격벽을 형성하는 스텝과, 마스크 패턴들을 제거하는 스텝으로 이루어짐에 그 특징이 있다.According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a PD barrier rib using a plasma spraying apparatus, the method comprising: forming mask patterns having a predetermined interval in a predetermined region on a substrate; fixing the substrate on which the mask pattern is formed to a holder of the plasma spraying apparatus; Generating a plasma by applying a voltage to an electrode while injecting a reactive gas into a gas pipe of the plasma spraying device, and supplying a barrier material to the plasma while injecting the plasma into the substrate to form a partition on the substrate between the mask patterns. And a step of removing the mask patterns.

이와 같은 특징을 갖는 본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치 및 그를 이용한 피디피 격벽 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, a plasma spraying apparatus and a method for manufacturing a PD barrier rib using the same according to the present invention having such characteristics are as follows.

도 2은 피디피(PDP) 격벽을 형성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치를 보여주는 도면이고, 도 3a 내지 3c는 본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조공정을 보여주는 공정단면도이다.2 is a view showing a plasma spraying apparatus according to the present invention for forming a PDP partition wall, Figures 3a to 3c is a process cross-sectional view showing a manufacturing process of a plasma barrier using a plasma spraying device according to the present invention.

먼저, 본 발명의 피디피 격벽을 형성하기 위한 플라즈마 스프레잉(plasma spraying) 장치를 살펴보면, 도 2에 도시된 바와 같이, 내부에 냉각수로 채워진 냉각관(1)을 갖는 애노드(anode) 전극(2)과, 애노드 전극(2)을 에워싸도록 형성되며 내부에 냉각수로 채워진 냉각관(1)을 갖는 캐소드(cathode) 전극(3)과, 애노드 전극(2)과 캐소드 전극(3) 사이에 형성되고 반응 가스의 통로인 가스관(4)과, 캐소드 전극(3) 일측 끝에 형성되는 노즐(5)과, 노즐(5)의 일측에 형성되는 피더(feeder)(6)로 구성된다.First, referring to a plasma spraying apparatus for forming a PD barrier of the present invention, as shown in FIG. 2, an anode electrode 2 having a cooling tube 1 filled with cooling water therein is shown. And a cathode electrode 3 formed to surround the anode electrode 2 and having a cooling tube 1 filled with cooling water therein, and between the anode electrode 2 and the cathode electrode 3; It consists of a gas pipe 4 which is a passage of a reaction gas, a nozzle 5 formed at one end of the cathode electrode 3, and a feeder 6 formed at one side of the nozzle 5.

이와 같이 구성된 플라즈마 스프레잉 장치의 원리를 살펴보면, 먼저, 캐소드 전극(3)과 애노드 전극(2)에 직류를 인가하면서 가스관(4)에 아르곤(Ar), 헬륨(He), 수소(H2)과 같은 반응 가스를 주입하면, 반응 가스는 가열과 분해에 의해 팽창하고 이온화를 일으켜 고 에너지를 갖는 플라즈마 상태로 되고, 이러한 고에너지를 갖는 플라즈마는 고속으로 노즐(5)을 통하여 외부로 분사된다.Looking at the principle of the plasma spraying device configured as described above, first, argon (Ar), helium (He), hydrogen (H 2 ) to the gas pipe (4) while applying a direct current to the cathode electrode 3 and the anode electrode ( 2 ) When a reaction gas such as this is injected, the reaction gas expands by heating and decomposition, causes ionization, and becomes a plasma state having high energy, and the plasma having such high energy is sprayed out through the nozzle 5 at high speed.

이때, 피더(6)를 통해 공급된 세라믹 파우더(ceramic powder)는 외부로 분사되는 약 4000∼10000℃인 고온의 플라즈마 프레임(plasma flame)(7) 속에서 녹으면서, 음속의 1∼2배나 되는 빠른 속도로 플라즈마 프레임(7)과 함께 분사되어 홀더(8)에 장착된 성막하고자 하는 기판(9)에 충돌하여 기판(9)에 막이 형성되는 원리이다.At this time, the ceramic powder supplied through the feeder 6 is melted in a high temperature plasma flame 7 which is about 4000 to 10000 ° C. sprayed to the outside, and is 1 to 2 times the speed of sound. The film is formed on the substrate 9 by colliding with the plasma frame 7 at a high speed to collide with the substrate 9 to be deposited on the holder 8.

