KR100217949B1 - Barrier forming method of plasma display panel - Google Patents

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Abstract

플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 개시한다. 본 발명은 글래스 기판 상에 격벽용 물질막을 형성하는 단계와, 상기 격벽용 물질막 상에 건식막을 형성하는 단계와, 상기 건식막에 마스크를 통해 빛을 선택적으로 조사한 후 현상하여 상기 글래스 기판 상에 건식막 패턴을 형성하는 단계와, 샌드블래스트(sandblast) 공정으로 상기 격벽용 물질막을 깍아 상기 건식막 패턴 하부에 소성경화전 격벽을 형성하는 단계와, 상기 소성경화전 격벽 및 건식막 패턴이 형성된 글래스 기판을 소성로에서 소성시켜 상기 건식막 패턴을 제거함과 동시에 소성경화 후 격벽을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법은 건식막의 박리공정을 건식막의 박리공정을 삭제함으로써 제조공정과 시간을 단축하고 제조 경비를 절감할 수 있다.A method of forming a partition wall of a plasma display panel is disclosed. The present invention provides a method of forming a barrier material film on a glass substrate, forming a dry film on the barrier material film, and selectively irradiating light to the dry film through a mask to develop the film on the glass substrate. Forming a dry film pattern, cutting the material film for the partition by a sandblast process to form a partition before plastic hardening under the dry film pattern, and a glass on which the partition and dry film pattern before plastic curing is formed Firing the substrate in a kiln to remove the dry film pattern and simultaneously forming a barrier rib after plastic curing. In the method for forming a partition wall of the plasma display panel of the present invention, by removing the dry film from the dry film peeling process, the manufacturing process and time can be shortened, and the manufacturing cost can be reduced.

Description

플라즈마 표시패널(plasma display panel)의 격벽형성방법Partition wall formation method of plasma display panel

본 발명은 플라즈마 표시 패널(plasma display panel: 이하, PDP라 칭함)의 격벽형성방법에 관한 것으로, 특히 제조공정을 단순화한 플라즈마 표시패널의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming partition walls of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), and more particularly to a method for manufacturing a plasma display panel with a simplified manufacturing process.

플라즈마 표시패널(PDP)는 플라즈마 표시장치의 정보표시부를 구성하는 부분이다. 일반적으로, 플라즈마 표시패널은 도 1에 도시된 바와 같이 표면 글래스(glass) 기판(1a)과 배면 글래스 기판(2a)으로 구성되어 있다. 특히, 상기 배면 글래스 기판(2a)에는 스트라이프상으로 어드레스 전극(2b)이 설치되고, 어드레스 전극(2b)을 복수의 방전셀로써 분리하기 위해 어드레스 전극(2b)과 평행하게 격벽(2c)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 표면 글래스 기판(1a)에는 하면에 복수의 표시전극(1b)이 형성된다. 상기 표면 글래스 기판(1a)과 배면 글래스 기판(2a)의 표시전극(1b)과 어드레스 전극(2b)이 서로직교하도록 조립하고 그 내부를 네온 등의 가스를 채움으로써 플라즈마 표시패널이 형성된다. 여기서, 종래 기술에 의한 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 설명한다.The plasma display panel PDP is a portion constituting the information display unit of the plasma display device. In general, the plasma display panel includes a surface glass substrate 1a and a rear glass substrate 2a as shown in FIG. 1. In particular, the rear glass substrate 2a is provided with an address electrode 2b in a stripe shape, and a partition wall 2c is formed in parallel with the address electrode 2b to separate the address electrode 2b into a plurality of discharge cells. It is. A plurality of display electrodes 1b are formed on the bottom surface of the surface glass substrate 1a. The plasma display panel is formed by assembling the display electrode 1b and the address electrode 2b of the surface glass substrate 1a and the rear glass substrate 2a to be orthogonal to each other and filling the inside with a gas such as neon. Here, the partition wall forming method of the plasma display panel according to the prior art will be described.

도 2 내지 도 7은 종래의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 나타낸 단면도들이다.2 to 7 are cross-sectional views illustrating a barrier rib forming method of a conventional plasma display panel.

