KR19980074501A - 레티클 정렬 방법 - Google Patents

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KR19980074501A
KR19980074501A KR1019970010367A KR19970010367A KR19980074501A KR 19980074501 A KR19980074501 A KR 19980074501A KR 1019970010367 A KR1019970010367 A KR 1019970010367A KR 19970010367 A KR19970010367 A KR 19970010367A KR 19980074501 A KR19980074501 A KR 19980074501A
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KR1019970010367A
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윤재호
Original Assignee
이대원
삼성항공산업 주식회사
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Abstract

노광장치의 레티클 정렬 방법이 개시된다. 개시된 레티클 정렬 방법은, 레티클에 형성된 제1마크부 및 레티클이 안착되는 스테이지에 제1마크부와 중첩되도록 형성된 제2마크부를 통해 광빔을 주사하고, 그 제1,2마크부를 통과한 광량을 센서로 감지하여 레티클의 안착위치를 보정하는 것으로서, 제1마크부에는 광빔을 차단시키는 소정 형상의 광차단부와, 광빔을 통과시키는 광통과부를 형성하고, 제2마크부에는 제1마크부의 광차단부와 동일한 형상의 광통과부를 형성하여서, 레티클이 스테이지 상의 정위치에 정렬되면, 제1마크부의 광차단부와 제2마크부의 광통과부가 포개짐으로써, 그 제1,2마크부를 통과하여 센서에 감지되는 광량이 최소가 되도록 하는 것을 특징으로 한다.

Description

레티클 정렬 방법
본 발명은 노광장치에 사용되는 레티클(reticle)의 정렬 방법에 관한 것으로서, 특히 레티클의 마크 패턴을 개선하여 인식 오차를 감소시킨 레티클 정렬 방법에 관한 것이다.
일반적으로 레티클은 반도체칩에 회로를 인쇄하는데 사용되는 포토리소그래피(photorithography)법의 마스크(mask)로 이용되는 것으로, 스테이지 상에 안착되어 회로가 인쇄될 반도체칩과 광원 사이에 위치되게 된다. 이와 같이 반도체칩에 회로를 인쇄하기 위한 공정에서는, 레티클을 스테이지(stage)에 올려 놓는 로딩(loading)공정이 선행되는데, 이때 레티클을 스테이지 위의 원하는 위치에 정확히 정렬시켜야 정밀한 회로 인쇄 작업이 가능하다.
도 1은 이와 같이 레티클을 스테이지 위에 올려 놓기 위한 일반적인 레티클 로딩 장치를 나타낸다.
도면에 도시된 바와 같이 레티클 로딩 장치(200)는, 레티클(100)을 흡착하는 핸드(12)와, 상기 핸드(12)의 일단에 결합되어 이 핸드(12)가 수평으로 승강될 수 있도록 지지하는 링크기구(10)와, 상기 링크기구(10) 및 핸드(12)를 승강 및/또는 회전이동시키는 로봇 아암(14)을 구비한다. 따라서 상기 레티클(100)은 레티클 적치대(미도시)에서 상기 핸드(12)에 흡착된 후 로봇 아암(14)에 의해 이동되어 스테이지(50)에 안착된다.
한편, 이와 같은 로딩 공정이 끝나면, 스테이지(50) 상에 위치된 레티클의 위치를 정확히 정렬시키기 위한 정렬 작업이 수행되는데, 이를 위해 레티클(100)과 스테이지(50)에는 제1마크부(110) 및 제2마크부(51)가 각각 형성되어 있다.
도 2는 상기 제1마크부(110)를 확대하여 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 상기 제1마크부(110)에는 다수의 투명한 광통과부(111)가 망상으로 형성되어 있어서, 소정 광원에서 출사된 광빔이 그 광통과부(111)를 통해 투과될 수 있도록 되어 있으며, 그 나머지 부분은 크롬으로 코팅된 광차단부(112)로 되어 있다.
또한 상기 스테이지(50)에 형성된 제2마크부(51)도 이와 동일한 패턴으로 형성되어서, 상기 레티클(100)이 정확한 위치에 놓이면 제1마크부(110)와 포개지도록 되어 있다.
즉, 상기 제1,2마크부(110)(51)가 정확히 포개지면, 도 3에 도시된 바와 같이 광원(300)에서 출사된 광빔이 그 각각의 광통과부(111)을 통해 간섭없이 투과되므로, 그 때에 통과된 광량이 최대가 된다. 따라서 이를 광센서(400)로 감지하여 광량이 최대가 되는 위치로 상기 레티클(100) 위치를 이동시킴으로써 레티클의 위치 정렬을 수행하게 된다.
그런데, 상기와 같은 정렬 방법을 사용하면, 상기 제1마크부(110)에 형성된 좁은 슬롯(slot)형태의 광통과부(111)을 통과한 광빔이 산란을 일으키면서 퍼지는 현상이 발생한다. 이와 같이 산란된 광빔은 상기 제2마크부(51)의 광차단부에서 반사되어, 상기 제1마크부(110)의 광차단부(112)에서 다시 반사된 후 광센서(400)에 수광된다. 따라서 이 산란된 광빔은, 레티클의 위치를 감지하는데 노이즈로 작용하게 되어, 결국 위치 정렬의 정확도를 저하시키는 문제점이 된다.
따라서 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 창출된 것으로서, 광빔의 반사량을 줄여서 광센서에 혼입되는 노이즈를 감소시킬 수 있는 레티클 정렬 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 일반적인 레티클 로딩장치의 요부를 보인 사시도,
도 2는 종래에 레티클의 정렬을 위해 채용된 마크부를 나타낸 평면도,
도 3은 종래의 레티클 정렬 방법을 개략적으로 설명하는 개념도,
도 4는 본 발명에 따른 레티클 정렬 방법을 위해 채용된 마크부를 나타낸 평면도.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
100...레티클120...제1마크부
121...광차단부122...광통과부
200...레티클 로딩 장치300...광원
400...광센서
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 레티클에 형성된 제1마크부 및 상기 레티클이 안착되는 스테이지에 상기 제1마크부와 중첩되도록 형성된 제2마크부를 통해 광빔을 주사하고, 그 제1,2마크부를 통과한 광량을 센서로 감지하여 상기 레티클의 안착위치를 보정하는 레티클 정렬 방법에 있어서, 상기 제1마크부에는 광빔을 차단시키는 소정 형상의 광차단부와, 광빔을 통과시키는 광통과부를 형성하고, 상기 제2마크부에는 상기 제1마크부의 광차단부와 동일한 형상의 광통과부를 형성하여서, 상기 레티클이 상기 스테이지 상의 정위치에 정렬되면, 상기 제1마크부의 광차단부와 상기 제2마크부의 광통과부가 포개짐으로써, 그 제1,2마크부를 통과하여 상기 센서에 감지되는 광량이 최소가 되도록 하는 것을 특징으로 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명에 따른 정렬 방법을 사용하기 위한 레티클의 제1마크부를 나타낸 평면도이다.
도면에 도시된 바와 같이 이 제1마크부(120)에는, 종래의 광통과부가 형성되어 있던 자리에 크롬을 코팅한 광차단부(121)가 형성되고, 종래에 광차단부가 형성되어 있던 자리에는 투명한 광통과부(122)가 형성되어 있다. 이는, 종래의 광차단부 위치와 광통과부 위치를 서로 바꾼 것이다. 그리고 스테이지(50; 도 1 참조)에 형성된 제2마크부(51; 도 1 참조)는 종래와 마찬가지의 패턴으로 형성시킨다.
상기 구성에 의하면, 광원(300:도 3 참조)에서 출사되어 상기 제2마크부의 광차단부(112; 도 2 참조)에서 반사된 광빔이 상기 제1마크부(120)의 광통과부(122)로 그냥 통과된다. 그리고 일부 산란된 광빔이 상기 제1마크부(120)의 광차단부(121)에서 되반사되어 광센서(400; 도 3 참조)로 수광되지만, 그 광차단부(121)는 종래에 비해 매우 협소한 영역이므로 그 반사되는 광량도 미약하다. 따라서, 종래에 비해 노이즈가 상당히 감소된 신호를 감지할 수 있게 되는 것이다.
그리고 상기와 같은 제1,2마크부를 통해 광빔을 투과시키면, 종래와는 반대로 그 제1,2마크부가 정확히 포개질 때 광센서(400; 도 3 참조)에 수광되는 광량이 최소가 된다. 따라서 이를 광센서(400; 도 3 참조))로 감지하여 광량이 최소가 되는 위치로 상기 레티클(100; 도 1 참조) 위치를 이동시킴으로써 레티클의 위치 정렬을 수행하면 된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 레티클 정렬 방법은, 마크부에서 반사되는 광량을 줄여서 광센서에 혼입되는 노이즈를 감소시킬 수 있으므로, 레티클의 정렬 작업을 보다 정밀하게 수행할 수 있는 이점을 가진다.
본 발명은 상기에 설명되고 도면에 예시된 것에 의해 한정되는 것은 아니며, 다음에 기재되는 청구의 범위 내에서 더 많은 변형 및 변용예가 가능한 것임은 물론이다.