이러한 원리를 갖는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조 방법은 도 3a에 도시된 바와 같이, 먼저, 폭 100㎛, 깊이 200㎛ 정도인 스트립(strip)상이 연속적으로 패터닝(patterning) 되어있는 복수개의 마스크(mask) 패턴(12)을 일정 간격을 갖도록 기판(11)상에 형성한다.As illustrated in FIG. 3A, first, a plurality of masks having a pattern of strips having a width of 100 μm and a depth of about 200 μm continuously patterned as shown in FIG. 3A are described. A mask pattern 12 is formed on the substrate 11 at regular intervals.

여기서, 마스크 패턴(12)은 글래스(glass), 알루미늄 포일(aluminum foil), 씨트 메탈(sheet metal) 중 어느 하나로 형성한다.Here, the mask pattern 12 is formed of any one of glass, aluminum foil, and sheet metal.

이어, 마스크 패턴(12)이 형성된 기판(11)을 홀더(holder)에 고정시키고, 플라즈마 스프레잉 장치의 가스관에 반응 가스를 주입하면서 캐소드 전극과 애노드 전극 사이에 40∼80KW의 전압을 걸어 고온, 고에너지의 플라즈마를 홀더에 고정된 기판(11)으로 분사한다.Subsequently, the substrate 11 on which the mask pattern 12 is formed is fixed to a holder, and a voltage of 40 to 80 KW is applied between the cathode electrode and the anode electrode while injecting the reaction gas into the gas pipe of the plasma spraying device. High-energy plasma is injected onto the substrate 11 fixed to the holder.

잠시후에 플라즈마가 안정되면 피더(feeder)를 통하여 입자경 10∼30㎛ 크기의 피디피 격벽용 세라믹 파우더(ceramic powder)를 공급한다.After a while, when the plasma is stabilized, a ceramic powder for PD barrier ribs having a particle size of 10 to 30 µm is supplied through a feeder.

도 3b에 도시된 바와 같이, 이 세라믹 파우더의 입자들은 고온의 플라즈마 속에서 녹으면서 매우 빠른 속도로 기판(11)과 충돌한다.As shown in FIG. 3B, the particles of the ceramic powder collide with the substrate 11 at a very high speed while melting in a hot plasma.

기판(11)에 충돌한 입자들은 마스크 패턴(12)이 형성되지 않은 기판(11)상에 연속적으로 적층됨으로써 격벽(13)을 형성한다.Particles impinging on the substrate 11 are sequentially stacked on the substrate 11 on which the mask pattern 12 is not formed to form the partition wall 13.

여기서, 기판에 대한 높은 결합력과 치밀한 격벽을 얻기 위해서는 플라즈마 프레임(plasma flame)에 대해 기판이 90°의 각도를 유지해야 한다는 것이 매우 중요하다.Here, it is very important that the substrate should be maintained at an angle of 90 ° with respect to the plasma flame in order to obtain a high binding force to the substrate and a dense partition.

또한, 세라믹 파우더의 입자경이 작을수록 가속 속도와 승온 속도가 증가하여 치밀한 격벽을 얻을 수 있으나, 높은 응력을 동반하므로 공정변수 및 입자경을 신중히 결정해야 하며 입자 형태 및 플라즈마의 매스 플로우 레이트(mass flow rate)를 잘 고려해야 한다.In addition, as the particle diameter of the ceramic powder is smaller, the acceleration rate and the temperature increase rate are increased, so that the bulkhead can be obtained.However, because of the high stress, the process variable and the particle diameter must be carefully determined, and the particle shape and mass flow rate of plasma Should be taken into account.

이어, 도 3c에 도시된 바와 같이, 기판(11)상의 마스크 패턴(12) 사이에 격벽(13)의 형성이 완료되면, 마스크 패턴(12)을 제거하여 기판(11)상에 스트립상(strip phase)의 격벽(13)을 완성한다.Subsequently, as shown in FIG. 3C, when formation of the barrier ribs 13 is completed between the mask patterns 12 on the substrate 11, the mask pattern 12 is removed to form a strip on the substrate 11. The bulkhead 13 of the phase is completed.

본 발명에 따른 플라즈마 스프레잉 장치 및 그를 이용한 피디피 격벽 제조방법은 다음과 같은 효과가 있다.Plasma spraying apparatus according to the present invention and a method for producing PD partition wall using the same has the following effects.

첫째, 공정이 간단하므로, 공정 시간이 짧고 제작 비용이 절감된다.First, because the process is simple, the process time is short and the manufacturing cost is reduced.

둘째, 격벽의 정밀도 및 특성이 매우 좋으므로, 생산성 및 수율이 향상된다.Second, since the partition walls have very good precision and characteristics, productivity and yield are improved.