도 2에서, 배면 글래스 기판(21) 상에 격벽용 물질막(23)를 100∼200㎛의 두께로 코팅한다. 상기 격벽용 물질막(23)은 SiO2를 주성분으로 하는 무기물로 형성한다. 이어서, 상기 격벽용 물질막(23) 상에 15∼100㎛의 두께로 건식막(25: dry film)을 코팅한다. 상기 건식막(25)은 플라스틱 필름을 주성분으로 하고 빛에 민감하게 반응하는 감광제가 섞여있는 일종의 유기물로 형성한다.In FIG. 2, the barrier material film 23 is coated on the back glass substrate 21 to a thickness of 100 to 200 μm. The barrier material layer 23 is formed of an inorganic material containing SiO 2 as a main component. Subsequently, a dry film 25 is coated on the barrier material layer 23 to a thickness of 15 to 100 μm. The dry film 25 is formed of a kind of organic material containing a plastic film as a main component and a photosensitive agent reacting sensitively to light.

도 3에서, 상기 건식막(25)에 마스크(27)를 통해 빛(29)을 선택적으로 조사한다. 이때 건식막(25)은 빛을 받은 부분과 그렇지 않은 부분이 화학적으로 조성이 달라지게 된다.In FIG. 3, light 29 is selectively irradiated to the dry film 25 through a mask 27. At this time, the dry film 25 is a portion of the light and the portion is not the chemical composition is changed.

도 4 및 도 5에서, 상기 도 3에 의해 조성이 달라진 건식막(25)과 조성이 변하지 않은 건식막(25) 상에 현상액(탄산나트륨을 순수와 혼합된 용액)을 공급하면 필요한 건식막 패턴(25a)만 남고 나머지는 제거된다. 이어서, 샌드블래스트(sandblast) 공정으로 연마재(31)를 노즐(33)을 통해 분사시켜 불필요한 격벽용 물질막(23)을 깍아낸다. 이때, 상기 건식막 패턴(25a)의 하부에 형성된 격벽용 물질막(23)은 상기 건식막 패턴(25a)으로 인하여 깍아지지 않아 소성경화전 격벽(23a)을 형성한다.4 and 5, the dry film pattern required by supplying a developing solution (solution mixed with pure water of sodium carbonate) on the dry film 25 whose composition is changed by the above-mentioned FIG. 3 and the dry film 25 whose composition is not changed ( Only 25a) remains and the rest are removed. Subsequently, the abrasive 31 is sprayed through the nozzle 33 in a sandblast process to scrape away the unnecessary bulkhead material film 23. In this case, the barrier material layer 23 formed under the dry film pattern 25a is not crushed due to the dry film pattern 25a to form the partition 23a before plastic curing.

도 6 및 도 7에서, 상기 건식막 패턴을 수산화나트륨과 순수를 혼합한 박리용액을 이용한 박리공정으로 제거한다. 이렇게 되면, 배면 글래스 기판(21) 상에는 소성경화전 격벽(23a)만이 남는다. 이어서, 상기 소성경화전 격벽(23a)을 소성로에 넣어 소성시켜 소성경화후 격벽(23b)을 형성한다. 이렇게 되면, 소성경화후 격벽(23b)은 배면 글래스 기판과 강한 힘으로 부착되고 단단한 형상을 유지한다.6 and 7, the dry film pattern is removed by a stripping process using a stripping solution mixed with sodium hydroxide and pure water. In this case, only the partition 23a before plastic hardening remains on the back glass substrate 21. Subsequently, the above-mentioned plastic hardening partition wall 23a is put into a firing furnace and fired to form a post-plastic hardening partition wall 23b. In this case, after the plastic hardening, the partition wall 23b is attached to the rear glass substrate with a strong force and maintains a rigid shape.

상술한 바와 같은 종래의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법에 있어서, 건식막을 제거하기 위한 박리공정은 전용박리장비에서 고가의 전용 박리액과 많은 순수를 사용하기 때문에 높은 비용이 들고 많은 시간이 소요되는 문제점이 있다.In the conventional method of forming the partition wall of the plasma display panel as described above, the peeling process for removing the dry film is expensive and takes a lot of time because it uses expensive dedicated peeling liquid and a lot of pure water in the dedicated peeling equipment. There is this.

따라서, 본 발명의 기술적 과제는 상술한 문제점을 해결할 수 있는 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for forming a partition wall of a plasma display panel which can solve the above problems.

도 1은 일반적인 플라즈마 표시패널의 사시도이다.1 is a perspective view of a general plasma display panel.

도 2 내지 도 7은 종래의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 나타낸 단면도들이다.2 to 7 are cross-sectional views illustrating a barrier rib forming method of a conventional plasma display panel.

도 8 내지 도 12은 본 발명의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 나타낸 단면도들이다.8 to 12 are cross-sectional views illustrating a barrier rib forming method of a plasma display panel of the present invention.

