KR19980069156A - 반도체 현상공정의 배출시스템 - Google Patents
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Abstract
반도체 현상공정시 공급되는 현상액과 세정액을 배출하도록 하는 반도체 현상공정의 배출시스템에 관한 것이다.
본 발명은 현상공정설비의 소정 위치에 형성되어 증기 또는 기포 상태의 폐수를 배출하도록 형성된 보조 배출구 및 상기 보조 배출구와 메인 배기관 사이에 설치되어 증기 또는 기포 상태인 폐수의 유동 통로를 이루는 배기관을 포함하여 이루어진 반도체 현상공정설비의 배출시스템에 있어서, 소정 크기의 공간을 갖는 용기 형상으로 상기 배기관상에 설치되어 상기 배기관상에서 액체 상태로 변환되는 폐수를 집수하는 어뎁터와, 상기 어뎁터의 소정 부위에 일단부가 연결되고 다른 일단부는 상기 알카리 폐수배관과 연결되는 연결관 및 상기 연결관상에 설치되어 상기 어뎁터에서 상기 알카리 폐수배관으로 유동하는 폐수의 흐름을 선택적으로 차단하도록 형성된 수동밸브를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 배기관을 통해 유동하는 액체 상태의 폐수를 알카리 폐수배관으로 유도 배출함에 따라 메인 배기관의 오염을 방지하게 되는 효과가 있다.
Description
본 발명은 반도체 현상설비의 배출시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 현상공정시 공급되는 현상액과 세정액을 배출하도록 하는 반도체 현상공정의 배출시스템에 관한 것이다.
일반적으로 포토리소그래피 ( Photolithography ) 공정은 웨이퍼 상에 요구되는 패턴을 형성시키기 위한 공정으로서, 먼저 세척 및 건조를 마친 웨이퍼 표면에 PR(Photoresist)을 균일하게 도포하고, 그 위에 소정 레이아웃으로 형성된 포토마스크 상을 노광시킨 후 이어서 현상공정을 통해 PR층의 불필요한 부위를 제거함으로써 요구되는 패턴을 형성하게 된다.
상술한 포토리소그래피 공정 중 현상공정은 고속 회전하는 웨이퍼 표면에 현상액을 공급하여 소정 시간 동안 불필요한 PR 층을 분리하고, 세정액을 공급하여 잔류하는 찌꺼기를 제거하게 되며, 이후의 웨이퍼는 다시 건조공정으로 옮겨진다.
이러한 과정에서 공급된 현상액과 세정액은 현상설비 내에 형성된 배출시스템에 의해 배출된다.
첨부된 도1은 종래의 반도체 현상공정설비의 배출시스템을 개략적으로 나타낸 단면도로서, 이 도1을 참조하여 반도체 현상공정설비의 배출시스템에 대하여 설명하기로 한다.
현상공정을 수행하는 현상공정설비(10)의 내부에는 웨이퍼(12)의 저면을 흡착하여 고속 회전하도록 형성된 진공척(14)이 설치되어 있으며, 이 진공척(14) 상측으로 소정 높이 이격된 위치에 현상액 또는 세정액을 공급하는 현상액 공급노즐과 세정액 공급노즐(도시 안됨)이 설치되어 있다.
그리고, 상술한 진공척(14)의 하측 부위에는 알카리 폐수배관(16)과 연결되는 메인 배출구(18)가 형성되어 있어 이 메인 배출구(18)를 통해 공급된 현상액과 세정액 및 각종 찌꺼기를 포함한 폐수가 배출된다.
한편, 상술한 바와 같이 현상액과 세정액 및 각종 찌꺼기 등은 액체 상태 뿐 아니라 웨이퍼의 고속회전에 의해 증기 또는 기포 상태로 존재하게 됨에 따라 하측에 형성된 메인 배출구(18)의 상측 부위에 배기관(20)과 연결되어 증기 또는 기포 상태의 현상액 및 세정액을 일정 압력으로 강제 배출하도록 형성된 보조 배출구(22)가 형성되어 있다.
여기서, 보조 배출구(22)와 배기관(20)을 통해 유동하는 증기 또는 기포 상태의 현상액 및 세정액은 다시 메인 배기관(도시 안됨)으로 유동하게 된다.
그러나, 상술한 바와 같이 메인 배기관으로 유동하는 현상액 및 세정액은 배기관상에서 액체 상태로 변환되고, 이렇게 변환된 현상액 및 세정액은 메인 배기관상에 누적되어 배출 압력을 낮추고, 메인 배기관을 노후화에 따른 누출에 의해 환경 오염을 유발하게 되는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은, 액체 상태의 현상액과 세정액 및 찌꺼기 등을 메인 배기관으로 유입되지 않도록 하여 반도체장치 제조설비의 환경 오염을 방지하도록 하는 반도체 현상공정의 배출시스템을 제공함에 있다.