Claims (1)

  1. 레티클에 형성된 제1마크부 및 상기 레티클이 안착되는 스테이지에 상기 제1마크부와 중첩되도록 형성된 제2마크부를 통해 광빔을 주사하고, 그 제1,2마크부를 통과한 광량을 센서로 감지하여 상기 레티클의 안착위치를 보정하는 레티클 정렬 방법에 있어서,
    상기 제1마크부에는 광빔을 차단시키는 소정 형상의 광차단부와, 광빔을 통과시키는 광통과부를 형성하고,
    상기 제2마크부에는 상기 제1마크부의 광차단부와 동일한 형상의 광통과부를 형성하여서,
    상기 레티클이 상기 스테이지 상의 정위치에 정렬되면, 상기 제1마크부의 광차단부와 상기 제2마크부의 광통과부가 포개짐으로써, 그 제1,2마크부를 통과하여 상기 센서에 감지되는 광량이 최소가 되도록 하는 것을 특징으로 하는 레티클 정렬 방법.
KR1019970010367A 1997-03-25 1997-03-25 레티클 정렬 방법 KR19980074501A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070069270A (ko) * 2005-12-28 2007-07-03 동부일렉트로닉스 주식회사 스테퍼의 레티클 정렬 정치 및 그 정렬 방법
KR101043357B1 (ko) * 2008-02-21 2011-06-21 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 개략적인 웨이퍼 정렬을 위한 마크 구조체 및 이러한 마크 구조체를 제조하는 방법

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KR20070069270A (ko) * 2005-12-28 2007-07-03 동부일렉트로닉스 주식회사 스테퍼의 레티클 정렬 정치 및 그 정렬 방법
KR101043357B1 (ko) * 2008-02-21 2011-06-21 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 개략적인 웨이퍼 정렬을 위한 마크 구조체 및 이러한 마크 구조체를 제조하는 방법

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