도 13은 본 발명의 격벽 소성시 이용된 소성로를 도시한 단면도이다.13 is a cross-sectional view showing a firing furnace used when the partition wall firing of the present invention.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 글래스 기판 상에 격벽용 물질막을 형성하는 단계와, 상기 격벽용 물질막 상에 건식막을 형성하는 단계와, 상기 건식막에 마스크를 통해 빛을 선택적으로 조사한 후 현상하여 상기 글래스 기판 상에 건식막 패턴을 형성하는 단계와, 샌드블래스트(sandblast) 공정으로 상기 격벽용 물질막을 깍아 상기 건식막 패턴 하부에 소성경화전 격벽을 형성하는 단계와, 상기 소성경화전 격벽 및 건식막 패턴이 형성된 글래스 기판을 소성로에서 소성시켜 상기 건식막 패턴을 제거함과 동시에 소성경화 후 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention provides a method of forming a barrier material film on a glass substrate, forming a dry film on the barrier material film, and selectively irradiating light to the dry film through a mask. After the development to form a dry film pattern on the glass substrate, by cutting the material film for the barrier ribs by a sandblast (sandblast) process to form a barrier rib before plastic curing under the dry film pattern, and before the plastic curing A method of forming a barrier rib in a plasma display panel, the method comprising: firing a glass substrate on which a barrier rib and a dry layer pattern are formed, to remove the dry layer pattern, and to form a barrier rib after plastic curing.

상기 격벽용 물질막은 SiO2를 주성분으로 하는 무기물로써 100∼200㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.The barrier material film is preferably an inorganic material having SiO 2 as a main component and formed to a thickness of 100 to 200 μm.

상기 건식막은 플라스틱막을 주성분으로 하고 빛에 민감하게 반응하는 감광제가 섞여있는 유기물로로써 15∼100㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.The dry film is an organic material containing a plastic film as a main component and a photosensitive agent that reacts sensitively to light, and is preferably formed to a thickness of 15 to 100 μm.

본 발명의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법은 건식막의 박리공정을 건식막의 박리공정을 삭제함으로써 제조공정과 시간을 단축하고 제조 경비를 절감할 수 있다.In the method for forming a partition wall of the plasma display panel of the present invention, by removing the dry film from the dry film peeling process, the manufacturing process and time can be shortened, and the manufacturing cost can be reduced.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 8 내지 도 12은 본 발명의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법을 나타낸 단면도들이다.8 to 12 are cross-sectional views illustrating a barrier rib forming method of a plasma display panel of the present invention.

도 8에서, 배면 글래스 기판(41) 상에 격벽용 물질막(43)를 100∼200㎛의 두께로 코팅한다. 상기 격벽용 물질막(43)은 SiO2를 주성분으로 하는 무기물로 형성한다. 이어서, 상기 격벽용 물질막(43) 상에 15∼100㎛의 두께로 건식막(45: dry film)을 코팅한다. 상기 건식막(45)은 플라스틱 필름을 주성분으로 하고 빛에 민감하게 반응하는 감광제가 섞여있는 일종의 유기물로 형성한다.In FIG. 8, the barrier material film 43 is coated on the rear glass substrate 41 to a thickness of 100 to 200 μm. The barrier material layer 43 is formed of an inorganic material containing SiO 2 as a main component. Subsequently, a dry film 45 is coated on the barrier material layer 43 to a thickness of 15 to 100 μm. The dry film 45 is formed of a kind of organic material containing a plastic film as a main component and a photosensitive agent reacting sensitively to light.

도 9에서, 상기 건식막(45)에 마스크(47)를 통해 빛(49)을 선택적으로 조사한다. 이때 건식막(45)은 빛을 받은 부분과 그렇지 않은 부분이 화학적으로 조성이 달라지게 된다.In FIG. 9, light 49 is selectively irradiated to the dry film 45 through a mask 47. At this time, the dry film 45 is a portion that is not light and the chemical composition is different.

도 10 및 도 11에서, 상기 도 9에 의해 조성이 달라진 건식막(45)과 조성이 변하지 않은 건식막(45) 상에 현상액(탄산나트륨을 순수와 혼합된 용액)을 공급하는 현상공정을 실시하면, 필요한 건식막 패턴(45a)만 남고 나머지는 제거된다. 이어서, 샌드블래스트(sandblast) 공정으로 연마재(51)를 노즐(53)을 통해 분사시켜 불필요한 격벽용 물질막(43)을 깍아낸다. 이때, 상기 건식막 패턴(45a)의 하부에 형성된 격벽용 물질막(43)은 상기 건식막 패턴(45a)으로 인하여 깍아지지 않아 소성경화전 격벽(43a)을 형성한다.In FIGS. 10 and 11, a developing process of supplying a developing solution (a solution in which sodium carbonate is mixed with pure water) is carried out on the dry film 45 having the composition changed by FIG. 9 and the dry film 45 having the composition unchanged. Only the necessary dry film pattern 45a remains and the rest are removed. Subsequently, the abrasive 51 is sprayed through the nozzle 53 in a sandblast process to scrape away the unnecessary bulkhead material film 43. In this case, the barrier material layer 43 formed under the dry film pattern 45a is not chipped due to the dry film pattern 45a, thereby forming a barrier 43a before plastic curing.