도1은 종래의 반도체 현상설비의 배출시스템을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 현상설비의 배출시스템을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 어뎁터를 나타낸 사시도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10, 30: 현상공정설비12: 웨이퍼
14: 진공척 16: 알카리 폐수배관
18: 메인 배출구 20, 32a, 32b: 배기관
34: 어뎁터 36a, 36b: 연결부
38: 수동밸브 40: 연결관
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 현상공정설비의 소정 위치에 형성되어 증기 또는 기포 상태의 폐수를 배출하도록 형성된 보조 배출구 및 상기 보조 배출구와 메인 배기관 사이에 설치되어 증기 또는 기포 상태인 폐수의 유동 통로를 이루는 배기관을 포함하여 이루어진 반도체 현상공정설비의 배출시스템에 있어서, 소정 크기의 공간을 갖는 용기 형상으로 상기 배기관상에 설치되어 상기 배기관상에서 액체 상태로 변환되는 폐수를 집수하도록 하는 어뎁터와, 상기 어뎁터의 소정 부위에 일단부가 연결되고 다른 일단부는 상기 알카리 폐수배관과 연결되는 연결관 및 상기 연결관상에 설치되어 상기 어뎁터에서 상기 알카리 폐수배관으로 유동하는 폐수의 흐름을 선택적으로 차단하도록 형성된 수동밸브를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.
또한, 상기 어뎁터는 내부에 수용되는 폐수의 양을 확인하기 용이하도록 투명하게 형성함이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 일 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 현상공정설비의 배출시스템을 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 어뎁터를 나타낸 사시도로서, 종래와 동일한 부분에 대하여 동일한 부호를 부여하고, 그에 따른 상세한 설명은 생략하기로 한다.
본 발명에 따른 현상공정설비의 배출시스템은 보조 배출구(22)와 연결되어 메인 배기관(도시 안됨)으로 이어지는 배기관(32a, 32b)상에 투명 재질로 제작되어 소정 크기의 공간을 갖는 용기 형상의 어뎁터(34)가 설치된다.
이렇게 설치되는 어뎁터(34)는 도3에 도시된 바와 같이 소정 공간을 이루는 용기 형상으로 양측벽에 배기관(32a, 32b)과 연결되는 연결부(36a, 36b)와, 어뎁터(34) 하측 부위에 수동밸브(38)를 갖는 연결관(40)의 일단부가 연결 설치된다.
그리고, 연결관(40)의 다른 단부는 상술한 알카리 폐수배관(18)에 연결되어 어뎁터(34)에 고이는 액화 상태의 폐수를 알카리 폐수배관(18)으로 유도하여 흐르도록 한다.
이러한 구성에 의하면, 증기 또는 기포 상태의 현상액과 세정액 및 찌꺼기 등을 포함한 폐수는 보조 배출구(22)를 통해 배기관(32a, 32b)으로 유동하게 됨에 따라 액화 상태로 변환되어 흐르게 되고, 이렇게 액화 상태로 변환된 폐수는 배기관(32a, 32b)상에 설치되는 어뎁터(34)에 일시적으로 고인 상태로 있게 되며, 이 어뎁터(34)에 소정량의 폐수가 고이게 되면 어뎁터(34)의 측벽이 투명한 재질로 제작됨에 따라 작업자가 확인하여 어뎁터(34)에 연결된 연결관(40)상의 수동밸브(38)를 개방하여 알카리 폐수배관(16)으로 유도 배출하게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면 배기관을 통해 유동하는 액체 상태의 폐수를 알카리 폐수배관으로 유도 배출함에 따라 메인 배기관의 오염을 방지하게 되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (2)
- 현상공정설비의 소정 위치에 형성되어 증기 또는 기포 상태의 폐수를 배출하도록 형성된 보조 배출구 및 상기 보조 배출구와 메인 배기관 사이에 설치되어 증기 또는 기포 상태인 폐수의 유동 통로를 이루는 배기관을 포함하여 이루어진 반도체 현상공정설비의 배출시스템에 있어서,소정 크기의 공간을 갖는 용기 형상으로 상기 배기관상에 설치되어 상기 배기관상에서 액체 상태로 변환되는 폐수를 집수하도록 하는 어뎁터와, 상기 어뎁터의 소정 부위에 일단부가 연결되고 다른 일단부는 상기 알카리 폐수배관과 연결되는 연결관 및 상기 연결관상에 설치되어 상기 어뎁터에서 상기 알카리 폐수배관으로 유동하는 폐수의 흐름을 선택적으로 차단하도록 형성된 수동밸브를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 현상공정설비의 배출시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 어뎁터는 내부에 수용되는 폐수의 양을 확인하기 용이하도록 투명하게 형성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 현상공정설비의 배출시스템.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970006077A KR19980069156A (ko) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | 반도체 현상공정의 배출시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019970006077A KR19980069156A (ko) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | 반도체 현상공정의 배출시스템 |
Publications (1)
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KR19980069156A true KR19980069156A (ko) | 1998-10-26 |
Family
ID=65984735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019970006077A KR19980069156A (ko) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | 반도체 현상공정의 배출시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR19980069156A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010035011A (ko) * | 2000-10-07 | 2001-05-07 | 김동관 | 약품 통합 수거 배출 시스템 및 그 장치 |
-
1997
- 1997-02-26 KR KR1019970006077A patent/KR19980069156A/ko not_active Application Discontinuation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20010035011A (ko) * | 2000-10-07 | 2001-05-07 | 김동관 | 약품 통합 수거 배출 시스템 및 그 장치 |
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