Claims (12)

제 1 전극;A first electrode; 상기 제 1 전극을 에워싸도록 형성되며 일측 끝에 노즐을 갖는 제 2 전극;A second electrode formed to surround the first electrode and having a nozzle at one end; 상기 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 형성되고 공급되는 가스를 플라즈마 상태로 만들어 상기 노즐을 통해 외부로 분사시키는 가스관; 그리고A gas pipe which is formed between the first electrode and the second electrode and supplies a gas into a plasma state and sprays the gas to the outside through the nozzle; And 상기 노즐의 일측에 형성되고 원하는 위치에 형성하고자 하는 물질을 상기 노즐을 통해 외부로 분사되는 플라즈마로 공급하는 피더(feeder)로 구성됨을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치.And a feeder formed on one side of the nozzle and supplying a material to be formed at a desired position to the plasma injected to the outside through the nozzle. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 전극은 애노드(anode)이고, 제 2 전극은 캐소드(cathode)임을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치.The apparatus of claim 1, wherein the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 전극 및 제 2 전극에는 직류가 공급됨을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치.The apparatus of claim 1, wherein a direct current is supplied to the first electrode and the second electrode. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 전극 및 제 2 전극내에는 냉각관이 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치.The plasma spraying apparatus of claim 1, wherein a cooling tube is formed in the first electrode and the second electrode. 기판상의 소정영역에 일정 간격을 갖는 마스크 패턴들을 형성하는 스텝;Forming mask patterns having a predetermined interval in a predetermined region on the substrate; 상기 각 마스크 패턴 사이의 기판상에 플라즈마 스프레잉 장치를 이용하여 격벽을 형성하는 스텝; 그리고Forming a partition on the substrate between the mask patterns by using a plasma spraying device; And 상기 마스크 패턴들을 제거하는 스텝으로 이루어짐을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.And a step of removing the mask patterns. 제 5 항에 있어서, 상기 마스크 패턴은 글래스(glass), 알루미늄 포일(aluminum foil), 씨트 메탈(sheet metal) 중 어느 하나로 형성함을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.The method of claim 5, wherein the mask pattern is formed of any one of glass, aluminum foil, and sheet metal. 제 5 항에 있어서, 상기 마스크 패턴은 연속적으로 패터닝하여 형성함을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.The method of claim 5, wherein the mask pattern is formed by successively patterning the plasma patterning device. 기판상의 소정영역에 일정 간격을 갖는 마스크 패턴들을 형성하는 스텝;Forming mask patterns having a predetermined interval in a predetermined region on the substrate; 상기 마스크 패턴이 형성된 기판을 플라즈마 스프레잉 장치의 홀더에 고정시키는 스텝;Fixing the substrate on which the mask pattern is formed to a holder of a plasma spraying device; 상기 플라즈마 스프레잉 장치의 가스관에 반응 가스를 주입하면서 전극에 전압을 걸어주어 플라즈마를 발생시키는 스텝;Generating a plasma by applying a voltage to an electrode while injecting a reaction gas into a gas pipe of the plasma spraying device; 상기 플라즈마를 상기 기판으로 분사시키면서 상기 플라즈마에 격벽 물질을 공급하여 상기 마스크 패턴 사이의 기판상에 격벽을 형성하는 스텝; 그리고Supplying a barrier material to the plasma while injecting the plasma onto the substrate to form a barrier on the substrate between the mask patterns; And 상기 마스크 패턴들을 제거하는 스텝으로 이루어짐을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.And a step of removing the mask patterns. 제 8 항에 있어서, 상기 격벽 물질은 세라믹 파우더임을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.10. The method of claim 8, wherein the barrier material is ceramic powder. 제 8 항에 있어서, 상기 플라즈마의 분사각에 대해 상기 기판은 90°각도를 유지함을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.10. The method of claim 8, wherein the substrate maintains a 90 ° angle with respect to the spray angle of the plasma. 제 8 항에 있어서, 상기 격벽 물질의 입자경은 10∼30㎛임을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.9. The method of claim 8, wherein the particle diameter of the barrier material is 10 to 30 [mu] m. 제 8 항에 있어서, 상기 마스크 패턴은 글래스(glass), 알루미늄 포일(aluminum foil), 씨트 메탈(sheet metal) 중 어느 하나로 형성함을 특징으로 하는 플라즈마 스프레잉 장치를 이용한 피디피 격벽 제조방법.The method of claim 8, wherein the mask pattern is formed of any one of glass, aluminum foil, and sheet metal.
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