도 12에서, 도 13의 참조번호 71과 같이 소성경화전 격벽(43a) 및 건식막 패턴(45a)를 열선(73)을 구비한 소성로(72)에서 넣어 소성을 실시하여 소성경화후 격벽(43b)을 형성한다. 이때, 상기 소성경화전 격벽(43a) 상에 형성된 건식막 패턴(45a)은 소성로안에서 타버리게 되는데, 이 공정을 진행하기 위해서는 건식막 패턴이 타버리면서 발생하는 가스를 배출하는 배기구(74)를 도 13에 도시한 바와 같기 설치하는 것이 바람직하다. 결과적으로, 배면 글래스 기판(41)과 강한 힘으로 부착되고 단단한 형상을 유지하는 소성경화 후 격벽이 형성된다.In FIG. 12, as shown by reference numeral 71 of FIG. 13, the pre-firing bulkhead 43a and the dry film pattern 45a are put in a firing furnace 72 having a heating wire 73 to perform firing, and the after-curing partition 43b. ). At this time, the dry film pattern 45a formed on the barrier rib 43a before the plastic hardening is burned in the firing furnace. In order to proceed with this process, an exhaust port 74 for discharging the gas generated while the dry film pattern is burned is illustrated. It is preferable to install as shown in 13. As a result, a partition wall is formed after plastic hardening, which is attached to the rear glass substrate 41 with a strong force and maintains a rigid shape.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 기술적 사상내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 명백하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and it is apparent that many modifications are possible by those skilled in the art within the technical idea of the present invention.

상술한 바와 같이 본 발명의 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법은 건식막의 박리공정을 후의 소성공정에서 동시에 진행하여 건식막의 박리공정을 삭제함으로써 제조공정과 시간을 단축하고 제조 경비를 절감할 수 있다.As described above, in the method of forming a partition wall of the plasma display panel of the present invention, the dry film peeling process is simultaneously performed in a subsequent firing process, thereby eliminating the dry film peeling process, thereby shortening the manufacturing process and time and reducing the manufacturing cost.

Claims (3)

글래스 기판 상에 격벽용 물질막을 형성하는 단계;Forming a barrier material film on the glass substrate; 상기 격벽용 물질막 상에 건식막을 형성하는 단계;Forming a dry film on the barrier material film; 상기 건식막에 마스크를 통해 빛을 선택적으로 조사한 후 현상하여 상기 글래스 기판 상에 건식막 패턴을 형성하는 단계;Selectively irradiating light to the dry film through a mask and then developing the dry film to form a dry film pattern on the glass substrate; 샌드블래스트(sandblast) 공정으로 상기 격벽용 물질막을 깍아 상기 건식막 패턴 하부에 소성경화전 격벽을 형성하는 단계; 및Cutting the barrier material film by a sandblast process to form a barrier before plastic curing under the dry film pattern; And 상기 소성경화전 격벽 및 건식막 패턴이 형성된 글래스 기판을 소성로에서 소성시켜 상기 건식막 패턴을 제거함과 동시에 소성경화 후 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법.And firing the glass substrate on which the barrier rib and the dry film pattern are formed before firing in a firing furnace to remove the dry layer pattern and to form the barrier rib after the plastic hardening. 제1항에 있어서, 상기 격벽용 물질막은 SiO2를 주성분으로 하는 무기물로써 100∼200㎛의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법.The method of claim 1, wherein the barrier material layer is formed of an inorganic material having SiO 2 as a main component and has a thickness of 100 to 200 μm. 제1항에 있어서, 상기 건식막은 플라스틱막을 주성분으로 하고 빛에 민감하게 반응하는 감광제가 섞여있는 유기물로로써 15∼100㎛의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시패널의 격벽형성방법.2. The method of claim 1, wherein the dry film is formed of a plastic film composed mainly of a plastic film and mixed with a photosensitive agent sensitive to light, and has a thickness of 15 to 100 µm.
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